KR100392142B1 - 웨이퍼 프로버에 있어서 핀과 패드의 정렬 방법 - Google Patents
웨이퍼 프로버에 있어서 핀과 패드의 정렬 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100392142B1 KR100392142B1 KR20010013462A KR20010013462A KR100392142B1 KR 100392142 B1 KR100392142 B1 KR 100392142B1 KR 20010013462 A KR20010013462 A KR 20010013462A KR 20010013462 A KR20010013462 A KR 20010013462A KR 100392142 B1 KR100392142 B1 KR 100392142B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- camera
- wafer
- pin
- pad
- display mark
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06794—Devices for sensing when probes are in contact, or in position to contact, with measured object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2891—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks related to sensing or controlling of force, position, temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
- H01L22/14—Measuring as part of the manufacturing process for electrical parameters, e.g. resistance, deep-levels, CV, diffusions by electrical means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
Description
Claims (3)
- 상판의 소정의 영역에 장착되어 있고, 웨이퍼상의 패드의 위치를 파악하는 웨이퍼 카메라; 및확대 렌즈 및 상기 확대 렌즈로부터 소정의 거리가 이격된 위치에 부착된 표시 마크를 포함하고, 스테이지부에 장착되어, 상판에 있는 핀의 위치를 파악하는 핀 카메라를 구비하며, 상기 핀 카메라의 표시 마크는 상기 웨이퍼 카메라가 볼수 있는 핀 카메라의 상부 위치에 부착시킨 것을 특징으로 하는 웨이퍼 프로버.
- 삭제
- 척위에 배치된 웨이퍼의 위치를 파악하는 웨이퍼 카메라, 핀의 위치를 파악하기 위한 핀 카메라 및 상기 핀 카메라의 확대 렌즈로부터 소정의 거리가 이격된 위치에 부착된 표시 마크를 포함하는 웨이퍼 프로버를 구비하여 웨이퍼 프로버의 핀과 패드를 정렬시키는 방법에 있어서,(a) 웨이퍼를 척위에 로딩하는 단계와,(b) 상기 웨이퍼 카메라가 상기 표시 마크의 실제 위치를 파악하는 단계와,(c) 파악된 표시 마크의 상기 실제 위치와 표시 마크의 기준 위치를 비교하여, 표시 마크 변화량을 계산하는 단계와,(d) 상기 웨이퍼 카메라가 웨이퍼상에서 패드의 위치를 파악하는 단계와,(e) 상기 핀 카메라가 핀의 위치를 파악하는 단계와,(f) 상기 단계(d) 및 (e)에서 파악된 위치값 및 상기 단계 (c)에서 구한 표시 마크 변화량을 이용하여 핀과 패드를 정확하게 정렬시키기 위한 스테이지 이동값을 구하는 단계를 구비하는 웨이퍼 프로버의 정렬 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20010013462A KR100392142B1 (ko) | 2001-03-15 | 2001-03-15 | 웨이퍼 프로버에 있어서 핀과 패드의 정렬 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20010013462A KR100392142B1 (ko) | 2001-03-15 | 2001-03-15 | 웨이퍼 프로버에 있어서 핀과 패드의 정렬 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020073709A KR20020073709A (ko) | 2002-09-28 |
KR100392142B1 true KR100392142B1 (ko) | 2003-07-22 |
Family
ID=27697534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR20010013462A KR100392142B1 (ko) | 2001-03-15 | 2001-03-15 | 웨이퍼 프로버에 있어서 핀과 패드의 정렬 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100392142B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153301A1 (en) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Semics Inc. | Apparatus for measuring and calibrating error of wafer prober |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101652327B1 (ko) | 2014-01-24 | 2016-09-09 | 주식회사 케이디링크 | 통신사 가입자 정보를 가지는 스마트 카드를 이용한 공중전화 시스템 및 그 운영방법 |
-
2001
- 2001-03-15 KR KR20010013462A patent/KR100392142B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153301A1 (en) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Semics Inc. | Apparatus for measuring and calibrating error of wafer prober |
KR100982343B1 (ko) * | 2007-06-11 | 2010-09-15 | 주식회사 쎄믹스 | 웨이퍼 프로버의 스테이지 오차 측정 및 보정 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20020073709A (ko) | 2002-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100284558B1 (ko) | 프로우빙 방법 및 프로우브 장치 | |
KR100445931B1 (ko) | 프로브테스트방법및프로브장치 | |
KR100657105B1 (ko) | 프로브 방법 및 장치 | |
US7504844B2 (en) | Inspection apparatus and method | |
CA2259659C (en) | Automatic semiconductor wafer sorter/prober with extended optical inspection | |
JP2963603B2 (ja) | プローブ装置のアライメント方法 | |
US7265536B2 (en) | Procedure for reproduction of a calibration position of an aligned and afterwards displaced calibration substrate in a probe station | |
KR20060024427A (ko) | 피검사체의 전기적 특성을 검사하는 검사 방법 및 검사장치 | |
KR20160056453A (ko) | 반도체 테스트 장치 및 방법 | |
US4870288A (en) | Alignment method | |
JP2004063877A (ja) | ウェハの位置決め修正方法 | |
KR100392142B1 (ko) | 웨이퍼 프로버에 있어서 핀과 패드의 정렬 방법 | |
US20050099196A1 (en) | Semiconductor inspection device based on use of probe information, and semiconductor inspection method | |
JP2984541B2 (ja) | プロービング方法およびプローブ装置 | |
JP3248136B1 (ja) | プローブ方法及びプローブ装置 | |
JP2002057196A (ja) | プローブ方法及びプローブ装置 | |
JPH08327658A (ja) | 基板検査装置 | |
KR100982343B1 (ko) | 웨이퍼 프로버의 스테이지 오차 측정 및 보정 장치 | |
RU2813478C1 (ru) | Способ поверки или настройки тестера сверхбольших интегральных микросхем, манипулятор и плата для реализации способа | |
KR100262654B1 (ko) | 웨이퍼 프로빙 장치 및 방법 | |
JPS6279640A (ja) | ウエハプロ−バ装置 | |
KR100262655B1 (ko) | 웨이퍼 프로버의 정렬 방법 및 장치 | |
KR200235109Y1 (ko) | 반도체 웨이퍼 프로버용 프리얼라인 장치 | |
JP2939665B2 (ja) | 半導体ウエハの測定方法 | |
JPH09326426A (ja) | ウェーハの検査装置および方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130502 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140605 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150423 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160707 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170706 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180809 Year of fee payment: 16 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190704 Year of fee payment: 17 |