JP2001143616A - Method for manufacturing black stripes for plasma display panel - Google Patents
Method for manufacturing black stripes for plasma display panelInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用ブラックストライプの製造方法に係わり、
特に、ブラックストライプの位置を高精度に形成するこ
とを可能にしたプラズマディスプレイパネル用ブラック
ストライプの製造方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel,
In particular, the present invention relates to a method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel, which enables the position of the black stripe to be formed with high precision.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、プラズマディスプレイパネル
では、外光のパネル表面での反射率を低下させること
で、コントラストを改善するために、ブラックストライ
プを設けている。2. Description of the Related Art Conventionally, a plasma display panel has been provided with black stripes in order to improve the contrast by reducing the reflectance of external light on the panel surface.
【０００３】この目的のために、図５に示したように、
透明電極３１が形成された基板３２上にブラックストラ
イプをスクリーン印刷法によるパターン印刷で形成する
方法や、図６に示したように、透明電極３１が形成され
た基板３２上に、黒色感光性材料層３４を形成し、フォ
トリソグラフィを用いてブラックストライプ３６を形成
する方法が用いられている。For this purpose, as shown in FIG.
A method of forming a black stripe on the substrate 32 on which the transparent electrode 31 is formed by pattern printing by a screen printing method, or as shown in FIG. 6, a black photosensitive material is formed on the substrate 32 on which the transparent electrode 31 is formed. A method of forming a layer 34 and forming a black stripe 36 by using photolithography is used.
【０００４】しかしながら、スクリーン印刷法によるパ
ターン印刷では、スクリーン版の伸縮により、高い位置
精度でブラックストライプを形成することは困難であ
り、また、フォトリソグラフィを利用した感光性ペース
ト法では、高精度にブラックストライプを形成すること
が可能であるものの、透明電極の位置を決定する露光工
程と、ブラックストライプの位置を決定する露光工程と
が別工程になっているため、位置ずれが生ずる恐れがあ
る。このため、パネルの高コントラスト化を目的として
形成されたブラックストライプが逆に輝度の低下を招く
恐れがあった。However, in pattern printing by the screen printing method, it is difficult to form a black stripe with high positional accuracy due to expansion and contraction of the screen plate, and in the photosensitive paste method using photolithography, high accuracy is required. Although it is possible to form a black stripe, the exposure step for determining the position of the transparent electrode and the exposure step for determining the position of the black stripe are separate steps, so there is a risk of displacement. For this reason, the black stripe formed for the purpose of increasing the contrast of the panel may cause a decrease in luminance.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
した従来技術の欠点を改良し、特に、ブラックストライ
プの位置を高精度に形成することを可能にした新規なプ
ラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造
方法を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to improve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and in particular, to provide a novel black stripe for a plasma display panel which enables the position of the black stripe to be formed with high precision. Is provided.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、基本的には、以下に記載されたような技
術構成を採用するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention basically employs the following technical configuration to achieve the above object.
【０００７】即ち、本発明に係わるプラズマディスプレ
イパネル用ブラックストライプの製造方法の第１態様
は、プラズマディスプレイパネル用ブラックストライプ
の製造方法であって、基板全面にブラックストライプの
材料である黒色感光性材料層を形成し、この黒色感光性
材料層上に感光性レジスト層を成膜し、前記感光性レジ
スト層を露光すると共に前記黒色感光性材料層を露光す
る露光量を部分的に変え、露光量の大である部分の黒色
感光性材料層を前記ブラックストライプにすることを特
徴とするものであり、叉、第２態様は、プラズマディス
プレイパネル用ブラックストライプの製造方法であっ
て、基板全面にブラックストライプの材料である黒色感
光性材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性
レジスト層を成膜し、前記感光性レジスト層を露光する
と共に前記黒色感光性材料層を露光する露光量を部分的
に変え、剥離工程では、露光量の小なる部分の黒色感光
性材料層のみを剥離することで、ブラックストライプを
形成することを特徴とするものであり、叉、第３態様
は、前記露光量を部分的に変える方法としては、部分的
に露光回数を変えることを特徴とするものであり、叉、
第４態様は、放電セルと、透明電極間に設けられる放電
ギャップ部と、隣接する放電セルと放電セルとの間の非
放電ギャップ部に設けられるブラックストライプとから
なるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプ
の製造方法であって、基板全面にブラックストライプの
材料である黒色感光性材料層を形成し、この黒色感光性
材料層上に感光性レジスト層を成膜する第１の工程と、
第１のマスクを用いて前記放電ギャップ部と非放電ギャ
ップ部とを露光し、前記放電ギャップ部及び非放電ギャ
ップ部の黒色感光性材料層を基板上に残す第２の工程
と、第２のマスクを用いて前記非放電ギャップ部の黒色
感光性材料層を更に露光せしめる第３の工程と、全面に
透明電極となる透明導電膜を成膜する第４の工程と、前
記レジスト層を除去する第５の工程と、前記放電ギャッ
プ部上の黒色感光性材料層を除去する第６の工程と、を
少なくとも含むことを特徴とするものである。That is, the first aspect of the method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to the present invention is a method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel, wherein the black photosensitive material is a black stripe material on the entire surface of the substrate. Forming a layer, forming a photosensitive resist layer on the black photosensitive material layer, exposing the photosensitive resist layer and partially changing the exposure amount for exposing the black photosensitive material layer, The second aspect is a method of manufacturing a black stripe for a plasma display panel, wherein a black photosensitive material layer in a portion having a large size is formed as the black stripe. Forming a black photosensitive material layer which is a material of the stripe, forming a photosensitive resist layer on the black photosensitive material layer, By exposing the photosensitive resist layer and partially changing the exposure amount for exposing the black photosensitive material layer, in the peeling step, by peeling only the black photosensitive material layer in the small exposure amount, black The third aspect is characterized in that a stripe is formed, and the third mode is characterized in that, as the method of partially changing the exposure amount, the number of exposures is partially changed.
A fourth aspect is a plasma display panel black stripe comprising a discharge cell, a discharge gap provided between transparent electrodes, and a black stripe provided in a non-discharge gap between adjacent discharge cells. A first step of forming a black photosensitive material layer, which is a material of a black stripe, over the entire surface of the substrate, and forming a photosensitive resist layer on the black photosensitive material layer;
A second step of exposing the discharge gap portion and the non-discharge gap portion using a first mask, and leaving a black photosensitive material layer of the discharge gap portion and the non-discharge gap portion on a substrate; A third step of further exposing the black photosensitive material layer in the non-discharge gap portion using a mask, a fourth step of forming a transparent conductive film to be a transparent electrode over the entire surface, and removing the resist layer It is characterized by including at least a fifth step and a sixth step of removing the black photosensitive material layer on the discharge gap.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】本発明に係わるプラズマディスプ
レイパネル用ブラックストライプの製造方法では、図１
に示したように、まず、ガラス基板上に黒色感光性材料
層と感光性レジスト層を積層し、透明電極ポジパターン
マスクにより露光１及び現像を行い透明電極ネガパター
ンを形成する。次に、非放電ギャップネガパターンマス
クにより露光２を行う。ここで、図３に示すように、紫
外線エネルギーにより下地との密着性が異なる感光性材
料の特性から、非放電ギャップ部の露光量を大にするこ
とで、ブラックストライプ部分の黒色感光性材料とガラ
ス基板との密着性を高めることができる。そして、透明
電極を成膜した後のレジスト除去工程では、放電ギャッ
プ部では、黒色感光性材料及び感光性レジストが共に剥
離されるが、大きな紫外線エネルギーを与えた非放電ギ
ャップ部では、黒色感光性材料とガラス基板間の密着力
が大きく、感光性レジストのみが剥離される。その結
果、透明電極とブラックストライプとが同時に且つ位置
精度良く形成される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to the present invention, FIG.
As shown in (1), first, a black photosensitive material layer and a photosensitive resist layer are laminated on a glass substrate, and exposure 1 and development are performed using a transparent electrode positive pattern mask to form a transparent electrode negative pattern. Next, exposure 2 is performed using a non-discharge gap negative pattern mask. Here, as shown in FIG. 3, by increasing the exposure amount in the non-discharge gap part due to the characteristics of the photosensitive material having different adhesion to the base due to the ultraviolet energy, the black photosensitive material in the black stripe portion is removed. Adhesion with a glass substrate can be improved. Then, in the resist removal step after the formation of the transparent electrode, the black photosensitive material and the photosensitive resist are peeled off in the discharge gap portion, but the black photosensitive material is removed in the non-discharge gap portion given a large ultraviolet energy. The adhesion between the material and the glass substrate is large, and only the photosensitive resist is peeled off. As a result, the transparent electrode and the black stripe are formed simultaneously and with high positional accuracy.
【０００９】[0009]
【実施例】以下に、本発明に係わるプラズマディスプレ
イパネル用ブラックストライプの製造方法の具体例を図
面を参照しながら詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a specific example of a method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【００１０】（第１の具体例）図１は、本発明に係わる
プラズマディスプレイパネル用のブラックストライプの
製造工程を示す図、図２は、本発明が適用されるプラズ
マディスプレイパネルの構造を示す図、図３は、紫外線
露光量に対する黒色感光材料の下地との密着性特性を示
すグラフであって、これらの図には、プラズマディスプ
レイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板１全面にブラックストライプの材料である黒色感光
性材料層２を形成し、この黒色感光性材料層２上に感光
性レジスト層３を成膜し、前記感光性レジスト層３を露
光すると共に前記黒色感光性材料層２を露光する露光量
を部分的に変え、露光量の大である部分の黒色感光性材
料層２ａを前記ブラックストライプ４にすることを特徴
とするプラズマディスプレイパネル用ブラックストライ
プの製造方法が示されている。(First Embodiment) FIG. 1 is a view showing a process of manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to the present invention, and FIG. 2 is a view showing a structure of a plasma display panel to which the present invention is applied. , FIG. 3 is a graph showing the adhesion property of the black photosensitive material to the base against the amount of ultraviolet light exposure, and these figures show a method of manufacturing a black stripe for a plasma display panel,
A black photosensitive material layer 2, which is a material of a black stripe, is formed on the entire surface of the substrate 1, a photosensitive resist layer 3 is formed on the black photosensitive material layer 2, and the photosensitive resist layer 3 is exposed and A black stripe for a plasma display panel, characterized in that the amount of exposure for exposing the black photosensitive material layer 2 is partially changed, and the black photosensitive material layer 2a in a portion having a large amount of exposure is changed to the black stripe 4. The manufacturing method is shown.
【００１１】又、プラズマディスプレイパネル用ブラッ
クストライプの製造方法であって、基板１全面にブラッ
クストライプの材料である黒色感光性材料層２を形成
し、この黒色感光性材料層２上に感光性レジスト層３を
成膜し、前記感光性レジスト層３を露光すると共に前記
黒色感光性材料層２を露光する露光量を部分的に変え、
剥離工程では、露光量の小なる部分の黒色感光性材料層
２ｂのみを剥離することで、ブラックストライプ４を形
成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用
ブラックストライプの製造方法が示されている。In a method of manufacturing a black stripe for a plasma display panel, a black photosensitive material layer 2 which is a material of a black stripe is formed on the entire surface of a substrate 1, and a photosensitive resist is formed on the black photosensitive material layer 2. Forming a layer 3, exposing the photosensitive resist layer 3 and partially changing the exposure amount for exposing the black photosensitive material layer 2;
In the peeling step, a method of manufacturing a black stripe for a plasma display panel, wherein a black stripe 4 is formed by peeling off only the black photosensitive material layer 2b in a portion with a small exposure amount is shown.
【００１２】以下に、第１の具体例を更に詳細に説明す
る。Hereinafter, the first specific example will be described in more detail.
【００１３】先ず初めに、本発明が適用されるプラズマ
ディスプレイパネルの構造について説明する。First, the structure of a plasma display panel to which the present invention is applied will be described.
【００１４】図２に示すように、背面基板１１には、放
電空間１２を単位発光セル毎に区画している隔壁１３
が、ストライプ状に形成されている。このように作られ
た放電空間１２の内側には、可視光の発光とカラー化の
ために赤色（Ｒ）、緑（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層１
４が規則的に形成されている。前面基板１には、放電さ
せるための帯状の透明電極対５、５が形成され、その上
を透明誘電体層７で覆われている。この一対の透明電極
５、５間の放電で生じる紫外線によって、蛍光体層１４
が励起され、発光する。なお、１５は、データを書込む
ためのデータ電極である。As shown in FIG. 2, the rear substrate 11 has partition walls 13 for dividing the discharge space 12 for each unit light emitting cell.
Are formed in a stripe shape. Inside the discharge space 12 thus formed, red (R), green (G), and blue (B) phosphor layers 1 for emitting visible light and coloring.
4 are formed regularly. Band-shaped transparent electrode pairs 5 and 5 for discharging are formed on the front substrate 1, and are covered with a transparent dielectric layer 7. The ultraviolet light generated by the discharge between the pair of transparent electrodes 5 causes the phosphor layer 14 to emit light.
Are excited and emit light. Reference numeral 15 denotes a data electrode for writing data.
【００１５】次に、本発明のブラックストライプの製造
方法について説明する。Next, a method for producing a black stripe of the present invention will be described.
【００１６】本発明のブラックストライプの製造方法で
は、基板１上に黒色感光性材料層２と感光性レジスト層
３とを積層し使用する（図１（ａ））。黒色感光性材料
としては、低融点ガラス粉末に酸化クロム（Ｃｒ
２Ｏ３）や酸化コバルト（Ｃｏ２Ｏ ３）を主成分とする
金属酸化物粉末を混合し、更にネガ型の感光性樹脂、溶
剤を混合しペースト化したものを用い、スクリーン印刷
法により基板１全面に印刷し形成する。感光性レジスト
は、ネガ型のドライフィルムレジストを用い、ラミネー
トにより形成すればよい。また、工程の短縮化を考慮す
ると、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とを有
する積層ドライフィルムを使用し、ラミネートにより一
度に形成しても良い。このように、基板１上に形成され
た黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とを、透明
電極ポジパターンマスク２１を用いて、露光１を行う
（図１（ｂ））。その後、１％未満の炭酸ナトリウム
（Ｎａ２ＣＯ ３）現像液にて現像し、透明電極ネガパタ
ーンを形成する（図１（ｃ））。次に、非放電ギャップ
ネガパターンマスク２２により露光２を行う（図１
（ｄ））。ここで、図３に示したような、与えた紫外線
エネルギー（露光量）により、下地との密着性が異なる
という感光性材料の特性を利用して、非放電ギャップ部
の黒色感光性材料層２ａとガラス基板１との密着性を、
放電ギャップ部の黒色感光性材料層２ｂとガラス基板１
との密着性より高めることができる。そして、例えば、
酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明電極膜５を基
板１前面に成膜した後（図１（ｅ））、レジスト除去工
程にて、放電ギャップ部６では、黒色感光性材料層２及
び感光性レジスト層３が共に剥離し、大きな紫外線エネ
ルギーを与えた非放電ギャップ部では、黒色感光性材料
２とガラス基板１間の密着力が大きいから、感光性レジ
スト層３のみが基板１から剥離する。ここで剥離液とし
て、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）や水酸化カリウム
（ＫＯＨ）を用いることで、上層の感光性レジスト層３
を膨潤させ、除去することができる。下層の黒色感光性
材料層２は、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）を用い、
露光２で大きな紫外線エネルギー与えた部分の黒色感光
性材料層２ａのみが剥離されない条件で剥離を行うとよ
い。結果として、透明電極とブラックストライプとが同
時に且つ位置精度良く形成される（図１（ｆ））。According to the method for producing a black stripe of the present invention,
Are a black photosensitive material layer 2 and a photosensitive resist layer on a substrate 1.
3 and used (FIG. 1A). Black photosensitive material
Chromium oxide (Cr)
2O3) And cobalt oxide (Co2O 3) As the main component
Mix metal oxide powder, and then add negative photosensitive resin
Screen printing using a mixture of pastes
It is formed by printing on the entire surface of the substrate 1 by a method. Photosensitive resist
Is a laminating method using a negative dry film resist.
What is necessary is just to form by G. Also, consider shortening the process.
Then, the black photosensitive material layer 2 and the photosensitive resist layer 3 are
Using a laminated dry film
It may be formed each time. Thus, the substrate 1 is formed on the substrate 1.
Black photosensitive material layer 2 and photosensitive resist layer 3
Exposure 1 is performed using the electrode positive pattern mask 21
(FIG. 1 (b)). Then less than 1% sodium carbonate
(Na2CO 3) Develop with a developer and remove the transparent electrode
Is formed (FIG. 1C). Next, the non-discharge gap
Exposure 2 is performed using the negative pattern mask 22 (FIG. 1).
(D)). Here, the applied ultraviolet light as shown in FIG.
Adhesion to base varies depending on energy (exposure amount)
Utilizing the characteristics of photosensitive material called non-discharge gap
Of the black photosensitive material layer 2a and the glass substrate 1
Black photosensitive material layer 2b at discharge gap and glass substrate 1
And the adhesion can be increased. And, for example,
Based on a transparent electrode film 5 made of indium tin oxide (ITO)
After forming a film on the front surface of the plate 1 (FIG. 1E), a resist removing process is performed.
In the discharge gap portion 6, the black photosensitive material layer 2 and
And the photosensitive resist layer 3 are peeled off, and a large ultraviolet energy
In the non-discharge gap area where
2 and the glass substrate 1 have high adhesion,
Only the strike layer 3 is separated from the substrate 1. Here we use stripper
And sodium hydroxide (NaOH) and potassium hydroxide
By using (KOH), the upper photosensitive resist layer 3
Can be swollen and removed. Black sensitivity of lower layer
The material layer 2 is made of sodium carbonate (Na2CO3)
Black exposure of the part given large UV energy in exposure 2
It is preferable to perform peeling under the condition that only the conductive material layer 2a is not peeled.
No. As a result, the transparent electrode and the black stripe
It is formed sometimes and with high positional accuracy (FIG. 1 (f)).
【００１７】なお、図１（ｄ）の露光２は、図１（ｃ）
の現像前に行ってもよい。Incidentally, the exposure 2 in FIG.
May be performed before the development.
【００１８】また、放電ギャップ部分の露光量とブラッ
クストライプ部分（非放電ギャップ部分）の露光量とが
異なれば、本発明の目的が達成されるから、勿論上記以
外の他の方法を用いてももよい。If the exposure amount in the discharge gap portion is different from the exposure amount in the black stripe portion (non-discharge gap portion), the object of the present invention can be achieved. Is also good.
【００１９】このように、第１の具体例では、放電セル
と、透明電極間に設けられる放電ギャップ部と、隣接す
る放電セルと放電セルとの間の非放電ギャップ部に設け
られるブラックストライプとからなるプラズマディスプ
レイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板１全面にブラックストライプの材料である黒色感光
性材料層２を形成し、この黒色感光性材料層２上に感光
性レジスト層３を成膜する第１の工程と、第１のマスク
２１を用いて前記放電ギャップ部と非放電ギャップ部と
を露光し、前記放電ギャップ部及び非放電ギャップ部の
黒色感光性材料層２ａ、２ｂを基板１上に残す第２の工
程と、第２のマスク２２を用いて前記非放電ギャップ部
を更に露光せしめる第３の工程と、全面に透明電極とな
る透明導電膜５を成膜する第４の工程と、前記レジスト
層３を除去する第５の工程と、前記放電ギャップ部上の
黒色感光性材料層２ｂを除去する第６の工程と、を少な
くとも含むことを特徴とするものである。As described above, according to the first embodiment, the discharge cells, the discharge gap portions provided between the transparent electrodes, and the black stripes provided in the non-discharge gap portions between the adjacent discharge cells. A method for producing a black stripe for a plasma display panel, comprising:
A first step of forming a black photosensitive material layer 2 which is a material of a black stripe on the entire surface of the substrate 1 and forming a photosensitive resist layer 3 on the black photosensitive material layer 2; Exposing the discharge gap portion and the non-discharge gap portion to expose the black photosensitive material layers 2a and 2b of the discharge gap portion and the non-discharge gap portion on the substrate 1, using a second mask; A third step of further exposing the non-discharge gap portion by using S22, a fourth step of forming a transparent conductive film 5 serving as a transparent electrode on the entire surface, and a fifth step of removing the resist layer 3 And a sixth step of removing the black photosensitive material layer 2b on the discharge gap portion.
【００２０】（第２の具体例）図４は、本発明に係わる
プラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製
造方法の第２の具体例の構造を示す図である。(Second Specific Example) FIG. 4 is a view showing the structure of a second specific example of the method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to the present invention.
【００２１】第１の具体例では、黒色感光性材料層とガ
ラス基板間の密着力の違いを利用し、部分的に剥離する
方法を示したが、与える紫外線エネルギーにより、黒色
感光性材料層２と感光性レジスト層３との間の密着力が
異なる性質を利用することもできる。その構成を図４に
示す。図４においては、露光２を放電ギャップネガパタ
ーンマスク２５により行う。ここで、黒色感光性材料層
２と感光性レジスト層３とは、大きな紫外線エネルギー
を与えることで、黒色感光性材料層２と感光性レジスト
層３との間の密着性が、黒色感光性材料層２とガラス基
板１間の密着性よりも大きくなる。In the first specific example, the method of partially peeling off using the difference in adhesion between the black photosensitive material layer and the glass substrate has been described. It is also possible to use the property that the adhesive force between the photosensitive resist layer 3 and the photosensitive resist layer 3 is different. The configuration is shown in FIG. In FIG. 4, exposure 2 is performed using a discharge gap negative pattern mask 25. Here, the black photosensitive material layer 2 and the photosensitive resist layer 3 are applied with a large ultraviolet energy so that the adhesion between the black photosensitive material layer 2 and the photosensitive resist layer 3 is reduced. It is larger than the adhesion between the layer 2 and the glass substrate 1.
【００２２】従って、最終工程のレジスト剥離により、
非放電ギャップ部では、感光性レジストのみが剥離され
るが、大きな紫外線を与えた放電ギャップ部では、黒色
感光性材料層２と感光性レジスト層３間の密着力が、黒
色感光性材料層２とガラス基板１間よりも大きくなるた
め、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とが共に
剥離する。その結果、透明電極とブラックストライプと
が同時に且つ位置精度良く形成される。Therefore, the resist is peeled off in the final step,
In the non-discharge gap portion, only the photosensitive resist is peeled off, but in the discharge gap portion to which a large ultraviolet ray is applied, the adhesion between the black photosensitive material layer 2 and the photosensitive resist layer 3 is reduced. Therefore, the black photosensitive material layer 2 and the photosensitive resist layer 3 peel off together. As a result, the transparent electrode and the black stripe are formed simultaneously and with high positional accuracy.
【００２３】[0023]
【発明の効果】本発明に係わるプラズマディスプレイパ
ネル用ブラックストライプの製造方法は、透明電極の位
置を決定する露光と、非放電ギャップ部のブラックスト
ライプの位置を決定する露光が同時に行われているた
め、位置精度がよいという効果が得られる。In the method of manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to the present invention, the exposure for determining the position of the transparent electrode and the exposure for determining the position of the black stripe in the non-discharge gap portion are performed simultaneously. The effect that the position accuracy is good is obtained.
【００２４】従って、位置ずれにより、ブラックストラ
イプが透明電極にかかり、輝度の低下を招くといった問
題が解消される。Therefore, the problem that the black stripe is applied to the transparent electrode due to the displacement and the luminance is lowered can be solved.
【図１】本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用
ブラックストライプの製造方法の第１の具体例を示す断
面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a first specific example of a method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to the present invention.
【図２】プラズマディスプレイパネルの構造を示す斜視
図である。FIG. 2 is a perspective view showing a structure of a plasma display panel.
【図３】紫外線エネルギに対する感光材料の特性を示す
グラフである。FIG. 3 is a graph showing characteristics of a photosensitive material with respect to ultraviolet energy.
【図４】本発明の第２の具体例を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a second specific example of the present invention.
【図５】従来の製造方法を示す図である。FIG. 5 is a view showing a conventional manufacturing method.
【図６】他の従来の製造方法を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing another conventional manufacturing method.
１ 基板 ２ 黒色感光性材料層 ２ａ 非放電ギャップ部の黒色感光性材料層 ２ｂ 放電ギャップ部の黒色感光性材料層 ３ 感光性レジスト層 ４ ブラックストライプ ５ 透明電極 ６ 放電ギャップ部 １１ 背面基板 １２ 放電空間 １３ 隔壁 １４ 蛍光体層 １５ データ電極 ２１、２２ マスク ３１ 透明電極 ３２ 基板 ３４ 黒色感光性材料層 ３６ ブラックストライプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Black photosensitive material layer 2a Black photosensitive material layer in non-discharge gap part 2b Black photosensitive material layer in discharge gap part 3 Photosensitive resist layer 4 Black stripe 5 Transparent electrode 6 Discharge gap part 11 Back substrate 12 Discharge space DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 Partition wall 14 Phosphor layer 15 Data electrode 21, 22 Mask 31 Transparent electrode 32 Substrate 34 Black photosensitive material layer 36 Black stripe
Claims (4)
ストライプの製造方法であって、 基板全面にブラックストライプの材料である黒色感光性
材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性レジ
スト層を成膜し、前記感光性レジスト層を露光すると共
に前記黒色感光性材料層を露光する露光量を部分的に変
え、露光量の大である部分の黒色感光性材料層を前記ブ
ラックストライプにすることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネル用ブラックストライプの製造方法。1. A method of manufacturing a black stripe for a plasma display panel, comprising: forming a black photosensitive material layer as a material of a black stripe on the entire surface of a substrate; forming a photosensitive resist layer on the black photosensitive material layer. Film, exposing the photosensitive resist layer and partially changing the amount of exposure for exposing the black photosensitive material layer, and forming the black photosensitive material layer in the portion of the large amount of exposure into the black stripe. A method for producing a black stripe for a plasma display panel.
ストライプの製造方法であって、 基板全面にブラックストライプの材料である黒色感光性
材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性レジ
スト層を成膜し、前記感光性レジスト層を露光すると共
に前記黒色感光性材料層を露光する露光量を部分的に変
え、剥離工程では、露光量の小なる部分の黒色感光性材
料層のみを剥離することで、ブラックストライプを形成
することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ブ
ラックストライプの製造方法。2. A method for manufacturing a black stripe for a plasma display panel, comprising: forming a black photosensitive material layer as a material of a black stripe on the entire surface of a substrate; and forming a photosensitive resist layer on the black photosensitive material layer. Film, exposing the photosensitive resist layer and partially changing the exposure amount for exposing the black photosensitive material layer, and in the peeling step, peeling off only the black photosensitive material layer in a portion with a small exposure amount. And forming a black stripe for a plasma display panel.
は、部分的に露光回数を変えることを特徴とする請求項
１又は２記載のプラズマディスプレイパネル用ブラック
ストライプの製造方法。3. The method of manufacturing a black stripe for a plasma display panel according to claim 1, wherein the method of partially changing the exposure amount includes partially changing the number of exposures.
電ギャップ部と、隣接する放電セルと放電セルとの間の
非放電ギャップ部に設けられるブラックストライプとか
らなるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライ
プの製造方法であって、 基板全面にブラックストライプの材料である黒色感光性
材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性レジ
スト層を成膜する第１の工程と、 第１のマスクを用いて前記放電ギャップ部と非放電ギャ
ップ部とを露光し、前記放電ギャップ部及び非放電ギャ
ップ部の黒色感光性材料層を基板上に残す第２の工程
と、 第２のマスクを用いて前記非放電ギャップ部の黒色感光
性材料層を更に露光せしめる第３の工程と、 全面に透明電極となる透明導電膜を成膜する第４の工程
と、 前記レジスト層を除去する第５の工程と、 前記放電ギャップ部上の黒色感光性材料層を除去する第
６の工程と、 を少なくとも含むことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネル用ブラックストライプの製造方法。4. A black stripe for a plasma display panel comprising: a discharge cell; a discharge gap provided between transparent electrodes; and a black stripe provided in a non-discharge gap between adjacent discharge cells. A first step of forming a black photosensitive material layer, which is a material of a black stripe, over the entire surface of the substrate, and forming a photosensitive resist layer on the black photosensitive material layer; A second step of exposing the discharge gap portion and the non-discharge gap portion using, and leaving a black photosensitive material layer of the discharge gap portion and the non-discharge gap portion on a substrate; and using a second mask. A third step of further exposing the black photosensitive material layer in the non-discharge gap portion, a fourth step of forming a transparent conductive film serving as a transparent electrode on the entire surface, Fifth step and the sixth step and the plasma display panel for black stripe manufacturing method, wherein at least include removing the black photosensitive material layer on the discharge gap portion that supports.
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| JP32696699A JP3541757B2 (en) | 1999-11-17 | 1999-11-17 | Method of manufacturing black stripe for plasma display panel |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003086088A (en) * | 2001-09-06 | 2003-03-20 | Nec Kagoshima Ltd | Method of manufacturing plasma display panel and its manufacturing jig |
| JP2005116528A (en) * | 2003-10-02 | 2005-04-28 | Lg Electronics Inc | Plasma display panel and its manufacturing method |
| KR100838683B1 (en) * | 2006-11-06 | 2008-06-16 | 엘지전자 주식회사 | Contrast ratio film, filter for display apparatus and plasma display panel using the same |
-
1999
- 1999-11-17 JP JP32696699A patent/JP3541757B2/en not_active Expired - Fee Related
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