KR100261222B1 - 파티클 오염을 방지할 수 있는 마이크로스코프의 스테이지 블록어셈블리 및 이를 이용한 웨이퍼 검사방법 - Google Patents

파티클 오염을 방지할 수 있는 마이크로스코프의 스테이지 블록어셈블리 및 이를 이용한 웨이퍼 검사방법 Download PDF

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Abstract

파티클 오염을 억제할 수 있는 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록 어셈블리(Stage block Assembly)에 관하여 개시한다. 이를 위하여 본 발명은 스테이지 블록 조정축 X/Y 구동 기어 하단에 파티클 수집 덮개를 설치하거나, X/Y축 기어 자체 하부에 진공라인을 설치하여 X/Y축 기어 및 X/Y축 구동 기어의 마찰면에서 발생한 파티클이, 작업자의 손 및 웨이퍼 캐리어(wafer carrier)를 통해 반도체 제조공정과 같은 파티클에 예민한 제조공정으로 유입되어 발생하는 파티클 오염 문제를 억제할 수 있다.

Description

파티클 오염을 방지할 수 있는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리 및 이를 이용한 웨이퍼 검사방법
본 발명은 반도체 소자의 제조공정에 사용되는 검사장비(inspection equipment)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록 어셈블리(Stage block Assembly)에 관한 것이다.
반도체 소자의 제조공정의 수율(Yield) 저하는 공정결함, 공정에 사용되는 재료의 결함 및 여러 가지 환경적인 요인 등에 좌우된다. 이러한 요인 중에서 환경적 요인의 대표적인 예가 작업 환경내의 파티클(particle)이다. 특히 파티클에 의한 결함은 반도체 소자의 집적도가 점차 향상되어 디자인 룰(Design rule)이 작아짐에 따라 더욱 치명적인 요소(critical factor)로 작용하기 때문에, 반드시 개선되어야 하는 문제이다. 따라서, 작업 환경내에서는 파티클(Particle) 문제를 해결하기 위해 공정 설비면에서 많은 개선이 지속적으로 이루어지고 있다. 그러나, 공정에 직접 사용되지 않고, 작업환경과 비교적 떨어진 거리에서 관리되는 부대설비, 예컨대 마이크로스코프와 같은 검사장비에는 이러한 노력이 아직 미흡한 실정이고, 이로 인한 작업 환경내의 파티클 발생은 쉽게 간과(overlook)될 수 있는 문제중의 하나이다.
도 1 및 도 2는 종래기술에 의한 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly)를 설명하기 위해 도시한 도면들이다.
도 1을 참조하면, 종래기술에 의한 마이크로스코프(Microscope)의 개략적인 측면도로서 렌즈(56)를 포함하는 상단부(52), 스테이지 블록부(50) 및 초점 노브(focus knob, 58)가 있는 하단부(54)로 크게 구성된다. 도면에서 참조부호 62는 X축 및 Y축 기어를 나타내고, 60은 검사대상, 예컨대 웨이퍼(wafer)가 놓이는 스테이지 블록(stage block)을, 64는 스테이지 블록 조정축(stage block control Axis)을, 66은 X축 및 Y축 조정 노브(knob)를 각각 가리킨다.
도 2는 상기 스테이지 블록부를 확대 도시한 측면도이다. 상세히 설명하면, 검사대상을 위치시키는 스테이지 블록(60)은 하단부에 있는 X축 기어(84) 및 Y축 기어(X Axis Gear, 84), 스테이지 블록 조정축(64)에 구성된 X축 구동 기어(62) 및 Y축 구동기어(63)에 의해 X축 및 Y축으로 이동된다. 이러한 이동을 제어하기 위한 수단은 상기 스테이지 블록 조정축(64)의 끝단에 설치된 Y축 조정 노브(Y Axis Control knob, 72) 및 X축 조정 노브(74)이다. 그리고, X축 구동 기어(62)와 Y축 구동 기어(63) 사이에는 구분평판(separation plate, 76)이 있으며, 구분평판(76) 내에 제1 고정나사(1'st fixing screw, 78)가 있어서 상부의 스테이지 블록(60)과 연결된다. 따라서, 검사대상을 마이크로스코프로 검사하기 위해 스테이지 블록(60)을 X축 및 Y축으로 이동시켜야 하는데, 이는 작업자(operator)가 직접 비닐장갑을 끼고 스테이지 블록 조정축(64)의 끝단에 있는 X/Y축 조정 노브(74, 72)를 회전시켜서 스테이지 블록을 X축 및 Y축으로 이동시킨다.
그러나, 상술한 종래 기술의 문제점은 작업자가 X/Y축 조정 노브(74, 72)를 제어할 때, 금속 또는 테플론(teflon)이 재질인 X/Y축 기어(62, 63) 및 X/Y축 구동 기어(84, 82)의 마찰면에서 금속 부스러기 형태의 파티클(particle)이 떨어져 작업자의 손에 묻어 웨이퍼 또는 작업 환경내로 유입되는 문제점이 있다. 표 1은 상기 금속 부스러기 형태의 파티클(particle)을 하루동안 측정한 결과치이다.
파티클 크기(㎛) 0.07 0.10 0.15 0.20 0.30 0.50 0.70 1.00
파티클 개수(N) 32 32 29 25 20 10 7 6
따라서, 표 1에 표시된 것과 파티클의 유입은 가공중인 반도체 소자의 각종 결함의 원인이 되어 수율을 저하시키는 원인이 된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 마이크로스코프의 기어에서 발생하는 파티클의 영향을 억제할 수 있는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly)를 제공하는데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 마이크로스코프를 이용한 웨이퍼 검사방법을 제공하는데 있다.
도 1 및 도 2는 종래기술에 의한 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly)를 설명하기 위해 도시한 도면들이다.
도 3 내지 도 7은 본 발명의 제1 실시예에 의한 마이크로스코프 스테이지 블록의 어셈블리(Stage Assembly)를 설명하기 위해 도시한 도면들이다.
도 8 내지 도 11은 본 발명의 제2 실시예에 의한 마이크로스코프 스테이지 블록의 어셈블리(Stage Assembly)에서 X/Y축 진공라인을 설명하기 위하여 도시한 도면들이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly)는, 검사대상을 상부에 위치시키고, 하부에 X/Y축 기어가 장착된 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록(Stage Block)과, 상기 스테이지 블록 하단에서 X축 기어와 맞물려 스테이지 블록을 X축으로 이동시키는 X축 구동 기어(X Axis driving Gear)와, 상기 스테이지 블록 하단에서 Y축 기어와 맞물려 스테이지 블록을 Y축으로 이동시키는 Y축 구동 기어(Y Axis driving Gear)와, 상기 스테이지 블록 및 X/Y축 구동 기어의 하부 수직방향인 Z축 방향으로 구성된 스테이지 블록 조정축(stage block control Axis)과, 상기 스테이지 블록 조정축에 수직으로 연결되고, X/Y축 구동 기어 하부에 구성되어 상기 X축 및 Y축 구동 기어로부터 떨어지는 파티클을 모으는 파티클 수집 덮개(Particle collection cover)와, 상기 파티클 수집 덮개 하부의 스테이지 블록 조정축 끝단에 구성된 X/Y축 조정 노브(X/Y Axis travel knob)를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly)를 포함하여 구성된다.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 파티클 수집 덮개(Particle collection cover)는 스테이지 블록 지지 축에 수직으로 구성된 파티클 수집 평판과, 상기 파티클 수집 평판의 가장자리를 따라 구성된 파티클 떨어짐 방지벽과, 상기 파티클 수집 평판 하부에 부착된 파티클 수집 평판 고정틀을 포함하여 구성된 것이 적합하고, 상기 파티클 수집 평판과 파티클 떨어짐 방지벽은 무정전 아크릴(Anti-static acril)이 재질이고, 상기 파티클 수집평판 고정틀은 금속(metal) 또는 테플론이 재질인 것이 바람직하다.
상기 파티클 수집 평판 및 파티클 수집 평판 고정틀은, 상기 스테이지 블록 조정축이 가운데를 관통할 수 있는 구멍(hole)이 있는 것이 바람직하고, 부착 및 탈착이 용이하도록 두 개로 분리되어 구성된 것이 바람직하다.
바람직하게는, 상기 분리된 형상의 파티클 수집 평판 및 파티클 수집 평판 고정틀은, 적어도 한 개이상의 제2 고정 나사(2'nd fixing screw)에 의해 고정되는 것이 적합하다.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 스테이지 블록 하단에 있는 X축 구동 기어는 Y축 구동 기어의 상부인, 상기 스테이지 블록 조정축의 X/Y축 조정 노브와 대향된 끝단에 구성된 것이 적합하다.
또한, 상기 X축 및 Y축 구동 기어 사이에 제1 고정 나사(1'st fixing Screw)를 갖는 구분 평판을 더 포함하는 것이 바람직하고, 상기 X/Y축 구동 기어 및 X/Y축 기어는 동(Cu), SUS 및 테플론(Teflon)중에서 선택된 하나를 재질로 하는 것이 적합하다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 다른 실시예에 의한 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly)는, 파티클 수집덮개 대신에 상기 X축 기어 몸체와 연결된 하단에서 파티클을 흡입할 수 있는 홀을 포함하는 X축 진공라인과, 상기 Y축 기어 몸체와 연결된 하단에서 파티클을 흡입할 수 있는 홀을 포함하는 Y축 진공라인을 포함하여 구성된다.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 X축 및 Y축 진공라인은 상기 X축 및 Y축 기어 자체를 가공하여 구성되어서 외부 진공라인과 연결된 것이 적합하고, 상기 X축 및 Y축 진공라인에 파티클을 흡수하도록 구성된 홀(hole)은, 깔때기(funnel) 형태로 구성된 것이 적합하다.
본 발명에 따르면, 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리에서 기어의 맞물림에 의해 발생되는 파티클을 파티클 수집 덮개 또는 진공라인을 통해 수집하여 제거함으로써 반도체 제조공정에서의 파티클의 오염문제를 억제할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
아래의 실시예에서 설명된 파티클 수집덮개 및 X/Y축 진공라인은 가장 넓은 의미로 사용하고 있으며 도시된 그림과 같은 것만을 한정하는 의미가 아니다. 예를 들면 상기 바람직한 실시예에 있어서는 파티클 수집 덮개의 형상이 다각형이지만 이는 원형으로 구성하여도 무방하고, X/Y축 기어 내부에 둥근 형상으로 형성한 진공라인은 사각형 및 다른 형태로 치환할 수 있는 것이다. 따라서, 아래의 바람직한 실시예에서 기재한 내용은 예시적인 것이며 한정하는 의미가 아니다.
제1 실시예
도 3 내지 도 7은 본 발명의 제1 실시예에 의한 마이크로스코프 스테이지 블록의 어셈블리(Stage Assembly)를 설명하기 위해 도시한 도면들이다.
도 3을 참조하면, 렌즈(106)를 포함하는 상단부(102)와, 스테이지 블록부(100) 및 포커스 노브(Focus knob, 103)를 포함하는 하단부(104)로 구성된 마이크로스코프(Microscope)에서 본 발명의 실시예에 의하여 스테이지 블록부(100)에 파티클 수집 덮개(Particle Collection Cover, 108)가 추가된 마이크로스코프의 측면도이다. 따라서, 웨이퍼와 같은 검사대상은 스테이지 블록(114) 위에 올려져 스테이지 블록(114)과 연결된 스테이지 블록 조정축(110)의 끝단에 구성된 X/Y축 조정 노브(X/Y Axis Control Knob, 112)에 의해 조정된다.
도 4는 본 발명에 의한 파티클 수집 덮개(108)를 설명하기 위해 스테이지 블록 어셈블리(Stage Block Assembly)를 확대 도시한 측면도이다.
도 4를 참조하면, 스테이지 블록(114)은 X축 및 Y축 기어(126, 128)와 연결(미도시)되어 있고, 스테이지 블록에 대해 수직인 Z축 방향으로 구성된 스테이지 블록 조정축(110)의 최상부에는 상기 X축 기어(126)와 맞물려 스테이지 블록(114)을 X축으로 이동시키는 X축 구동기어(130)가 구성되어 있다. 또한, 상기 X축 기어 하단에는 스테이지 블록 조정축(110)에는 상기 Y축 기어(128)와 맞물려 스테이지 블록(114)을 Y축으로 이동시키는 Y축 구동 기어(134)가 구성되어 있다. 그리고, X축 구동기어(130)와 Y축 구동 기어(134)의 사이에는 구분평판(136)이 제1 고정나사(138)에 의해 스테이지 블록(114)과 연결된 상태로 구성되어 있다. 따라서, 스테이지 블록 조정축(110)의 하부 끝단에 있는 X축 조정 노브(X Axis Control Knob) 및 Y축 조정노브(Y Axis Control knob)를 작업자가 돌려서 스테이지 블록(114)을 이동시킬 때, X축 기어(126) 및 X축 구동 기어(130) 그리고 Y축 기어(128) 및 Y축 구동기어(134)의 마찰면에서 금속성 찌꺼기와 같은 파티클(P)이 발생하더라도 파티클(P)은 파티클 수집 덮개(108)로 모이게 되고 작업자의 손위로 떨어져 웨이퍼를 오염시키거나 작업환경 내로 유입되지 않는다. 도면에서 참조부호 120은 파티클 수집 평판을 나타내고, 122 파티클 떨어짐 방지벽을, 124는 파티클 평판 고정틀을 각각 나타낸다.
도 5는 도 4의 파티클 수집 덮개의 평면 투영도이다. 본 발명에 의한 파티클 수집 덮개(108)는 크게 아크릴(Acril)을 재질로 하는 파티클 수집 평판(120)과, 파티클 수집 평판(120)과 동일 재질로 구성되고 파티클 수집 평판(120)의 외곽에 수직방향으로 세워진 파티클 떨어짐 방지벽(122)과, 상기 파티클 수집 평판(120)의 하부에 부착된 금속 또는 테플론(teflon)을 재질로 하는 파티클 수집 평판 고정틀(124)로 구성된다. 또한, 상기 파티클 수집 평판(120) 및 파티클 수집 평판 고정틀(124)은 부착 및 탈착이 용이하게 하기 위하여 두 개로 분리되도록 구성되어 있으므로, 파티클 수집 평판(120)에 쌓인 파티클(P)을 주기적으로 제거할 수 있다. 그리고 두 개로 분리된 파티클 수집 평판(120) 및 파티클 수집 평판 고정틀(124)은 하부에 있는 파티클 수집 평판 고정틀(124)에 있는 하나 이상의 제2 고정나사(118)에 의해 부착시 연결된다. 도면 가운데 있는 구멍(hole, H)은 스테이지 블록 조정축(도4의 110)이 들어가는 구멍을 가리킨다.
도 6은 도 4의 X축 또는 Y축 기어(도 4의 126 또는 128)를 확대 도시한 사시도이다.
도 6을 참조하면, X/Y축 기어의 전후면에는 스테이지 블록과 스크루우(screw)를 통해 연결시킬 수 있는 나사 구멍(144)이 가공되어져 있고, 일측단에는 톱니모양의 기어(gear, 116)가 구성되어 도 4의 X/Y축 구동 기어(130, 134)와 맞물려 돌아가도록 되어 있다.
도 7은 도 6의 VII-VII'면을 절개(cross section)했을 때의 단면도이다. X축 또는 Y축 기어(126 또는 128)의 전후면에는 스크루우(screw)를 연결시키기 위한 구멍(144)이 형성되어 있고, 일측단에는 기어(116)가 형성되어 있다.
제2 실시예
도 8 내지 도 11은 본 발명의 제2 실시예에 의한 마이크로스코프 스테이지 블록의 어셈블리(Stage Assembly)에서 X/Y축 진공라인을 설명하기 위하여 도시한 도면들이다.
본 발명의 제2 실시예는 파티클 수집 덮개 대신에 스테이지 블록과 연결된 X축 및 Y축 기어 하단부를 가공하여 X/Y 진공라인을 설치하여 X/Y축 기어 및 X/Y축 구동 기어에서 떨어지는 파티클을 진공라인과 연결된 홀(hole)을 통해 흡수하는 것이다. 구성부재중에서 상기 제1 실시예에서 설명된 것과 동일한 구성부재는 중복을 피하여 생략하고 차이가 있는 구성부재만 도면을 통하여 설명하기로 한다. 따라서, 제1 실시예와 구성부재의 참조부호는 서로 대응이 되도록 구성하였다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 의한 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(200)를 도시한 측면도이다.
도 8을 참조하면, X/Y축 구동 기어(230, 234)와 X/Y축 기어(226, 228)의 마찰면에서 발생하는 파티클을 흡수할 수 있는 진공라인(미도시)을 만들기 위해, X/Y축 기어(226, 228) 하부에서 톱니 모양의 기아의 폭을 줄이고, 줄여진 내부를 가공하여 진공라인을 구성한다. 그리고 진공라인에는 파티클을 흡수할 수 있는 홀(hole, 248)을 진공라인과 연결되도록 구성하여 X/Y축 구동 기어(230, 234)와 X/Y축 기어(226, 228)의 마찰면에서 발생하는 파티클을 흡수하여 제거한다. 상기 진공라인은 외부 진공라인(250)과 연결되어 파티클을 마이크로스코프 주변에서 제거한다. 나머지 부재는 제1 실시예에서 설명된 것과 동일하기 때문에 중복을 피하여 생략한다.
도 9는 상기 X축 또는 Y축 기어를 확대 도시한 사시도이다. X/Y축 기어(226 또는 228)의 전후면에는 스테이지 블록과 스크루우를 통해 연결될 수 있는 나사구멍(244)이 구성되어 있고, 톱니모양의 기어(246)가 있는 일측면에는 기어(246)의 폭을 줄이고 X/Y축 기어(226 또는 228) 자체에 진공라인(미도시)을 가공하여 외부 진공라인(250)과 연결된다. 그리고, 톱니모양의 기어(246)가 있는 일측면에서 하부에는 상기 진공라인(미도시)과 연결된 홀(248)들이 구성되어서 톱니모양의 기어(246)가 X/Y축 구동 기어와 맞물려서 발생하는 파티클을 진공의 흡인력을 이용하여 흡수한다.
도 10은 도 9의 10-10'면을 절개(cross section)하였을 때의 단면도이다.
도 10을 참조하면, X/Y축 기어에서 톱니모양의 기어(246)가 있는 하부와 평행하게 진공라인(252)을 가공한 후, 다시 수직으로 홀(248)을 가공한다. 이러한 홀은 파티클을 효과적으로 흡수하기 위해 깔때기 형태로 구성할 수 있다. 그리고, X/Y축 기어의 전후면에는 스테이지 블록과 연결을 위한 나사 구멍(244)이 있다.
도 11은 도 10의 진공라인을 다르게 구성한 예이다. 도 10에서는 톱니모양의 기어(246)가 있는 일측면과 수직이 되는 하단면에 홈을 파서 진공라인(252)을 구성하고 다시 밀폐판(254)을 하부에 부착함으로써 진공라인(242)을 다르게 구성한 예이다. 이때, 진공라인과 수직이 되는 톱니모양의 기어(246)가 있는 일측면에 홀(248)이 복수개 구성되어 X/Y축 구동 기어와 X/Y축 기어의 마찰면에서 발생하는 파티클을 흡수한다.
본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명이 속한 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함이 명백하다.
아래의 표는 본 발명의 제1 실시예에 따른 파티클 수집 덮개(Particle Collection Cover)를 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(Microscope Stage Block Assembly)에 설치한 후, 하루동안 발생한 파티클의 상태를 나타낸 도표이다.
파티클 크기(㎛) 0.07 0.10 0.15 0.20 0.30 0.50 0.70 1.00
파티클 개수(N) 0 0 0 0 0 0 0 0
물론, 스테이지 블록 어셈블리가 이동되는 속도에 의해 파티클의 발생정도는 다소 차이를 나타내지만 본 발명에 의한 파티클 수집 덮개(Particle Collection Cover)를 또는 진공라인을 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(Microscope Stage Block Assembly)에 설치하게 되면, 발생된 파티클이 반도체 제조공정과 같은 파티클의 개수가 수율(Yield)로 곧바로 연결되는 예민한 공정에서, 작업자의 손 또는 웨이퍼 캐리어(carrier)에 의해 공정환경내로 전파되는 파티클의 오염문제를 억제할 수 있다.

Claims (20)

  1. 검사대상을 상부에 위치시키고, 하부에 X/Y축 기어가 장착된 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록(Stage Block);
    상기 스테이지 블록 하단에서 X축 기어와 맞물려 스테이지 블록을 X축으로 이동시키는 X축 구동 기어(X Axis driving Gear);
    상기 스테이지 블록 하단에서 Y축 기어와 맞물려 스테이지 블록을 Y축으로 이동시키는 Y축 구동 기어(Y Axis driving Gear);
    상기 스테이지 블록 및 X/Y축 구동 기어의 하부 수직방향인 Z축 방향으로 구성된 스테이지 블록 조정축(stage block control Axis);
    상기 스테이지 블록 조정축에 수직으로 연결되고, X/Y축 구동 기어 하부에 구성되어 상기 X축 및 Y축 구동 기어로부터 떨어지는 파티클을 모으는 파티클 수집 덮개(Particle collection cover); 및
    상기 파티클 수집 덮개 하부의 스테이지 블록 조정축 끝단에 구성된 X/Y축 조정 노브(X/Y Axis travel knob)를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 스테이지 블록 하단에 있는 X축 구동 기어는
    Y축 구동 기어의 상부에 구성된 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 X축 구동 기어는 상기 스테이지 블록 조정축에서 X/Y축 조정 노브와 대향된 끝단에 구성된 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 X축 및 Y축 구동 기어 사이에 제1 고정 나사(1'st fixing Screw)를 갖는 구분 평판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 X/Y축 구동 기어 및 X/Y축 기어는 동(Cu), SUS 및 테플론(Teflon)중에서 선택된 하나를 재질로 하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 파티클 수집 덮개(Particle collection cover)는
    스테이지 블록 지지축에 수직으로 구성된 파티클 수집 평판과,
    상기 파티클 수집 평판의 가장자리를 따라 구성된 파티클 떨어짐 방지벽과,
    상기 파티클 수집 평판 하부에 부착된 파티클 수집 평판 고정틀을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 파티클 수집 평판과 파티클 떨어짐 방지벽은
    무정전 아크릴(Anti-static Acril)을 재질로 하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 파티클 수집평판 고정틀은
    금속(metal) 또는 테플론을 재질로 하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  9. 제 6항에 있어서,
    상기 파티클 수집 평판 및 파티클 수집 평판 고정틀은,
    상기 스테이지 블록 조정축이 가운데를 관통할 수 있는 구멍(hole)이 있는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  10. 제 6항에 있어서,
    상기 파티클 수집 평판 및 파티클 수집 평판 고정틀은,
    부착 및 탈착이 용이하도록 두 개로 분리되어 구성된 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 분리된 형상의 파티클 수집 평판 및 파티클 수집 평판 고정틀은,
    적어도 한 개이상의 제2 고정 나사(2'nd fixing screw)에 의해 고정되는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  12. 상부에 웨이퍼를 놓을 수 있고, 하부에 X/Y축 기어가 장착된 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록(Stage Block)과,
    상기 스테이지 블록 하단에서 X축 기어와 맞물려 스테이지 블록을 X축으로 이동시키는 X축 구동 기어(X Axis driving Gear)와,
    상기 스테이지 블록 하단에서 Y축 기어와 맞물려 스테이지 블록을 Y축으로 이동시키는 Y축 구동 기어(Y Axis driving Gear)와,
    상기 스테이지 블록 및 X/Y축 구동 기어의 하부 수직방향인 Z축 방향으로 구성된 스테이지 블록 조정축(stage block control Axis)과,
    상기 스테이지 블록 조정축에 수직으로 연결되고, X/Y축 구동 기어 하부에 구성되어 상기 X축 및 Y축 구동 기어로부터 떨어지는 파티클을 모으는 파티클 수집 덮개(Particle collection cover)와,
    상기 파티클 수집 덮개 하부의 스테이지 블록 조정축 끝단에 구성된 X/Y축 조정 노브(X/Y Axis travel knob)를 구비하는 마이크로스코프를 이용한 웨이퍼 검사방법은,
    상기 X/Y축 조정 노브를 조절하여 스테이지 블록 위의 웨이퍼 표면을 검사하는 단계;
    상기 X/Y축 조정 노브에 의해 조절되는 X/Y축 구동 기어에서 발생한 파티클을 상기 파티클 수집 덮개로 수집하여 제거하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프를 이용한 웨이퍼 검사방법.
  13. 상부에 검사대상을 위치시키고, 하부에 X/Y축 기어가 구성된 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록(Stage Block);
    상기 스테이지 블록 하단에서 스테이지 블록을 X축으로 이동시키는 X축 구동 기어(X Axis Gear);
    상기 X축 기어 몸체와 연결된 하단에서 파티클을 흡입할 수 있는 홀을 포함하는 X축 진공라인;
    상기 스테이지 블록 하단에서 스테이지 블록을 Y축으로 이동시키는 Y축 구동 기어(Y Axis Gear);
    상기 Y축 구동 기어 하단에서 파티클을 흡입할 수 있는 홀을 포함하는 Y축 진공라인;
    상기 스테이지 블록 하부에서 Z축 방향으로 구성된 스테이지 블록 조정축(stage block control Axis);
    상기 스테이지 블록 조정축 끝단에 구성된 X/Y축 조정 노브(X/Y Axis travel knob)를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 X축 구동 기어는 상기 스테이지 블록 조정축에서 X/Y축 조정 노브와 대향된 끝단에 구성된 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  15. 제 13항에 있어서,
    상기 X/Y축 구동 기어 사이에 제1 고정 스크루우(1'st fixing Screw)를 갖는 구분 평판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  16. 제 13항에 있어서,
    상기 X/Y축 구동 기어 및 상기 X/Y축 기어는
    동(Cu), SUS 및 테플론(Teflon)중에서 선택된 하나를 재질로 하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  17. 제 13항에 있어서,
    상기 X축 및 Y축 진공라인은,
    상기 X축 및 Y축 기어 자체를 가공하여 구성한 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  18. 제 13항에 있어서,
    상기 X축 및 Y축 진공라인은 외부 진공라인과 연결된 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  19. 제 13항에 있어서,
    상기 X축 및 Y축 진공라인에 파티클을 흡수하도록 구성된 홀(hole)은,
    깔때기(funnel) 형태로 구성된 것을 특징으로 하는 마이크로스코프의 스테이지 블록 어셈블리(stage block assembly).
  20. 상부에 웨이퍼를 위치시키고, 하부에 X/Y축 기어가 구성된 마이크로스코프(Microscope)의 스테이지 블록(Stage Block)과,
    상기 스테이지 블록 하단에서 스테이지 블록을 X축으로 이동시키는 X축 구동 기어(X Axis Gear)와,
    상기 X축 기어 몸체와 연결된 하단에서 파티클을 흡입할 수 있는 홀을 포함하는 X축 진공라인과,
    상기 스테이지 블록 하단에서 스테이지 블록을 Y축으로 이동시키는 Y축 구동 기어(Y Axis Gear)와,
    상기 Y축 구동 기어 몸체와 연결된 하단에서 파티클을 흡입할 수 있는 홀을 포함하는 Y축 진공라인과,
    상기 스테이지 블록 하부에서 Z축 방향으로 구성된 스테이지 블록 조정축(stage block control Axis)과,
    상기 스테이지 블록 조정축 끝단에 구성된 X/Y축 조정 노브(X/Y Axis travel knob)를 구비한 마이크로스코프를 이용한 웨이퍼 검사방법에 있어서,
    상기 X/Y축 조정 노브를 조절하여 스테이지 블록 위의 웨이퍼 표면을 검사하는 단계;
    상기 X/Y축 기어 및 상기 X/Y축 구동 기어에서 발생된 파티클을 상기 X/Y축 진공라인에서 흡입하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로스코프를 이용한 웨이퍼 검사방법.
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