KR100372391B1 - 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 조성물의 예비적용을 포함하는 웨이브 퍼머 방법 - Google Patents

하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 조성물의 예비적용을 포함하는 웨이브 퍼머 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 요지는 환원 조성물 및 이어서 중화 조성물을 연속적으로 적용하는 것을 포함하는 모발의 영구 변형 방법에 관한 것으로서, 상기 조성물들의 하나 이상은 하나 이상의 양이온성 중합체를 함유하며, 환원 조성물의 적용 전에, 환원 및 중화 조성물과는 구별되며 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 제 3 별도 조성물을 미리 모발에 적용하고, 양이온성 중합체(들)을 함유하는 (하나 이상의) 조성물(들)을 적용한 후에만 헹구는 것을 특징으로 하는 방법이다.

Description

하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 조성물의 예비 적용을 포함하는 웨이브 퍼머 방법 {PERMANENT-WAVING PROCESS COMPRISING THE PRELIMINARY APPLICATION OF A COMPOSITION COMPRISING AT LEAST ONE ANIONIC POLYMER}
본 발명의 요지는 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 조성물의 예비 적용을 포함하는 모발의 영구 변형 방법이다. 본 발명은 또한, 환원 조성물의 적용 전에 웨이브 퍼머를 위한 상기 조성물의 용도, 및 환원 조성물과 중화 조성물 외에, 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 제 3 별도 조성물을 함유하는 키트를 목적으로 한다.
모발의 영구 변형을 위한 환원 또는 중화 조성물에서의 양이온성 중합체의 용도는 공지되어 있다. 상기 중합체가 처리 후 모발의 미용 특성을 향상시키는 것이 일반적으로 공지되어 있다. 예를 들면, 상기 중합체를 함유하지 않는 제형물로 처리한 모발보다 종종 촉감이 더 부드럽고, 외관이 더 매끄럽다.
그러나, 양이온성 중합체는 일반적으로 곧고 곱슬거리지 않게 되기 쉬워, 모발이 부드러워지고 강도가 부족해지는 단점을 나타낸다. 이는 헤어스타일의 외관 및 시간에 따른 그것의 유지(hold) 모두에 대해 해롭다. 이는, 관여된 사람의 소망과 대조적으로, 웨이브 퍼머에 의해 제조된 컬(curl)이 변형되기 시작한 다음, 급속히 사라지기 때문이다. 결국, 양이온성 중합체는 종종 모발을 스타일링하기 어렵게 한다.
따라서, 상기한 단점을 일으키지 않고, 특히 우수한 미용 특성 및 지속적인 변형, 컬 또는 고수머리를 갖는 모발을 제공하고, 또한 모발을 스타일링하기 쉽게 하는 영구 변형 방법에 대한 요구가 존재한다.
본 출원인은 놀랍고도 예상밖으로, 웨이브 퍼머용 환원 조성물을 적용하기 전에, 환원 및 중화 조성물과는 구별되는 별도의, 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 조성물을 모발에 예비 적용함으로써 상기 문제를 해결할 수 있음을 발견하였다.
본 발명의 요지는 환원 조성물 (a), 이어서 중화 조성물 (b) 를 연속적으로 적용하며, 상기 중합체 (a) 또는 (b) 의 하나 이상이 하나 이상의 양이온성 중합체를 함유하는 모발의 영구 변형 방법으로서, 환원 조성물 (a) 를 적용하기 전에, 조성물 (a) 및 (b) 와는 구별되며, 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 제 3 별도 조성물 (c) 를 모발에 적용하고, 양이온성 중합체(들)을 함유하는 (하나 이상의) 조성물(들)을 적용한 후에만 모발을 헹구는 것을 특징으로 하는 방법이다.
본 발명의 또다른 요지는 환원 조성물 (a) 의 적용 전에 웨이브 퍼머를 위한 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 조성물 (c) 의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 또다른 요지는 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 를 함유하며, 하나 이상의 환원 조성물 (a) 또는 중화 조성물 (b) 가 하나 이상의 양이온성 중합체를 함유하는 키트에 관한 것으로, 상기 키트는 추가로 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 제 3 별도 조성물 (c) 를 포함한다.
본 발명에 따른 방법의 첫번째 유리한 구현예에 따르면, 환원 조성물 (a) 만이 양이온성 중합체를 함유하며, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 의 적용 사이에 헹굼을 수행하거나 수행하지 않는다.
본 발명에 따른 방법의 두번째 유리한 구현예에 따르면, 중화 조성물 (b) 만이 양이온성 중합체를 함유한다. 이 경우, 본 발명에 따른 방법의 일반적인 정의에 따라, 모발은 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 의 적용 사이에 헹구지 않는다.
본 발명에 따른 방법의 세번째 유리한 구현예에 따르면, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 모두 양이온성 중합체를 함유하며, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 의 적용 사이에 헹굼을 수행하거나 수행하지 않는다. 더욱 바람직하게, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 의 적용 사이에 헹굼을 수행하지 않는다.
더욱 일반적으로, 본 발명의 범위에서, 용어 "양이온성 중합체" 는 양이온성기로 이온화될 수 있는 기 또는 양이온성기를 함유하는 임의의 중합체를 의미한다.
바람직한 양이온성 중합체는 중합체 주쇄의 일부를 형성할 수 있거나, 후자에 직접적으로 연결된 측쇄 치환체를 가질 수 있는 1차, 2차, 3차 및/또는 4차 아민기를 포함하는 단위체를 포함하는 것들로부터 선택된다.
일반적으로 사용된 양이온성 중합체는 대략 500 내지 5 ×106, 바람직하게는 대략 103내지 3 ×106의 수 평균 분자량을 갖는다.
양이온성 중합체 중, 특히 폴리아민, 폴리아미노아미드 및 폴리(4차 암모늄)계의 중합체를 들 수 있다. 이들은 공지된 제품이다.
양이온성 중합체의 하나의 종류는 실리콘 양이온성 중합체이다. 이들 중 하기를 들 수 있다:
(a) 하기 화학식 4 에 상응하는 실리콘 중합체:
{식 중,
G5, G6, G7및 G8은 동일 또는 상이하며, 수소원자 또는 페닐, OH, C1-C18알킬, 예를 들면, 메틸, C2-C18알케닐 또는 C1-C18알콕시기를 나타내며,
a 및 a' 는 동일 또는 상이하며, 0 또는 1 내지 3 의 정수, 특히 0 을 나타내며, b 는 0 또는 1, 특히 1 을 나타내며,
m 및 n 은 (n + m) 이 특히 1 내지 2000, 특히 50 내지 150 일 수 있도록 하는 수이며, n 은 0 내지 1999, 특히 49 내지 149 을 나타낼 수 있으며, m 은 1 내지 2000, 특히 1 내지 10 을 나타낼 수 있고,
R6, R7및 R8은 동일 또는 상이하며, 화학식 -CqH2qOsR9 tL (식 중, q 는 1 내지 8 의 수이며, s 및 t 는 동일 또는 상이하며 0 또는 1 이다) 의 1가 라디칼을 나타내며, R9는 임의 히드록실화 알킬렌기를 나타내며, L 은 하기 기로부터 선택된 임의 4차화 아미노기를 나타낸다:
-NR"-CH2-CH2-N'(R")2, -N(R")2, -N+(R")3A-, N+H(R")2A-, N+H2(R")A-, -N(R")-CH2-CH2-N+R"H2A-(여기서, R" 는 수소, 페닐, 벤질 또는 포화 1가 탄화수소 라디칼, 예를 들면, 탄소수 1 내지 20 의 알킬 라디칼을 나타낼 수 있으며, A-는 할라이드 이온, 예컨대 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드를 나타낸다)}.
상기 정의에 상응하는 제품은 예를 들면, 하기 화학식 5 에 상응하는, CTFA 사전에서 "아모디메티콘(amodimethicone)"이라 명명한 폴리실록산이다:
(식 중, x' 및 y' 는 분자량에 따른 정수이며, 일반적으로 상기 분자량이 대략5000 내지 20,000 이 되도록 한다).
화학식 4 에 상응하는 제품은 하기 화학식에 상응하는, CTFA 사전명 "트리메틸실릴아모디메티콘" 인 중합체이다:
(식 중, n 및 m 은 상기 정의한 의미를 갖는다. 화학식 4 참조).
상기 정의에 상응하는 시판 제품은 다우 코닝(Dow Corning) 사에 의해 Q2-8220 라는 이름 하에 시판되는 폴리디메틸실록산 및 아미노에틸아미노이소부틸기를 함유하는 폴리디메틸실록산의 혼합물 (90/10 중량) 이다.
상기 중합체는 예를 들면, 특허 출원 제 EP-A-95,238 호에 개시되어 있다.
화학식 4 에 상응하는 기타 중합체는 하기 화학식 6 에 상응하는 실리콘 중합체이다:
(식 중,
R10은 탄소수 1 내지 18 의 1가 탄화수소 라디칼, 특히 C1-C18알킬 또는 C2-C18알케닐 라디칼, 예를 들면 메틸 라디칼을 나타내며;
R11은 2가 탄화수소 라디칼, 특히 C1-C18알킬렌 라디칼 또는 2가 C1-C18알킬렌옥시 라디칼, 예를 들면, C1-C8라디칼을 나타내며;
Q-는 할라이드 이온, 특히 염소 이온이며;
r 은 2 내지 20, 특히 2 내지 8 의 평균 통계학적 값을 나타내며;
s 는 20 내지 200, 특히 20 내지 50 의 평균 통계학적 값을 나타낸다).
상기 중합체는 더욱 특히 특허 US 제 4,185,087 호에 개시되어 있다.
(b) CTFA 명 "아미노비스프로필디메티콘" 에 상응하는 화학식 NH-[(CH2)3-Si[OSi(CH3)3]]3의 화합물.
상기 종류의 중합체는 "우카 실리콘(Ucar Silicone) ALE 56" 라는 이름 하에 유니온 카바이드(Union Carbide) 사에 의해 판매되는 중합체이다.
상기 실리콘 중합체가 사용되면, 특히 유리한 구현예는 양이온성 및/또는 비이온성 계면활성제와 연결된 용도이다. 예를 들면, 다우 코닝 사에 의한 "에멀션 카티오니끄(Emulsion Cationique) DC 939" [Cationic Emulsion DC939] 라는 이름의 제품을 사용할 수 있으며, 이는 아모디메티콘 외에, 하기 화학식 7 에 상응하는 제품의 혼합물을 함유하는 양이온성 계면활성제와 화학식 CH3(CH2)11-CH2-(OC2H4)n-OH (n 은 20 의 평균 값을 갖는다) 의 비이온성 계면활성제를 조합하여 포함한다:
(식 중, R12는 탈로우 지방산으로부터 유도된 탄소수 14 내지 22 의 알케닐 및/또는 알킬 라디칼을 나타낸다).
본 발명에 따라 사용될 수 있는 또다른 시판 제품은 다우 코닝 사에 의한 "다우 코닝(Dow Corning) Q2 7224" 로서, 화학식 4 의 트리메틸실릴아모디메티콘, 화학식 C8H17-C6H4-(OCH2CH2)n-OH (식 중, n = 40) 의 비이온성 계면활성제 (옥톡시놀(octoxynol)-40 이라고도 공지됨), 화학식 C12H25-(OCH2-CH2)n-OH (n = 6) 의 또다른 비이온성 계면활성제 (이소라우레트(isolaureth)-6 이라고도 공지됨) 및 글리콜을 조합하여 함유한다.
특히 언급할 수 있는 본 발명에 따라 사용될 수 있는 폴리아민, 폴리아미노아미드 또는 폴리(4차 암모늄)계 중합체는 프랑스 특허 제 2,505,348 호 또는 제 2,542,997 호에 개시된 것들이다. 그 중, 특히 하기 중합체를 들 수 있다:
(1) 임의 4차화 비닐피롤리돈/디알킬아미노알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 공중합체, 예컨대 ISP 사의 "가프쿠아트(Gafquat, 상표명)", 예컨대 가프쿠아트 734, 755 또는 HS100 하에 시판되는 제품, 또는 "코폴리머(Copolymer) 937" 로서 공지된 제품. 이들 중합체는 프랑스 특허 제 2,077,143 호 및 제2,393,573 호에 상세히 개시되어 있다.
(2) 프랑스 특허 제 1,492,597 호에 개시된 4차 암모늄기를 함유하는 셀룰로스 에테르 유도체, 특히 유니온 카바이드 사에 의해 시판되는 "JR" (JR 400, JR 125, JR 30M) 또는 "LR" (LR 400, LR 30M) 라는 이름의 중합체. 이들 중합체는 또한 트리메틸암모늄기에 의해 치환된 에폭시드와 반응한 히드록시에틸셀룰로스의 4차 암모늄으로서 CTFA 사전에 정의되어 있다.
(3) 양이온성 셀룰로스 유도체, 예컨대 수용성 4차 암모늄 단량체로 그라프트된 셀룰로스 또는 셀룰로스 유도체의 공중합체, 및 특히 US 특허 제 4,131,576 호에 개시된 것, 예컨대 특히 메타크릴로일에틸트리메틸암모늄, 메타크릴아미도프로필트리메틸암모늄 또는 디알릴디메틸암모늄 염으로 그라프트된 히드록시알킬 셀룰로스, 예를 들면, 히드록시메틸, 히드록시에틸 또는 히드록시프로필 셀룰로스.
상기 정의에 상응하는 시판 제품은 내셔날 스타치(National Starch) 사에 의해 "셀쿠아트(Celquat) L200" 및 "셀쿠아트 H100" 라는 이름의 제품이다.
(4) 더욱 특히 US 특허 제 3,589,578 호 및 제 4,031,307 호에 개시된 양이온성 다당류, 더욱 특히 메이홀(Meyhall) 사의 "재규어(Jaguar) C.13S" 라는 이름 의 제품.
(5) 산소, 황 또는 질소원자에 의해, 또는 방향족 또는 헤테로시클릭 고리에 의해 임의 차단된 2가 선형 또는 분지형 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼 및 피페라지닐 단위체로 이루어진 중합체, 또한 이들 중합체의 산화 및/또는 4차화 생성물. 상기 중합체는 특히 프랑스 특허 제 2,162,025 호 및 제 2,280,361 호에기재되어 있다.
(6) 특히 산성 화합물과 폴리아민의 중축합에 의해 제조된 수용성 폴리아미노아미드; 이들 폴리아미노아미드는 에피할로히드린, 디에폭시드, 디안히드리드, 불포화 디안히드리드, 비스불포화 유도체, 비스할로히드린, 비스아제티디늄, 비스할로아실디아민 또는 알킬 비스할라이드에 의해, 또는 대안적으로 비스할로히드린, 비스아제티디늄, 비스할로아실디아민, 알킬 비스할라이드, 에피할로히드린, 디에폭시드 또는 비스불포화 유도체와 반응성인 2작용성 화합물의 반응으로부터 생성된 올리고머에 의해 가교결합될 수 있으며; 가교결합제는 폴리아미노아미드의 아민 기 당 0.025 내지 0.35 몰의 비율로 사용되며; 상기 폴리아미노아미드는 알킬화되거나, 또는 이들이 하나 이상의 3차 아민 작용기를 포함하면 4차화될 수 있다. 상기 중합체는 특히 프랑스 특허 제 2,252,840 호 및 제 2,368,508 호에 기재되어 있다.
(7) 폴리알킬렌폴리아민과 폴리카르복실산의 축합, 이어서 2작용화제에 의해 알킬화함으로써 생성된 폴리아미노아미드 유도체. 예를 들면, 알킬 라디칼이 탄소수 1 내지 4 를 포함하며, 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타내는 아디프산/디알킬아미노히드록시알킬/디알킬렌 트리아민 중합체를 들 수 있다. 상기 중합체는 특히 프랑스 특허 제 1,583,363 호에 개시되어 있다.
특히, 이들 유도체 중, 산도즈(Sandoz) 사의 "카르타레틴(Cartaretine) F, F4 또는 F8" 라는 이름의 아디프산/디메틸아미노히드록시프로필/디에틸렌트리아민 중합체를 들 수 있다.
(8) 탄소수 3 내지 8 의 포화 지방족 디카르복실산 및 디글리콜산으로부터 선택된 디카르복실산과, 하나 이상의 2차 아민기 및 두 개의 1 차 아민기를 포함하는 폴리알킬렌폴리아민의 반응에 의해 수득된 중합체로서, 폴리알킬렌폴리아민 대 디카르복실산의 몰 비는 0.8 : 1 내지 1.4 : 1 이며, 이들로부터 생성된 폴리아미노아미드는 에피클로로히드린 대 폴리아미노아미드의 2차 아민기의 0.5 : 1 내지 1.8 : 1 의 몰 비로 에피클로로히드린과 반응한다. 상기 중합체는 특히 미국 특허 제 3,227,615 호 및 제 2,961,347 호에 개시되어 있다.
이러한 종류의 중합체는 특히 헤르큘레스(Hercules) 사의 상표명 "헤르코셋(Hercosett) 57" 또는 아디프산/에폭시프로필/디에틸렌트리아민 공중합체의 경우, 헤르큘레스 사의 "PD 170" 또는 "델셋(Delsette) 101" 라는 이름 하에 시판된다.
(9) 디메틸디알릴암모늄 또는 메틸디알릴아민의 시클로중합체, 예컨대 주쇄로서 하기 화학식 8 또는 8a 에 상응하는 단위체를 함유하는 공중합체 또는 호모중합체:
(식들 중, k 및 t 는 0 또는 1 이며, k + t 의 합은 1 이며; R15는 수소원자 또는 메틸 라디칼이며; R13및 R14는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 22 의 알킬기, 알킬기가 바람직하게는 탄소수 1 내지 5 인 히드록시알킬기 또는 저급 아미도알킬기를 나타내거나, 또는 R13및 R14는 이들이 결합된 질소원자와 함께 헤테로시클릭기, 예컨대 피페리디닐 또는 모르폴리닐을 나타낼 수 있고; Y-는 음이온, 예컨대 브로마이드, 클로라이드, 아세테이트, 보레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 비술페이트, 비술피트, 술페이트 또는 포스페이트이다). 이들 중합체는 특히 프랑스 특허 제 2,080,759 호 및 그의 부가 증명서 제 2,190,406 호에 개시되어 있다.
예를 들면, 머크(Merck) 사의 상표명 "머쿠아트(Merquat) 100" 라는 이름의 디알릴디메틸암모늄 클로라이드의 호모중합체 및 "머쿠아트 550" 라는 이름의 아크릴아미드 및 디알릴디메틸암모늄 클로라이드의 공중합체를 들 수 있다.
(10) 하기 화학식 9 에 상응하는 반복 단위체를 포함하는 디(4차 암모늄) 중합체:
{식 중,
R16, R17, R18및 R19는 동일 또는 상이하며, 탄소수 1 내지 20 의 지방족, 지환족 또는 아릴지방족 라디칼 또는 저급 히드록시알킬 지방족 라디칼을 나타내거나, 또는 R16, R17, R18및 R19는 함께 또는 별도로 이들이 결합된 질소원자와 함께 질소 외의 제 2 헤테로원자를 임의로 갖는 헤테로사이클을 형성하거나, 또는 R16, R17, R18및 R19는 니트릴, 에스테르, 아실, 아미드 또는 -CO-O-R20-D 또는 -CO-NH-R20-D 기 (여기서, R20은 알킬렌이며 D 는 4차 암모늄기이다) 로 치환된 선형 또는 분지형 C1-C6알킬 라디칼을 나타내며;
A1및 B1은 선형 또는 분지형이고, 포화 또는 불포화이며, 주쇄에 결합되거나 삽입된 하나 이상의 방향족 고리 또는 하나 이상의 산소 또는 황원자 또는 술폭시드, 술폰, 디술피드, 아미노, 알킬아미노, 히드록실, 4차 암모늄, 우레이도, 아미드 또는 에스테르기를 포함할 수 있는 탄소수 2 내지 20 의 폴리메틸렌기를 나타내며,
X-는 무기 또는 유기 산으로부터 유도된 음이온을 나타내며;
A1, R16및 R18은 이들이 결합된 2 개의 질소원자와 함께 피페라진 고리를 형성할 수 있으며; 또한, A1이 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼이면, B1은 또한 (CH2)n-CO-D-OC-(CH2)n- 기를 나타낼 수 있으며;
여기서, D 는 하기를 나타내며:
a) 화학식 -O-Z-O- (여기서, Z 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼 또는 하기 화학식 중 하나에 상응하는 기를 나타낸다) 의 글리콜 잔기:
-(CH2-CH2-O)x-CH2-CH2-
-[CH2-CH(CH3)-O]y-CH2-CH(CH3)-
(여기서, x 및 y 는 한정된 고유 중합화도를 나타내는 1 내지 4 의 정수이거나, 또는 평균 중합화도를 나타내는 1 내지 4 의 임의의 수이다);
b) 비스-2차 디아민 잔기, 예컨대 피페라진 유도체;
c) 화학식 -NH-Y-NH- (여기서, Y 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼 또는 2가 라디칼 -CH2CH2-S-S-CH2-CH2- 를 나타낸다)의 비스 1차 디아민 잔기;
d) 화학식 -NH-CO-NH- 의 우레일렌기;
바람직하게는, X-는 음이온, 예컨대 클로라이드 또는 브로마이드이다}.
이들 중합체는 일반적으로 1000 내지 100,000 의 수 평균 분자량을 갖는다.
이러한 중합체는 프랑스 특허 제 2,320,330 호, 제 2,270,846 호, 제 2,316,271 호, 제 2,336,434 호 및 제 2,413,097 호, 및 US 특허 제 2,273,780 호, 제 2,375,853 호, 제 2,388,614 호, 제 2,454,547 호, 제 3,206,462 호, 제 2,261,002 호, 제 2,271,378 호, 제 3,874,870 호, 제 4,001,432 호, 제 3,929,990 호, 제 3,966,904 호, 제 4,005,193 호, 제 4,025,617 호, 제 4,025,627 호, 제4,025,653 호, 제 4,026,945 호 및 제 4,027,020 호에 개시되어 있다.
(11) 하기 화학식 10 의 단위체로 이루어진 폴리(4차 암모늄) 중합체:
(식 중:
R21, R22, R23및 R24는 동일 또는 상이하며, 수소원자 또는 메틸, 에틸, 프로필, β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는 -CH2CH2(OCH2CH2)pOH 라디칼을 나타내며,
여기서, p 는 0 또는 1 내지 6 의 정수이며, 단 R21, R22, R23및 R24는 동시에 수소원자를 나타내지는 않으며,
r 및 s 는 동일 또는 상이하며, 1 내지 6 의 정수이며,
q 는 0 또는 1 내지 34 의 정수이며,
X 는 할로겐원자를 나타내며,
A3은 디할라이드 라디칼 또는 바람직하게는 -CH2-CH2-O-CH2-CH2- 를 나타낸다).
상기 화합물은 특히 특허 출원 제 EP-A-122,324 호에 개시되어 있다.
이들 중, 예를 들면, 미라놀(Miranol) 사의 상표명 "미라폴(Mirapol) A15", "미라폴 AD1", "미라폴 AZ1" 및 "미라폴 175" 제품을 들 수 있다.
(12) 하기를 단위체를 포함하는 아크릴 또는 메타크릴산으로부터 유도된 호모중합체 또는 공중합체:
(식들 중,
R30기들은 독립적으로 H 또는 CH3를 나타내며,
A2기들은 독립적으로 탄소수 1 내지 6 의 선형 또는 분지형 알킬렌기 또는 탄소수 1 내지 4 의 히드록시알킬렌기를 나타내며,
R25, R26및 R27기들은 동일 또는 상이하며, 독립적으로 탄소수 1 내지 18 의 알킬기, 또는 벤질 라디칼을 나타내며,
R28및 R29는 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타내며,
X2 -는 음이온, 예를 들면, 메틸 술페이트 또는 할라이드, 예컨대 클로라이드 또는 브로마이드를 나타낸다).
상응하는 공중합체의 제조에 사용될 수 있는 공단량체(들)은 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 디아세톤 아크릴아미드, 저급 알킬, 아크릴 또는 메타크릴산의 알킬 에스테르, 비닐 피롤리돈 또는 비닐 에스테르에 의해 질소 원자에서 치환된 아크릴아미드 또는 메타크릴아미드의 종류에 속한다.
(13) 비닐피롤리돈 및 비닐이미디졸의 4차 중합체, 예컨대 바세프(BASF) 사에 의한 상표명 루비쿠아트(Luviquat) FC 905, FC 550 및 FC 370 의 제품.
(14) 폴리아민, 예컨대 헨켈(Henkel) 사의 "폴리쿼트(Polyquart) H", CTFA 명 "폴리에틸렌 글리콜 (15) 탈로우 폴리아민" 의 제품.
(15) 메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드의 가교결합된 중합체, 예컨대 메틸 클로라이드에 의해 4차화된 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 호모중합화에 의해, 메틸 클로라이드에 의해 4차화된 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트와 아크릴아미드의 공중합화에 의해 수득된 중합체, 상기 호모 또는 공중합화에 이어 올레핀 불포화물, 특히 메틸렌비스아크릴아미드를 갖는 화합물에 의해 가교결합을 수행한다. 더욱 특히 미네랄 오일 중에 공중합체 50 중량% 를 함유하는 분산액 형태의 가교결합된 아크릴아미드/메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드 (20/80 중량) 공중합체를 사용할 수 있다. 이들 분산액은 얼라이드 콜로이드(Allied Colloid) 사에 의해 "살케어(Salcare) SC92" 라는 이름으로 시판된다. 또한 미네랄 오일 중에 대략 50 중량% 의 호모중합체를 함유하는 메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄 클로라이드의 가교결합된 호모중합체를 사용할 수 있다. 상기 분산액은 얼라이드 콜로이드 사에 의해 상표명 "살케어 SC 95" 하에 시판된다.
본 발명에 사용될 수 있는 기타 양이온성 중합체는 폴리알킬렌이민, 특히 폴리에틸렌이민이며, 중합체는 비닐피리딘 또는 비닐피리디늄 단위체, 폴리아민과 에피클로로히드린의 축합물, 4차 폴리우레일렌 및 키틴 유도체이다.
본 발명에 사용될 수 있는 양이온성 중합체 중, 시클로중합체, 특히 머크 사의 상표명 "머쿠아트 100" 하의 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 호모중합체 또는 화학식 9 또는 화학식 10 의 디(4차 암모늄) 중합체를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 라텍스 또는 유사라텍스 형태, 즉 불용성 중합체 입자의 분산액 형태로 양이온성 중합체를 사용할 수 있다.
본 발명에 따르면, 양이온성 중합체(들)은 최종 조성물 총 중량의 0.01 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 15 중량%, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 5 중량% 를 나타낼 수 있다.
일반적으로 사용된 음이온성 중합체는 카르복실, 술폰 또는 인산으로부터 유도된 기를 함유하는 중합체이며, 대략 500 내지 5,000,000 의 중량 평균 분자량을 갖는다.
1) 카르복실기는 불포화 모노 또는 디카르복실산 단량체에 의한 것이며, 예컨대 하기 화학식에 상응하는 것들이다:
(식 중, n 은 0 내지 10 의 정수이며, A 는 n 이 1 보다 큰 경우 헤테로원자, 예컨대 산소 또는 황을 통해 인접 메틸렌기에, 또는 불포화기의 탄소원자에 임의 결합된 메틸렌기를 나타내며, R5는 수소원자 또는 페닐 또는 벤질기를 나타내며, R3은 수소원자 또는 저급 알킬 또는 카르복실기를 나타내며, R4는 수소원자, 저급 알킬기 또는 -CH2-COOH, 페닐 또는 벤질기를 나타낸다).
상기 식에서, 저급 알킬 라디칼은 바람직하게는 탄소수 1 내지 4 의 기, 특히 메틸 및 에틸이다.
본 발명에 따른 카르복실기를 함유하는 바람직한 음이온성 중합체는 하기이다:
A) 아크릴 또는 메타크릴산 또는 그의 염의 호모 또는 공중합체, 특히 얼라이드 콜로이드 사에 의한 베르시콜 (Versicol) E 또는 K 및 바세프 사의 울트라홀드(Ultrahold) 라는 이름의 제품, 헤르큘레스 사에 의한 렌텐(Renten) 421, 423 또는 425 라는 이름의 소듐 염 형태로 시판되는 아크릴산 및 아크릴아미드의 공중합체 또는 폴리히드록시카르복실산의 소듐 염.
B) 모노에틸렌성 단량체, 예컨대 에틸렌, 스티렌, 비닐 에스테르 또는 아크릴 또는 메타크릴산의 에스테르와, 아크릴 또는 메타크릴산의 공중합체. 이들 공중합체는 폴리알킬렌 글리콜, 예컨대 폴리에틸렌 글리콜 상에 그라프트될 수 있다. 상기 중합체는 특히 프랑스 특허 제 1,222,944 호 및 독일 출원 제 2,330,956 호에 개시되어 있다. 특히, 그 사슬 내에, 임의로 N-알킬화 및/또는 히드록시알킬화된 아크릴아미드 단위체를 함유하는 공중합체, 예컨대 특히 룩셈부르그 특허 출원 제 75370 호 및 제 75371 호에 개시된 것 또는 아메리칸 시아나미드(American Cyanamid) 사에 의해 쿼드라머(Quadramer) 라는 이름으로 제공된 것을 들 수 있다. 또한, 아크릴산과 C1-C4알킬 메타크릴레이트의 공중합체, 비닐피롤리돈, (메트)아크릴산 및 C1-C20알킬의 (메트)아크릴레이트의 삼중합체, 예를 들면, 라우릴 (예컨대 ISP 사에 의해 아크릴리돈(Acrylidone) LM 하에 시판), tert-부틸 (바세프 사에 의해 루비플렉스(Luviflex) VBM 70 하에 시판) 또는 메틸 (스테판 (Stepan)에 의해 스테판홀드(Stepanhold) Extra 하에 시판), 및 메타크릴산/에틸 아크릴레이트/tert-부틸 아크릴레이트 삼중합체, 예컨대 바세프 사의 루비머(Luvimer) 100 P 하에 시판되는 제품.
C) 크로톤산으로부터 유도된 공중합체, 예컨대 사슬 내에 비닐 아세테이트 또는 프로피오네이트 단위체, 및 임의로 기타 단량체, 예를 들면, 장쇄, 예컨대 탄소수 5 이상의 탄화수소 사슬 함유 선형 또는 분지형 포화 카르복실산의 알릴 또는 메탈릴 에스테르, 비닐 에테르 또는 비닐 에스테르, 또는 대안적으로 α- 또는 β-시클릭 카르복실산의 비닐, 알릴 또는 메탈릴 에스테르를 함유하며, 임의로 그라프트화된다. 상기 중합체는 특히, 프랑스 특허 제 1,222,944 호, 제 1,580,545 호, 제 2,265,782 호, 제 2,265,781 호, 제 1,564,110 호 및 제 2,439,798 호에 개시된 것이다. 상기 종류의 제품은 내쇼날 스타치 사의 레진(Resins) 28-29-30, 26-13-14 및 28-13-10 이다.
D) 하기로부터 선택된 C4-C8모노불포화 카르복실산 또는 무수물로부터 유도된 공중합체:
- (ⅰ) 하나 이상의 말레산, 푸마르산 또는 이타콘산 또는 무수물, 및 (ⅱ) 비닐 에스테르, 비닐 에테르, 비닐 할라이드, 페닐비닐 유도체, 또는 아크릴산 및 그의 에스테르로부터 선택된 하나 이상의 단량체를 포함하는 공중합체로서, 이들 공중합체의 무수 작용기는 임의로 모노에스테르화 또는 모노아미드화되며; 상기 중합체는 특히 US 특허 제 2,047,398 호, 제 2,723,248 호 및 제 2,102,113 호 및 GB 특허 제 839,805 호에 개시된 것, 특히 ISP 사에 의해 간트레쯔(Gantrez) AN 또는 ES 또는 아반타쥐 (Avantage) CP 하에 시판되는 것들.
- (ⅰ) 하나 이상의 말레산, 시트라콘산 또는 이타콘산 무수물 및 (ⅱ) 하나 이상의 아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-올레핀, 아크릴 또는 메타크릴 에스테르, 아크릴산, 메타크릴산 또는 비닐피롤리돈기를 그 사슬 내에 임의로 함유하는 알릴 또는 메탈릴 에스테르로부터 선택된 하나 이상의 단량체를 포함하는 공중합체로서, 이들 공중합체의 무수 작용기는 임의로 모노에스테르화 또는 모노아미드화된다. 이들 중합체는 예를 들면, 본 출원인의 프랑스 특허 제 2,350,384 호 및 제 2,357,241 호에 개시되어 있다.
E) 카르복실레이트기를 함유하는 폴리아크릴아미드.
술포기 함유 중합체는 비닐술폰, 스티렌술폰, 나프탈렌술폰 또는 아크릴아미도알킬술폰 단위체를 함유하는 중합체이다.
이들 중합체는 특히 하기로부터 선택될 수 있다:
- 대략 1000 내지 100,000 의 중량 평균 분자량을 갖는 폴리비닐술폰산의 염, 또한 불포화 공단량체, 예컨대 아크릴 또는 메타크릴산 및 이들의 염, 또한 아크릴아미드 또는 그의 유도체, 비닐 에테르 및 비닐피롤리돈과의 공중합체.
- 대략 500,000 및 대략 100,000 의 중량 평균 분자량을 갖는 폴리스티렌술폰산의 염, 소듐 염, 각각 내쇼날 스타치 사의 플렉산(Flexan) 500 및 플렉산 130 하에 시판. 이들 화합물은 특허 FR 제 2,198,719 호에 개시된다.
- 폴리아크릴아미도술폰산의 염, 예컨대 US 특허 제 4,128,631 호에 개시된 것, 더욱 특히 헨켈 사에 의해 코스메디아 폴리머 (Cosmedia Polymer) HSP 1180 하에 시판되는 폴리아크릴아미도에틸프로판술폰산.
본 발명에 따르면, 바람직한 음이온성 중합체는 아크릴산 공중합체, 예컨대 특히 바세프 사의 울트라홀드 스트롱 하에 시판되는 아크릴산/에틸 아크릴레이트/N-tert-부틸아크릴아미드 삼중합체, 크로톤산으로부터 유도된 공중합체, 예컨대 특히 내쇼날 스타치 사의 상표명 레진 28-29-30 하에 시판되는 비닐 아세테이트/비닐 tert-부틸-벤조에이트/크로톤산 삼중합체 및 크로톤산/비닐 아세테이트/비닐 네오도데카노에이트 삼중합체, 말레산, 푸마르산 또는 이타콘산 또는 무수물과 비닐 에스테르, 비닐 에테르, 비닐 할라이드, 페닐비닐 유도체 또는 아크릴산 및 그의 에스테르로부터 유도된 중합체, 예컨대 특히 ISP 사에 의해 상표명 간트레쯔 하에 시판되는 모노에스테르화 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체, 롬 파르마(Rohm Pharma) 사에 의해 유드라지트(Eudragit) L 라는 이름으로 시판되는 메틸 메타크릴레이트와 메타크릴산의 공중합체, 아머콜(Amerchol) 사에 의해 아머홀드(Amerhold) DR 25 라는 이름으로, 또는 롬 앤 하스(Rohm and Haas)사에 의해 아쿠다인 (Acudyne) 255 이라는 이름으로 시판되는 메타크릴산/메틸 메타크릴레이트/C1-C4알킬 아크릴레이트/아크릴산 또는 C1-C4히드록시알킬 메타크릴레이트 공중합체, 바세프사에 의해 루비머(Luvimer) MAEX 또는 MAE 라는 이름으로 시판되는 에틸 아크릴레이트와 메타크릴산의 공중합체, 및 비닐 아세테이트/크로톤산 공중합체, 바세프 사에 의한 아리스토플렉스(Aristoflex) A 하의 폴리에틸렌 글리콜로 그라프트된 비닐 아세테이트/크로톤산 공중합체 또는 예를 들면, 베르시콜 (Versicol) E5 라는 이름의 아크릴산 또는 메타크릴산 호모중합체로부터 선택된다.
가장 바람직한 음이온성 중합체는 ISP 사에 의해 간트레쯔(Gantrez) ES 425 라는 이름으로 시판되는 모노에스테르화 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체, 바세프사에 의해 울트라홀드 스트롱이란 이름으로 시판되는 아크릴산/에틸 아크릴레이트/N-tert-부틸아크릴아미드 삼중합체, 롬 파르마 사의 유드라지트 (Eudragit) L 하의 메틸 메타크릴레이트와 메타크릴산의 공중합체, 내쇼날 스타치 사의 레진(Resin) 28-29-30 하의 비닐 아세테이트/비닐 tert-부틸벤조에이트/크로톤산 삼중합체 및 크로톤산/비닐 아세테이트/비닐 네오도데카노에이트 삼중합체, 바세프 사의 루비머(Luvimer) MAEX 또는 MAE 하의 에틸 아크릴레이트와 메타크릴산의 공중합체, ISP 사의 아크릴리돈(Acrylidone) LM 하의 비닐피롤리돈/아크릴산/라우릴 메타크릴레이트 삼중합체, 및 베르시콜 E5 라는 이름의 아크릴산 또는 메타크릴산 호모중합체로부터 선택된다.
본 발명에 따르면, 음이온성 중합체를 라텍스 또는 유사라텍스 형태, 즉 불용성 중합체 입자의 분산액 형태로 제조할 수 있다.
본 발명에 따르면, 폴리실록산 부분과 비실리콘 유기 사슬로 이루어진 부분을 포함하는 그라프트화 실리콘계 음이온성 중합체를 사용할 수 있으며, 두 부분 중 하나는 중합체의 주쇄를 구성하며, 다른 하나는 주쇄 상에 그라프트된다. 이들 중합체는 예를 들면, 특허 출원 제 EP-A-0,412,704 호, 제 EP-A-0,412,707 호, 제 EP-A-0,640,105 호 및 제 WO 95/00578 호, 제 EP-A-0,582,152 호 및 제 WO 93/23009 호 및, 특허 US 제 4,693,935 호, US 제 4,728,571 호 및 US 제 4,972,037 호에 기재되어 있다.
상기 중합체는 예를 들면, 하기로 이루어진 단량체들의 혼합물로부터 라디칼 중합화에 의해 수득될 수 있는 공중합체이며, 중량% 는 단량체의 총 중량에 대해 계산된다:
a) tert-부틸 아크릴레이트 50 내지 90 중량%;
b) 아크릴산 1 내지 40 중량%;
c) 하기 화학식의 실리콘 매크로머 5 내지 40 중량%:
(상기 식에서, v 는 5 내지 700 의 범위의 수이다).
본 발명의 실행에 적절한 비실리콘 유기 단량체로 그라프트된 폴리실록산 골격을 갖는 실리콘 중합체의 한 종류는, 그 구조 내에 하기 화학식 3 의 단위체를 함유하는 실리콘 중합체이다:
(식 중, G1라디칼들은 동일 또는 상이하며, 수소 또는 C1-C10알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내며; G2라디칼들은 동일 또는 상이하며, C1-C10알킬렌기를 나타내며; G3은 에틸렌 불포화물을 갖는 하나 이상의 음이온성 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 잔기를 나타내며; G4는 에틸렌 불포화물을 갖는 하나 이상의 소수성 단량체의 (호모)중합화로부터 생성되는 중합체성 잔기를 나타내며; m 및 n 은 0 또는 1 이며; a 는 0 내지 50 의 정수이며; b 는 10 내지 350 일 수 있는 정수이며, c 는 0 내지 50 의 정수이며; 단, a 내지 c 중 하나는 0 이 아니다).
상기 화학식 3 의 단위체는 하기 특징을 하나 이상, 바람직하게는 모두 나타낸다:
- G1라디칼들은 C1-C10알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 라디칼을 나타내며;
- n 은 0 이 아니며, G2라디칼들은 2가 C1-C3라디칼, 바람직하게는 프로필렌 라디칼을 나타내며;
- G3은 에틸렌 불포화물, 바람직하게는 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 갖는 카르복실산의 하나 이상의 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타내며;
- G4는 C1-C10알킬 (메트)아크릴레이트계, 바람직하게는 이소부틸 또는 메틸 (메트)아크릴레이트의 하나 이상의 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타낸다.
화학식 3 의 단위는 또한 바람직하게는 하기 특징을 모두 나타낼 수 있다:
- G1라디칼들은 C1-C10알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 라디칼을 나타내며;
- n 은 0 이 아니며, G2라디칼들은 2가 C1-C3라디칼, 바람직하게는 프로필렌 라디칼을 나타내며;
- G3은 에틸렌 불포화물, 바람직하게는 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 갖는 카르복실산의 하나 이상의 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타내며;
- c 는 0 이다.
그라프트된 실리콘 중합체의 예는 특히 티오프로필렌계의 연결을 통해, 폴리((메트)아크릴산)계 및 폴리(알킬(메트)아크릴레이트)계, 예컨대 폴리(이소부틸(메트)아크릴레이트)의 혼합된 중합체 단위체가 그라프트된 폴리디메틸실록산 (PDMS) 이다. 특히 폴리(메타크릴산)-3-티오프로필기 및 폴리(메틸 메타크릴레이트)-3-티오프로필기를 함유하는 폴리메틸/메틸실록산 구조로 그라프트된 화학식 3 의 실리콘 중합체, 및 폴리(아크릴산)-3-티오프로필기를 함유하는 폴리메틸/메틸실록산 구조로 그라프트된 화학식 3 의 실리콘 중합체를 사용한다.
환원 조성물 (a) 전에 적용된 제 3 조성물 (c) 는 바람직하게는 0.01 내지20 % 의 음이온성 중합체, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 10 %, 더더욱 바람직하게는 0.2 내지 5 % 를 함유한다.
본 발명에 따른 방법에 따라, 임의의 종류의 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 가 사용될 수 있으며, 예를 들면, 본 출원인에 속하는 유럽 특허 EP 제 465,342 호, EP 제 440,547 호, EP 제 568,695 호, EP 제 636,358 호, EP 제 681,828 호 또는 EP 제 723,772 호, 또는 프랑스 특허 출원 공보 FR 제 2,773,071 호, FR 제 2,773,072 호 및 FR 제 2,769,499 호에 기재되어 있는 것들이다.
공지된 임의의 환원제가 본 조성물에 사용될 수 있다.
환원 조성물 (a) 는 유리하게는 티오글리콜산, 티오락트산, 시스테인, 시스테아민 및 글리세릴 티오글리콜레이트로부터 선택된 하나 이상의 티올 함유 환원제를 포함한다.
공지된 임의의 산화제가 중화 조성물 (b) 에 사용될 수 있다.
중화 조성물 (b) 는 유리하게는 과산화수소, 요소 과산화수소, 알칼리 금속 브로메이트, 또는 과염, 예컨대 퍼보레이트 및 퍼술페이트로부터 선택된 하나 이상의 산화제를 포함한다.
환원 조성물 (a) 는 유리하게는 또한 특히 수성 암모니아, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민, 1,3-프로판디아민, 알칼리 금속 또는 암모늄 카르보네이트 또는 비카르보네이트, 유기 카르보네이트, 예컨대 구아니딘 카르보네이트, 또는 알칼리 히드록시드로부터 선택될 수 있는 하나 이상의 알칼리제를 단독으로 또는 혼합물로서 함유한다. 환원 조성물 (a) 는 하나 또는두 개의 부분으로 제형화될 수 있다.
중화 조성물 (b) 또는 환원 조성물 (a) 는 또한 계면활성제, 실리콘, 왁스, 증점제, 팽윤 및 침투제, 지방 알콜, 라놀린 유도체, 세라미드, 활성성분, 모발 손실 방지제, 비듬방지제, 현탁화제, 금속이온 봉쇄제, 불투명화제, 착색제, 실리콘 또는 비실리콘 일광차단제, 보존제 또는 향료로부터 선택된 첨가제를 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 방법의 유리한 구현예를 구성하는 하기 비제한적인 실시예에 의해 본 발명이 더욱 잘 이해될 수 있다.
하기 실시예에 나타낸 % 는 중량% 를 의미하며, A.M. 은 활성물질(Active Material), OE 는 옥시에틸렌 단위체를 의미한다.
실시예
실시예 1
하기 기재한 세 조성물을 제조한다: 음이온성 중합체, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 를 포함하는 웨이브 퍼머용 조성물.
음이온성 중합체를 함유하는 별도 조성물 (c):
- 수성 분산액으로서 메타크릴산/에틸 아크릴레이트 (50/50)
음이온성 공중합체(1)1 % AM
- 모노에탄올아민 q.s. pH 7
- 탈이온수 q.s. 100 g
환원 조성물 (a):
환원제는 2-부분 환원제이다.
부분 A: 분말
- 시스테인 3 g
- 가문비나무 분말 5 g
- 타라(Tara) 분말 2 g
부분 B: 액체
- 모노에탄올아민 2.2 g
- 향료 0.5 g
- 옥시에틸렌화 (20 OE) 올레일 알콜(2)1 g
- 40 % 수용액으로서
디에틸렌트리아민펜타아세트산, 펜타소듐 염 0.4 g
- 헥사디메트린 클로라이드 (Chimex) 1.2 g A.M.
- 탈이온수 q.s. 90 g
중화 조성물 (b):
- 과산화수소 수용액 8 부피%
- 40 % 수용액으로서 디알릴디메틸암모늄
클로라이드 호모중합체(3)1 g A.M.
- 50 % 수용액으로서 코코일아미도프로필
디메틸 히드록시프로필 술포베타인(4)1 g A.M.
- 시트르산 q.s. pH 3
- 탈이온수 q.s. 100 g
(1) Luvimer MAE (BASF)
(2) Brij 98V (Uniqema)
(3) Merquat 100 (Calgon)
(4) Rewoteric Amcas (Witco)
음이온성 중합체를 함유하는 제 3 별도 조성물 (c) 를 세정 및 타올 건조된 모발에 적용한다. 부분 A 및 B 를 혼합한 후, 환원 조성물 (a) 를 즉시 적용하고, 헹구지 않는다. 모발을 손가락 또는 빗을 사용하여 모양을 잡는다. 15 분 동안 셋팅한 후, 여전히 모발을 헹구지 않고, 중화 조성물 (b) 를 적용한다. 모발을 5 분 동안 방치한 다음, 헹군다.
모발의 지속적인 모양이 수득된다. 촉감이 상쾌하고, 미용적이며 볼륨감이 있다. 또한, 스타일링하기 쉽다.
실시예 2
하기 환원 조성물 (a) 를 제조한다:
- 티오글리콜산 9 g
- 40 % 수용액으로서 디에틸렌트리아민펜타아세트산,
펜타소듐 염 0.4 g
- 20 % NH3함유 수성 암모니아 q.s. pH 9
- 탈이온수 q.s. 100 g
음이온성 중합체를 함유하는 실시예 1 의 조성물을 세정 및 타올 건조된 모발에 적용한다. 이어서, 즉시 실시예 2 의 환원 조성물 (a) 를 적용하고, 헹구지 않는다. 15 분 동안 셋팅 후, 모발을 헹구고, 실시예 1 의 중화 조성물 (b) 를 적용한다. 모발을 5 분동안 방치하고, 컬 클립(curlers)을 제거한 다음, 모발을 헹군다. 오래 지속되고 생생한 컬이 수득된다. 모발의 촉감이 상쾌하며, 스타일링하기 쉽다.
본 발명에 따라, 컬이 급속히 사라지거나, 스타일링하기 어렵게 하는 기존 방법의 단점을 일으키지 않고, 특히 우수한 미용 특성 및 지속적인 변형, 컬 또는 고수머리를 갖는 모발을 제공하고, 또한 모발을 쉽게 스타일링하는 영구 변형 방법을 제공한다.

Claims (21)

  1. 환원 조성물 (a), 이어서, 중화 조성물 (b) 를 모발에 연속적으로 적용하며, 상기 조성물 (a) 또는 (b) 의 하나 이상은 하나 이상의 양이온성 중합체를 함유하는 모발의 영구 변형 방법으로서, 환원 조성물 (a) 의 적용 전에, 상기 조성물 (a) 및 (b) 와는 구별되며 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 제 3 별도 조성물 (c) 를 모발에 적용하고, 양이온성 중합체(들)을 함유하는 (하나 이상의) 조성물(들)의 적용 후에만 모발을 헹구는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 환원 조성물 (a) 만이 양이온성 중합체를 함유하고, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 의 적용 사이에 헹굼을 수행하거나 수행하지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 중화 조성물 (b) 만이 양이온성 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 모두가 양이온성 중합체를 함유하며, 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 의 적용 사이에 헹굼을 수행하거나 수행하지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 3 별도 조성물 (c) 의 음이온성 중합체가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:
    - 하기 화학식 2 의 불포화 모노- 또는 디카르복실산 단량체로부터 유도된 카르복실 단위를 함유하는 중합체:
    [화학식 2]
    (식 중, n 은 0 내지 10 의 정수이며, A 는 n 이 1 보다 큰 경우 산소 또는 황과 같은 헤테로원자를 통해 불포화기의 탄소원자에, 또는 인접 메틸렌기에 임의 결합된 메틸렌기를 나타내며, R5는 수소원자 또는 페닐 또는 벤질기를 나타내며, R3은 수소원자 또는 저급 알킬 또는 카르복실기를 나타내며, R4는 수소원자, 저급 알킬기 또는 -CH2-COOH, 페닐 또는 벤질기를 나타낸다);
    - 비닐술폰, 스티렌술폰 또는 아크릴아미도알킬술폰 단위체와 같은 술폰산으로부터 유도된 단위체를 함유하는 중합체.
  6. 제 5 항에 있어서, 음이온성 중합체가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:
    A) 아크릴 또는 메타크릴산 또는 그의 염의 호모 또는 공중합체, 아크릴산 및 아크릴아미드 및 그의 염의 공중합체, 또는 폴리히드록시카르복실산의 소듐 염;
    B) 폴리에틸렌 글리콜과 같은 폴리알킬렌 글리콜 상에 임의 그라프트된 에틸렌, 스티렌, 비닐 에스테르 또는 아크릴 또는 메타크릴산의 에스테르와 같은 모노에틸렌성 단량체와 아크릴 또는 메타크릴산의 공중합체; 사슬 내에 임의 N-알킬화 및/또는 히드록시알킬화 아크릴아미드 단위체를 함유하는 공중합체; 아크릴산 및 C1-C4알킬 메타크릴레이트의 공중합체 및 비닐피롤리돈, 아크릴산 및 C1-C20알킬 메타크릴레이트의 삼중합체;
    C) 사슬 내에 비닐 아세테이트 또는 프로피오네이트 단위체, 및 임의로 탄소수 5 이상의 장쇄 탄화수소를 함유하는 선형 또는 분지형 포화 카르복실산의 비닐 에스테르 또는 비닐 에테르, 알릴 또는 메탈릴 에스테르와 같은 기타 단량체를 함유하는 것들과 같은, 임의 그라프트될 수 있는 크로톤산으로부터 유도된 공중합체;
    D) 말레산, 푸마르산 또는 이타콘산 또는 무수물과, 비닐 에스테르, 비닐 에테르, 비닐 할라이드, 페닐비닐 유도체 또는 아크릴산 또는 그의 에스테르로부터 유도된 공중합체; 말레산, 시트라콘산 또는 이타콘산 무수물, 및 아크릴아미드 또는 메타크릴아미드기, α-올레핀, 아크릴 또는 메타크릴 에스테르, 아크릴산, 메타크릴산 또는 비닐피롤리돈을 사슬 내에 임의로 함유하는 알릴 또는 메탈릴 에스테르의 공중합체로서, 무수 작용기는 모노에스테르화 또는 모노아미드화된 공중합체;
    E) 카르복실레이트기를 함유하는 폴리아크릴아미드.
  7. 제 6 항에 있어서, 음이온성 중합체가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로하는 방법:
    - 아크릴산 또는 메타크릴산 호모중합체;
    - 아크릴산/에틸 아크릴레이트/N-tert-부틸아크릴아미드 삼중합체와 같은 아크릴산 공중합체;
    - 비닐 아세테이트/비닐 tert-부틸벤조에이트/크로톤산 삼중합체 및 크로톤산/비닐 아세테이트/비닐 네오도데카노에이트 삼중합체와 같은 크로톤산으로부터 유도된 공중합체;
    - 모노에스테르화 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체와 같은 말레산, 푸마르산 또는 이타콘산 또는 무수물과, 비닐 에스테르, 비닐 에테르, 비닐 할라이드, 페닐비닐 유도체, 또는 아크릴산 및 그의 에스테르로부터 유도된 중합체;
    - 메타크릴산과 메틸 메타크릴레이트의 공중합체;
    - 메타크릴산과 에틸 아크릴레이트의 공중합체;
    - 비닐피롤리돈/아크릴산/라우릴 메타크릴레이트 삼중합체;
    - 비닐 아세테이트/크로톤산 공중합체;
    - 비닐 아세테이트/크로톤산/폴리에틸렌 글리콜 삼중합체.
  8. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 음이온성 중합체가 폴리실록산 부분, 및 비실리콘 유기 사슬로 이루어진 부분을 함유하는 그라프트화 실리콘계 음이온성 중합체로부터 선택되며, 상기 두 부분 중 하나는 중합체의 주쇄를 이루며, 다른 하나는 상기 주쇄 상에 그라프트된 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 그라프트된 실리콘 중합체가 그 구조 내에 하기 화학식 3 의 단위체를 갖는 실리콘 중합체로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:
    [화학식 3]
    (식 중, G1라디칼들은 동일 또는 상이하며, 수소 또는 C1-C10알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타내며; G2라디칼들은 동일 또는 상이하며 C1-C10알킬렌기를 나타내며; G3은 에틸렌 불포화물을 갖는 하나 이상의 음이온성 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 잔기를 나타내며; G4는 에틸렌 불포화물을 갖는 하나 이상의 소수성 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 잔기를 나타내며; m 및 n 은 0 또는 1 이며; a 는 0 내지 50 의 정수이며; b 는 10 내지 350 일 수 있는 정수이며, c 는 0 내지 50 의 정수이고; 단 a 내지 c 중 하나는 0 이 아니다).
  10. 제 9 항에 있어서, 화학식 3 의 단위체가 하기 특징을 하나 이상 나타내는 것을 특징으로 하는 방법:
    - G1라디칼들은 C1-C10알킬 라디칼을 나타내며;
    - n 은 0 이 아니며, G2라디칼들은 2가 C1-C3라디칼을 나타내며;
    - G3은 에틸렌 불포화물을 갖는 카르복실산의 하나 이상의 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타내며;
    - G4는 C1-C10알킬 (메트)아크릴레이트계의 하나 이상의 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타냄.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 화학식 3 의 단위체가 하기 특징을 동시에 나타내는 것을 특징으로 하는 방법:
    - G1라디칼들은 메틸 라디칼을 나타내며;
    - n 은 0 이 아니며, G2라디칼들은 프로필렌 라디칼을 나타내며;
    - G3은 적어도 아크릴산 및/또는 메타크릴산의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타내며;
    - G4는 적어도 이소부틸 또는 메틸 (메트)아크릴레이트의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타냄.
  12. 제 9 항에 있어서, 화학식 3 의 단위체가 하기 특징을 하나 이상 나타내는 것을 특징으로 하는 방법:
    - G1라디칼들은 C1-C10알킬 라디칼을 나타내며;
    - n 은 0 이 아니며, G2라디칼들은 2가 C1-C3라디칼을 나타내며;
    - G3은 에틸렌 불포화물을 갖는 카르복실산의 하나 이상의 단량체의 (호모)중합화로부터 생성된 중합체성 라디칼을 나타내며;
    - c 는 0 임.
  13. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 양이온성 중합체가 4차 셀룰로스 에테르 유도체, 셀룰로스와 수용성 4차 암모늄 단량체의 공중합체, 시클로중합체, 양이온성 다당류, 실리콘 양이온성 중합체, 임의 4차화 비닐피롤리돈/디알킬아미노알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 공중합체, 비닐피롤리돈과 비닐이미다졸의 4차 중합체, 폴리아미노아미드 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 음이온성 중합체가 조성물 총 중량의 0.01 내지 20 중량% 범위의 양으로 제 3 별도 조성물 (c) 에 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 환원 조성물 (a) 가 티오글리콜산, 티오락트산, 시스테인, 시스테아민 및 글리세릴 티오글리콜레이트로부터 선택된 하나 이상의 환원제를 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 중화 조성물 (b) 가 과산화수소, 요소 과산화수소, 알칼리 금속 브로메이트 또는 퍼보레이트 및 퍼술페이트와 같은 과염으로부터 선택된 하나 이상의 산화제를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 환원 조성물 (a) 가 수성 암모니아, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민, 1,3-프로판디아민, 알칼리 금속 또는 암모늄 카르보네이트 또는 비카르보네이트, 구아니딘 카르보네이트와 같은 유기 카르보네이트, 또는 알칼리 히드록시드로부터 특히 선택될 수 있는 하나 이상의 알칼리제를 단독으로 또는 혼합물로서 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 환원 조성물 (a) 또는 중화 조성물 (b) 가 계면활성제, 실리콘, 왁스, 증점제, 팽윤 및 침투제, 지방 알콜, 라놀린 유도체, 세라미드, 활성성분, 모발손실 방지제, 비듬방지제, 현탁화제, 금속이온봉쇄제, 불투명화제, 착색제, 실리콘 또는 비실리콘 일광차단제, 보존제 또는 향료로부터 선택된 첨가제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 환원 조성물 (a) 및 중화 조성물 (b) 을 포함하며, 하나 이상의 환원 조성물 (a) 또는 중화 조성물 (b) 가 하나 이상의 양이온성 중합체를 함유하는 웨이브 퍼머용 키트로서, 하나 이상의 음이온성 중합체를 함유하는 제 3 별도 조성물 (c) 을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 키트.
  20. 제 14 항에 있어서, 음이온성 중합체가 조성물 총 중량의 0.1 내지 10 중량% 범위의 양으로 제 3 별도 조성물 (c) 에 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제 20 항에 있어서, 음이온성 중합체가 조성물 총 중량의 0.2 내지 5 중량% 범위의 양으로 제 3 별도 조성물 (c) 에 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
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