KR100288837B1

KR100288837B1 - Pattern form method of Flat display Panel

Info

Publication number: KR100288837B1
Application number: KR1019980025047A
Authority: KR
Inventors: 배형균; 정재헌
Original assignee: 구자홍; 엘지전자주식회사
Priority date: 1998-06-29
Filing date: 1998-06-29
Publication date: 2001-06-01
Also published as: KR20000003771A

Abstract

본 발명은 평판 디스플레이 패널의 패턴형성방법에 관한 것으로, 특히 평판 디스플레이 패널의 대형화 추구에 있어서 대형패널의 기판상에 각종 패턴형성을 별도의 설비투자 없이 저비용으로 용이하게 형성할 수 있는 방법을 제공하는데 목적이 있다.The present invention relates to a pattern forming method of a flat panel display panel, and in particular, in the pursuit of enlargement of a flat panel display panel, to provide a method that can easily form various patterns on a substrate of a large panel at low cost without additional equipment investment. There is a purpose.

이를 실현하기 위하여 본 발명은 패턴을 형성할 기판상에 상기 기판보다 크기가 작은 일정패턴의 포토마스크를 이용하여 기판의 일부분에 패턴 노광하는 제1단계와, 상기 기판을 180도 회전시켜 나머지 부분에 상기 포토마스크를 이용하여 패턴 노광하는 제2단계로 이루어지는 분할 패턴형성방식을 이용하게 된다.In order to achieve this, the present invention provides a first step of exposing a pattern to a portion of a substrate using a photomask having a predetermined size smaller than that of the substrate on a substrate on which a pattern is to be formed, and rotating the substrate by 180 degrees. The division pattern forming method including the second step of pattern exposing the photomask is used.

Description

Pattern form method of flat display panel

본 발명은 평판 디스플레이 패널을 제작하는 방법에 관한 것으로서, 특히 대형패널의 글래스기판 상에 전극 등의 패턴을 형성하기 위한 패턴형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a flat panel display panel, and more particularly, to a pattern forming method for forming a pattern such as an electrode on a glass substrate of a large panel.

일반적으로 근래의 새로운 표시소자로서 각종 평판소자가 대두되고 있다.In general, various flat panel devices have emerged as new display devices in recent years.

상기 평판소자는 가볍고 얇아서 전체적으로 차지하는 면적이 적기 때문이며, 현재 주로 휴대용 및 차량, 기기들의 탑재용으로 이용되고 있다.This is because the flat panel device is light and thin, so that the overall area of the flat panel is small, and is currently mainly used for mounting of portable devices, vehicles, and devices.

특히 최근에는 벽걸이용 텔레비젼으로 이용하고자 많은 연구활동이 벌어지고 있으며, 그중 평판소자로서 부각되는 것이 플라즈마 디스플레이 패널(Plasm Display Panel)이다.In particular, in recent years, a lot of research activities have been conducted for use as a wall-mounted TV, and among them, a plasma display panel is emerging as a flat panel device.

상기 플라즈마 디스플레이 패널의 기본 단위는 도 1에서 보는 바와 같이 유지전극(3)이 형성된 전면기판(1)과, 어드레스전극(4)이 형성되는 배면기판(2)으로 이루어지며, 2매의 절연기판 사이로 전기적 또는 광학적 크로스토크와 전/배면기판 간의 간격유지를 목적으로 격벽(5)이 형성되고, 상기 격벽 사이에는 형광체(6)가 형성되게 된다.As shown in FIG. 1, the basic unit of the plasma display panel includes a front substrate 1 having a sustain electrode 3 and a back substrate 2 having an address electrode 4 formed thereon, and two insulating substrates. The partition wall 5 is formed for the purpose of maintaining the gap between the electrical or optical crosstalk and the front / back substrate, and the phosphor 6 is formed between the partition walls.

그리고 상기 패널의 내부는 10^-6∼10^-8Torr정도의 진공상태로 만든후 400∼500 Torr 정도의 압력으로 불활성 혼합가스를 채워 봉입한다.The inside of the panel is made into a vacuum state of about 10 ^-6 to 10 ^-8 Torr, and then filled with an inert mixed gas at a pressure of about 400 to 500 Torr.

이와같은 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널은 상하 기판에 형성된 전극(3,4)의 교차부가 1개의 화소에 대응하고 있으며, 상기 양전극간에 100볼트 이상의 전압을 인가하고 가스를 방전 시키면 내부의 불활성 가스가 방전되면서 자외선이 발생하고 발생된 자외선은 다시 방전공간의 형광체(6)와 충돌하여 가시광선이 출사되면서 그 때의 발광을 이용하여 외부로의 색상표시가 이루어지게 된다.In the plasma display panel having such a structure, the intersections of the electrodes 3 and 4 formed on the upper and lower substrates correspond to one pixel, and when the voltage is discharged by applying a voltage of 100 volts or more between the two electrodes, the inert gas is discharged. As the ultraviolet rays are generated and the generated ultraviolet rays collide with the phosphor 6 in the discharge space again, the visible light is emitted and color is displayed to the outside using the light emitted at that time.

이러한 플라즈마 디스플레이 패널(이하 ″PDP″라 약칭함)의 제작에 있어서 패널상에 격벽, 블랙메트릭스, 전극 등의 패턴을 형성하기 위해서는 포토마스크를 사용하게 되는데 종래 기술에 의한 패턴 형성공정중 격벽의 패턴형성을 실시예로 나타낸 도 2를 참조하여 이하에서 살펴본다.In the fabrication of such plasma display panels (hereinafter referred to as "PDP"), photomasks are used to form patterns of barrier ribs, black metrics, electrodes, etc. on the panel. The formation will be described below with reference to FIG.

먼저, 패널전면에 격벽재를 일정높이로 형성한 후 포토레지스트(7)를 그위에 도포한 후, 빛을 일정패턴으로 차폐하는 포토마스크(8)를 마스크홀더(미도시)로 고정시켜 노광을 수행하고 포토레지스트(7)를 패턴 형성시킨다. 그후 에칭공정을 수행하여 포토레지스트(7) 패턴을 따라 격벽패턴을 형성하고, 박리공정을 통해 남아있던 포토레지스트를 제거시킴으로 기판면에 격벽패턴이 완성되는 것이다.First, the barrier ribs are formed on the front surface of the panel at a predetermined height, and then the photoresist 7 is applied thereon. Then, the photomask 8 which shields the light in a predetermined pattern is fixed with a mask holder (not shown) for exposure. And patterning the photoresist 7. After that, the barrier rib pattern is formed along the photoresist 7 pattern by etching, and the barrier rib pattern is completed on the substrate surface by removing the remaining photoresist through the stripping process.

또한, 블랙메트릭스나 전극 등의 패턴 역시 상기와 같은 공정에 따라 형성시키게 되는 것이다.In addition, a pattern such as a black matrix or an electrode is also formed by the above process.

그리고, 최근에는 60인치 이상의 대화면 디스플레이가 경쟁적으로 개발되고 있으며, 대화면 디스플레이에 사용되는 대형 패널에 전극 등의 각종 패턴을 제작하기 위해서는 거기에 상응하는 대형사이즈의 패턴형성용 포토마스크 원판이 필요하게 된다.In addition, in recent years, large screens of 60 inches or larger have been competitively developed, and in order to produce various patterns such as electrodes on large panels used for large screen displays, corresponding large size pattern photomask originals are required. .

그러나, 대형사이즈의 포토마스크를 개발하기 위한 별도의 생산설비를 갖추게 되면 제품의 생산원가를 상승시키게 되는 문제점이 있었다.However, if a separate production facility for developing a large size photomask is provided, there is a problem in that the production cost of the product is increased.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로 패턴을 형성할 글래스 기판 보다 작은 크기의 포토마스크로 글래스 기판 상에 2회에 걸쳐 패턴을 형성하는 분할패턴형성방식을 제공함으로서, 저비용으로 대화면 디스플레이의 대형 패널에 패턴을 제작할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.The present invention has been invented to solve the problems of the prior art as described above by providing a split pattern forming method of forming a pattern on a glass substrate twice with a photomask having a smaller size than the glass substrate to form a pattern. The aim is to enable the production of patterns on large panels of large-screen displays at low cost.

도 1 은 플라즈마 디스플레이 패널의 상,하기판 분리 사시도.1 is an exploded perspective view of an upper and a lower substrate of a plasma display panel.

도 2 은 일반적인 패턴형성 공정도.2 is a general pattern forming process.

도 3 은 본 발명의 패턴형성을 구현하기 위한 구성도.Figure 3 is a block diagram for implementing the pattern formation of the present invention.

도 4 는 본 발명의 분할패턴형성방식에 의한 패턴형성 공정도.4 is a pattern formation process diagram according to the division pattern formation method of the present invention.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***

1 : 전면기판 2 : 배면기판1: Front board 2: Back board

3 : 유지전극 4 : 어드레스전극3: sustain electrode 4: address electrode

5 : 격벽 6 : 형광체5: bulkhead 6: phosphor

7 : 포토레지스트 8 : 포토마스크7: photoresist 8: photomask

10 : 포토마스크 11 : 마스크홀더10: photo mask 11: mask holder

11': 비투과부 12 : 글래스패널(대형사이즈)11 ': non-transmissive part 12: glass panel (large size)

이하, 본 발명을 첨부도면을 참조하여 이하에서 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 도 3 에 도시된 바와 같이, 패턴을 형성하기 위한 글라스 기판의 크기에 거의 유사한 크기의 마스크홀더(11) 및 이 마스크 홀더(11)의 크기의 대략 1/2 정도 크기의 포토마스크(10)를 이용한다. 이때, 마스크홀더(11)의 절반은 상기 포토마스크(10)를 장착하고, 나머지 절반은 비투과부(11')가 구비되어 1회 노광 시 글라스 기판의 절반만 노광된다.As shown in FIG. 3, the present invention provides a mask holder 11 having a size substantially similar to that of a glass substrate for forming a pattern, and a photomask having a size of about 1/2 of the size of the mask holder 11. 10) is used. In this case, half of the mask holder 11 mounts the photomask 10, and the other half is provided with a non-transmissive portion 11 ′ so that only half of the glass substrate is exposed in one exposure.

상기 구성을 이용해 직접 패널에 패턴을 형성할 수가 있는데 도 4를 통해 설명되는 하기 실시예를 통해 본 발명의 패턴 형성방법을 살펴보기로 한다.The pattern can be directly formed on the panel using the above configuration, but the pattern forming method of the present invention will be described with reference to the following embodiment described with reference to FIG. 4.

먼저, 패턴을 형성할 글라스 기판 상에 벌크층을 도포 및 건조한 후, 그 위에 포토레지스트막을 도포한다. 다음에, 일정 패턴이 형성된 일정크기의 포토마스크(10)를 마스크홀더(11)에 장착하고 패턴을 형성할 글라스 패널(12)위에 고정시킨 후 노광시킨다. 상술한 패턴 노광 후 비노광부를 현상하고 에칭공정을 거쳐 패널(12)의 일부분에 도 4 의 (가)와 같이 패턴을 형성시킨다. 이때, 마스크홀더(11)의 비투과부(11')에 의해 가려진 패널(12)의 나머지 부위는 빛에 의해 노광되지 않으므로 패턴이 형성되지 않게 된다.First, a bulk layer is applied and dried on a glass substrate to form a pattern, and then a photoresist film is applied thereon. Next, a predetermined size photomask 10 having a predetermined pattern is mounted on the mask holder 11 and fixed on the glass panel 12 to form the pattern and then exposed. After exposing the pattern described above, the non-exposed part is developed, and a pattern is formed on a portion of the panel 12 through an etching process as shown in FIG. At this time, since the remaining portion of the panel 12 covered by the non-transmissive portion 11 ′ of the mask holder 11 is not exposed by light, a pattern is not formed.

상기 일부분에 패턴형성이 완성된 후에는 도 4 의 (나)와 같이 상기 패널(12)을 180도 회전시켜 포토마스크(10)가 패널(12)의 비노광부와 일치되도록 고정 시킨다. 그리고 상기와 같은 방법으로 다시 노광, 현상 및 에칭공정을 거쳐 패널(12)의 나머지 부분에 패턴을 형성시키면 필요로 하는 전체 패턴이 형성된 패널(12)이 완성되게 된다.After the pattern formation is completed in the portion, as shown in (b) of FIG. 4, the panel 12 is rotated by 180 degrees to fix the photomask 10 to coincide with the non-exposed part of the panel 12. When the pattern is formed on the remaining part of the panel 12 through the exposure, development, and etching processes in the same manner as described above, the panel 12 having the entire pattern required is completed.

그리고 제 2 실시예로 투명전극이나 버스전극등과 같이 포토레지스트가 필요한 패턴형성방법을 살펴보면 다음과 같다.In the second embodiment, a pattern formation method which requires a photoresist such as a transparent electrode or a bus electrode is as follows.

일정 패턴이 형성된 포토마스크(10)를 마스크홀더(11)에 장착하고 포토레지스트가 전면에 도포된 패널(12)위에 고정시킨 후, 노광, 현상 및 에칭공정을 거쳐 패널(12)의 절반 부위에 도 4 의 (가)와 같이 패턴을 형성시킨다. 이때, 마스크홀더(11)의 비투과부(11')에 의해 가려진 패널(12)의 나머지 부위는 빛에 의해 노광되지 않으므로 패턴이 형성되지 않게된다.The photomask 10 having a predetermined pattern is mounted on the mask holder 11, and the photomask 10 is fixed on the panel 12 having the photoresist applied to the entire surface. The photomask 10 is then exposed, developed, and etched to the half of the panel 12. A pattern is formed as shown in FIG. At this time, since the remaining portion of the panel 12 covered by the non-transmissive portion 11 ′ of the mask holder 11 is not exposed by light, a pattern is not formed.

상기 절반 부위에 패턴형성이 완성된 후에는 패널(12) 전면에 다시 포토레지스트를 도포한 후 도 4 의 (나)와 같이 상기 패널(12)을 180도 회전시켜 포토마스크(10)가 패널(12)의 비노광부와 일치되도록 고정시킨다. 그리고 미찬가지로 다시 노광, 현상 및 에칭공정을 거쳐 패널(12)의 나머지 부분에 패턴을 형성시키면 필요로 하는 전체 패턴이 형성된 패널(12)이 완성되게 된다.After the pattern formation is completed on the half area, the photoresist is applied to the entire surface of the panel 12 again, and then the panel 12 is rotated 180 degrees as shown in FIG. It is fixed to coincide with the non-exposed part of 12). In addition, if the pattern is formed on the remaining part of the panel 12 again through exposure, development, and etching processes, the panel 12 having the entire pattern required is completed.

상기한 방법 이외에 포토마스크를 이용해 다른 대형 포토마스크를 제작할 경우에는 마스크 전면에 크롬(Cr)을 증착하고, 그 위에 포토레지스트를 코팅한 후 상기와 같은 공정을 거쳐 완성함으로, 완성된 대형 포토마스크를 이용해 대형 패널의 패턴을 형성할 수 있는 것이다.In addition to the method described above, in the case of fabricating another large photomask using a photomask, chromium (Cr) is deposited on the entire surface of the mask, the photoresist is coated thereon, and then the above-described process is completed. It can be used to form patterns of large panels.

전술한 바와 같이 본 발명의 기술적 요지는 포토마스크를 이용하여 분할 패턴형성방식으로 대형 포토마스크를 제작하거나 패널 글래스 상에 직접 패턴을 형성하는 것으로서, 상기 실시예로 제시한 격벽패턴 뿐만 아니라 분할 패턴형성방식을 이용하여 블랙메트릭스, 전극 등의 패턴을 형성하는 기타 모든 실시예가 기술적 범주에 포함된다.As described above, the technical gist of the present invention is to manufacture a large size photomask or form a pattern directly on a panel glass by using a split pattern forming method using a photomask. All other embodiments for forming patterns of black metrics, electrodes, etc. using the method are included in the technical scope.

이상 설명한 바와같이 본 발명은 글래스 기판상에 저비용으로 용이하게 패턴을 형성할 수 있고, 또한 동일한 방법으로 대형 포토마스크도 제작할 수 있어 대형설비를 위한 별도의 투자없이 저비용으로 대형 평판 디스플레이 패널을 제작할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention can easily form a pattern on a glass substrate at a low cost, and can also produce a large photomask in the same manner, so that a large flat panel display panel can be manufactured at low cost without additional investment for large facilities. It has an effect.

Claims

In the method of manufacturing a flat panel display panel comprising the step of pattern exposure using a photomask having a predetermined pattern on a substrate to form a pattern,

The pattern exposure step,

A first step of partially pattern exposing the substrate using the photomask smaller than the size of the substrate;

And performing a pattern exposure of the remaining portions of the substrate other than the pattern exposure portion by using the photomask.

The method of claim 1,

The pattern forming method of the flat panel display panel, characterized in that to expose the pattern by half in each of the first step and the second step.

The method of claim 1,

The pattern forming method of the flat panel display panel, characterized in that to expose the remaining pattern of the second step by rotating the substrate 180 degrees after the pattern exposure in the first step.

The method of claim 1,

And at least partially overlapping the exposure pattern formed in the first step and the exposure pattern formed in the second step.

The method of claim 1,

And developing or etching the pattern-exposed substrate after the first or second steps.

The method of claim 1,

Before the step 1 or step 2, further comprising the step of applying a photoresist on the substrate to be exposed to the pattern.