KR100292024B1 - 신규한 포스파젠 유도체 및 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스용 안정화제로서의 이의 용도 - Google Patents
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Abstract
방향족 기 및 퍼플루오로폴리에테르 사슬에 의하여 완전히 치환된 신규한 포스파젠 유도체는 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스용 안정화제로서 이용된다. 이러한 유도체는 퍼플루오로폴리에테르 사슬이 산화대기중에 알루미늄, 티타늄, 바나듐 또는 이들 합금, 또는 강철과 같은 금속의 존재하에서 고온에 접할 때 이들 사슬에 영향을 주는 분해과정을 억제한다.
Description
본 발명은 신규한 포스파젠 유도체 및 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스용 안정화제로서 이의 용도에 관한 것이다.
극심한 온도와 부하조건하에도 고성능을 갖고 일반적으로 대기가스와 화학물질 뿐만아니라 고온에 대해서도 우수한 내성을 갖는 것을 특징으로 하는 퍼플루오로폴리에테르유체가 윤활유로서 사용되는 것은 알려져 있다. 퍼플루오로폴리에테르유체에 적당한 농후제의 첨가에 의하여 제조된 퍼플루오로폴리에테르-기재 그리스도 역시 알려져 있다(예를 들면 이탈리아공화국 특허 IT 963,579 또는 특허출원 EP 95,825 참조).
윤활제로서 퍼플루오로폴리에테르의 사용과 관련된 결점은 퍼플루오로폴리에테르 사슬이 산화대기중에 알루미늄, 티타늄, 바나듐 또는 이들 합금, 또는 강철과 같은 금속의 존재하에서 고온(일반적으로 200~300℃ 이상)에 접할 때 이들 사슬에 진행되는 분해과정에 기인한다. 이러한 과정은 상기 금속의 점진적인 부식외에도 윤활성의 감소원인이 된다.
상술한 결점을 제거하기 위하여, 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 또는 그리스에 소량의 안정화첨가제를 첨가하는 것도 알려져 있다. 예컨대, 미합중국 특허 제 4,454,349호에는 안정화제로서 하기 일반식:
의 아릴포스핀의 용도에 관하여 기술되어 있으며, 상기에서, RfROf는 퍼플루오로폴리에테르기이다. 이러한 물질은 공업적규모의 적용에는 완전히 부적합한 아주 복잡한 다단계공정을 통해서만 얻어질 수 있다. 실제로, 이러한 공정은, 다양한 단계중에서, SF4및 HF에 의한 기본물질의 플루오로화 과정을 포함하는데, 이러한 과정은 플랜트공학과 관련하여 상당한 문제점을 일으키는 반응이다(저반응속도, 고온 및 고압, 반응물의 위험성, 최종물질의 어려운 분리 등).
또한 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스용 안정화제로서 이용하기에 적합한 아릴포스핀 물질은 미합중국 특허 제 4,681,693호에 기술된 것중에 하나이다. 이러한 물질은 상기에서 인용한 미합중국 특허 제 4,454,349호에서 기술된 아릴포스핀의 하나와 유사한 구조를 갖지만, 퍼플루오로폴리에테르 사슬이 다양한 특성의 플루오로화가 안된 기에 의하여 방향족 고리와 연결되어 있다. 이러한 구조적 변형은 제조공정(특히, 상술한 SF4및 HF에 의한 플루오로화반응이 더 이상 필요하지 않다)을 단순화시키면서도, 안정화제로서 이러한 물질의 효율성을 감소시키지 않는다. 이와 같이 상당한 단순화에도 불구하고, 최종물질이 얻어지기전까지 여러번의 중간 단계가 요구된다는 사실을 고려할 때, 아릴올레핀의 공업적규모의 제조는 여전히 복잡하고 값비싼편이다.
포스파젠은 당해 분야에서 공지된 화합물이다. 이들은 환상 및 선형 구조 모두의 형성을 위한 기본단위인기의 존재에 의하여 특징지워진다.
예를 들면, 미합중국 특허 제 5,015,405호 및 제 5,099,055호에는 하기식:
(상기 식에서, n은 3 내지 7이고, 치환기 R은 3-퍼플루오로알킬페녹시기에 대한 페녹시기의 비가 1:5∼1:1 범위의 조건하에 플루오로화 페녹시기 또는 3-퍼플루오로알킬-페녹시기이다.)
의 환상 포스파젠 유도체에 관하여 기술되어 있다.
이러한 포스파젠 유도체는 고온용 윤활제로서, 또는 다른 윤활제용 첨가제로서 그 자체로 이용될 수 있다. 특히 통상적인 오일, 예컨대 폴리글리콜, 폴리페닐에테르 및 폴리올에스테르용 내마모성 첨가제로서 이들 물질의 이용가능성이 지적되어진다. 또한 문헌(B.S. Nader, K.K. Kar, T.A. Morgan, C.E. Powloski and W.L. Dilling, published in “Tribology Transactions”, 35, 37(1992))을 참조한다.
본 출원인은 최근에 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스용의 우수한 안정화 성질을 가지면서 비교적 경제적인 공정에 따라 제조될 수 있고 공업적 규모로도 용이하게 수행될 수 있는 새로운 부류의 포스파젠 유도체를 밝혀내었다.
따라서, 본 발명의 첫번째 대상은 하기 일반식(I)의 환상 또는 선형구조를 갖는 포스파젠 유도체이다.
상기 식에서, n은 환상구조의 경우에는 0이고, 선형구조의 경우에는 1이고; m은 3 내지 7의 정수이며; 기 A는 서로 같거나 다르며, 다음 (i) 및 (ii)에서 선택된다.
상기 ( i )는, R-Q-이며, 여기서 Q는 -O-, -S-, -NR1-(여기서, Rl은 수소 또는 Cl-C4알킬임), 및 -NH-NH-로부터 선택되는 2가 기이고; R은 Cl-C4알킬, -OR2, -NR3R4, -NO2, -F 및 -Cl(여기서, R2, R3및 R4는 수소 또는 Cl-C4알킬임)로부터 선택된 하나 이상, 바람직하게는 1 또는 2개의 기에 의하여 선택적으로 치환될 수 있는 C6-Cl2아릴기, 바람직하게는 페닐기이다.
상기 (ii)는 Rf-CH2O(CH2CH2O)S-이며, 상기에서, s는 0, 1 또는 2이고; Rf는 분자량이 400∼10,000, 바람직하게는 400~4,000 범위내이면서 다음의 단위:
(a)및 (CFXO) (여기서, X는 -F 또는 -CF3임);
(b) (CF2CF2O) 및 (CF2O);
(c), (CF2CF2O) 및 (CFXO) (여기서, X는 -F 또는 CF3임);
(d);
(e) (CYZ-CF2CF2O) (여기서 Y 및 Z는 서로 같거나 다르며 F, Cl 또는 H임); 및
(f) (CF2CF2O);
로부터 선택된 반복단위들로 구성되며, 상기 다양한 반복단위들은 사슬을 따라 통계적으로 분포되어 있다.
다만, 상기에서 하나 이상의 (i)형의 기와 하나 이상의 (ii)형의 기가 동일한 분자내에 존재하며; 기 R-Q-는, 동일한 P원자에 결합되는 경우에는, 다음 형태:
의 환상구조도 형성할 수 있어야 한다.
본 발명의 또 다른 대상은 다음:
(a) 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스; 및 (b) 0.05∼3중량%, 바람직하게는 0.5∼1중량%의 일반식 (I)의 포스파젠 유도체를 함유하는 윤활용 조성물에 있다.
본 발명의 대상물을 형성하는 포스파젠 유도체는 상술한 농도에서, 퍼플루오로폴리에테르 기재의 윤활제에 완전히 가용성이면서 용이하게 용해될 수 있고, 300℃이상의 고온에서도 우수한 열적 안정성을 보여주는 점성의 투명하고 무색의 유체형태이다.
일반식 (I)의 포스파젠 유도체중에서, 바람직한 것들은 Rf-CH2O(CH2CH2O)S-기와 R-Q-기간의 몰비가 약 0.2 내지 약 1.8, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 1인 환상구조(n=0)를 보여주는 것들이다. 이러한 구체적 부류 중에서도, m이 3 또는 4인 것들이 특히 바람직하다.
퍼플루오로폴리에테르 사슬 Rf는 특히 다음 부류로부터 선택될 수 있다:
(상기에서, T는 -CF3, -C2F5, -C3F7, -CF2Cl, -C2F4Cl, -C3F6Cl로부터 선택된 (퍼)플루오로알킬기이고; X는 -F 또는 -CF3이며; Z는 -F, -Cl 또는 -CF3이며; m 및 n은 n/m비가 0.01 내지 0.5 범위이면서 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);
(상기에서, TI은 -CF3, -C2F5, -CF2Cl, -C2F4Cl로부터 선택된 (퍼)플루오로알킬기이고; ZI은 -F 또는 -Cl이며; p 및 q는 q/p비가 0.5 내지 2 범위이면서 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);
(상기에서, TII는 -CF3, -C2F5, -C3F7, -CF2Cl, -C2F4Cl, -C3F6Cl로부터 선택된 (퍼)플루오로알킬기이고; XII는 -F 또는 -CF3이며; ZII는 -F, -Cl 또는 -CF3이며; r, s 및 t는 (r+s)가 1 내지 50 범위내이며 t/(r+s)가 0.01 내지 0.05범위내이고 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);
(상기에서, TIII은 -C2F5또는 -C3F7이고 u는 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);
(상기에서, Y 및 Z는 서로 같거나 다르며, F, Cl 또는 H이고; TIV는 -CF3, -C2F5또는 -C3F7이며; v는 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임); 및
(상기에서, Tv는 -CF3또는 -C2F5이고; w는 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임).
히드록시-말단 퍼플루오로폴리에테르 Rf-CH2O(CH2CH2O)sH는 당분야에서 공지인 물질이다. 이들 물질은 예를 들면 미합중국 특허 제 3,847,978호, 제 3,810,874호 및 제 4,814,372호에 기재된 방법에 따라 출발물질 퍼플루오로폴리에테르에 포함된 -COF 말단기를 환원시킴으로써 제조가능하다. -COF말단기를 갖는 출발물질 퍼플루오로폴리에테르는 예를 들면 특허 GB 1,104,482(부류(a)), US 3,715,378(부류(b)), US 3,242,218(부류(c)), US 3,242,218(부류(d)), EP 148,482(부류(e)), US 4,523,039(부류(f)) 또는 특허출원 EP 340,740에 기재되어 있다.
본 발명의 포스파젠 유도체는 식 [Cl4P]n-(N=PCl2-)m-(Cl)n의 퍼클로로포스파젠을 미리 염기로 처리된 물질 R-Q-H 및 Rf-CH2O(CH2CH2O)sH와 반응시켜 제조할 수 있다.
바람직한 태양에 의하면,식 R-Q-H의 방향족 화합물은 디에틸에테르 또는 글림과 같은 적절한 유기용매에 용해되고 예컨대 알칼리금속수소화물 (예를 들면 NaH 또는 KH), 알칼리금속(예를 들면 Na 또는 K), 알칼리금속 불소화물(예를 들면 KF 또는 CsF), 알칼리금속수산화물(예를 들면 NaOH 또는 KOH), 탄산염 또는 중탄산염, 또는 아민(예를 들면 3차 아민)과 같은 염기와 반응된다. 이렇게 수득된 생성물에 식[Cl4P]n-(N=PCl2-)m-(Cl)n의 퍼클로로포스파젠은 퍼클로로포스파젠에 대한 방향족 화합물의 몰비가 2:1~5:1, 바람직하게는 3:1~4:1의 범위인 양으로 첨가된다. 반응온도는 통상 실온 내지 사용된 용매의 비점의 범위이며 반응시간은 1~10시간으로 변할 수 있다. 이어서, 생성되는 생성물은 식 Rf-CH2O(CH2CH2O)sH의 히드록시-말단 퍼플루오로폴리에테르와 반응되어 방향족 화합물 R-Q-H에 대하여 상기한 염기 하나와의 반응에 의해 알코올레이트로 전환된다. 퍼클로로포스파젠에 대한 퍼플루오로폴리에테르계 화합물의 몰비는 통상 2:1~5:1, 바람직하게는 3:1~4:1의 범위이다. 반응조건은 R-Q-H 화합물과의 반응에 대하여 상기한 바와 동일하다.
공정단계 순서는 중요한 것이 아니므로 먼저 히드록시-말단 퍼플루오로폴리에테르를 퍼클로로포스파젠과 반응시킨 후 방향족 화합물 R-Q-H를 반응시킬 수도 있다.
대안으로서, 한 단계의 반응은 미리 염기로 처리된 생성물 R-Q-H 및 Rf-CH2O(CH2CH2O)sH 의 상호 혼합물을 퍼클로로포스파젠과 반응시킴으로써 수행할 수 있다.
오일 및 그리스 제형에 유용한, 중성말단기를 갖는 퍼플루오로폴리에테르는 상표명 Fomblin(R)(Ausimont), Krytox(R)(DuPont), Demnum(R)(Daikin) 등으로 시판되고 있다. 그 예로는 하기 부류의 퍼플루오로폴리에테르를 들 수 있다:
상기 식중, X는 -F 또는 -CF3이고; A 및 A′ 은 서로 동일하거나 상이하며 -CF3, -C2F5또는 -C3F7이고; m 및 n는 물질의 점도가 10~4000 cSt의 범위로 되게 하는 수이다(각종 단위는 사슬을 따라 통계적으로 분포된다). 이들 물질은 GB특허 1,104,432에 기재된 방법에 따라 헥사플루오로프로펜의 광산화반응 후 GB특허 1,226,566에 기재된 방법에 따라 말단기의 중성기로의 전환반응에 의해 수득될 수 있다.
상기 식중, B는 -C2F5또는 -C3F7이고; m은 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수이다. 이들 물질은 US특허 3,242,218에 기재된 방법에 따라 헥사플루오로프로펜 에폭시드의 이온 올리고머화 및 후속 불소처리에 의해 제조될 수 있다.
상기 식중, m은 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수이다. 이들 물질은 US특허 3,214,478에 기재된 방법에 따라 헥사플루오로프로펜 에폭시드의 이온 텔로머화 및 후속 광화학 이량중합에 의해 수득된다.
상기 식중, X는 -F 또는 -CF3이고; A 및 A′ 은 서로 동일하거나 상이하며 -CF3, -C2F5또는 -C3F7이고; m,n 및 q는 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수이다. 이들 물질은 US특허 3,665,041에 기재된 방법에 따라 C3F6및 C2F4의 혼합물의 광산화 및 후속불소처리에 의해 수득될 수 있다.
상기 식중, A 및 A′ 은 서로 동일하거나 상이하며 -CF3, -C2F5이고; p 및 q는 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수이다. 이들 물질은 US특허 3,715,378에 따라 C2F4의 광화학산화 후 US특허 3,665,041에 따라 불소처리 함으로써 제조될 수 있다.
상기 식중, A 및 A′ 은 서로 동일하거나 상이하며 -CF3, -C2F5또는 -C3F7이고; m는 물질의 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수이다. 이들 물질은 특허출원 EP 148,482에 기재된 방법에 따라 수득된다.
상기 식중, A 및 A′ 은 서로 동일하거나 상이하며 -CF3, 또는 -C2F5이고; r은 물질의 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수이다. 이들 물질은 US특허 4,523,039에 기재된 방법에 따라 수득된다.
상기 식중, R′f는 퍼플루오로알킬이고; n는 8 이상의 수이며; Rf는 -F 또는 퍼플루오로알킬이다. 이들 물질은 특허출원 WO-87/00538에 기재되어 있다.
퍼플루오로폴리에테르 기재 그리스는 통상적으로 농후제로 작용하는 폴리테트라플루오로에틸렌 15~40중량% 및 액체 퍼플루오로폴리에테르 60~85중량%, 및 소량의 기타 생성물, 예컨대, 퍼플루오로알킬 계면활성제 또는 폴리옥시퍼플루오로알킬 계면활성제, 또는 당분야에 공지인 기타 첨가제, 예컨대 안정제, 방식제, 내마모제 등으로 이루어진다. 이런 유형의 첨가제는 통상 퍼플루오로폴리에테르 기재 오일에도 함유된다.
본 발명의 포스파젠 유도체는 안정화 효과를 나타내는 외에도 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스에 내마모제로도 효과적이다.
본 발명은 이하 실시예에서 보다 상세히 기술되며, 이들 실시예는 본 발명을 단지 설명하려는 것으로서 그 범주를 한정하는 것은 아니다.
[실시예 1]
1l 용량의 3목 플라스크에 응축기, 적하 깔때기, 질소 입출구 장치 및 자기교반기를 장치한다. 모든 반응단계를 불활성 질소 대기하에 수행한다.
무수 디에틸에테르(25m1)중의 페놀(2.7g, 28.7 밀리몰)용액을 무수 디에틸에테르(50m1)중의 NaH(0.6g, 25.8 밀리몰) 현탁액에 가한다. 1시간 환류하에 가열된 생성혼합물에 무수 디에틸에테르(30m1)중의 헥사클로로시클로포스파젠(NPC12)3(2.8g, 8 밀리몰)용액을 한번에 1회 가한다. 이어서, 전체를 1시간 환류하에 가열한다.
무수 디에틸에테르(30m1)중의 식 RfCH2OH(식중, Rf는 식(II)에 상응)를 가지며 당량이 900이고 단위 Cl에 대한 단위 C3의 비가 36.8인 히드록시-말단 Fomblin(R)Y(26.5g, 29.4 밀리몰)의 용액을 무수 디에틸에테르(50m1)중의 NaH(0.6g, 25.8 밀리물)의 현탁액에 적가한다. 생성혼합물을 1시간 환류하에 가열한다. 이어서, 상기 반응에서 수득된 용액을 특정분량으로 가한다. 환류하에 2시간 가열후 반응혼합물을 탈염수 200m1로 처리하고 All3(CC12FCClF2)로 추출한다. 감압하에 용매를 증발제거한 후 점액을 수득하여 미반응 히드록시-말단 Fomblin(R)Y를 증류제거함으로써 정제한다.(120℃, 10-3밀리바).
이렇게 정제된 액체생성물을 감압하에 중류한다. 하기 2분획을 수득한다: 제 1분획(6.4g; 10-3밀리바하에 비점 170~180℃)은 식 [(N=P)(-R-Q)(-OCH2Rf)]3에 상응하는 평균 몰 조성을 갖는다(생성물 la); 제 2분획(8.7g; 10-3밀리바하에 비점 180~200℃)은 식 [(N=P)(-R-Q)0.83(-OCH2Rf)1.16]3에 상응하는 평균 몰 조성을 갖는다(생성물 1b).
이렇게 수득된 생성물의 원소분석 결과는 염소의 부재를 나타내며 이것은 치환반응이 완료되었음을 확증한다. 평균조성은1H NMR 분석으로 결정되었다.
[실시예 2]
실시예 1에 기재된 바와 같은 조작조건하에, 무수 디에틸에테르(25m1)중의 3-니트로페놀(3.96g, 28.5 밀리몰)용액을 무수 디에틸에테르(50m1)중의 NaH(0.6g, 25.8 밀리몰) 현탁액에 적가한다. 생성혼합물을 1시간 환류하에 가열한다. 이어서, 무수 디에틸에테르(30m1)중의 (NPC12)3(2.8g, 8 밀리몰) 용액을 특정분량으로 가하고 전체를 12시간 환류하에 가열한다.
무수 디에틸에테르(30m1)중의 실시예 1에서 사용된 것과 동일한 히드록시-말단 Fomblin(R)Y(26.3g, 28.9 밀리몰) 용액을 무수 디에틸에테르 (50m1)중의 NaH(0.6g, 25.8 밀리몰) 현탁액에 적가한다. 생성혼합물을 1시간 환류하에 가열한다. 이어서, 상기 반응에서 수득된 용액을 특정분량으로 가한다. 환류하에 2시간 가열후 탈염수 200m1을 가한다. 그 다음, All3(CC12FCClF2)로 추출한다. 감압하에 용매를 증발제거한 후, 점액을 수득하여 미반응 히드록시-말단 Fomblin(R)Y를 증류제거하고(120℃, 10-3밀리바) 생성물을 실리카 겔 컬럼(용리액: All3)을 통과시킴으로써 정제한다. 수득물은 점성의 투명무색액 15g(전환율: 52%)이었으며, 이것을 원소분석,1H-NMR 분석 및31P-NMR 분석을 통해 동정한 결과 평균 식 [(N=P)(-R-Q)(-OCH2Rf)]3에 상응하는 치환물의 혼합물(생성물 2)이었다.
[실시예 3]
실시예 1에 기재된 바와같은 조작조건하에, 무수 디에틸에테르(25m1)중의 4-메톡시페놀(3.4g, 28 밀리몰) 용액을 무수 디에틸에테르(50m1)중의 NaH(0.6g, 25.8 밀리몰) 현탁액에 적가한다. 생성혼합물을 1시간 환류하에 가열한다. 이어서, 무수 디에틸에테르중의 [NPC12]3(3.Og, 8.6 밀리몰) 용액을 특정분량으로 가하고 전체를 12시간 환류하에 가열한다.
무수 디에틸에테르(25m1)중의 실시예 1에서 사용된 것과 동일한 히드록시-말단 Fomblin(R)Y(27.Og, 29.8 밀리몰) 용액을 무수 디에틸에테르 (50m1)중의 NaH(0.6g, 25.8 밀리몰) 현탁액에 적가한다. 생성혼합물을 1시간 환류하에 가열한다. 이어서, 상기 반응에서 수득된 용액을 특정분량으로 가한다. 환류하에 2시간 가열후 탈염수 200m1을 가한다. 이어서, All3(CC12FCClF2)로 추출한다. 미반응 히드록시-말단 Fomblin(R)Y를 유거 하고(120℃, 10-3밀리바) 생성물을 용리액으로 All3을 사용하여 실리카 겔 컬럼을 통과시킴으로써 정제한다. 수득물은 점성의 투명무색액 13g(전환율: 52%)이었으며, 이것을 원소분석,1H-NMR 분석 및31P-NMR 분석을 통해 동정한 결과 평균 식 [(N=P)(-R-Q-)(-OCH2Rf)]3에 상응하는 치환물의 혼합물 (생성물 3)이었다.
[실시예 4]
상기한 실시예에서 제조된 포스파젠 유도체들을 함유하는 윤활용 조성물의, 금속존재하에, 열-산화에 대한 안정성을 조사하기 위하여 일련의 시험을 수행한다.
가스입구파이프, 배출구파이프 및 Ti, V(4%), Al(6%)의 합금제 소형 디스크 하우징이 장치된 유리시험관으로 구성된 장치에 동점도가 20℃에서 25cSt이며 식 CF3O-(C2F4O)9(CF2O)q-CF3에 상응하는 Fomblin(R)Z 25 50g을 도입하고 표 1에 나타낸 양의 포스파젠 유도체를 첨가한다. 시험관을 알루미늄 로에서 316℃로 승온시킨다. 탈습 및 정제후 공기를 퍼플루오로폴리에테르성 유체에 유속 l1/시간으로 72시간 버블링시킨다.
비교용으로, 안정제 미함유 퍼플루오로폴리에테르에 대해서도 시험한다. 수득된 데이타는 표 1에 나타낸다. 안정제 효과는 시험결과 윤활제의 중량변화율(ΔPL)및 점도변화율(ΔnL)및 금속합금시료의 단위 표면적당 중량변화율(ΔpM)을 측정함으로써 평가되었다.
[표 1]
Claims (14)
- 하기 일반식(I)을 가지는 환상 또는 선형구조의 포스파젠 유도체로서 상기 일반식(I)는 다음:을 가지며, 상기에서, n은 환상구조의 경우에는 0이고, 선형구조의 경우에는 1이고; m은 3 내지 7의 정수이며; 기 A는 서로 같거나 다르며, 다음의 (i) 및 (ii)에서 선택되며, 상기 (i)는 R-Q- 이며, 상기에서 Q는 다음: -O-, -S-, -NR1-(여기서, Rl은 수소 또는 C1-C4알킬이며) 및 NH-NH-로부터 선택되는 2가 기이고; R은 Cl-C4알킬, -OR2, -NR3R4, -NO2, -F 및 -Cl(여기서, R2, R3및 R4는 수소 또는 Cl-C4알킬이며)로부터 선택된 하나 이상의 기에 의하여 선택적으로 치환될 수 있는 C6-Cl2아릴기이며; 상기 (ii)는 Rf-CH2O(CH2CH2O)s-이며, 상기에서 s는 0, 1 또는 2이고; Rf는 분자량이 400~10,000 범위내이면서 다음의 단위: (a)및 (CFXO) (여기서, X는 -F 또는 -CF3이며); (b) (CF2CF2O) 및 (CF2O); (c), (CF2CF2O) 및 (CFXO) (여기서, X는 -F 또는 CF3이며); (d); (e) (CYZ-CF2CF2O) (여기서 Y 및 Z는 서로 같거나 다르며 F, Cl 또는 H임); 및 (f) (CF2CF2O) 로부터 선택된 반복단위 다양한 반복단위들은 사슬을 따라 통계적으로 분포되어 있음) 로 구성되어 있는 퍼플루오로폴리에테르 사슬이며, 다만, 하나 이상의 (i)형의 기와 하나 이상의 (ii)형의 기가 동일한 분자내에 존재하며; 기 R-Q-는 동일한 P원자에 결합되는 경우에는, 다음 형태:의 환상구조도 형성할 수 있는 포스파젠 유도체.
- 제1항에 있어서, 상기에서 n이 0이고, 기 R-Q-에 대한 기 Rf-CH2O(CH2CH2O)s의 몰비가 약 0.2 내지 약 1.8의 범위내인 포스파젠 유도체.
- 제2항에 있어서, 기 R-Q에 대한 기 Rf-CH2O(CH2CH2O)s-의 몰비가 약 0.5 내지 약 1인 포스파젠 유도체.
- 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, m이 3 또는 4인 포스파젠 유도체.
- 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 퍼플루오로폴리에테르 사슬 Rf의 분자량이 400 내지 4,000 범위인 포스파젠 유도체.
- 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 퍼플루오로폴리에테르 사슬 Rf가 다음 부류:(상기에서, T는 -CF3, -C2F5, -C3F7, -CF2Cl, -C2F4Cl, -C3F6Cl로부터 선택된 (퍼)플루오로알킬기이고; X는 -F 또는 -CF3이며; Z는 -F, -Cl 또는 -CF3이며; m 및 n은 n/m비가 0.01 내지 0.5 범위이면서 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);(상기에서, TI은 -CF3, -C2F5, -CF2Cl, -C2F4Cl로부터 선택된 (퍼)플루오로알킬기이고; ZI은 -F 또는 -Cl이며; p 및 q는 q/p비가 0.5 내지 2 범위이면서 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);(상기에서, TII는 -CF3, -C2F5, -C3F7, -CF2Cl, -C2F4Cl, -C3F6Cl로부터 선택된 (퍼)플루오로알킬기이고; XII는 -F 또는 -CF3이며; ZII는 -F, -Cl 또는 -CF3이며; r, s 및 t는 (r+s)가 1 내지 50 범위내이며 t/(r+s)가 0.01 내지 0.05범위내이고 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);(상기에서, TIII은 -C2F5또는 -C3F7이고; u는 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임);(상기에서, Y 및 Z는 서로 같거나 다르며, F, Cl 또는 H이고; TIV는 -CF3, -C2F5또는 -C3F7이며; v는 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임); 및(상기에서, Tv는 -CF3또는 -C2F5이고; w는 분자량이 상술한 범위내에 있도록 하는 수임) 중에서 선택되는 포스파젠 유도체.
- 일반식 [Cl4P]n-(N=PCl2-)m-(Cl)n(여기서, n 및 m은 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에서 정의된 것과 같음)의 퍼클로로포스파젠을, 미리 염기로 처리된 일반식 R-Q-H의 방향족 화합물 및 일반식 Rf-CH2O(CH2CH2O)s-OH(여기서, R,Q 및 Rf는 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에서 정의된 것과 같음)의 퍼플루오로폴리에테르 화합물과 반응시킨, 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 따른 포스파젠 유도체의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 염기가 알칼리금속수소화합물인 제조방법.
- 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기에서 퍼클로로포스파젠을 먼저, 염기로 미리 처리된 방향족 화합물 R-Q-H와, 퍼클로로포스파젠에 대한 방향족 화합물의 몰비가 2:1 내지 5:1의 범위인 양으로 반응시킨 다음, 염기로 미리 처리된 퍼플루오로폴리에테르 화합물 Rf-CH2O(CH2CH2O)s-OH와, 퍼클로로포스파젠에 대한 퍼플루오로폴리에테르 화합물의 몰비가 2:1 내지 5:1의 범위인 양으로 반응시키는 제조방법.
- (a) 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 또는 그리스; 및 (b) 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 다른 일반식(I)의 포스파젠 유도체 0.05 내지 3중량%를 포함하는 윤활용 조성물.
- 제10항에 있어서, 포스파젠 유도체가 0.5 내지 1중량% 범위내의 양으로 포함되는 윤활용 조성물.
- 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기에서 성분 (a)의 퍼플루오로폴리에테르가 다음 부류:(상기에서, X는 -F 또는 -CF3이고; A 및 A′ 는 서로 같거나 다르며 -CF3, -C2F5또는 -C3F7이며; m 및 n는 물질의 점도가 10 내지 4000 cSt의 범위내에 오도록 하는 수이며, 이러한 다양한 단위들은 사슬상에 통계적으로 분포되어짐);(상기에서, B는 -C2F5또는 -C3F7이고, m은 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수임);(상기에서, m은 점도가 상기한 범위내에 있도록 하는 수임);(상기에서, X는 -F 또는 -CF3이고; A 및 A′ 은 서로 같거나 다르며 -CF3, -C2F5또는 -C3F7이며; m, n 및 q는 점도가 상술한 범위내에 오도록 하는 수임);(상기에서, A 및 A′ 는 서로 같거나 다르며, -CF3, 또는 -C2F5이고; p 및 q는 점도가 상술한 범위내에 오도록 하는 수임);(상기에서, A 및 A′ 는 서로 같거나 다르며, -CF3, -C2F5또는 -C3F7이고; m은 물질의 점도가 상술한 범위내에 오도록 하는 수임);(상기에서, A 및 A′ 는 서로 같거나 다르며, -CF3또는 -C2F5이고; r은 물질의 점도가 상기한 범위내에 오도록 하는 수임); 및(상기에서, R′f는 퍼플루오로알킬이고, n는 8 이상의 수이며, Rf는 -F 또는 퍼플루오로알킬 임) 중에서 선택된 윤활용 조성물.
- 제1항의 포스파젠 유도체를 오일 및 그리스에 첨가하는 것을 포함하는 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스의 안정화 방법.
- 제1항의 포스파젠 유도체를 오일 및 그리스에 첨가하는 것을 포함하는 퍼플루오로폴리에테르 기재의 오일 및 그리스의 내마모 방법.
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