KR100351995B1 - Electro polishing device - Google Patents

Electro polishing device Download PDF

Info

Publication number
KR100351995B1
KR100351995B1 KR1020010012523A KR20010012523A KR100351995B1 KR 100351995 B1 KR100351995 B1 KR 100351995B1 KR 1020010012523 A KR1020010012523 A KR 1020010012523A KR 20010012523 A KR20010012523 A KR 20010012523A KR 100351995 B1 KR100351995 B1 KR 100351995B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electropolishing
workpiece
discharge electrode
treatment
electrolytic polishing
Prior art date
Application number
KR1020010012523A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20010044612A (en
Inventor
석병열
Original Assignee
신한기연주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 신한기연주식회사 filed Critical 신한기연주식회사
Priority to KR1020010012523A priority Critical patent/KR100351995B1/en
Publication of KR20010044612A publication Critical patent/KR20010044612A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100351995B1 publication Critical patent/KR100351995B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/16Polishing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

본 발명은 피처리물의 내주면과 외주면 전체에 걸쳐서 전해연마함으로써 균일한 표면처리가 가능하며, 처리액을 피처리물의 내부뿐만 아니라, 피처리물이 큰 처리조 내에 수용되어 있으므로, 시간의 경과에 따른 전해처리 효율의 저하를 막을 수 있고 장기간에 걸쳐서 효율 높은 전해 처리를 행할 수 있으며 처리시간을 단축할 수 있는 한편, 피처리물을 다수의 롤러에 의해 회전 가능하게 설치하여 연마하므로, 피처리물의 직경, 표면조도 등에 대응하여 피처리물의 회전속도를 조정하면서 최적의 처리조건으로 전해연마할 수 있도록 구성한 전해연마장치에 관한 것으로, 이 전해연마장치는 피처리물(10)의 내부로 공급되는 전해 연마액을 저장하는 처리조(14)와, 스페이서(20)를 개재하여 상기 피처리물(10)의 내주면으로부터 일정 간격을 두고 이격되게 배치되어 있는 방전극(12)과, 제 1전원선(18)을 통해서 상기 피처리물(10)에 양극(+)이 연결되고 제 2전원선(19)을 통해서 상기 방전극(12)에 음극(-)이 연결되어 전기를 공급하는 정류기(16)로 이루어져 있다.The present invention enables uniform surface treatment by electropolishing throughout the inner and outer peripheral surfaces of the object to be treated, and not only the treatment liquid is contained inside the object but also in the large treatment tank. The electrolytic treatment can be prevented from being deteriorated, the electrolytic treatment can be carried out efficiently over a long period of time, and the processing time can be shortened. The present invention relates to an electropolishing apparatus configured to perform electropolishing at optimum processing conditions while adjusting the rotational speed of a workpiece in accordance with surface roughness, and the like, and the electropolishing apparatus supplied to the inside of the object 10 is electropolishing Spaced apart from the inner circumferential surface of the object 10 through a treatment tank 14 for storing the liquid and a spacer 20 at a predetermined interval. The positive electrode (+) is connected to the object to be processed 10 through the discharge electrode 12 and the first power supply line 18 which are connected to each other, and the cathode (or negative electrode) is connected to the discharge electrode 12 via the second power supply line 19. -) Is composed of a rectifier (16) for supplying electricity.

Description

전해연마장치{ELECTRO POLISHING DEVICE}Electrolytic Polishing Device {ELECTRO POLISHING DEVICE}

본 발명은 전해연마장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 피처리물의 내주면과 외주면 전체에 걸쳐서 전해연마할 수 있고, 피처리물을 대용량의 처리조 내에 수용하여 작업함과 동시에, 피처리물을 다수의 롤러에 의해 회전 가능하게 설치한 상태에서 표면을 연마하도록 구성한 전해연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electropolishing apparatus, and more particularly, electrolytic polishing can be carried out over the entire inner and outer peripheral surfaces of a workpiece, and the workpiece is accommodated in a large-capacity treatment tank and worked. The present invention relates to an electropolishing apparatus configured to polish a surface in a state rotatably installed by a plurality of rollers.

가령, 전자부품 재료인 리드 프레임 등은 일반적으로 압연재료를 가공하여 제조하며, 표면을 매끄럽게 하기 위해서 다양한 방법으로 연마처리 작업을 행한다.For example, a lead frame or the like, which is an electronic component material, is generally manufactured by processing a rolled material, and is polished by various methods in order to smooth the surface.

표면처리방법으로는 연마재와 연마지그를 이용하여 피처리물의 표면을 평탄하고 매끄럽게 가공하는 기계연마방식이 있다. 이것은 오래전부터 사용되어 오던 연마방식이지만 표면응력 및 국부적인 가공 변질층이 존재하므로 반도체 제조용 가스라인에서 사용하기에는 부적합하다.As a surface treatment method, there is a mechanical polishing method in which the surface of a workpiece is processed smoothly and smoothly using an abrasive and an abrasive jig. This is a polishing method that has been used for a long time, but it is not suitable for use in gas lines for semiconductor manufacturing because of the presence of surface stress and localized altered layers.

또한, HNO3+HCl등의 약품을 이용하여 금속의 표면을 연마하는 화학연마방식이 있다. 이것은 연마용액 중에 Na와 P등의 반도체 공정에 유해한 물질을 함유하고 있지 않으나 연마능력이 작은 단점을 지니고 있다.In addition, there is a chemical polishing method using a chemical such as HNO 3 + HCl to polish the surface of the metal. This does not contain harmful substances in the semiconductor process such as Na and P in the polishing solution, but has a disadvantage in that the polishing ability is small.

한편, 처리조 내의 전해 연마액 중에서 연마하고자 하는 피처리물을 양극으로 연결하고 음극을 비접촉으로 연마면 가까이에 투입한 다음, 연마에 적합한 조건하에서 특수한 양극합금 또는 금속의 용출이 일어나게 하여 연마면 표면의 돌출부를 선택적으로 용해시킴으로써, 표면을 평활화하고 광택화하는 전해연마방식이 있다. 전해연마 용액으로는 NaNO3, H2SO4+H3PO4등을 비롯한 여러 가지 종류의 용액이 사용되며, 전해 연마시에는 금속표면에 얇은 산화막인 부동태 피막이 형성되므로 부식 저항성을 크게 증가시키는 효과가 있다.On the other hand, in the electrolytic polishing liquid in the treatment tank, the workpiece to be polished is connected with the anode and the cathode is brought into contact with the polishing surface in a non-contact manner, and then a special anode alloy or metal is eluted under conditions suitable for polishing, so that the surface of the polishing surface There is an electropolishing method for smoothing and glossing the surface by selectively dissolving the protrusions. Various kinds of solutions including NaNO 3 , H 2 SO 4 + H 3 PO 4, etc. are used as the electropolishing solution, and during electropolishing, a passivation film, which is a thin oxide film, is formed on the metal surface, which greatly increases the corrosion resistance. There is.

이와 같이, 전해연마 방식에 의하면, 표면의 미소한 요철을 제거하여 표면조도를 향상시키고, 표면상에 가공변질층 및 가공경화층이 존재하지 않으며, 내식성이 향상되고 피연마체의 형상적 제한이 없으므로 특수형상 제품을 연마할 수 있는 이점이 있으나, 종래의 전해연마장치에서는 피처리물의 내주면과 외주면 전체의 표면처리 상태가 균일하지 않으며, 피처리물의 직경이나 표면조도에 따라서 연마속도를 조정할 수 있는 구조를 갖고 있지 않으므로 연마처리 효율이 저하되고 연마시간이 많이 소요되는 문제가 있다.As such, according to the electropolishing method, the surface roughness is improved by removing the minute unevenness of the surface, and there is no processing deterioration layer and the processing hardening layer on the surface, and the corrosion resistance is improved and there is no shape limitation of the polishing object. Although there is an advantage to grind special shaped products, conventional electropolishing apparatus has a uniform surface treatment state of the entire inner and outer peripheral surfaces of the object to be treated, and a structure capable of adjusting the polishing speed according to the diameter or surface roughness of the object. Since it does not have a problem that the polishing treatment efficiency is lowered and the polishing time takes a lot.

이와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 피처리물의 내주면과 외주면 전체에 걸쳐서 전해연마함으로써 균일한 표면처리가 가능하며, 처리액을 피처리물의 내부뿐만 아니라, 피처리물이 큰 처리조 내에 수용되어 있으므로, 시간의 경과에 따른 전해처리 효율의 저하를 막을 수 있고, 장기간에 걸쳐서 효율 높은 전해 처리를 행할 수 있으며 처리시간을 단축할 수 있는 한편, 피처리물을 다수의 롤러에 의해 회전 가능하게 설치하여 연마하므로, 피처리물의 직경, 표면조도 등에 대응하여 피처리물의 회전속도를 조정하면서 최적의 처리조건으로 전해연마할 수 있도록 구성한 전해연마장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention for solving this problem is possible by the electropolishing throughout the entire inner and outer peripheral surface of the object to be uniform surface treatment, the treatment liquid is not only inside the object to be treated, the object is contained in a large treatment tank Therefore, it is possible to prevent a decrease in the electrolytic treatment efficiency over time, to perform highly efficient electrolytic treatment over a long time, to shorten the treatment time, and to install the workpiece to be rotated by a plurality of rollers. It is an object of the present invention to provide an electropolishing apparatus configured to perform electropolishing under optimum processing conditions while adjusting the rotational speed of the workpiece in accordance with the diameter, surface roughness, and the like of the workpiece.

도 1은 본 발명의 제 1실시예에 따른 전해연마장치를 개략적으로 보인 구성도,1 is a schematic view showing an electrolytic polishing apparatus according to a first embodiment of the present invention;

도 2는 본 발명의 제 2실시예에 따른 전해연마장치를 개략적으로 보인 구성도,2 is a schematic view showing an electropolishing apparatus according to a second embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 제 3실시예에 따른 전해연마장치를 개략적으로 보인 구성도,3 is a schematic view showing an electrolytic polishing apparatus according to a third embodiment of the present invention;

도 4는 도 3에서 선 Ⅳ-Ⅳ를 따라 취한 단면도.4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG.

♣도면의 주요부분에 대한 부호의 설명♣♣ Explanation of symbols for main part of drawing ♣

10:피처리물 12:방전극10: to-be-processed object 12: discharge electrode

14, 14':처리조 16:정류기14, 14 ': Treatment tank 16: Rectifier

20:스페이서 30:고정 브라켓20: spacer 30: fixing bracket

32:프레임 34:행거32: frame 34: hanger

40:상부지지대 42:상부롤러축40: upper support 42: upper roller shaft

44:상부롤러 50:하부지지대44: upper roller 50: lower support

52:하부롤러축 54:하부롤러52: lower roller shaft 54: lower roller

56:종동풀리 58:구동풀리56: driven pulley 58: driven pulley

60:모터 64:구동벨트60: motor 64: drive belt

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 전해연마장치는 피처리물의 내부와 외부로 공급되는 전해 연마액을 저장하는 처리조와, 프레임에 부착된 행거에 의해서 상기 피처리물의 내주면으로부터 일정 간격을 두고 이격되게 배치되어 있는 방전극과, 제 1전원선을 통해서 상기 피처리물에 양극(+)이 연결되고 제 2전원선을 통해서 상기 방전극에 음극(-)이 연결되어 전기를 공급하는 정류기를 포함하는 것을 특징으로 한다.Electrolytic polishing apparatus of the present invention for achieving the above object is spaced apart from the inner circumferential surface of the object by a treatment tank for storing the electrolytic polishing liquid supplied to the inside and outside of the object and a hanger attached to the frame. And a rectifier for supplying electricity by connecting the discharge electrode and the cathode connected to the object through the first power supply line and the cathode (-) connected to the discharge electrode through the second power supply line. It features.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전해연마장치에 대하여 상세히 설명한다. 또한, 각 실시예에서 동일한 기능을 갖는 부품에 대해서는 동일번호로 표시하였다.Hereinafter, an electropolishing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in each Example, the part which has the same function is shown with the same number.

먼저, 도 1은 본 발명의 제 1실시예에 따른 전해연마장치를 개략적으로 보인 구성도이다. 본 실시예에서는 가령, 원통형상을 갖는 피처리물(10)의 내주면을 전해연마하는 경우에 대하여 예시하였다.First, Figure 1 is a schematic diagram showing an electropolishing apparatus according to a first embodiment of the present invention. In this embodiment, for example, the case of electropolishing the inner circumferential surface of the workpiece 10 having a cylindrical shape is illustrated.

본 실시예에 따른 전해연마장치의 전체적인 구성을 보면, 피처리물(10)의 내부로 공급되는 전해 연마액을 저장하는 처리조(14)와, 스페이서(20)를 개재하여 피처리물(10)의 내주면으로부터 일정 간격을 두고 이격되게 배치되어 있는 방전극(12)과, 제 1전원선(18)을 통해서 피처리물(10)에 양극(+)이 연결되고 제 2전원선(19)을 통해서 방전극(12)에 음극(-)이 연결되어 전기를 공급하는 정류기(16)로 이루어져 있다.In the overall configuration of the electropolishing apparatus according to the present embodiment, the object 10 to be treated via the treatment tank 14 and the spacer 20 for storing the electropolishing liquid supplied into the object 10 is processed. A positive electrode (+) is connected to the workpiece 10 through the discharge electrode 12 and the first power supply line 18 which are arranged to be spaced apart from the inner circumferential surface of the second power supply line 18. A cathode (-) is connected to the discharge electrode 12 through the rectifier 16 to supply electricity.

여기에서, 피처리물(10)은 스테인레스 스틸 파이프를 비롯하여, 튜브, 피팅,탱크와 같은 제품으로, 제 1전원선(18)을 통해 양극(+)으로서 정류기(16)에 접속되어 있다. 또한, 방전극(12)은 제 2전원선(19)을 통해 음극(+)으로서 정류기(16)에 접속되어 있다. 이때, 방전극(12)의 일단은 확장단부(12a)로 형성되어 있어 스페이서(20)에 알맞게 끼워져 있다. 따라서, 처리조(14)로부터 전해 연마액이 화살표 방향(P)을 따라 유입되면 금속의 용출이 발생되면서 양극 표면의 돌출부를 선택적으로 용해시켜 피처리물의 평활화 및 광택화가 진행된다.Here, the workpiece 10 is a product such as a tube, a fitting or a tank, including a stainless steel pipe, and is connected to the rectifier 16 as a positive electrode (+) through the first power supply line 18. The discharge electrode 12 is connected to the rectifier 16 as a cathode (+) via the second power supply line 19. At this time, one end of the discharge electrode 12 is formed by the extended end portion 12a, and is fitted to the spacer 20. Therefore, when the electrolytic polishing liquid flows from the treatment tank 14 along the arrow direction P, elution of the metal is caused to selectively dissolve the protrusions on the surface of the anode to smooth and polish the workpiece.

다음에, 도 2는 본 발명의 제 2실시예에 따른 전해연마장치를 개략적으로 보인 구성도이다. 본 실시예에서는 피처리물의 내주면뿐만아니라 외주면을 동시에 연마처리하는 경우에 이용할 수 있는 전해연마장치를 예시하였다.Next, Figure 2 is a schematic view showing an electrolytic polishing apparatus according to a second embodiment of the present invention. In the present embodiment, an electropolishing apparatus that can be used to simultaneously polish not only the inner circumferential surface of the object but also the outer circumferential surface is illustrated.

이것의 전체적인 구성을 보면, 피처리물(10)의 내부와 외부로 공급되는 전해 연마액을 저장하는 처리조(14')와, 프레임(32)에 부착된 행거(34)에 의해서 피처리물(10)의 내주면으로부터 일정 간격을 두고 이격되게 배치되어 있는 방전극(12)과, 제 1전원선(18)을 통해서 피처리물(10)에 양극(+)이 연결되고 제 2전원선(19)을 통해서 방전극(12)에 음극(-)이 연결되어 전기를 공급하는 정류기(16)로 이루어져 있다.In view of the overall structure thereof, the object to be processed is treated by a treatment tank 14 ′ storing an electropolishing liquid supplied to the inside and outside of the object 10 and a hanger 34 attached to the frame 32. A positive electrode (+) is connected to the workpiece 10 through the discharge electrode 12 disposed at a predetermined interval from the inner circumferential surface of the 10 and the first power supply line 18, and the second power supply line 19 The cathode (-) is connected to the discharge electrode 12 through the) consists of a rectifier 16 for supplying electricity.

여기에서, 방전극(12)의 고정을 위해서, 방전극(12)의 양단은 행거(34)의 하단에 연결되어 있으며, 행거(34)의 상단은 프레임(32)을 개재하여 고정 브라켓(30)에 의해 고정되어 있다. 또한, 처리조(14')내에는 피처리물(10)이 완전히 잠길 수 있을 정도로 충분한 양의 전해 연마액이 들어 있다. 따라서, 정류기(16)로부터 전기가 공급되면, 처리조(14')내의 연마액이 피처리물(10)의 내주면과 외주면에 접촉되는 과정에서 금속의 용출이 발생되면서 양극 표면의 돌출부를 선택적으로 용해시켜 피처리물(10)의 평활화 및 광택화가 진행된다.Here, in order to fix the discharge electrode 12, both ends of the discharge electrode 12 is connected to the lower end of the hanger 34, the upper end of the hanger 34 to the fixing bracket 30 via the frame 32. It is fixed by. Also, the treatment tank 14 'contains an electrolytic polishing liquid in a sufficient amount so that the object 10 can be completely submerged. Accordingly, when electricity is supplied from the rectifier 16, the elution of the metal in the process of contacting the inner and outer peripheral surfaces of the workpiece 10 with the polishing liquid in the treatment tank 14 'selectively causes the projection of the anode surface to selectively It melt | dissolves and the smoothing and glossiness of the to-be-processed object 10 advance.

이러한 구성의 전해연마장치에 의하면, 피처리물(10)의 내주면과 외주면 전체에 걸쳐서 전해연마가 진행되므로, 제품의 내주면과 외주면에 걸쳐서 균일한 연마처리가 가능하다. 또한, 피처리물(10)이 용량이 큰 처리조(14') 내에 수용되어 있으므로, 시간의 경과에 따른 전해처리 효율의 저하를 막을 수 있다.According to the electropolishing apparatus of such a structure, since electrolytic polishing advances over the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the to-be-processed object 10, a uniform grinding | polishing process is possible over the inner peripheral surface and outer peripheral surface of a product. Moreover, since the to-be-processed object 10 is accommodated in the processing tank 14 'with a large capacity | capacitance, the fall of the electrolytic treatment efficiency over time can be prevented.

다음에, 도 3은 본 발명의 제 3실시예에 따른 전해연마장치를 개략적으로 보인 구성도이고, 도 4는 도 3에서 선 Ⅳ-Ⅳ를 따라 취한 단면도이다. 본 실시예에서는 도 1에 도시한 전해연마장치에서, 제품의 직경이나 표면조도에 따라서 피처리물(10)을 회전시켜가면서 연마처리함으로써 전해속도를 조절할 수 있는 구성의 연마장치를 예시하였다.Next, FIG. 3 is a schematic view showing an electropolishing apparatus according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. In this embodiment, in the electropolishing apparatus shown in FIG. 1, the polishing apparatus having a configuration capable of adjusting the electrolytic speed by rotating the object 10 in accordance with the diameter or surface roughness of the product while polishing is illustrated.

이것의 전체적인 구성을 보면, 피처리물(10)의 내부로 공급되는 전해 연마액을 저장하는 처리조(14)와, 슬라이더(46)에 의해서 피처리물(10)의 내주면 상에서 길이방향으로 이동 가능하게 배치되어 있는 방전극(12)과, 제 1전원선(18)을 통해서 피처리물(10)에 양극(+)이 연결되고 제 2전원선(19)을 통해서 방전극(12)에 음극(-)이 연결되어 전기를 공급하는 정류기(16)와, 하부롤러축(52)에 끼워져 있는 다수의 하부롤러(54)에 의해서 피처리물(10)의 하부를 회전 가능하게 지지하는 하부지지대(50)와, 상부롤러축(42)에 끼워져 있는 다수의 상부롤러(44)에 의해서 피처리물(10)의 상부를 회전 가능하게 지지하는 상부지지대(40)와, 피처리물(10)의 직경과 표면조도에 따라서 적절한 속도로 피처리물(10)을 정·역방향으로 회전시키기 위한 회전수단으로 이루어져 있다.In view of the overall configuration, the treatment tank 14 for storing the electrolytic polishing liquid supplied to the inside of the object 10 and the slider 46 move longitudinally on the inner circumferential surface of the object 10. A positive electrode (+) is connected to the object to be processed 10 through the discharge electrode 12 and the first power supply line 18 which are arranged so as to be possible, and the cathode (the negative electrode) is connected to the discharge electrode 12 via the second power supply line 19. Lower support for rotatably supporting the lower part of the workpiece 10 by a rectifier 16 connected to supply electricity and a plurality of lower rollers 54 fitted to the lower roller shaft 52. 50 and the upper support 40 for rotatably supporting the upper part of the object 10 by the plurality of upper rollers 44 fitted to the upper roller shaft 42, and It consists of a rotating means for rotating the workpiece 10 in the forward and reverse directions at an appropriate speed according to the diameter and surface roughness.

여기에서, 회전수단은 모터축(62)의 일단에 구동풀리(58)가 고정되어 있으며, 공급되는 전류에 따라서 정·역회전하는 구동모터(60)와, 하부롤러축(52)의 일단에 고정된 종동풀리(56)와, 구동풀리(58)와 종동풀리(56)에 감겨져 있으며, 구동풀리(58)로부터 전달되는 구동모터(60)의 회전력을 종동풀리(56)를 개재하여 하부롤러축(52)으로 전달하여 피처리물(10)을 회전시키는 구동벨트(64)로 이루어져 있다.Here, the rotating means is fixed to one end of the motor shaft 62, the drive pulley 58 is fixed, and the driving motor 60 and the one end of the lower roller shaft 52 that rotates forward and reverse according to the supplied current It is wound around the fixed driven pulley 56, the driving pulley 58 and the driven pulley 56, and the rotational force of the drive motor 60 transmitted from the driving pulley 58 via the driven pulley 56 through the lower roller. It is composed of a drive belt 64 for transmitting to the shaft 52 to rotate the workpiece 10.

따라서, 구동모터(60)에 전원이 인가되면, 모터축(62)에 고정된 구동풀리(58)가 회전하면서 구동벨트(64)를 개재하여 종동풀리(56)가 회전하게 된다. 종동풀리(56)의 회전으로 하부롤러축(52)이 회전되면서 이 하부롤러축(52)에 고정된 하부롤러(54)가 회전하면서 피처리물(10)을 화살표 방향(R1 또는 R2)으로 회전시킨다. 본 발명에서는 피처리물(10)의 양방향(R1 또는 R2) 회전을 가능케 하기 위하여, 정방향 및 역방향회전이 가능한 정·역모터를 채용하였다.Therefore, when power is applied to the drive motor 60, the driven pulley 56 is rotated via the drive belt 64 while the drive pulley 58 fixed to the motor shaft 62 rotates. As the lower roller shaft 52 is rotated by the rotation of the driven pulley 56, the lower roller 54 fixed to the lower roller shaft 52 rotates, thereby moving the workpiece 10 in the direction of the arrow R1 or R2. Rotate In the present invention, in order to enable the bidirectional (R1 or R2) rotation of the workpiece 10, forward and reverse motors capable of forward and reverse rotation are employed.

이 상태에서, 처리조(14)로부터 전해 연마액이 화살표 방향(P')을 따라 유입되면 금속의 용출이 발생되면서 양극 표면의 돌출부를 선택적으로 용해시켜 피처리물의 평활화 및 광택화가 진행된다. 이때, 연마효율을 높이기 위하여, 방전극(12)은 슬라이더(46)에 의해 도 3에 화살표 방향(Q)으로 나타낸 바와 같이, 피처리물(10)의 길이방향을 따라서 소정의 범위(대략, 50㎜)내에서 유동할 수 있도록 구성하였다.In this state, when the electrolytic polishing liquid flows from the treatment tank 14 along the arrow direction P ', elution of the metal occurs, and the protrusions on the surface of the anode are selectively dissolved to smooth and polish the workpiece. At this time, in order to increase the polishing efficiency, the discharge electrode 12 is a predetermined range (approximately 50) along the longitudinal direction of the workpiece 10, as shown by the slider 46 in the arrow direction Q in FIG. It was configured to be able to flow within mm).

이와 같이, 피처리물(10)을 다수의 하부롤러(54)에 의해 회전 가능하게 지지한 상태에서 연마하는 구조의 전해연마장치에 있어서, 피처리물(10)의 직경이나 표면조도 등에 따라서, 구동모터(60)로 인가되는 전류를 변화시키면서 피처리물(10)의 회전속도를 조정할 수 있으므로, 최적의 처리조건으로 전해연마를 실시하는 것이 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 상부롤러(44), 슬라이더(46), 하부롤러(54)는 통전(通電)되는 재질로 이루어짐이 바람직하다.Thus, in the electropolishing apparatus of the structure which grinds the to-be-processed object 10 in the state rotatably supported by the several lower rollers 54, according to the diameter, surface roughness, etc. of the to-be-processed object 10, Since the rotational speed of the object 10 can be adjusted while varying the current applied to the drive motor 60, electropolishing can be performed under optimum processing conditions. In addition, the upper roller 44, the slider 46, the lower roller 54 according to the present invention is preferably made of a conductive material.

이상으로 설명한 본 발명에 의하면, 피처리물의 내주면과 외주면 전체에 걸쳐서 전해연마함으로써 균일한 표면처리가 가능하다. 피처리물이 용량이 큰 처리조 내에 수용되어 있으므로, 시간의 경과에 따른 전해처리 효율의 저하를 막을 수 있으며, 그로 인해, 장기간에 걸쳐서 효율 좋은 전해처리를 행할 수 있고, 전해처리 시간을 단축할 수 있다. 또한, 피처리물을 다수의 롤러에 의해 회전 가능하게 설치하여 연마하므로, 피처리물의 직경, 표면조도 등에 대응하여 피처리물의 회전속도를 조정하면서 최적의 처리조건으로 전해연마할 수 있는 이점이 있다.According to the present invention described above, uniform surface treatment is possible by electropolishing over the entire inner and outer peripheral surfaces of the workpiece. Since the to-be-processed object is accommodated in a processing tank with a large capacity | capacitance, the fall of the electrolytic treatment efficiency over time can be prevented, Therefore, efficient electrolytic treatment can be performed over a long period of time, and electrolytic treatment time can be shortened. Can be. In addition, since the workpiece is rotatably installed and polished by a plurality of rollers, there is an advantage that the electropolishing can be performed under optimum processing conditions while adjusting the rotational speed of the workpiece in accordance with the diameter, surface roughness, etc. of the workpiece. .

Claims (4)

삭제delete 피처리물(10)의 내부와 외부로 공급되는 전해 연마액을 저장하는 처리조(14')와,A treatment tank 14 'for storing an electropolishing liquid supplied to the inside and outside of the object 10, 프레임(32)에 부착된 행거(34)에 의해서 상기 피처리물(10)의 내주면으로부터 일정 간격을 두고 이격되게 배치되어 있는 방전극(12)과,A discharge electrode 12 which is spaced apart from the inner circumferential surface of the object 10 by a hanger 34 attached to the frame 32 at regular intervals; 제 1전원선(18)을 통해서 상기 피처리물(10)에 양극(+)이 연결되고 제 2전원선(19)을 통해서 상기 방전극(12)에 음극(-)이 연결되어 전기를 공급하는 정류기(16)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해연마장치.The anode (+) is connected to the workpiece 10 through the first power line 18 and the cathode (-) is connected to the discharge electrode 12 through the second power line 19 to supply electricity. Electrolytic polishing apparatus comprising a rectifier (16). 피처리물(10)의 내부로 공급되는 전해 연마액을 저장하는 처리조(14)와,A treatment tank 14 for storing an electrolytic polishing liquid supplied into the interior of the object 10, 슬라이더(46)에 의해서 상기 피처리물(10)의 내주면 상에서 길이방향으로 이동 가능하게 배치되어 있는 방전극(12)과,A discharge electrode 12 disposed on the inner circumferential surface of the workpiece 10 by a slider 46 so as to be movable in the longitudinal direction; 제 1전원선(18)을 통해서 상기 피처리물(10)에 양극(+)이 연결되고 제 2전원선(19)을 통해서 상기 방전극(12)에 음극(-)이 연결되어 전기를 공급하는 정류기(16)와,The anode (+) is connected to the workpiece 10 through the first power line 18 and the cathode (-) is connected to the discharge electrode 12 through the second power line 19 to supply electricity. Rectifier 16, 하부롤러축(52)에 끼워져 있는 다수의 하부롤러(54)에 의해서 상기 피처리물(10)의 하부를 회전 가능하게 지지하는 하부지지대(50)와,A lower supporter 50 rotatably supporting the lower portion of the object 10 by a plurality of lower rollers 54 fitted to the lower roller shaft 52; 상부롤러축(42)에 끼워져 있는 다수의 상부롤러(44)에 의해서 상기 피처리물(10)의 상부를 회전 가능하게 지지하는 상부지지대(40)와,An upper support 40 for rotatably supporting the upper portion of the object 10 by a plurality of upper rollers 44 fitted to the upper roller shaft 42; 피처리물(10)의 직경과 표면조도에 따라서 적절한 속도로 상기 피처리물(10)을 정·역방향으로 회전시키기 위한 회전수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해연마장치.Electrolytic polishing apparatus comprising a rotating means for rotating the object (10) in the forward and reverse directions at an appropriate speed according to the diameter and surface roughness of the object (10). 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 회전수단은 모터축(62)의 일단에 구동풀리(58)가 고정되어 있으며, 공급되는 전류에 따라서 정·역회전하는 구동모터(60)와,The rotation means is a drive pulley 58 is fixed to one end of the motor shaft 62, the drive motor 60 for forward and reverse rotation in accordance with the supplied current, 상기 하부롤러축(52)의 일단에 고정된 종동풀리(56)와,A driven pulley 56 fixed to one end of the lower roller shaft 52, 상기 구동풀리(58)와 상기 종동풀리(56)에 감겨져 있으며, 구동풀리(58)로부터 전달되는 구동모터(60)의 회전력을 종동풀리(56)를 개재하여 상기 하부롤러축(52)으로 전달하여 상기 피처리물(10)을 회전시키는 구동벨트(64)로 이루어진 것을 특징으로 하는 전해연마장치.It is wound around the drive pulley 58 and the driven pulley 56, and transmits the rotational force of the drive motor 60 transmitted from the drive pulley 58 to the lower roller shaft 52 through the driven pulley 56. Electrolytic polishing device, characterized in that consisting of a drive belt (64) for rotating the object (10).
KR1020010012523A 2001-03-12 2001-03-12 Electro polishing device KR100351995B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010012523A KR100351995B1 (en) 2001-03-12 2001-03-12 Electro polishing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010012523A KR100351995B1 (en) 2001-03-12 2001-03-12 Electro polishing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010044612A KR20010044612A (en) 2001-06-05
KR100351995B1 true KR100351995B1 (en) 2002-09-11

Family

ID=19706754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010012523A KR100351995B1 (en) 2001-03-12 2001-03-12 Electro polishing device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100351995B1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960015232A (en) * 1994-10-25 1996-05-22 김주용 Memory device with the function of cache memory

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960015232A (en) * 1994-10-25 1996-05-22 김주용 Memory device with the function of cache memory

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010044612A (en) 2001-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW592858B (en) Electrolytic processing device and substrate processing apparatus
JPH0794090B2 (en) Electro-abrasive grain super-mirror finishing method for inner surface of small diameter tube
CA2545365A1 (en) Electropolishing apparatus and method for medical implants
TW201010800A (en) Substrate cleaning device
KR19990026267A (en) Self Electrolytic Polishing Device
KR101510042B1 (en) Rotational metal bar electropolishing device
EP3613877B1 (en) Electrolytic polishing method and device
KR100351995B1 (en) Electro polishing device
CN102586855B (en) Electrochemical and mechanical composite polishing device
TWI539504B (en) Substrate cleaning method
US6830672B2 (en) Production method for ferrules
JP2002254292A (en) Method and device for inner surface treatment of member
CN111961999A (en) Method and device for chemical tinning on copper surface
KR20050005389A (en) Polishing Method and Polishing System, and Method for Fabricating Semiconductor Device
US6416650B1 (en) Apparatus and method of electrochemical polishing by ring-form electrode
JP2008296351A (en) Substrate treatment apparatus and method
JP4878159B2 (en) Rotational surface reduction head, electrolytic surface reduction device, and electrolytic surface reduction method
JP2004098187A (en) Polishing device
JPS59205500A (en) Surface treating apparatus
KR100941650B1 (en) Roller type electro polishing device
CN218556488U (en) Carborundum wafer grinding and polishing equipment
KR100351893B1 (en) tube-washer for the reaction-film deposition progress to make a semi-conductor element
JPH11320366A (en) Grinding device
JP5187673B1 (en) Metal cylindrical roller plating equipment
KR200169428Y1 (en) Electrolytic polishing

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130621

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140703

Year of fee payment: 13

LAPS Lapse due to unpaid annual fee