KR100421709B1 - Strip equipment mounted with filter - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 포토리소그래피공정 장비 중 스트립(strip) 공정 장비에 관한 것으로, 특히 필터가 장착된 스트립장비에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to strip process equipment in photolithography process equipment, and more particularly to a strip equipment equipped with a filter.
반도체소자의 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피공정은 크게 패턴이 형성될 막 상에 포토레지스트를 도포한 후 노광하는 공정과, 현상액으로 포토레지스트의 소정부분을 제거하는 공정과, 패턴이 형성될 막을 에칭하고 패턴이 형성된 막 상에 남아 있는 포토레지스트를 제거하는 공정으로 이루어져 있다.A photolithography process for forming a pattern of a semiconductor device mainly includes a process of applying a photoresist on a film to be patterned and then exposing the film, a step of removing a predetermined portion of the photoresist with a developer, And removing the remaining photoresist on the patterned film.
패턴이 형성된 막 상에 남아 있는 포토레지스트를 제거하는공정(스트립(strip) 공정이라한다.)을 도1을 이용하여 설명한다.(A strip process) for removing the photoresist remaining on the patterned film will be described with reference to FIG.
스트립장비의 하부에 설치된 탱크(101)의 배출구를 통하여 배출된 스트리퍼는 진공챔버(102)로 유입된다. 진공챔버(102)의 분사노즐(103)에서 제거되어야 할 포토레지스트가 형성된 기판(105)을 향하여 스트리퍼가 분사된다. 포토레지스트는 스트리퍼에 의해 용해되어 기판에서 제거된다. 포토레지스트를 제거한 진공챔버 내의 스트리퍼는 흡입구를 통하여 스트립장비 하부에 설치된 탱크로 회수된다. 상기의과정이 반복되어 제거되어야 할 포토레지스트가 형성된 또 다른 기판의 스트립공정이 이루어진다. 그리고, 진공챔버내에서 포토레지스트를 제거할 때 소모되거나 기화된 스트리퍼의 성분을 측정, 분석하는 시스템(104)이 설치되어 스트리퍼신액과 보충액이 필요한 양 만큼 탱크로 유입된다.The stripper discharged through the outlet of the tank 101 installed in the lower part of the strip equipment is introduced into the vacuum chamber 102. The stripper is sprayed toward the substrate 105 on which the photoresist to be removed is formed in the injection nozzle 103 of the vacuum chamber 102. The photoresist is dissolved by the stripper and removed from the substrate. The stripper in the vacuum chamber from which the photoresist was removed is withdrawn through a suction port to a tank installed under the strip equipment. The above process is repeated to form another substrate on which a photoresist to be removed is formed. A system 104 for measuring and analyzing the components of the spent or vaporized stripper when removing the photoresist in the vacuum chamber is provided to introduce the stripper fresh solution and the replenisher into the tank as needed.
상기의 설명에서 알 수 있듯이, 스트리퍼의 방출과 흡입의 스트리퍼순환이 행해져 스트립이 행해진다. 회수되는 스트리퍼는 스트리퍼에 의해 용해된 포토레지스트를 함유한 채로 탱크로 흡입되어 탱크 내에는 포토레지스트가 존재하게 된다. 부족한 스트리퍼의 양과 스트리퍼 중의 부족한 성분은 측정, 분석 시스템에 의해 탱크내로 유입될 수 있으나 스트리퍼에 함유된 포토레지스트의 잔류물은 제거되지 못하여 프로세스의 불안요소로 작용한다.As can be seen from the above description, stripping is carried out by stripper circulation of the discharge and suction of the stripper. The recovered stripper is sucked into the tank containing the photoresist dissolved by the stripper, so that the photoresist is present in the tank. The amount of insufficient stripper and the insufficient component in the stripper can be introduced into the tank by the measurement and analysis system, but the residue of the photoresist contained in the stripper can not be removed and acts as an unstable component of the process.
따라서, 본 발명의 목적은 포토레지스트 등의 잔류물을 제거할 수 있는 스트립장비를 제공하는데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide strip equipment capable of removing residues such as photoresist.
도1은 종래의 스트립장비의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional strip equipment.
도2는 본 발명에 따른 스트립장비의 구성도이다.2 is a block diagram of a strip apparatus according to the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Description of the Related Art [0002]
201 : 탱크 202 : 진공챔버201: tank 202: vacuum chamber
205 : 기판 210, 250 : 포토레지스트 흡착필터205: Substrate 210, 250: Photoresist adsorption filter
220 : 이온필터 230 : 파티클제거필터220: ion filter 230: particle removal filter
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 스트리퍼의 배출구와 흡입구를 가지는 스트리퍼저장탱크와, 상기 스트리퍼저장탱크의 배출구와 흡입구와 연결되며 스트립이 행해지는 챔버로 이루어진 스트리퍼가 순환되는 스트립장비에 있어서, 상기 배출구와 챔버 사이와 상기 챔버와 흡입구 사이 중 적어도 어느 한 곳에 하나 이상의 포토레지스트 흡착필터가 부착된 것을 특징으로 하고 있다.In order to accomplish the above object, the present invention provides a strip apparatus for circulating a stripper storage tank having a discharge port and a suction port of a stripper, a stripper connected to an outlet of the stripper storage tank and a suction port, And at least one photoresist adsorption filter is attached to at least one of the chamber and the chamber and between the chamber and the suction port.
상기의 스트립장비의 배출구와 진공챔버 사이에 이온필터나 파티클제거필터를 부착하면 포토레지스트 등의 잔류물 제거 수단이 복수 개 존재하여 잔류물 제거 효과는 배가된다.When an ion filter or a particle removing filter is attached between the outlet of the strip equipment and the vacuum chamber, there are a plurality of means for removing residues such as photoresist, which doubles the effect of removing residues.
본 발명에서의 스트리퍼의 흐름을 살펴보면 저장탱크의 배출구를 통하여 배출된 스트리퍼는 진공챔버로 이동하고 진공챔버의 분사노즐에 의해 제거되어야 할 포토레지스트가 있는 기판으로 분사된다. 스트리퍼는 기판에서 제거된 포토레지스트와 함께 흡입구를 통하여 저장탱크로 유입된다. 저장탱크로 유입된 스트리퍼는 여전히 포토레지스트를 포함하고 있다. 다시, 저장탱크의 배출구를 통하여 진공챔버로 보내지는 스트리퍼는 배출구와 진공챔버 사이에 설치된 포토레지스트 흡착필터에 의해 그 속에 함유된 포토레지스트성분이 제거된다. 물론, 포토레지스트 흡착필터는 진공챔버와 흡입구 사이에도 설치된다.In the flow of the stripper according to the present invention, the stripper discharged through the outlet of the storage tank moves to the vacuum chamber and is injected into the substrate having the photoresist to be removed by the injection nozzle of the vacuum chamber. The stripper is introduced into the storage tank through the inlet port together with the photoresist removed from the substrate. The stripper introduced into the storage tank still contains photoresist. Again, the stripper, which is sent to the vacuum chamber through the outlet of the storage tank, is removed by the photoresist adsorption filter installed between the outlet and the vacuum chamber. Of course, the photoresist adsorption filter is also installed between the vacuum chamber and the suction port.
이하, 도2를 이용하여 본 발명에 따른 스트립장비에 의한 스트리퍼 내의 포토레지스트 제거과정을 설명한다.Hereinafter, the process of removing the photoresist in the stripper by the strip apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.
스트리퍼저장탱크(201)와 진공챔버(202)를 연결하는 파이프를 따라 스트리퍼는 진공챔버로 유입된다. 스트리퍼가 저장탱크에서 진공챔버로 이동하는 동안, 스트리퍼에 함유되어 있던 포토레지스트 등의 불필요한 잔류물을 비롯한 오염물이 흡착필터(210)에 의해 제거된다. 필요하다면, 이온필터(220)와 파티클 제거필터(230)를 추가로 설치하여 불량을 야기하는 오염물을 완전히 제거할 수 있다. 진공챔버에 도달한 스트리퍼는 분사노즐(203)에 의해 제거되어야 할 포토레지스트가 존재하는 기판(205)으로 분사된다. 기판상의 포토레지스트는 분사된 스트리퍼에 의해 용해된다. 스트리퍼에 의한 포토레지스트의 제거과정에서 스트리퍼의 성분 중 일부가 기화하여 진공챔버의 배기구를 통하여 빠져나가게 된다. 상기의 배기구에 기화된 성분을 포집하는 응축라인(condensing line)을 설치하여 기화된 성분의 응축액을 스트리퍼저장탱크로 보낼 수도 있다. 진공챔버에서 저장탱크로 흡입되는 포토레지스트를 함유한 상태의 스트리퍼는 포토레지스트 흡착필터(250)에 의해 오염물질이 제거된 채로 저장탱크로 유입된다. 상기의 과정들이 계속적으로 반복되면서 스트리퍼의 순환이 이루어진다. 종래 필터 등의 포토레지스트 제거수단이 없는 스트립장비의 경우 스트리퍼가 어느 한도 이상으로 포토레지스트를 함유할 경우 사용이 불가능하여 스트리퍼의 소요량이 많은데다 그 처리비용 또한 컸다. 그리고, 포토레지스트의 함유량에 따라 보충되어야 할 스트리퍼의 성분이 달라짐으로 스트리퍼의 탱크 유입때마다 별도의 측정, 분석시스템이 필요했다. 그러나 본 발명에서는 포토레지스트의 제거시 소요된 성분만을 보충액저장탱크(207)에서 스트리퍼저장탱크(201)로 공급하면 된다.The stripper flows into the vacuum chamber along the pipe connecting the stripper storage tank 201 and the vacuum chamber 202. During the movement of the stripper from the storage tank to the vacuum chamber, contaminants such as unnecessary residues such as photoresist contained in the stripper are removed by the adsorption filter 210. If necessary, the ion filter 220 and the particle removing filter 230 may be additionally installed to completely remove contaminants causing defects. The stripper that reaches the vacuum chamber is ejected by the injection nozzle 203 onto the substrate 205 where the photoresist is to be removed. The photoresist on the substrate is dissolved by the sprayed stripper. In the process of removing the photoresist by the stripper, some of the components of the stripper vaporize and escape through the exhaust port of the vacuum chamber. A condensing line for collecting the vaporized components in the exhaust port may be provided to send the vaporized component condensate to the stripper storage tank. The photoresist-containing stripper, which is sucked from the vacuum chamber into the storage tank, is introduced into the storage tank with contaminants removed by the photoresist adsorption filter 250. The above process is continuously repeated to circulate the stripper. In the case of a strip apparatus without a photoresist removing means such as a conventional filter, when the stripper contains a photoresist more than a certain limit, the stripper is not usable, and the amount of the stripper is large and the processing cost is also large. In addition, since the components of the stripper to be replenished depend on the content of the photoresist, a separate measuring and analyzing system was required every time the stripper was introduced into the tank. However, in the present invention, only the components required for removal of the photoresist may be supplied from the replenishing liquid storage tank 207 to the stripper storage tank 201.
본 발명의 스트립장비는, 진공챔버와 스트리퍼저장탱크의 배출구나 진공챔버와 스트리퍼저장탱크의 흡입구 사이에 스트리퍼에 함유된 포토레지스트를 제거하기 위한 필터가 장착되어 불필요한 잔류물이 없는 스트리퍼에 의해 스트립이 이루어진다. 따라서, 수율이 향상되고 스트립폐액처리가 필요 없어져 제조비용이 감소된다.The strip equipment of the present invention is equipped with a filter for removing the photoresist contained in the stripper between the vacuum chamber and the outlet of the stripper storage tank or between the vacuum chamber and the inlet of the stripper storage tank so that strips . Therefore, the yield is improved and the strip waste solution treatment is not necessary, and the manufacturing cost is reduced.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019960046198A KR100421709B1 (en) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | Strip equipment mounted with filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960046198A KR100421709B1 (en) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | Strip equipment mounted with filter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980027417A KR19980027417A (en) | 1998-07-15 |
| KR100421709B1 true KR100421709B1 (en) | 2004-05-06 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960046198A KR100421709B1 (en) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | Strip equipment mounted with filter |
Country Status (1)
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|---|---|
| KR (1) | KR100421709B1 (en) |
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| JPS6235520A (en) * | 1985-08-08 | 1987-02-16 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| KR0121510Y1 (en) * | 1994-08-20 | 1998-08-17 | 김주용 | Coating soluting removing device with a blubble-remover |
| KR100251136B1 (en) * | 1994-07-27 | 2000-06-01 | 이형도 | Stripping apparatus of photoresist |
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1996
- 1996-10-16 KR KR1019960046198A patent/KR100421709B1/en not_active IP Right Cessation
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|---|---|
| KR19980027417A (en) | 1998-07-15 |
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