KR100401971B1 - 유전체 필터, 유전체 듀플렉서 및 통신 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명의 유전체 필터는 적절한 감쇠 특성들과 원하는 특성들을 쉽게 나타낸다. 각 표면들에 내부 도체들을 갖는 제1, 제2, 제3내도체 홀들이 외부 표면에 외부 도체를 갖는 유전체 블럭의 내면에 형성된다. 제1 및 제2 I/O 전극들은 유전체 블럭의 대향하는 측부 표면부터 하부 표면까지 확장하고 외부 도체로부터 분리되어 있다. 측부 표면들은 유전체 블럭에서 내도체 홀들이 배열된 방향에 수직이고, 하부 표면은 탑재 보드에 접촉하는 탑재 표면이다. 제1 I/O 전극은 제1 내도체 홀 근처의 측부 표면들의 하나로부터 제2 내도체 홀의 먼 쪽을 넘는 위치, 즉, 제3 내도체 홀 근처의 측부까지 확장한다.

Description

유전체 필터, 유전체 듀플렉서 및 통신 장치{Dielectric filter, dielectric duplexer, and communication device}

본 발명은 유전체 필터와, 홀들(이후 내도체 홀들이라 한다)의 표면들에 형성된 도체들과 홀들을 갖는 유전체 블럭과 상기 유전체 블럭의 외표면에 외부 도체를 포함하는 유전체 듀플렉서에 관한 것이고, 상기 유전체 필터와 유전체 듀플렉서를 사용한 통신 장치에 관한 것이다.

실질적으로 직사각 평행 육면체 유전체 블럭을 갖는 공지의 유전체 필터가 도 7a와 7b를 참조로 기술될 것이다.

도 7a는 유전체 필터의 투시도이고, 도 7b는 좌측면도이다.

도 7a와 7b에서, 유전체 필터는 유전체 블럭(1), 내도체 홀들(2a,2b,2c,2d), 내부 도체들(3a,3b,3c,3d), 외부 도체(4), 입출력(I/O) 전극들(5a,5b) 및 유전체 공진기들(6a,6b,6c,6d)을 포함한다.

유전체 블럭(1)의 내면에, 표면에 내부 도체들(3a~3c)을 갖는 내부 도체 구멍들(2a~2d)은 공진기들을 형성한다. 유전체 블럭의 외부 표면에, 외부 도체(4)는 접지 전극을 형성한다. 이 방법에서, 내부 도체 홀들(2a~2d)과 외부 도체(4)는 유전체 공진기들(6a~6d)을 형성한다. 유전체 블럭(1)의 외부 표면에, I/O 전극(5a)이 외부 도체(4)로부터 떨어져서 형성되고, 유전체 공진기(6a: 이후 공진기라 한다)와결합하고, I/O 전극(5b)은 외부 도체(4)와 떨어져서 형성되고, 공진기(6d)와 결합하여, 유전체 필터가 형성된다.

그러나, 공지의 유전체 블럭들을 사용하는 유전체 필터들은 후술되는 문제점들을 갖는다.

공지의 유전체 필터에서, I/O 전극(5a)은 공진기(6a)와 결합하고, I/O 전극(5b)은 공진기(6d)와 결합한다. 공진기(6a)와 공진기(6b) 사이와, 공진기(6c)와 공진기(6d) 사이의 결합량이 작기 때문에, 공진기들은 충분히 용량결합하지 않는다. 그러므로, 효과적인 감쇠 폴(pole)이 얻어지지 않는다. 충분한 양의 결합을 얻기 위하여, 커패시터는 공진기(6a)와 공진기(6b) 사이에, 그리고 공진기(6c)와 공진기(6d) 사이에 제공되어야 한다. 따라서, 부품들의 수가 증가하기 때문에 제조 가격이 올라가고, 연결들의 수의 증가때문에 신뢰성이 저하된다.

일본 무심사 특허 공개 제5-145302호에서, 감쇠 폴이 통과 대역의 부근에 제공된 유전체 필터가 기술되었다.

이 유전체 필터는 다수의 유전체 공진기들을 갖는 유전체 블럭을 포함한다. 유전체 블럭은 외부 표면에 다수의 유전체 공진기들과 결합한 I/O 전극들을 갖는다. 이 구조에 따르면, 다수의 공진기들 사이와 다수의 공진기들과 I/O 전극들 사이의 결합량이 커지기 때문에, 감쇠 영역은, 감쇠 커브가 통과 대역 근처의 감쇠 폴 형성에 의해 가파라지게 만드는, 폴로 제공된다. 그리하여, 원하지 않는 신호들을 충분히 감쇠시킬 수 있는 대역통과 필터가 제공된다.

그러나, 상기 유전체 필터에서, I/O 전극들의 크기는 제조 오차에 따라 변경될 수 있다. 이와 같은 경우에, 제2공진기와 I/O 전극 사이의 결합량이 변하여, 감쇠 특성들이 일정하지 않게 된다.

또한, I/O 전극들의 폭(내부 도체 홀들의 축에 평행인 I/O 전극들의 크기)이 큰 경우, 공진기들의 Q_O인수가 악화되고, 삽입 손실이 증가한다. 또한, I/O 전극들의 폭이 고정되기 때문에, 유전체 필터는 단지 한 종류의 감쇠 특성을 나타내는 소정의 모양으로 형성된다. 즉, 유전체 필터는 원하는 특성들을 이루기 위한 다수의 감쇠 특성들을 나타낼 수 없다.

따라서, 본 발명은 적절한 감쇠 특성들을 수행하고 원하는 특성들을 쉽게 얻는 유전체 필터와 유전체 듀플렉서를 제공하고, 상기 유전체 필터와 유전체 듀플렉서를 사용한 통신 장치를 제공한다.

도 1a는 첫번째 실시형태에 따른 유전체 블럭의 투시도이다.

도 1b는 첫번째 실시형태에 따른 유전체 필터의 측면도이다.

도 2a는 첫번째 실시형태에 따른 유전체 필터의 등가회로도이다.

도 2b는 첫번째 실시형태에 따른 유전체 필터의 등가회로도이다.

도 3a는 두번째 실시형태에 따른 유전체 필터의 투시도이다.

도 3b는 두번째 실시형태에 따른 유전체 필터의 측면도이다.

도 4a는 두번쌔 실시형태에 따른 다른 유전체 필터의 투시도이다.

도 4b는 두번째 실시형태에 따른 또다른 유전체 필터의 측면도이다.

도 5a는 세번째 실시형태에 따른 유전체 듀플렉서의 투시도이다.

도 5b는 세번째 실시형태에 따른 유전체 듀플렉서의 측면도이다.

도 6은 네번째 실시형태에 따른 통신 장치의 블럭도이다.

도 7a는 공지의 유전체 필터의 투시도이다.

도 7b는 공지의 유전체 필터의 측면도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명>

1: 유전체 블럭 2a~2f: 내도체 홀

3a~3f: 내부 도체 4: 외부 도체

5a~5c: 전극 6a~6f:유전체 공진기

이 목적을 위해, 본 발명의 한 형태에 따르면, 실질적으로 직사각 평행육면체 유전체 블럭, 상기 유전체 블럭의 제1주면으로부터 대향하는 제2주면까지 확장하는 다수의 내도체 홀들, 각 상기 내도체 홀들의 표면에 제공된 내부 도체, 상기 유전체 블럭의 외부 표면에 형성된 외부 도체 및 상기 유전체 블럭의 측부 표면으로부터 하부 표면까지 확장하는 I/O 전극들을 포함하는 유전체 필터를 제공한다. 측부 표면들은 내도체 홀들이 유전체 블럭에 배열된 방향에 직각이고, 하부 표면은 탑재 보드에 접촉하는 탑재 표면이다. I/O 전극들은 외부 도체로부터 분리된다. 또한, I/O 전극들의 적어도 하나는 하부 표면으로부터 봤을 때, 적어도 두개의 내도체 홀들에 인접하는 유전체 블럭의 하부 표면의 부분들을 가로질러 확장한다. 이 구조에 따라 얻어진 유전체 필터는 안정되고 적절한 감쇠 특성을 수행한다.

본 발명의 한 형태에서, I/O 전극들의 하나의 폭은, 하부 표면으로부터 봤을 때, 제1 내도체 홀에 대응하는 제1영역과 제2 내도체 홀에 대응하는 제2영역 사이와 다르다. 이 구조에 따르면, 원하는 감쇠 특성들을 쉽게 얻을 수 있는 유전체 필터가 얻어진다.

제1영역에서의 폭은 제2영역에서의 폭보다 클 수도 있다. 이 구조에 따르면, 원하는 감쇠 특성들을 쉽게 얻을 수 있는 유전체 필터가 얻어진다.

제1영역에서의 폭은 제2영역에서의 폭보다 작을 수도 있다. 이 구조에 따르면 또한, 원하는 감쇠 특성들을 쉽게 얻을 수 있는 유전체 필터가 얻어진다.

본 발명의 다른 형태에 따르면, 유전체 필터를 포함하는 유전체 듀플렉서가 제공된다. 이 구조에 따르면, 유전체 듀플렉서는 원하는 특성들을 나타내고, 안정적이고 적절한 감쇠 특성이 성취된다.

본 발명의 다른 형태에 따르면, 유전체 필터를 포함하는 통신 장치가 제공된다. 이 구조에 따르면, 통신 장치는 적절한 통신 특성들을 나타낸다.

본 발명의 다른 형태들과 이점들이 첨부된 도면들을 참조로 다음의 본 발명의 실시형태들의 기술로부터 명백해질 것이다.

(본 발명의 바람직한 실시형태들)

같은 부품들은 첨부된 도면들을 통해 같은 참조 번호에 의해 나타남을 유의해야 한다. 도 1a, 1b, 2a, 2b를 참조로, 첫번째 실시형태에 따른 유전체 필터가 기술될 것이다.

도 1a는 유전체 필터의 투시도이고, 도 1b는 측면도이다.

도 1a와 1b에서, 유전체 필터는, 유전체 블럭(1), 내도체 홀들(2a,2b,2c), 내부 도체들(3a,3b,3c), 외부 도체(4), 입력 및 출력(I/O) 전극들(5a,5b) 및 유전체 공진기들(6a,6b,6c: 이후 공진기들이라 한다)을 포함한다.

유전체 블럭(1)의 내부에는, 표면에 내부 도체들(3a~3c)이 형성된, 내도체 홀들(2a~2c)이 공진기들을 형성한다. 유전체 블럭(1)의 외부 표면에, 외부 도체(4)가 접지 전극으로 형성된다. 내도체 홀들(2a~2c)과 외부 전극(4)은 공진기들(6a~6c)을 구성한다. I/O 전극(5a)은 유전체 블럭(1)의 한 측부 표면부터 하부 표면까지 확장하고 외부 도체(4)와 떨어져 있다. 측부 표면들은 내도체 홀들이 배열된 방향에 수직이고, 하부 표면은, 유전체 필터가 탑재되는 경우 탑재 보드(도시되지 않음)에 접촉하는, 좌측에서 보았을 때 도 1a에 도시된 표면이다. I/O 전극(5b)은 유전체 블럭(1)의 한 다른 표면부터 하부 표면까지 확장하고 외부 도체(4)로부터 떨어져 있다.

도 1b에 도시된 바와 같이, 하부 표면에서 I/O 전극(5b)은 내도체 홀(2c) 근처의 내도체 홀(2b)의 측면에 대응하는 지점(b) 너머의 지점까지 확장한다.

또한, 이 실시형태에서, 공진기들(6a~6c)은 배열되어 하부 표면으로부터 보았을 때 공진기(6b)는 공진기(6a)의 좌측에 위치되고, 공진기(6c)는 공진기(6b)의 좌측에 위치된다.

따라서, I/O 전극(5a)은 내도체 홀들(2a,2b)과 결합한다. 이는 또한 I/O 전극(5a)가 공진기들(6a,6b)와 결합하는 것을 의미한다.

도 2a는 도 1a, 1b에 도시된 유전체 필터의 등가회로도이다. 도 2b는 도 2a에 도시된 등가 회로를 변환하여 얻은 등가회로도이다.

도 2a, 2b에서, 참조번호들(5a,5b)은 유전체 필터의 I/O 전극들을 지시하고, 참조번호들(6a,6b,6c)은 공진기들을 지시한다. 또한, 참조 번호들(Ca,Cb,Cc,Cx,C1)은 커패시턴스들을 지시하고, 참조번호(L1,L2)은 인덕턴스들을 지시한다.

도 2a에 도시된 바와 같이, 커패시턴스(Ca)는 공진기(6a)와 함께 I/O 전극(5a)에 연결되고, 커패시턴스(Cb)는 공진기(6b)와 함께 I/O 전극(5a)에 연결된다. 또한, 커패시턴스(Cx)는 공진기(6a)와 공진기(6b)와 연결되고, 커패시턴스(Cc)는 공진기(6c)와 함께 I/O 전극(5b)에 연결된다.

도 2a에 도시된 회로가 폐회로이기 때문에, D-형 회로는 세 커패시턴스들(Ca,Cb,Cx)을 포함하고, 이 회로는 도 2b에 도시된 바와 같이 Y-형 회로에 등가로 생각될 수 있다. 연속된 공진기는 공진기(6a)와 인덕터(L1)에 의해 발생되고, 이에 의해 감쇠 폴이 통과 대역의 고주파에서 형성된다.

I/O 전극(5A)이 공진기(6b)의 한 측면에 대응하는 위치 너머, 즉, 공진기(6c)의 근처 종단으로 확장하기 때문에, 커패시턴스(Cb)는 치수 변화가 발생하는 경우에도 안정적이게 된다. 그러므로, 감쇠 폴이 안정적으로 형성된다. 커패시턴스(Cb)가 I/O 전극(5A)의 확장없이 제공되기 때문에, Q_O인수와 삽입 손실의 악화가 감소된다.

따라서, 유전체 필터는 안정적이고 적절한 감쇠 특성들을 나타낸다.

다음으로, 두번째 실시형태에 따른 유전체 필터가 도 3a, 3b, 4a, 4b를 참조로 기술될 것이다.

도 3a은 유전체 필터의 투시도이고, 도 3b는 측면도이다.

도 4a는 다른 유전체 필터의 투시도이고, 도 4b는 측면도이다.

도 3a, 3b, 4a, 4b에서, 유전체 필터는 유전체 블럭(1), 내도체 홀들(2a,2b,2c), 내부 도체들(3a,3b,3c), 외부 도체(4), I/O 전극들(5a,5b) 및 ㅇ전체 공진기들(6a,6b,6c: 이후 공진기들이라 한다)을 포함한다.

도 3a, 3b에 도시된 유전체 필터는 I/O 전극(5a)가 변화된 것을 제외하고는 첫번째 실시형태와 같은 방법으로 형성된다.

도 3b에 도시된 바와 같이, 유전체 블럭(1)의 측부 표면은 내도체 홀들(2a~2c)이 배열된 방향에 수직이다. 지점 a는 내도체 홀(2b)의 측면 너머의 위치, 즉, 내도체 홀(2c) 근처의 측면에 대응한다. 지점 b는 내도체 홀(2b)의 측면, 즉, 내도체 홀(2c)의 근처 측면에 대응한다. I/O 전극(5a)은 내도체 홀(2a) 근처의 한 측부 표면으로부터 지점 a까지 확장한다. 내도체 홀들의 축 방향에 평행인 I/O 전극(5a)의 폭은 공진기(6b)와 결합된 영역에서, 공진기(6a)와 결합된 영역보다 작다.

도 4a에 도시된 유전체 필터는 I/O 전극(5a)가 변화된 것을 제외하고는 첫번째 실시형태와 같은 방법으로 형성된다. 즉, 공진기(6b)와 결합된 영역에서 I/O 전극(5a)의 폭은 공진기(6a)와 결합된 영역보다 크다.

상기한 구조에 따르면, 감쇠 폴의 위치는 공진기(6b)와 I/O 전극(5a) 사이의 결합 커패시턴스의 변경에 의해 변경될 수 있다. 이후, 유전체 필터는 쉽고 안정적으로 원하는 특성들을 나타낸다.

또한, 공진기(6b)가 연결된 영역에서 I/O 전극(5a)의 폭이 좁은 경우, 다음 효과들이 얻어질 수 있다. 즉, I/O 전극(5a)이 공진기(6a)와 공진기(6b)를 덮을 만큼 길어지게 된 경우, 결합 커패시턴스는 원하는 것보다 훨씬 크게 얻어진다. 공진기(6b)가 결합되는 영역에서 I/O 전극(5a)의 폭을 도 3a, 3b에 도시된 바와 같이 좁게 만드는 것에 의해, 결합 커패시턴스는 원하는 수준까지 감소될 수 있다.

결합 커패시턴스가 I/O 전극(5a)를 더 짧게 만드는 것에 의해 조정될 수 있을 지라도, 이 방법으로부터의 변화 결과는 매우 크다. 즉, 간단히 I/O 전극(5a)을 더 짧게 만드는 것에 의해 미세 조정을 이루기가 매우 어렵다. 그러나, 이 실시형태에서와 같이 내도체 홀들을 덮은 영역에서 I/O 전극(5a)의 폭을 조정하는 것에 의해, 원하는 수준까지 미세 조정하고 결합 커패시턴스를 줄이는 것은 쉽다.

첫번째와 두번째 실시형태에서 기술된 각 유전체 필터들의 한 표면은 각 내도체 홀들(2a~2c)의 개구부들의 하나를 갖지만 여기에는 전극이 없다. 그리하여, 이 표면이 유전체 필터들의 개구부 종단으로서 기능한다. 그러나, 본 발명에 따른 유전체 공진기의 어느 형태도 가능하다. 예를 들면, 유전체 필터의 한 형태는, 표면에 각 내도체 홀의 개구부들의 하나를 갖고, 이웃하는 내도체 홀들의 개구부 사이에 커패시턴스를 발생하는 전극들과 결합하는 것을 포함할 수 있다. 유전체 필터의 다른 형태는 유전체 블럭의 모든 표면들에 외부 도체가 형성되고, 각 내도체 홀의 개구부들의 하나를 갖는 표면들의 하나의 근처, 각 내도체 홀들은 내부 도체가 형성되지 않은 영역을 가질 수도 있고, 이들 영역들은 내도체 홀들의 상기 개구부들 근처에 제공된다. 이 방법에서, 도체가 형성되지 않은 내도체 홀들의 영역들은 유전체 공진기들의 개방 종단으로 기능한다.

내도체 홀들의 단면 모양은 원형에 한정되지 않고, 타원형, 다각형 등일 수 있다.

세번째 실시형태에 따른 유전체 듀플렉서가 도 5a, 5b를 참조로 기술될 것이다.

도 5a는 유전체 듀플렉서의 투시도이고, 도 5b는 측면도이다.

도 5a, 5b에서, 유전체 듀플렉서는, 유전체 블럭(1), 내도체 홀들(2a~2f), 내부 도체들(3a~3f), 외부 도체(4), I/O 전극들(5a~5c), 및 유전체 공진기들(6a~6f: 이후 공진기들이라 한다)을 포함한다.

유전체 블럭(1)의 내면에, 내부 도체들(3a~3f)이 표면에 형성된 내도체 홀들(2a~2f)이 유전체 전극들을 형성한다. 유전체 블럭(1)의 외부 표면에, 외부 도체(4)가 접지 전극을 형성한다. 이 방법에서, 내도체 홀들(2a~2f)과 외부 전극(4)은 유전체 공진기들(6a~6f)을 구성한다. I/O 전극(5a)은 유전체 블럭(1)의 한 측부 표면으로부터 하부 표면까지 확장하고, 외부 도체(4)와 분리되어 있다. 측부 표면들은 내도체 홀들이 배열된 방향에 수직이고, 하부 표면은 듀플렉서가 탑재되는 경우 탑재 기판(도시되지 않음)에 접촉한다. I/O 전극(5b)은 유전체 블럭(1)의 한 측부 표면으로부터 하부 표면까지 확장하고, 외부 도체(4)로부터 분리된다. I/O 전극(5c)은 공진기들(6c,6d)과 결합하기 위해 하부 표면에만 형성된다.

이 실시형태에서, 공진기들(6a~6f)은 배열되어, 도 5a, 5b에 도시된 바와 같이 하부 표면으로부터 보았을 때, 공진기(6b)는 공진기(6a)의 좌측에 위치되고, 공진기(6c)는 공진기(6b)의 좌측에 위치되고, 공진기(6d)는 공진기(6c)의 좌측에 위치되고, 공진기(6e)는 공진기(6d)의 좌측에 위치되고, 공진기(6f)는 공진기(6e)의 좌측에 위치된다. 또한, 도 5b에 도시된 바와 같이, 지점 a는 내도체 홀(2b)의 측면, 즉, 내부 도체(2c)의 근처 측면에 대응하고, 지점 b는 내도체 홀(2e)의 측면, 즉, 내도체 홀(2d)의 측면 근처에 대응한다.

하부 표면에서 I/O 전극(5a)은 한 측면으로부터 지점 a를 지나서 까지 확장한다. I/O 전극(5a)의 폭은 공진기(6b)와 결합한 영역에서 공진기(6a)와 결합한 영역보다 작다. 이 폭은 내도체 홀들의 축들에 평행이다.

I/O 전극(5b)은 한 측부 표면부터 지점 b를 지나서까지 확장한다. I/O 전극(5b)의 폭은 공진기(6e)와 결합한 영역에서 공진기(6f)와 결합한 영역보다 작다. 이 폭은 내도체 홀들의 축들에 평행이다.

그리하여, 유전체 듀플렉서는 I/O 전극(5a)과 결합된 공진기들(6a,6b)을 갖는 유전체 필터를 갖는 유전체 블럭과, I/O 전극(5c)과 결합된 공진기(6d)를 포함한다. 유전체 필터는 또한 I/O 전극(5b)과 결합된 공진기들(6e,6f)을 갖는 다른 유전체 필터와 I/O 전극(5c)과 결합된 공진기(6d)를 갖는다.

따라서, 결과 원하는 특성들을 나타내고, 감쇠 특성들이 적당하고 통신 특성들이 안정적인 유전체 듀플렉서가 성취된다.

상기 유전체 필터들의 경우와 같이, 유전체 듀플렉서는 각 내도체 홀들의 개구부들 중의 하나를 갖는 표면에서 개방 종단을 갖고 이 표면에서 전극들에 결합한다. 듀플렉서는 또한 내도체가 각 내도체 홀들의 표면에 형성되지 않은 영역을 제공하는 것에 의해 개방 종단과 함께 제공될 수 있다.

또한, 내도체 홀들의 단면 모양은 원형에 한정되지 않으며, 타원, 다각형 등일 수 있다.

네번째 실시형태에 따른 통신 장치의 구조가 도 6을 참조로 기술될 것이다.

도 6에서, ANT는 송/수신 안테나를 지시하고, DPX는 듀플렉서를 지시하고, BPFa와 BPFb는 대역통과 필터들을 지시하고, AMPa와 AMPb는 증폭 회로들을 지시하고, MIXa와 MIXb는 믹서들을 지시하고, OSC는 오실레이터를 지시하고, SYN은 신시사이저를 지시하고, IF는 중간 주파수 신호를 지시한다.

도 6에서 도시된 대역 통과 필터(BPFa,BPFb)로서, 도 1a, 1b, 3a, 3b, 4a, 4b)에 도시된 유전체 필터들이 사용될 수도 있다. 도 6에 도시된 듀플렉서(DPX)로서, 도 5a, 5b에 도시된 유전체 듀플렉서가 사용될 수도 있다. 통신 장치는 적당하고 안정적인 감쇠의 성취를 위해 원하는 특성들을 갖는 유전체 필터들과 유전체 듀플렉서를 포함하는 것에 의해 소정의 통신 수행을 제공한다.

본 발명이 특정 실시형태들과 관련하여 기술되었을 지라도, 많은 다른 변경과 수정 및 다른 사용이 당업자에게 명백해질 것이다. 그러므로, 본 발명은 여기서의 특정 기술에 한정되지 않는다.

상기한 바와 같이, 본 발명은 적절한 감쇠 특성들을 수행하고 원하는 특성들을 쉽게 얻는 유전체 필터와 유전체 듀플렉서를 제공하고, 상기 유전체 필터와 유전체 듀플렉서를 사용한 통신 장치를 제공한다.

Claims (16)

1. 실질적으로 직사각 평행육면체인 유전체 블럭;

   상기 유전체 블럭의 상부 표면으로부터 대향하는 바닥 표면까지 확장하는 다수의 내도체 홀들;

   상기 각 내도체 홀들의 각 표면에 제공되는 내부 도체;

   상기 유전체 블럭의 외부 표면들에 형성되는 외부 도체; 및

   측면 표면들은 상기 유전체 블럭에서 내도체 홀들이 배열된 방향에 수직이고 하부 표면은 탑재 보드에 탑재되는 탑재 표면이 되는 표면일 때, 상기 유전체 블럭의 상기 측면 표면들로부터 상기 하부 표면까지 확장하는 I/O 전극들을 포함하고,

   I/O 전극은 외부 도체로부터 분리되고, 그리고

   상기 I/O 전극들의 적어도 하나가, 하부 표면으로부터 보았을 때, 상기 내도체 홀들의 적어도 둘에 가로놓이기 위해 상기 유전체 블럭의 하부 표면까지 확장하는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
2. 제1항에 있어서, 상기 I/O 전극들의 적어도 하나는, 하부 표면으로부터 보았을 때, 상기 두 내도체 홀들의 첫번째에 대응하는 제1영역과 상기 두 내도체 홀들의 두번째에 대응하는 제2영역 사이와 다른 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
3. 제2항에 있어서, 상기 제1영역에서의 폭은 상기 제2영역에서의 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
4. 제2항에 있어서, 상기 제1영역에서의 폭은 상기 제2영역에서의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
5. 한 쌍의 유전체 필터들을 포함하고, 상기 필터들의 하나는 제1항에 따른 유전체 필터인 것을 특징으로 하는 유전체 듀플렉서.
6. 적어도 하나의 송신 회로와 수신 회로를 포함하고, 상기 회로는 제1항에 따른 유전체 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 통신 장치.
7. 제1항에 있어서, 상기 외부 도체는 상기 유전체 블럭의 상기 상부 표면을 제외한 모든 외부 표면들에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
8. 제7항에 있어서, 상기 내부 도체들은 상기 바닥 표면에서 상기 외부 도체에 연결되는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
9. 제2항에 있어서, 상기 제2영역은 상기 측부 표면에 대응하는 곳으로부터 멀어지는 방향에서 상기 제2 내부 도체 홀 너머의 지점까지 확장하는 것을 특징으로하는 유전체 필터.
10. 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 I/O 전극은 상기 측부 표면에 대응하는 곳부터 상기 측부 표면에 대응하는 곳으로부터 멀어지는 방향에서 상기 제2 내부 도체 홀 너머의 지점까지 확장하는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
11. 실질적으로 직사각 평행육면체인 유전체 블럭;

    상기 유전체 블럭의 상부 표면으로부터 대향하는 바닥 표면까지 확장하는 다수의 내도체 홀들;

    상기 각 내도체 홀들의 각 표면에 제공되는 내부 도체;

    상기 유전체 블럭의 외부 표면들에 형성되는 외부 도체; 및

    측면 표면들은 상기 유전체 블럭에서 내도체 홀들이 배열된 방향에 수직이고 하부 표면은 탑재 보드에 탑재되는 탑재 표면이 되는 표면일 때, 상기 유전체 블럭의 상기 측면 표면들로부터 상기 하부 표면까지 확장하는 I/O 전극들을 포함하고,

    I/O 전극은 외부 도체로부터 분리되고, 그리고

    상기 I/O 전극들의 적어도 하나가 유전체 블럭의 하부 표면이 상기 내도체 홀들의 적어도 둘에 결합하기 위한 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
12. 제11항에 있어서, 상기 I/O 전극들의 적어도 하나는, 하부 표면으로부터 보았을 때, 상기 두 내도체 홀들의 첫번째에 대응하는 제1영역과 상기 두 내도체 홀들의 두번째에 대응하는 제2영역 사이와 다른 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
13. 제12항에 있어서, 상기 제2영역은 상기 측부 표면에 대응하는 곳으로부터 멀어지는 방향에서 상기 제2 내부 도체 홀 너머의 지점까지 확장하는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
14. 제12항에 있어서, 상기 제1영역에서의 폭은 상기 제2영역에서의 폭보다 큰 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
15. 제12항에 있어서, 상기 제1영역에서의 폭은 상기 제2영역에서의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 유전체 필터.
16. 제11항에 있어서, 상기 적어도 하나의 I/O 전극은 상기 측부 표면에 대응하는 곳부터 상기 측부 표면에 대응하는 곳으로부터 멀어지는 방향에서 상기 제2 내부 도체 홀 너머의 지점까지 확장하는 것을 특징으로 하는 유전체 필터.