KR100352052B1 - 쌍안정네마틱액정장치 - Google Patents

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Abstract

쌍안정 네마틱 액정장치 셀은 적어도 하나의 셀 벽상의 표면 정렬 격자와 다른 벽상의 표면 처리로 제공된다. 그러한 처리는 정렬 방향을 갖거나 갖지않는 또한 제로 또는 제로가 아닌 예경사를 갖는 평면 정렬 또는 귀향성 정렬일 수 있다. 단일 격자상의 표면 형상은 두 개의 허용 정렬 배열에서 네마틱 재료내에서 대략 동일한 에너지를 제공하도록 선택되는 폭에 대한 높이를 갖는 비대칭이다. 상기 단일 격자는 사진 석판술 공정 또는 플라스틱 재료의 융기부에 의해 형성될 수 있다. 상기 셀은 재료에서 플렉소일렉트릭 계수에 결합하는 dc 펄스에 의해 스위치되거나, 또는 두 개의 주파수 어드레스 설계 및 적절한 두 개의 주파수 재료의 사용에 의해 스위치된다. 셀의 어느 한 측부의 편광기는 두 개의 스위치된 상태를 식별한다. 상기 셀 벽은 강성 또는 가요성일 수 있으며, 전극 구조, 즉 셀상에 어드레스될 수 있는 화소의 x,y 매트릭스를 제공하는 열 및 행 형태로 코팅된다.

Description

쌍안정 네마틱 액정장치
액정 장치는 전형적으로 셀의 벽 사이에 수용되는 얇은 액정 재료층을 구비한다. 상기 벽상의 광학적 투과성 전극 구조에 의해 상기 층을 가로질러 전기장이 적용되어 액정 분자의 재정렬을 유발한다다.
각각 상이한 분자 정렬을 갖는 네마틱, 콜레스테릭(cholesteric) 및 스메틱 (smetic)의 세 개의 공지된 형식의 액정 재료가 있다. 본 발명은 네마틱 재료를 사용하는 장치에 관한 것이다.
많은 수의 어드레스될 수 있는 요소를 갖는 디스플레이를 제공하기 위해서는 하나의 벽상에 일련의 열 전극 및 다른 셀 벽상에 일련의 행 전극으로서 전극을 제조하는 것이 통상적이다. 비틀린 네마틱 형식의 장치를 위해 이 형태, 즉 어드레스될 수 있는 요소 또는 화소의 x,y 매트릭스는 통상 rms 어드레스 방법을 사용하여 어드레스된다.
트위스트 네마틱 및 페이즈 변화 형식의 액정 장치는 적절한 전압의 적용에 의해 온(on) 상태로 스위치되며, 공급된 전압이 더 낮은 전압 이하로 떨어질 때,오프(off) 상태로 스위치 된다. 즉 이 장치는 단일안정성이다. 트위스트 네마틱 형식의 장치(US 4,596,446에서와 같이 90°또는 270°정도 비틀림)를 위해, rms. 어드레스될 수 있는 다수의 요소가 IEEE Trans ED 21 1974, 146에서 155 쪽에 있는 Alt 와 Pleschko에 상세히 서술된 바와 같이 가파른 장치 변환 대 전압 곡선에 의해 제한된다. 화소의 수를 개선하는 방법 중 하나는 각 화소에 인접한 박막 트랜지스터를 조합시키는 것이다. 그러한 디스플레이는 활성 매트릭스 디스플레이라 불리운다. 네마틱 형식의 장치의 장점은 상대적으로 낮은 전압이 요구된다는 것이다. 또한, 그것은 기계적으로 안정되고 넓은 작동 온도 영역을 갖는다. 이것은 작고 휴대가 편리한 배터리 구동식 디스플레이를 허용한다. 큰 디스플레이를 어드레스하는 다른 방법은 쌍안정 액정 장치를 사용하는 것이다. 강유전체 액정 디스플레이는 스메틱 액정 재료와 적절한 셀 벽 정렬 처리를 하는 쌍안정 장치로 제조될 수 있다. 그러한 장치는 L J Yu, H Lee, C S Bak 및 M M Labes, Phys Rev Lett 36,7,388(1976); R B Meyer, Mol Cryst Liq Cryst. 40, 33(1977); N A Clark 및 S T Lagerwall, Appl Phys Lett, 36,11,899(1980)에 의해 서술되는 바와 같이 표면 안정화된 강유전체 액정장치(SSFELCDs)이다. 강유전체 장치의 하나의 단점은 재료를 스위치시키는데 상대적으로 고전압이 요구된다는 것이다. 이 고전압은 작고 휴대하기 좋은 배터리 구동식 디스플레이의 제조 단가를 높인다. 또한, 이 디스플레이는 충격 내성의 부족, 사용 온도 범위의 제한 등의 다른 문제점과, 또한, 니들 (needles)과 같은 전기적으로 유발되는 결점을 갖는다.
만약 쌍안정 표면 결합이 네마틱을 사용하여 달성될 수 있다면, 그 때 제조될 수 있는 디스플레이는 아무 문제점이 없이 상기 언급된 양 기술의 장점을 가진다.
네마틱이 두 개의 정렬 상태 사이에서 키랄이온(chiralions) 또는 플렉소일렉트릭 결합(flexoelectric coupling)의 사용을 통해 스위치될 수 있다는 것은 듀란 등에 의해 이미 밝혀졌다: A Charbi, R Barberi, G Durand 및 P Martinot-Largarde, 특허출원번호 제 WO 91/11747호(1991), 발명의 명칭이 "Bistable electrochirally controlled liquid crystal optical device", G Durand, R Barberi, M Giocondo, P Martinot-Largarde, 특허출원번호 제 WO 92/00546 호(1991), 발명의 명칭이 "Nematic liquid crystal display with bistability controlled by a flexoelectric effect". 이것들은 다음과 같이 요약된다.
특허출원번호 제 WO91/11747 호에서의 장치는 다음 특징으로 서술된다.
1. 셀은 적절한 두께의 SiO 코팅을 갖고 두 개의 안정 상태가 각 표면상에 존재하도록 허용하는 발산 각도를 갖는 두 개의 표면을 사용하여 제조된다. 더욱이, 표면상의 두 개의 상태는 45°로 방위각도가 다르게 설계되며 표면은 방위각도가 45°로 다르게 배향되고 표면은 결과로서 생기는 각각의 영역이 비틀리지 않도록 배향된다.
2. 셀(6㎛ 두께의)은 0.5% 벤질 케니늄 브로마이드와 1.8% 페닐 렉틱산으로 도핑된 5CB 로 충진된다. 전자는 좌측으로 비틀린 전기적으로 양성인 키랄이온인 반면에, 후자는 우측으로 비틀린 전기적으로 음성인 키랄이온이다. 농도은 최종 혼합물이 매우 긴 피치를 가져서 얇은 셀에서의 상태가 균일하게 될수 있도록 한다.
3. 40 ㎲용 110 V dc 펄스의 적용은 두 개의 상태사이에서 스위칭을 가능하게 한다. 더 긴 펄스에서는 더 낮은 한계값이 측정된다. 즉, 300 ㎲ 에서는 80V 한계값이 측정된다.
4. 적절하게 배향된 편광기를 추가함으로써 하나의 상태가 흑색으로 나타나게 하고 다른 하나가 약 20의 대조비를 갖는 흰색으로 나타나게 한다.
5. 또한, 다른 정점의 결합 에너지를 함유하는 단일안정 표면 사이에서 짧은 피치의 키랄이온 혼합물을 발생시키는 다른 장치가 언급된다. 50V 이상의 펄스에 대하여 4㎛ 셀에서 180°비틀린 상태와 균일한 상태 사이의 스위칭이 관찰된다.
특허출원번호 제 WO 92/00546 호에서의 장치는 다음 특징으로 서술된다.
셀은 적절한 두께의 SiO 코팅을 갖고 두 개의 안정 상태가 각 표면상에 존재하도록 허용하는 발산 각도를 갖는다. 더욱이, 표면상의 두 개의 상태는 45°로 방위각도가 다르게 설계되며 표면은 결과로서 생기는 각각의 영역이 비틀리지 않도록 배향된다.
또한, 하나의 표면상의 예경사(pretilt) 상태가 다른 표면상의 경사지지 않은 상태와 일직선이 되도록 배향되며 역도 마찬가지다. 따라서 5CB 로 충진될 때, 두 개의 상태가 도 7B와 7C에 도시된 바와 같이 나타난다.
100㎲용 1㎛ 셀을 가로지르는 14V dc 펄스의 적용하는 것은 상태 사이에서 스위칭을 허용한다. 최종 상태는 플렉소일렉트릭 편광으로의 결합 때문에 펄스의 보호에 의존한다. 동일 전압 한계값이 양 방향에서의 스위치에 대해 관찰된다.
쌍안정 정렬을 얻기 위해 듀란에 의해 사용된 표면은 정확하게 경사 각도로 발산된 SiO의 얇은 층이었다. 그러나, 이 방법은 발산 각도, 층 두께 또는 소정의 적층 매개변수의 편차로 인하여 단지 단일안정 정렬을 갖는 표면이 제조되기 쉽다는 문제점이 있다. 이것은 상기 경사 발산 기술을 큰 영역을 가진 디스플레이에 사용하는 것을 부적절하거나 매우 어렵게 만든다.
미국 특허 제 4,333,708 호는 셀 벽이 단일 지점의 어레이를 제조하도록 형상화되는 다중 안정성 액정장치를 기술한다. 그러한 기판 형상은 비경사가 안정 형상 사이에서 스위치되도록 이동되어야 하기 때문에 디렉터 정렬의 다중 안정성 형상을 제공한다. 스위칭은 전기장에 의해 달성된다.
다른 쌍안정 네마틱 장치는 GB 2,286,467-A에 기술된다. 이것은 적어도 하나의 셀 벽상에 적절하게 형성된 쌍격자를 사용한다. 이 쌍격자는 적절한 신호가 셀 전극, 즉 특허출원번호 제 WO 92/00546 호에서 서술된 바와 같은 플렉소일렉트릭 편광으로의 dc 결합에 적용될 때 액정 분자가 두 개의 상이한 각도의 정렬 방향을 채택하게 한다. 두 개의 바깥쪽으로 벌어진 상태에서 디렉터는 층의 평면에 매우 밀접하게 되므로, 디렉터와 플렉소일렉트릭 구성요소 사이에서의 결합이 작게 되고, 어떤 환경에서는 스위칭을 방해할 수도 있다.
본 발명은 쌍안정 네마틱 액정장치(bistable nematic liquid crystal devices)에 관한 것이다.
도 1은 메트릭스 다중송신의 어드레스된 액정 디스플레이의 평면도.
도 2는 도 1의 디스플레이의 단면도.
도 3은 격자 표면을 제조하는데 사용되는 노출 기하학과 마스크의 평면도 및 측면도.
도 4는 더 높은 예경사로 유도하는 격자 표면상의 액정 디렉터 형상의 단면도.
도 5는 더 낮은 예경사로 유도하는 격자 표면상의 액정 디렉터 형상의 단면도.
도 6은 피치비(h/w)에 대한 홈 깊이의 기능으로서의 두 개의 예경사 형상의 에너지를 도시하는 도면.
도 7a 및 7b는 두 개의 상태사이의 쌍안정 스위칭을 허용하는 셀 형상의 단면도.
도 8은 시간의 작용으로서 셀의 변환과 적용된 신호를 도시하는 도면.
도 9는 쌍안정 장치를 위한 예로서 다중 송신의 개략도.
도 10a 및 10b는 쌍안정 스위칭을 위한 다른 셀 형상의 도면.
도 11a 및 11b는 비틀리지 않은 상태와 비틀린 상태사이의 쌍안정 스위칭을 위한 셀 형상의 도면.
본 발명에 따르면, 상기 문제점들은 네마틱 액정 분자가 동일 방위각 평면에서 두 개의 예경사 각도중 어느 하나를 채택하도록 허용하는 하나 이상의 셀 벽에 대한 표면 처리에 의해 극복된다. 상기 셀은 동력의 제거후에 지속될 수 있는 정보디스플레이를 허용하도록 이 두 개의 상태 사이에서 전기적으로 스위치될 수 있다.
동일 방위각 평면이란 용어는 다음처럼 설명된다. 셀 벽이 x,y 평면에 놓이게 하고, 셀 벽에 수직은 z 축을 의미한다. 동일 방위각 평면에서의 두 개의 예경사 각도는 동일 x,y 평면에서 두 개의 상이한 분자 위치를 의미한다.
본 발명에 따른 쌍안정 네마틱 액정장치는 포지티브 유전 이방성을 가진 네마틱 액정 재료층을 수납하는 두 개의 셀 벽과, 양 벽상의 전극 구조와, 액정 분자에 대해 정렬을 제공하는 양 셀 벽의 대면한 표면상에 위치되어 있는 상기 하나 이상의 대면한 표면상의 표면 정렬 격자를 포함하는 표면 정렬 수단과, 상기 액정 재료의 스위치된 상태를 식별하기 위한 수단을 포함하는 쌍안정 네마틱 액정장치로서, 상기 표면 정렬 격자(25)는 액정 분자가 동일 방위각의 평면내에 두 개의 상이한 예경사 각도를 갖도록 하고, 적절한 전기 신호가 전극에 적용된 이후에, 두 개의 안정성 액자 분자 형상이 나타나도록 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치이다.
상기 격자는 대칭 또는 비대칭 홈 형상을 가질 수 있다.
상기 격자는 90°이하, 즉 50°내지 90°의 예경사를 유발하는 비대칭 홈 형상을 가질 수 있다. 비대칭 형상은 식 1과 같이 h 의 값이 존재하지 않는 표면으로서 한정될 수 있다.
ψχ(h-χ) = ψχ(h+χ)
x의 모든 값을 위해 여기서 Ψ는 표면을 서술하는 사상이다.
상기 격자는 양 셀 벽에 공급될 수 있고 각 벽상에서 동일하거나 또는 상이한 형태일 수 있다. 더욱이 격자 형상은 각 화소 영역내에서 또는 전극사이의 중간 화소 갭에서 변화될 수 있다. 하나 또는 양 셀 벽은 레데신(lethecin)과 같은 계면활성제로 코팅될 수 있다.
상기 액정 재료는 하나 또는 양측의 안정성 분자 형상에서 비틀어지지 않을 것이다.
상기 셀 벽은 유리와 같은 상대적 두께의 비가요성 재료로 형성될 수 있으며, 하나 또는 양 셀 벽은 유리의 얇은 층과 같은 가요성 재료 또는 가요성 플라스틱 재료, 즉 폴리올레핀 또는 폴리프로필렌으로 형성될 수 있다. 플라스틱 셀 벽은 격자를 제공하도록 내측 표면상에서 융기될 수 있다. 부가적으로, 상기 융기부는 셀 벽에서 정확하게 이격되는 것을 보조하고 셀이 휘어질 때 액정 재료 유동에 대한 장벽용으로 작은 필러(즉, 1 내지 3㎛ 높이와 5 내지 50㎛ 또는 그이상의 높이의)를 제공할 수 있다. 대안적으로 상기 필러는 정렬층의 재료로 형성될 수 있다.
상기 격자는 사진 석판술 공정, 즉 M C Hutley, 회절 격자(Academic Press, London 1982) 95-125쪽; 및 F Horn, Physics World, 33(1993년 3월)에 의해 형성된 광중합체의 형상화된 층일 수 있다. 대안적으로 쌍격자는 융기부;M T Gale, J Kane 및 K Knop, J App. Photo Eng, 4, 2, 41(1978), 또는 막대(ruling);E G Loewen 및 R S Wiley, Proc SPIE, 88(1987), 또는 캐리어 층의 변환에 의해 형성될 수 있다.
전극은 일련의 열 및 행 전극으로서 배열되게 어드레스될 수 있는 요소 또는디스플레이 화소에 의해 형성된다. 전형적으로 전극은 20㎛ 이격된 200㎛ 폭을 갖는다.
대안적으로, 전극은 다른 디스플레이 형태, 즉 r-θ 매트릭스 또는 7 또는 8 바아 디스플레이로 배열될 수 있다.
이제, 본 발명이 첨부된 다음의 도면을 참조하여 단지 실시예를 통해 서술된다.
도 1,2에서의 디스플레이는 유리벽(3,4)사이에 수용된 네마틱 또는 긴 피치의 콜레스테릭 액정 재료의 층(2)에 의해 형성된 액정 셀(1)을 구비한다. 부가적으로 동일 크기인 다수의 비드(bead)가 적절한 벽 공간을 유지하기 위해 액정내에 분산될 수 있다. SnO2또는 ITO(indium tin oxide)의 열 전극(6)과 같은 스트립이 벽 (3)상에 형성되고 유사한 행 전극(7)이 다른 벽(4)상에 형성된다. m-열과 n-행이 어드레스될 수 있는 요소 또는 화소의 m×n 행렬을 형성한다. 각 화소는 열 및 행 전극의 교차에 의해 형성된다.
열 구동기(8)는 각 열 전극(6)으로 전압을 공급한다. 유사하게 행 구동기(9)는 각 행 전극(7)으로 전압을 공급한다. 공급된 전압의 조절은 전원(11)으로부터 동력을 받고 클록(12)으로부터 시간을 수신하는 제어부(10)에서 행해진다.
셀(1)의 양 측부에는 뒤에 서술되는 바와 같이 만약 있으면 인접벽(3,4)상에 정렬 방향(R)에 대략 45°각도에서 서로에 대해 대략 교차된 편광축에 편광기 (13,13')가 배열된다. 부가적으로 펴진 중합체의 광학 보상층(17)이 셀 벽과 편광기사이의 액정층(2)에 인접하여 추가될 수 있다.
부분적으로 반사하는 거울(16)이 광원(15)과 함께 셀(1)의 후방에 배치될 수 있다. 이것들은 희미하게 에워싼 빛의 후방으로부터의 반사와 발광으로 디스플레이가 보여지도록 한다. 변환 장치를 위해 거울(16)이 생략될 수 있다. 조립전에 적어도 하나의 셀 벽(3,4)이 쌍안정 예경사를 제공하는 정렬 격자로 취급된다. 다른 표면은 평면(즉, 정렬 방향과 제로 또는 약간의 각도) 또는 귀향성의 단일안정 표면중 어느 하나, 또는 퇴보된 평면 표면(즉, 비정렬 방향과 예경사가 제로 또는 미소 각도)로 취급된다.
결과적으로 셀은 E7,ZLI2293 또는 TX2A(Merck)일 수 있는 네마틱 재료로 충진된다.
격자 표면을 제조하는데 사용되는 방법의 실시예가 도 3에 참조로 서술된다.
실시예 1
셀 벽(3,4)을 형성하기 위해 유리 코팅된 ITO의 피스는 아세톤 및 이소프로페놀(isopropanol)로 세척된 후에 0.55㎛의 코팅 두께를 제공하도록 포토레지스트 (Shipley 1805)로 30 초동안 3000rpm에서 회전 코팅된다. 그런 다음 소프트베이킹 (softbaking)이 90℃에서 30분동안 수행된다.
그 후, 도 3에 도시된 바와 같이 0.5㎛의 선(21)과 0.5㎛의 갭(22)(따라서 전체 1㎛의 피치)을 함유하는 크롬 마스크(20)를 사용하여 접촉 노출이 코팅벽 (3,4)상에서 수행된다. 노출은 비정상 입사로 수행되며, 이 경우에는 60°의 각도가 사용된다. 마스크(20)는 홈 방향이 도 3에 도시된 바와 같이 경사면에 수직이 되도록 배향된다. 기하학적인 노출은 비대칭 명암도 분포를 유도하며 따라서 비대칭 격자 형상(예를 들어 B.J.Lin,J.Opt.Soc.Am.,62,967(1972)참조)를 유도한다. 코팅된 셀 벽(3,4)은 후에 상세히 서술되는 바와 같이 약 40 내지 180 주기동안 0.8mW/cm2의 명암도를 갖는 수은 램프(Osram Hg/100)로부터의 빛에 노출된다.
코팅된 셀 벽(3,4)의 노출이 마스크(20)에서 해제된 후에 이온이 제거된 물에서 헹궈지는 Shipley MF 319에서 10초동안 현상된다. 이것은 원하는 격자 형상을 형성하는 비대칭 표면 변조로 패턴이 생기는 셀벽의 표면이 되게 한다. 그 다음, 포토레지스트가 160℃에서 45분동안 구워지는 깊은 UV방사선에 노출되므로써 경화된다. 이것은 액정에서 포토레지스트의 불용해성을 보장하도록 행해진다. 결과적으로 격자 표면은 귀향성 경계 조건을 유발하기 위해 계면 활성제 레시킨(lecithin)의 용액으로 취급된다.
유한 요소 분석이 그러한 격자 표면상의 네마틱 재료의 자유층의 분자(더 정확하게 디렉터) 형상을 미리 알기 위해 수행된다. 그 결과는 도 4,5 및 6에 도시되며, 단선은 격자 형상을 도시하는 저부에서 단선을 에워싼 채 층 두께 전반에서 액정 디렉터를 나타낸다. 이 경우에 격자 표면은 다음 식으로 기술된다.
상기에서 h는 홈 깊이이고 w는 피치이며 A는 비대칭 인자이다. 도 4 및 5에서, A=0.5이고 h/w=0.6이다. 도 4에서, 유한 요소 그리드(grid)는 80°의 최초 디렉터 경사로부터 릴렉스된다. 이 경우에 형상은 89.5°의 예경사로 릴렉스된다. 그러나, 만약 최초 디렉터 경사가 30°로 설정되면 그리드는 도 5에 도시된 바와 같이 23.0°의 예경사로 릴렉스된다. 그러므로, 네마틱 액정은 개시 조건에 따라 두 개의 다른 형상을 채택할 수 있다.
실제로, 이 두 개의 형상중 어느 한쪽으로 릴렉스될 네마틱 액정 재료는 최저의 전체 뒤틀림 에너지를 갖는다. 도 6은 고 예경사(속이 채워진 원)와 저 예경사(속이 텅빈 원) 상태 대 피치비(h/w)에 대한 홈 깊이의 전체 에너지(독단적인 유닛)를 도시한다. 저 h/w를 위해 고 예경사 상태는 최저 에너지를 가지므로 네마틱이 고 예경사 상태를 채택한다. 반대로 고 h/w를 위해, 저 예경사 상태는 최저 에너지를 가지므로 이 상태가 형성된다. 그러나, h/w=0.52일 때, 상태들은 동일 에너지를 가지므로 어느쪽이든 다른 것을 릴렉스하지 않으면서 존재할 수 있다. 그러므로, 표면이 이 조건에서, 또는 이 조건에 근접하여 제조되면, 그 때에 쌍안정성이 예경사에서 얻어질 수 있다. 상기 제조를 상세하게 참조하면, 80초의 노출시간이 쌍안정 표면으로 유도하는데 필요하다는 것을 알 수 있다. 이 경우에, 쌍안정성은 순수하게 표면의 작용이 되며 어떤 특정한 셀 기하학에 의존하지 않는다. 이 점에서 그것은 US 4333708(1982)와 같은 종래 기술로부터 명백해 진다.
쌍안정 상태사이에서의 스위칭을 허용하는 적합한 셀 형상은 도 7a 및 b에 도시되며, 그것은 포지티브 유전체의 이방성을 갖는 네마틱 액정 재료의 층(2)이 쌍안정 격자 표면(25)과 단일안정 귀향성 표면(26)사이에 수용되는 장치의 양식화된 단면도이다. 예를 들어, 단일안정 귀향성 표면(26)은 레시틴으로 코팅된 평 레지스트 표면이 될 수 있다. 이 장치내에서 액정 분자는 두 개의 안정 상태로 존재할 수 있다. 도 7a 상태에서, 양 표면(25,26)은 귀향성인 반면에 도 7b에서는 격자 표면(25)이 바깥쪽으로 벌어진(스플레이; splay) 구조로 유도하는 저 예경사 상태로 있다. 많은 네마틱 재료의 경우, 바깥쪽으로 벌어진 또는 휘어진 변형은 도 7a에서 벡터 P로 표시되는 거시적인 플랙소일렉트릭(flexoelectric) 편광을 유도한다. dc 펄스는 이 편광에 결합될 수 있으며 그 신호에 따라 호의적이거나 비호의적인 형상(도 7b)이 형성된다.
상태(도 7b)에서의 장치로 수행하는 포지티브 펄스의 적용은 포지티브 유전체 이방성임에도 불구하고 귀향성 구조에서 여전히 파동이 야기될 것이다. 이 파동은 두 개의 정렬 상태를 분리하는 에너지 장벽을 넘어서 시스템을 구동하는데 충분하다. 펄스의 끝에서 시스템은 필드의 신호가 플렉소일렉트릭 편광과 호의적으로 결합되기 때문에 상태(도 7b)로 될 것이다. 상태(도 7b)에서의 시스템을 가지고 수행하는 네가티브 신호의 펄스는 일단 다시 시스템을 중단시키지만 그 신호가 플렉소일렉트릭 편광의 형성에 호의적이 아니기 때문에 상태(도 7a)로 릴렉스될 것이다. 그 귀향성 상태에서, 쌍안정 표면은 90°보다 작게 미소하게 경사질 것이다. 이 것은 셀이 상태(도 7b)로 스위칭될 때 얻어지는 바깥쪽으로 벌어지는 방향을 조절하기에 충분하다.
하나의 특정 셀은 쌍안정 격자 표면과 귀향성 평 표면사이에 샌드위치된 네마틱 ZLI2293(Merck)의 층으로 구성된다. 상기 셀 두께는 3㎛이다. 변환은 실온(20℃)에서 dc 펄스의 적용중에 셀을 거쳐 측정된다. 셀(1)의 각 측부상의 편광기 및 분석기(13,13')는 서로에 대해 교차되며 격자 홈에 대해 ±45°로 배향된다. 이 설정에 있어서, 도 7a 및 b에서의 두 개의 상태는 이하에서와 같이 어드레스될 때 각각 흑색 및 백색으로 나타난다.
도 8은 시간에 따라 공급된 전압 펄스(하부 트레이스) 및 선택적 대응(상부 트레이스)를 도시한다. 각 펄스는 55.0볼트의 최대 높이와 3.3ms의 지속 기간을 갖는다. 펄스 분리는 300ms였다. 포지티브 펄스의 제 1 적용일 때, 변환은 암흑에서 셀이 상태(도 7a)에서 상태(도 7b)로 스위치되는 것을 지시하는 발광으로 변화한다. 제 2 포지티브 펄스는 커다란 재료가 상태(도 7a)로 순간적인 스위칭을 일으키는 포지티브 유전체 이방성으로의 rms 결합 효과 때문에 변환에 있어서 일시적인 변화를 일으킨다. 그러나, 이 경우에 셀은 표면에 고정되지 않으므로 상태(도 7b)로 유지된다. 다음의 펄스는 신호에 있어서 네가티브이므로 셀을 상태(도 7b)에서 상태(도 7a)로 스위치시킨다. 결과적으로 제 2 네가티브 펄스는 셀을 상태(도 7a)로 남게 한다. 이 실험은 정확한 신호가 아니면 셀이 각 펄스에서 상태를 변화시키지 않는다는 것을 보여준다. 따라서, 쌍안정인 시스템과 공급된 펄스의 신호에 의해 확실하게 선택될 수 있는 마지막 상태를 제공한다.
스위칭은 넓은 온도 영역을 교차하여 발생한다. 온도가 증가될 때 스위칭에 요구되는 전압은 떨어진다. 예를 들어, 30℃에서는 44.8V의 전압이 스위칭을 쌍안정시키는데 필요한 반면에, 50℃에서는 단지 28.8V의 전압이 필요하다. 유사하게, 고정된 전압의 경우에 고정에 필요한 펄스 길이는 온도와 함께 감소한다.
이 데이터가 취해진 후에, 셀은 AFM(atomic force microscopy)으로 특징되는 것처럼 격자 표면으로 분해된다. 확실한 비대칭 변조가 1㎛의 피치, 0.425㎛(h/w=0.425)의 홈 깊이 및 A=0.5의 비대칭 인자를 제공하도록 식 2에 적용된다. 도 6에서의 결과와 비교하여 이 격자는 낮은 값의 h/w(0.52와 비교하여 0.425)에서 쌍안정 체제를 갖는다. 그러나 식 2는 설명에서 높은 조화의 추가를 필요로 하는 스티퍼(steeper) 면 각도를 소유하는 실제 표면 때문에 AFM 데이터에 정확하게 적합하지는 않는다. 또한 AFM 팁 반경과 같은 다른 효과가 더 적절한 비교를 위해 고려되도록 요구된다. 따라서, 측정된 표면 변조가 쌍안정성을 위해 예언된 체제와 유사하다는 결론이 내려질 수 있다.
신호 화소의 성공적인 스위칭은 여러개의 인접한 화소의 선택을 위해 적절한 다중 송신 방법의 설계를 허용한다. 도 9는 그러한 특정 실시예를 개략적으로 도시한다. 도시된 바와 같이 하나의 행에서의 네 개의 연속적인 열(R1,R2,R3,R4)의 화소가 스위치될 수 있다. 두 개의 가능한 정렬 상태가 온(on) 및 오프(off) 상태로 독단적으로 한정될 수 있다. 열(R1,R4)은 온 상태로 스위치되고, 열(R2,R3)은 오프 상태로 스위치된다. 3 타임 슬롯(ts;time slots)용 -Vs가 뒤따르는 3 타임 슬롯용 +Vs의 스트로브 펄스는 각 열에 순서대로 공급된다. 데이터 파형은 도시된 바와 같이 행에 공급되며 1 ts용 +Vd가 뒤따르는 1 ts용 -Vd와 온 화소, 및 1 ts용 +Vd가 뒤따르는 1 ts용 -Vd와 오프 화소를 구비한다.
이제 A에서 하나의 특정 화소가 고려된다. 계면 활성제 파형은 네마틱 배향을 혼란시키는 큰 포지티브 및 네가티브 펄스로 구성되며 두 개의 쌍안정 표면 상태를 분리시키는 장벽까지 에너지를 상승시킨다. 도 7a에 도시된 바와 같이, 이 필드 적용 조건에서, 액정 분자는 종래의 단일안정 네마틱 장치에서처럼 전기장을 따라 정렬한다. 이러한 큰 반대 편광의 '재설정' 펄스의 뒤에는 배향의 릴렉스중에 화소의 최종 선택을 지시하기에 충분히 큰 더 작은 펄스가 즉시 뒤따른다. 전기 균형은 스위칭 펄스와 반대 극성이며 두 개의 큰 펄스를 앞서가는 작은 펄스에 의해 달성된다. 대안적으로, 인접한 디스플레이 어드레스 시간에서 극성 변경이 사용될 수 있다.
상기 쌍안정 장치는 하나의 상태에서 플렉소일렉트릭 편광에 의해 최종 상태 선택을 달성한다. 그러므로, 이 형상은 바깥쪽으로 벌어져야만 한다. 실험에 의한 실시예에서 단지 하나의 표면이 스위치되게 허용되지만 작동 장치는 양 표면이 스위치되도록 할 수 있다. 남아 있는 압박은 각 표면상에서의 저 예경사 상태가 값이 다르므로 유한적인 스플레이가 존재하게 된다. 그러나, 저 예경사 상태가 동일할 지라도, 셀이 두 개의 주파수 네마틱 재료를 함유한다면, 즉 유전체 이방성이 저 주파수에서 포지티브이고 고 주파수에서 네가티브인 재료를 함유한다면 상기 셀은 여전히 스위치될 수 있다. 그러한 재료의 예는 6㎑의 교차 주파수를 갖는 TX2A(Merck)이다. 상태(도 7a)에서의 셀을 가지고 수행하는 고 주파수 신호의 적용은 커다란 네마틱을 저 예경사로 구동시킨다. 그 표면이 뒤를 이으므로 셀이 상태(도 7b)로 스위치된다. 반대로 저 주파수 신호는 네마틱을 고 예경사로 구동시켜 셀이 상태(도 7a)로 스위치될 것이다.
실시예 2
쌍안정 장치의 제 2 실시예가 이제 서술된다. 셀 벽을 형성하기 위해 유리 코팅된 ITO의 피스는 아세톤 및 이소프로페놀(isopropanol)로 세척된 후에 1.5㎛의코팅 두께를 제공하도록 포토레지스트(Shipley 1805)로 30 초동안 3000rpm에서 회전 코팅된다. 그런 다음 소프트베이킹(softbaking)이 90℃에서 30분동안 수행된다.
그 후, 0.5㎛의 선과 0.5㎛의 갭(따라서 전체 1㎛의 피치)을 함유하는 크롬 마스크를 사용하여 접촉 노출이 수행된다. 이 실시예에서 노출은 정상 입사로 수행된다. 이 기하학적인 노출은 대칭 명암도 분포를 유도하며 따라서 대칭 격자 형상을 유도한다. 샘플들은 0.8mW/cm2의 명암도를 갖는 수은 램프(Osram Hg/100)로부터의 빛에 노출된다.
샘플의 노출이 마스크에서 해제된 후에 이온이 제거된 물에서 헹궈지는 Shipley MF 319에서 10초동안 현상된다. 이것은 샘플이 대칭 표면 변조로 패턴이 생기게 한다. 그 다음, 포토레지스트가 160℃에서 45분동안 구워지는 깊은 UV방사선(254nm)에 노출되므로써 경화된다. 이것은 액정에서 포토레지스트의 불용해성을 보장하도록 행해진다. 결과적으로 격자 표면은 귀향성 경계 조건을 유발하기 위해 크롬 합성 계면 활성제의 용액으로 취급된다.
하나의 특정 표면이 360s의 노출 시간을 갖는 상기 방법을 사용하여 제조된다. 이 격자상의 AFM 분석은 1㎛의 피치와 1.2㎛의 깊이를 갖는 대칭 형상을 갖도록 보여진다. 이 표면은 2.0㎛의 두께를 갖는 셀을 형성하도록 평평한 귀향성 표면과 반대로 구성된다. 상기 셀은 실온으로의 냉각이 이어지는 등방성 페이즈에서 네마틱 재료 E7(Merck)로 충진된다. 도 7a 및 b에서와 같이 도시된 양 쌍안정 상태의 혼합은 현미경 관찰로 밝혀진다.
상기 셀은 교차된 편광기 사이에서 배향되므로써 홈 방향이 편광기 방향에 45°가 된다. 따라서, 상태(도 7a)는 상태(도 7b)가 어두운 상태일 때 밝은 상태가 된다. 그런 다음, 대안적인 사인의 단일극성 펄스가 셀에 공급된다. 상기 펄스 길이는 1s 펄스 분리를 갖는 5.4ms로 설정된다. 공급된 펄스의 최대 전압이 20.3V로 증가될 때 상태 도 7a와 b 사이에서 최대 스위칭이 발생된다. 또한, 펄스의 쌍이 유사한 방법으로 도 8에 도시된 셀에 공급된다. 제 2 펄스가 비결합인 순간적인 대응을 유발시킬 때 일단 다시 제 1 펄스가 시스템의 상태를 변화시킨다. 이 경우에 선택적인 대응 시간이 또한 측정된다. b에서 a로 스위칭하는 대응 시간이 1.2ms인 반면에 a에서 b로 스위칭하는 10%내지 90% 대응 시간은 8.0ms이다. 이 셀의 다른 분석으로 쌍안정 상태(a와 b)가 격자 표면상에서 90°와 0°의 예경사를 유발시킨다는 것이 밝혀졌다. 따라서, 이 샘플은 예경사에서의 가능한 최대 변화를 증명한다.
도 7a 및 b에 도시된 형상의 선택은 셀 두께가 다음 식으로 주어질 때 최적이 된다.
상기에서 λ는 작동 파장이며 △nav는 네마틱 복굴절의 평면 구성요소의 평균값이다. △nav는 도 7a 및 b와 비교하여 도 10a 및 b에서 도시된 형상의 경우에 더 크기 때문에, 셀 두께가 작아질 수 있어서 선택적 스위칭 속도가 더 커질 것이다. 그러나, 두 개의 주파수 네마틱의 사용은 유용한 재료의 선택을 제한하고, 또한 더 복잡한 어드레싱 설계를 유도하지만 더 낮은 전압 작동을 허용한다.
실시예 3
또한, 쌍안정 격자 표면은 평면 표면과 반대편에 구성될 수 있다. 하나의 그런 셀은 실시예 2에 서술된 것과 동일한 형상을 갖는 격자로 구성된다. 이것은 P132 폴리이미드(Cibaa Geigy)의 층을 사용하여 형성된 마찰 중합체 표면과 반대편에 구성된다. 폴리이미드 표면상에서의 마찰 방향은 격자 표면상에서의 격자 홈 방향과 평행하게 설정된다. 셀 갭은 2.5㎛로 설정되고 네마틱 E7은 셀을 충진하는데 사용된다. 충진후에 실온으로의 냉각은 도 11a,b에 개략적으로 도시된 두 개의 상태를 밝혀낸다. 이 도면은 쌍안정 표면상의 홈 방향이 종이의 평면(xy 평면)에 위치한다는 점에서 도 7a,b와 상이하다. 따라서, 격자상의 90°예경사 상태는 격자상의 0°예경사 상태가 b'에 도시된 비틀림 구조를 형성하는 반면에 a'에 도시된 하이브리드(hybrd) 구조를 형성한다. 상태들 사이에서 선택적 대조를 달성하기 위하여, 편광기가 두 개의 스위치 상태에서 최적의 대조로 회전될 수 있을 지라도, 격자 홈( 및 마찰 방향)이 하나의 편광기와 평행하도록 배향된 교차 편광기(13,13') 사이에 셀이 배치된다. 따라서, 상태(b')는 밝은 상태인 반면에 상태(a')는 어두운 상태가 된다. 5.3ms 단일극성 펄스를 사용하여 a'와 b' 사이에서의 스위칭이 56.7V의 최대 전압에서 발생된다. 선택적 대응 시간은 a'에서 b'로의 스위칭의 경우에 110ms이고 b'에서 a'로의 스위칭의 경우에 1.4ms이다.
밝은 상태(b')는 90°의 커다란 비틀림을 갖는다. 종래의 TN 구조와 같이,최대 변환은 N 이 정수일 때(C.H.Gooch 및 H.A.Tarry.J.Phys.D:Appl.Phys.,8 1575(1975)) 얻어지고 여기에서 N은 다음과 같다.
여기에서, △n은 네마틱 복굴절이고 d 는 셀 갭이며 λ는 작동 파장이다. 따라서, 530nm의 작동 파장과 N=1을 갖는 E7(△n=0.22)를 사용하는 쌍안정 장치는 2.1㎛의 셀 갭을 가질 것이다. 실시예 2에 서술된 형상과 비교하여 식 3에 의해 제공된 최적의 두께를 갖는다. 그 실시예의 경우에, △nav는 △n/2이므로 식 3은 1.2㎛의 두께를 제공한다. 따라서, 비틀림이 없는 쌍안정 장치는 언제나 더 얇은 셀 갭에서 최적의 선택을 하며 더 짧은 선택적 대응 시간을 갖는 더 낮은 전압에서 스위치될 것이다.
콜레스테릭 불순물(즉, CB15 Merck의 1%보다 작게)이 비틀림 비경사를 방지하기 위해 첨가된다. 대안적으로 이 비경사는 마찰 정렬 방향에 평행하지 않은, 즉 약 5°조정하여 홈 방향을 배열하므로써 방지될 수 있다.
이 장치를 위한 격자 표면은 초기에 나열된 다양한 기술을 사용하여 제조될 수 있다. 귀향성 처리는 격자 표면에 우수한 접착력을 갖는 어떤 계면 활성제일 수 있다. 또한, 이 처리는 핀이 뽑혀진 정렬을 유도해야만 한다. 즉, 정렬은 표면상에 네마틱의 강성 위치 정렬을 유발시키지 않으면서 특정 네마틱 배향에 호의적이다.
상기의 분석에서 알 수 있듯이, 격자 변조는 쌍안정을 위해 소정의 비대칭이존재하도록 어떤 h/w를 함유해야 한다. 변조의 절대적인 크기는 다른 인자에 의해 제한된다. 홈 깊이와 피치가 너무 크면 회절 효과가 중요하여 장치 처리량의 손실을 가져온다. 더욱이, 홈 깊이가 셀 두께와 비슷하다면 반대편 평평한 표면으로의 홈 최대의 근접이 쌍안정 스위칭을 금지한다. 두 개의 격자가 도 10a,b 에 도시된 장치에서와 같이 필요하다면 그 때 셀 두께와 비교하여 큰 홈 깊이가 두 개의 변조의 페이즈에 따른 스위칭을 필연적으로 유도하게 된다. 이것은 장치 제조 방법을 매우 복잡하게 한다. 또한, 홈 깊이와 피치가 너무 작아도 문제점이 존재한다. 일정한 h/w의 경우에, 피치가 작아짐에 따라 표면에서 큰 뒤틀림의 에너지 농도가 커지게 된다. 결국, 이 에너지는 표면상에서 네마틱의 로컬 결합 에너지와 유사하다. 따라서, 도 4 및 5에 도시된 구조(무한 결합 에너지로 추정되는)는 더 이상 얻어지지 않으며 쌍안정성이 필연적으로 손실된다. h 및 w의 전형적인 값은 약 0.1 내지 10㎛와 0.05 내지 5㎛의 범위에서 각각 약 0.5㎛와 1.0㎛이다.
이색성 염료의 작은 양, 즉 1 내지 5%가 액정 재료, 즉 E63(Merck)에서의 재료 D124에 조합될 수 있으며, 이것은 편광기와 함께 또는 편광기가 없이 색상을 제공하고, 대조를 증가시키며 또는 호스트 탐색형 장치로서 작동되도록 사용될 수 있다. 장치(염료를 갖거나 갖지 않는)의 편광기는 장치의 두 개의 스위치된 상태 사이에서 대조를 최적화하도록 회전될 수 있다.

Claims (16)

  1. 포지티브 유전 이방성을 가진 네마틱 액정 재료층(2)을 수납하는 두 개의 셀벽(3, 4)과, 양 벽상의 전극 구조 (6, 7)와, 액정 분자에 대한 정렬을 제공하는 양셀 벽(6, 7)의 대면한 표면상에 위치되어 있는 상기 하나 이상의 대면한 표면상의 표면 정렬 격자(25)를 포함하는 표면 정렬 수단(25, 26)과, 상기 액정 재료의 스위치된 상태를 식별하기 위한 수단(13, 13')을 포함하는 쌍안정 네마틱 액정장치에 있어서,
    상기 표면 정렬 격자(25)는 액정 분자가 동일 방위각의 평면내에 두 개의 상이한 예경사 각도를 갖도록 하고,
    적절한 전기 신호가 전극에 적용된 이후에, 두 개의 안정성 액정 분자 형상이 나타나도록 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 격자925)는 홈 깊이와 피치비가 쌍안정 정렬을 제공하는 신호 비대칭 변조를 포함하는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 격자(25)는 홈 깊이와 피치비가 쌍안정 정렬을 제공하는 신호 대칭 변조를 포함하는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 격자(25) 재료는 로컬 표면 방향에 대해 액정 디렉터의 귀향성 배향을 유발하는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 격자 표면은 로컬 표면 방향에 대해 액정 디렉터의 귀향성 배향을 유발하기 위해 계면 활성제로 처리되는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 하나의 셀 벽(3)은 쌍안정 격자(25) 표면을 가지고, 나머지 셀 벽(4)은 귀향성 정렬을 유발하는 평탄면(26)을 가지는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 하나의 셀 벽(3)은 쌍안정 격자(25) 표면을 가지고, 나머지 셀 벽(4)은 소정 정렬 방향을 갖거나, 갖지 않는 평면 정렬을 유발하는 평탄면을 가지는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 평면 정렬은 0°내지 60°사이의 표면 예경사를 제공하는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 양 셀 벽(3, 4)은 쌍안정 격자 표면을 갖는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 액정 재료(2)는 콜레스테릭 불순물을 포함하는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  11. 제 1 항에 있어서, 단일 방향성 전압 펄스를 적용하는 수단(8, 9, 10, 11)을 추가로 포함하여, 휘어지거나 외측으로 벌어진 액정 재료에 존재하는 플렉소일렉트릭 편광과 적용된 필드 사이의 결합에 의해 쌍안전 상태가 선택되는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  12. 제 1 항에 있어서, 두 개의 상이한 주파수에 단일 방향성 신호를 적용하는 수단을 추가로 포함하고, 상기 네마틱 재료는 두 개의 주파수로 어드레스될 수 있는 액정 재료인 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 격자 홈 형사은 각 화소 영역내에서 또는 인접한 화소들 사이에서 변화될수 있는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 전극(6, 7)은 디스플레이 화소 또는 어드레스될 수 있는 요소의 x, y 매트릭스에 배열된 일련의 열과 행으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  15. 제 1 항에 있어서, 스위치된 상태를 식별하는 수단은 액정 재료(2)내의 이색성 염료를 포함하는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
  16. 제 1 항에 있어서, 상기 스위치된 상태를 식별하는 수단은 하나 이상의 편광기를 포함하는 것을 특징으로 하는 쌍안정 네마틱 액정장치.
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