KR100347227B1 - 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법 - Google Patents

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KR100347227B1 KR1020000035883A KR20000035883A KR100347227B1 KR 100347227 B1 KR100347227 B1 KR 100347227B1 KR 1020000035883 A KR1020000035883 A KR 1020000035883A KR 20000035883 A KR20000035883 A KR 20000035883A KR 100347227 B1 KR100347227 B1 KR 100347227B1
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Abstract

본 발명은 반도체 제조를 위해 공정챔버(process chamber)내로 유입되는 공정가스를 제어하는 가스 캐비넷 컨트롤러(gas cabinet controller)에 폴트(fault)가 발생되더라도 상기 폴트로 인한 문제점을 해소할 수 있도록 한 반도체 제조 설비의 공정가스를 지속적으로 공급하는 방법에 관한 것으로, 공정가스가 저장된 가스통으로부터 다수의 에어밸브를 거쳐 공정가스를 공정챔버로 공급하도록 된 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법에 있어서, 컨트롤러의 동작시그널, 공정챔버로 유입되는 공정가스의 프로세싱에 관한 동작 시그널을 인터페이싱(interfacing)하는 제 1 단계와; 상기 동작 시그널이 오프되는지의 여부를 판단하는 제 2 단계와; 상기 동작 시그널이 계속하여 유지되면 상기 제 1 단계로 복귀하고, 만일 상기 동작 시그널이 오프되면 상기 동작 시그널의 정상적 인터페이싱을 중단하고 상기 마이컴의 폴트를 감지하며 에어밸브의 오픈(open) 상태를 유지하도록 프로세스 시그널을 생성하여 출력하는 제 3 단계와; 상기 폴트의 종류를 판단하여 디스플레이하게 되는 제 4 단계로 이루어지는 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법을 제공하여 종래의 문제점을 극복하고자 한다.

Description

반도체 제조설비의 공정가스 공급방법{Method of supplying process gas for manufacturing semiconductor}
본 발명은 반도체 제조 설비의 공정가스를 공급하는 방법에 관한 것으로,
더욱 상세하게는 공정챔버(process chamber)내로 유입되는 공정가스를 제어하는 가스 캐비넷 컨트롤러(gas cabinet controller)의 폴트(fault)가 발생되더라도 상기 폴트로 인한 문제점을 해소할 수 있도록 한 반도체 제조 설비의 공정가스를 지속적으로 공급하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조공정은 사진, 식각, 박막형성 공정등 많은 공정을 반복적으로 수행하여 제조되는 것으로, 이러한 공정들은 대부분 밀폐된 공정챔버내에서 이루어지며, 공정에 따라 공정챔버 내부에 공정가스를 공급하는 방식으로 이루어진다.
도 2 는 상기와 같은 반도체 제조공정을 수행하기 위한 구성을 개략적으로 나타낸 구성도로,
공정가스는 가스통(10)으로부터 압력표시기(20)와 다수의 밸브 및 레귤레이터(40)를 거쳐 공정챔버(30)로 유입이 된다. 이때 공정가스의 압력은 상기 압력 표시기(20)에서 1차적으로 표시되고 공정챔버내에 필요한 압력으로 레귤레이터(40)에 의해 2차적으로 조절되어진다.
공정 챔버로 유입되는 공정가스의 양은 공정상태에 따라 설정되어지고, 매뉴얼 밸브(50)에 의해서도 개폐되어 질 수 있다.
또한, 에어밸브(60)를 개폐하여 공정챔버로 유입되는 공정가스를 제어 할 수도 있으며, 상기 에어밸브(60)는 솔레노이드(solenoid) 밸브(70)에 의해 온/오프하게 된다.
반도체 공정에서 제일 중요한 것은 지속적인 가스 공급이므로 항상 에어밸브(60)가 열려 있어야 하고 메뉴엘 밸브(50) 또한 열려 있어야 한다.
또한, 압력을 설정하여 제어하며, 상기 솔레노이드 밸브를 온/오프시켜 상기 공정챔버로 공급되는 공정가스의 유입을 제어하는 가스 캐비넷 컨트롤러(이하 컨트롤러라 칭함)를 더 구비하여 실시함이 보다 일반적인 방법이다.
상기와 같이 구성되는 종래의 공정가스 공급 시스템은 공정가스가 공급되는 동안 컨트롤러는 상기 에어밸브를 제어하여 공정가스의 흐름을 제어하게 되는데, 만일 전원이 차단되거나 상기 컨트롤러의 폴트등이 발생하게 되면 상기 에어밸브는 오프(off)되고, 공정가스의 공급이 예고 없이 중단되어 공정가스의 부족으로 공정불량이 유발되는 문제점이 있어 왔던 것이다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 컨트롤러의 이상이 발생하는 경우에 있어서도 공정가스의 유입을 지속적으로 유지하여 공정가스의 부족으로 인한 공정불량의 발생을 미연에 방지할 수 있는 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법을 제공하는데 있다.
도 1 은 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법의 흐름을 플로우챠트로 도시한 흐름도
도 2 는 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법을 실시하기 위한 구성을 개략적으로 나타낸 구성도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 가스통 20 : 압력표시기
30 : 공정챔버(Process chamber) 40 : 레귤레이터(regulator)
50 : 매뉴얼 밸브(manual valve) 60 : 에어 밸브(air valve)
70 : 솔레노이드 밸브(solenoid valve)
상기의 목적은 공정가스가 저장된 가스통으로부터 다수의 밸브를 거쳐 공정가스를 공정챔버로 공급하도록 된 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법에 있어서,
컨트롤러의 동작시그널, 공정챔버로 유입되는 공정가스의 프로세싱에 관한 동작 시그널을 인터페이싱(interfacing)하는 제 1 단계(S10)와; 상기 동작 시그널이 오프되는지의 여부를 판단하는 제 2 단계(S20)와; 상기 동작 시그널이 계속하여 유지되면 상기 제 1 단계(S10)로 복귀하고, 만일 상기 동작 시그널이 오프되면 상기 동작 시그널의 정상적 인터페이싱을 중단하고 상기 컨트롤러의 폴트를 감지하며 에어밸브의 오픈(open) 상태를 유지하도록 프로세스 시그널을 생성하여 출력하는제 3 단계(S30)와; 상기 폴트의 종류를 판단하여 디스플레이(display)하게 되는 제 4 단계(S40)로 이루어지는 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법에 의해 달성 될 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1 은 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법의 흐름을 플로우챠트로 도시한 흐름도로,
먼저, 본 발명을 실시하기 위해 종래의 컨트롤러에 본 발명을 구현하는 자동 공급 보조 장치(이하 보조장치라 칭함)를 장착하고 상기 보조장치 및 종래의 컨트롤러에는 본 발명을 실행하기 위한 제어프로그램을 탑재한다.
상기 제어프로그램은 a) 인터페이싱을 위한 데이터와 공정가스의 프로세싱에 관한 데이터로 이루어지는 동작시그널을 생성하는 절차와; b) 상기 동작 시그널을 입, 출력하여 동작 시그널의 오프여부를 판단하여 인터페이싱의 이상여부를 판단하는 절차와; c) 상기 동작 시그널의 오프발생시 공정가스를 공급할 수 있도록 제어하는 프로세스 시그널을 생성하여 출력하는 절차와; d) 에러 메시지를 출력하는 절차를 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체를 상기 컨트롤러와 상기 보조장치의 각각 중앙처리장치(CPU)에서 읽어 들여 활성화된 프로세스를 말한다.
상기 컨트롤러의 동작과 동시에 온 되어져 동작을 시작하는 상기 보조장치는 상기 컨트롤러에 탑재되어 상기 컨트롤러와 상기 보조장치를 인터페이싱하는 동작시그널과 챔버로 유입되는 공정가스의 프로세싱에 관한 동작 시그널을 생성한다.
상기 컨트롤러에서 생성된 동작 시그널은 솔레노이드 밸브(70)에 입력되고 상기 솔레노이드 밸브(70)는 에어를 생성하여 에어밸브(60)를 오픈시키게 되어 상기 공정챔버(30)내로 공정 가스가 유입되게 된다.
또한, 상기 동작 시그널은 상기 컨트롤러와 상기 보조장치를 인터페이싱하게 되어 상기 보조장치에서는 상기 컨트롤러의 정상 동작여부를 확인하게 된다(S10 단계).
상기 컨트롤러와 상기 보조장치의 정상적인 인터페이싱이 이루어지면 상기 공정챔버(30)로 지속적인 공정가스의 유입이 이루어지게 되지만, 만일 컨트롤러에서 외/내부적인 요인에 의한 에러, 예를 들면 전원의 갑작스런 드랍(drop), 모듈의 불량등으로 인한 폴트가 발생하면 상기 컨트롤러에서 생성되어 상기 솔레노이드 밸브(70)로 입력되는 동작 시그널이 오프되게 된다.
상기 보조장치에서는 상기와 같은 폴트발생 여부를 판단(S20 단계)하여 동작시그널의 정상적인 인터페이싱이 이루어지면 상기 S10 단계로 복귀하게 되고, 만일 상기 동작시그널의 인터페이싱이 중단되면 상기 보조장치의 제어프로그램에서는 공정가스를 공급할 수 있도록 제어하는 프로세스 시그널을 생성하여 솔레노이드 밸브(70)에 입력을 하여 지속적인 공정가스의 유입을 유도하게 된다(S30 단계).
또한, 상기 컨트롤러에서 발생한 폴트의 종류를 판단하여 표시화면을 통해 디스플레이를 하게 된다(S40 단계).
이상에서와 같이 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 공정가스 공급 방법에 의하면,
가스 캐비넷 컨트롤러에서 발생하는 에러의 발생이 있더라도 공정가스이 유입이 지속되어 상기한 문제점을 미연에 방지할 수가 있을 뿐만 아니라 상기 디스플레이를 터치 스크린으로 구비하는 경우에 있어서는 운영자가 이상 발생 상황을 즉시 확인하여 수정을 할 수가 있는 것이다.
본 발명은 기재된 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (2)

  1. 공정가스가 저장된 가스통으로부터 다수의 에어밸브를 거쳐 공정가스를 공정챔버로 공급하도록 된 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법에 있어서,
    컨트롤러의 동작시그널, 공정챔버로 유입되는 공정가스의 프로세싱에 관한 동작 시그널을 생성하여 인터페이싱(interfacing)하는 제 1 단계(S10)와;
    상기 동작 시그널이 오프되는지의 여부를 판단하는 제 2 단계(S20)와;
    상기 동작 시그널이 계속하여 유지되면 상기 제 1 단계(S10)로 복귀하고, 만일 상기 동작 시그널이 오프되면 상기 동작 시그널의 정상적 인터페이싱을 중단하고 상기 마이컴의 폴트를 감지하며 에어밸브의 오픈(open) 상태를 유지하도록 프로세스 시그널을 생성하여 출력하는 제 3 단계(S30)와;
    상기 폴트의 종류를 판단하여 디스플레이하게 되는 제 4 단계로 이루어지는 반도체 제조설비의 공정가스 공급방법
  2. a) 컨트롤러의 동작시그널, 공정챔버로 유입되는 공정가스의 프로세싱에 관한 동작 시그널 생성하여 인터페이싱(interfacing)하는 절차와;
    b) 상기 동작 시그널이 오프되는지의 여부를 판단하는 절차와;
    c) 상기 동작 시그널이 계속하여 유지되면 상기 제 1 단계(S10)로 복귀하고, 만일 상기 동작 시그널이 오프되면 상기 동작 시그널의 정상적 인터페이싱을 중단하고 상기 마이컴의 폴트를 감지하며 에어밸브의 오픈(open) 상태를 유지하도록 프로세스 시그널을 생성하여 출력하는 절차와;
    d) 상기 폴트의 종류를 판단하여 디스플레이하는 절차를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체
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