KR100255912B1 - Injurious material removing device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체소자 제조공정 등에서 발생하는 기체에 포함되는 유해물이 케이싱 내에 충전된 유해물 처리재 전체와 극력효과적으로 접촉하도록 구성함으로써, 이 유해물처리재의 이용율을 높이고, 이로서 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 유해물제거장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is configured so that the harmful substances contained in the gas generated in the semiconductor device manufacturing process and the like contact with the entire harmful substance treatment material filled in the casing effectively, thereby increasing the utilization rate of the hazardous substance treatment material, thereby realizing high processing capacity and long life. It is an object of the present invention to provide a pest removal device.

본 발명은 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리 상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱내의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판을 설치하고, 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판을 설치한 것을 특징으로 한다.The present invention provides a hazardous substance removal device including a conventional casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling portion of granular or agglomerate processing material filled in the casing and simultaneously adsorbing or decomposing harmful substances. Inlet inlet is provided with an inlet obstruction plate covering the inlet from the inside, and at the same time, a chargeable part of the treatment material is provided with a peripheral obstruction plate protruding in the inlet of the treatment material from the inner circumferential surface of the casing at least at an upper portion of the upper portion, an upper middle portion, or a lower portion thereof. It is characterized by.

Description

유해물 제거장치Pest removal device

제1도는 본 발명의 일 실시예에 관한 유해물 제거장치의 단면도.1 is a cross-sectional view of a pest removing device according to an embodiment of the present invention.

제2도는 본 발명의 일 실시예에 관한 유해물 제거장치의 지지판의 확대단면도.Figure 2 is an enlarged cross-sectional view of the support plate of the pest removing device according to an embodiment of the present invention.

제3도는 본 발명의 다른 실시예에 관한 유해물 제거장치의 단면도.3 is a cross-sectional view of a pest removing device according to another embodiment of the present invention.

제4도는 본 발명 및 종래예가 적용되는 유해물 제거시스템의 구성도.4 is a block diagram of a pest removal system to which the present invention and the prior art are applied.

제5도는 종래예의 단면도.5 is a cross-sectional view of a conventional example.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

4 : 유해물 제거장치 41 : 케이싱4: pest removal device 41: casing

42 : 유해물 처리제 43 : 입구42: pesticide 43: inlet

44 : 출구 46 : 지지판44 outlet 46 support plate

47 : 유공판 48 : 발47: hole plate 48: foot

49 : 입구방해판 50,51 : 주위방해판49: entrance block 50,51: surrounding block

[산업상의 이용분야][Industrial use]

본 발명은 반도체소자 제조공정 등에서 발생하는 기체에 포함되는 유해물을 효과적으로 제거하는 유해물 제거장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for removing harmful substances effectively removing harmful substances contained in a gas generated in a semiconductor device manufacturing process.

[종래의 기술][Prior art]

근래, 컴퓨터 및 이를 응용하는 전자제어장치는 눈을 크게 뜨게될 정도로 발달되고, 그 발전의 방향 및 범위는 무한히 퍼지는 것으로 생각한다.In recent years, computers and electronic control devices using the same have been developed to open eyes, and the direction and scope of the development are considered to be infinitely spread.

이 때문에 컴퓨터에 사용되는 전자부품으로써 주요한 지위를 차지하는 반도체전자소자의 제조기술 및 그 생산량도 현저히 급속하게 성장하고 있다.For this reason, the manufacturing technology and production volume of semiconductor electronic devices, which occupy a major position as electronic parts used in computers, are also growing rapidly.

이들 반도체소자의 원료로 되는 반도체로서는 게르마늄(Ge), 실리콘(Si)이 많이 쓰이고, 또 특수한 소자에는 갈륨 비소(GaAs), 갈륨인(GaP) 등도 실용되고 있다.Germanium (Ge) and silicon (Si) are widely used as semiconductors used as raw materials for these semiconductor devices, and gallium arsenide (GaAs), gallium phosphorus (GaP), and the like are also used as special devices.

반도체소자 제조공정은 예를 들면 반도체의 원기둥을 형성하는 반도체기둥형성공정, 이를 슬라이스하여 반도체 웨이퍼를 형성하는 웨이퍼 형성공정, 이 반도체 웨이퍼에 마스킹, 박막형성, 도우핑, 에칭 등을 반복함으로써 다수의 소자를 형성하는 소자형성공정, 소자가 형성된 반도체웨이퍼를 각 소자에 분단되는 재단공정등으로 이루어진다.The semiconductor device manufacturing process includes, for example, a semiconductor pillar forming step of forming a cylinder of a semiconductor, a wafer forming step of slicing the semiconductor wafer, and a plurality of steps by repeating masking, thin film formation, doping, and etching on the semiconductor wafer. An element forming step of forming an element, and a cutting process of dividing the semiconductor wafer on which the element is formed into each element.

이와 같은 반도체 제조공정에 있어서는, 예를 들면 0.01∼50μm정도의 매우 미세한 미립자 분진이 발생하는 것이 알려져 있고, 또 이 미립자분진은 그 자체가 공해방지의 관점에서 방산하는 것이 금지되는 유해물이거나, 이를 함유하는 기체가 유해물이거나, 분위기 중의 유해물을 흡착하거나 수착하거나 하는 것이 알려져 있다.In such a semiconductor manufacturing process, it is known that very fine particulate dust of, for example, about 0.01 to 50 µm is generated, and the particulate dust is itself a harmful substance which is prohibited from dispersing in view of pollution prevention or contains it. It is known that the gas to be adsorbed or adsorbs or adsorbs harmful substances in the atmosphere.

반도체 제조공정에 있어서 사용되고, 또는 생성되는 유해물로서는 이하에 예시하는 실리콘계, 비소계, 인계, 붕소계, 금속수소계, 플루오르계, 할로겐, 할로겐화물, 질소산화물, 기타의 것이 있다.Examples of the harmful substances used or produced in the semiconductor manufacturing process include silicon, arsenic, phosphorus, boron, metal hydrogen, fluorine, halogen, halides, nitrogen oxides, and the like.

실리콘계 유해가스로서는 모노-실란(SiH4), 디클로로실란(SiHCl2), 3염화규소(SiHCl3), 4 염화규소(SiCl4), 4플루오르화수소(SiF4), 디실란(Si2H6), TEOS(Si(OC2H5)4) 등이 대표적이다.Silicon-based noxious gases include mono-silane (SiH 4 ), dichlorosilane (SiHCl 2 ), silicon trichloride (SiHCl 3 ), silicon tetrachloride (SiCl 4 ), hydrogen tetrafluoride (SiF 4 ), and disilane (Si 2 H 6 ), TEOS (Si (OC 2 H 5 ) 4 ), and the like.

비소계 유해가스로서는 아르신(AsH3), 플루오르화비소(Ⅲ)(AsF3), 플루오르화비소(Ⅴ)(AsF5), 염화비소(III)( AsCl3), 염화비소(Ⅴ)(AsCl5) 등이 대표적이고, 인계유해가스로서는 포스핀(PH3), 플루오르화인(Ⅲ)(PF3), 플루오르화인(Ⅴ)(PF5), 염화인(Ⅲ)(PCl3), 염화인(Ⅴ)(PCl5), 옥시염화인(POCl3) 등이 대표적이다.Arsenic harmful gases include arsine (AsH 3 ), arsenic fluoride (III) (AsF 3 ), arsenic fluoride (V) (AsF 5 ), arsenic chloride (III) (AsCl 3 ), and arsenic chloride (V) ( AsCl 5 ) and the like, phosphine (PH 3 ), phosphorus (III) fluoride (PF 3 ), phosphorus (V) (PF 5 ), phosphorus (III) (PCl 3 ), chloride Phosphorus (V) (PCl 5 ), phosphorus oxychloride (POCl 3 ), and the like are representative.

붕소계 유해가스로서는 디보론(B2H6), 3플루오르화붕소(BF3). 3염화붕소(BCl3), 3 브롬화붕소(BBr3) 등이 대표적이고, 또 금속수소계 유해가스로서는, 세렌화수소(H2Se), 모노게르만(GeH4), 테르르화수소(H2Te), 스티빈(SbH3), 수소화주석(SnH4) 등이 대표적이고, 플루오르화계 유해가스로서는 4플루오르화메탄(CF4), 3플루오르화메탄(CHF3), 2플루오르화메탄(CH2F2), 6플루오르화프로판(C3H2F6), 8플루오르화프로판(C3F8)등이 그 예로서 들 수 있다.Boron-based noxious gases include diboron (B 2 H 6 ) and boron trifluoride (BF 3 ). Boron trichloride (BCl 3 ), boron tribromide (BBr 3 ), and the like are typical, and examples of the metal-based toxic gases include hydrogen serene (H 2 Se), monogerman (GeH 4 ), and hydrogen teroxide (H 2 Te). ), Styrene (SbH 3 ), tin hydride (SnH 4 ) and the like, and examples of fluorinated toxic gases include methane tetrafluoride (CF 4 ), methane trifluoride (CHF 3 ) and methane difluoride (CH 2). the F 2), 6-fluorinated propane (C 3 H 2 F 6) , 8 -fluorinated propane (C 3 F 8), etc. can be cited as an example.

유해가스인 할로겐 및 할로겐화물로서는 플루오르(Fa), 플루오르화수소(HF), 염소(Cl2), 염화수소(HCl), 4염화탄소(CCl4), 브롬화수소(HBr), 3플루오르화질소(NF3), 4플루오르화유황(SF4), 6플루오르화유황(SF6), 6플루오르화텅스텐(Ⅵ)(WF6), 6플루오르화몰리브덴(Ⅵ)(MoF6), 4염화게르마늄(GeCl4), 4염화주석(SnCl4), 5염화안티몬(Ⅴ)(SbCl5), 6염화텅스텐(Ⅵ)(WCl6), 6염화몰리브덴(MoCl6) 등이 대표적이다.Halogens and halides that are hazardous gases include fluorine (Fa), hydrogen fluoride (HF), chlorine (Cl 2 ), hydrogen chloride (HCl), carbon tetrachloride (CCl 4 ), hydrogen bromide (HBr), and nitrogen trifluoride (NF). 3 ), sulfur tetrafluoride (SF 4 ), sulfur hexafluoride (SF 6 ), tungsten hexafluoride (VI) (WF 6 ), molybdenum hexafluoride (VI) (MoF 6 ), germanium tetrachloride (GeCl 4 ), tin tetrachloride (SnCl 4 ), antimony pentachloride (V) (SbCl 5 ), tungsten hexachloride (VI) (WCl 6 ), molybdenum hexachloride (MoCl 6 ), and the like.

유해가스인 질소산화물로서는 일산화질소(NO), 2산화질소(NO2), 일산화 2질소(N2O)등을 들 수 있고, 기타의 유해가스로서는 황화수소(H2S), 암모니아(NH3), 트리메틸아민(CH3)3N 등을 그 예로서 들 수 있다.Nitrogen oxides, which are harmful gases, include nitrogen monoxide (NO), nitrogen dioxide (NO 2 ), and dinitrogen monoxide (N 2 O). Other harmful gases include hydrogen sulfide (H 2 S) and ammonia (NH 3). ), Trimethylamine (CH 3 ) 3 N and the like.

이외에도 인화성이 있는 에탄(C2H6), 프로판(C3H8) 이나, 질소(N2), 산소(O2), 아르곤(Ar), 이산화탄소(CO2) 등이 포함된 분위기 중에서 미립자분진이 생성되는 것이 알려져 있다.In addition, the fine particles in the atmosphere containing flammable ethane (C 2 H 6 ), propane (C 3 H 8 ), nitrogen (N 2 ), oxygen (O 2 ), argon (Ar), carbon dioxide (CO 2 ) It is known that dust is produced.

공해방지의 정신이 철저해지는 오늘날에는 이들 유해성분이나, 분진을 포함한 배기가스를 그대로 대기 중에 방출하는 것을 허락하지 않고, 제4도에 도시하는 바와 같이 배기가스발생원(1)에서 펌프(2)로 배기가스를 꺼내고, 집진장치(3)에 의하여 배기가스 중에서 분진을 제거하고, 더욱 유해성분제거장치(4)에 의하여 산화, 환원, 수착, 흡착 등의 처리를 실시하여 안전하고 청정한 가스로서 방출하는 것이 요구되고 있다.Today, when the spirit of pollution prevention is thorough, these harmful components and dust containing dust are not allowed to be released into the atmosphere as they are, and as shown in FIG. 4, from the exhaust gas generating source 1 to the pump 2 The exhaust gas is taken out, dust is removed from the exhaust gas by the dust collector 3, and further oxidized, reduced, sorbed, and adsorbed by the harmful component removal apparatus 4 to be discharged as a safe and clean gas. Is required.

상기 집진장치로서는 사이클론, 스크러버, 벤투리 스크러버, 백필터, 전기집진기, 루버, 침강실 등 공지의 집진장치를 사용하여도 좋지만, 이들보다도 집진 가능한 입자경이 미세하고, 집진 능력이 높고, 게다가 부설면적이 작은 본 출원인의 선원(일본국 특원평5-113927호)에 관한 미립자 분진처리장치를 사용하는 것이 바람직하다.As the dust collector, a known dust collector such as a cyclone, a scrubber, a venturi scrubber, a bag filter, an electrostatic precipitator, a louver, a settling chamber may be used, but the particle size that can be collected is finer, the dust collection capability is higher, and the laying area is more than that. It is preferable to use the fine particle dust processing apparatus concerning this small applicant's source (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-113927).

상기 유해물 제거장치는 제5도에 도시하는 바와 같이 원통상의 케이싱(101) 내에 유해물처리재(102)를 충전한 것이 사용되고 있다.As shown in FIG. 5, the above-mentioned harmful substance removal apparatus is used by filling the hazardous substance treatment material 102 in the cylindrical casing 101. As shown in FIG.

이 케이싱(101)은 하단에 입구(103)를 갖고, 상단에 출구(104)를 가짐과 동시에 내주의 하부에 고정된 유지틀(105)을 구비하고 있다.The casing 101 has an inlet 103 at the lower end, an outlet 104 at the upper end, and is provided with a retaining frame 105 fixed to the lower part of the inner circumference.

그리고, 이 유지틀(105)에 유공판으로 이루어지는 지지판(106)을 설치하고, 이 지지판(106)에 유해물처리재(102)를 지지시키고 있다.And the support plate 106 which consists of a perforated plate is provided in this holding | maintenance frame 105, and the harmful substance treatment material 102 is supported by this support plate 106. As shown in FIG.

유해물처리재(102)는 예를 들면 입경 5~18mm정도의 입상 내지 덩어리상으로 형성된 기재와, 이에 담지되는 유해물 처리재로 이루어지고, 기재는 예를 들면 활성탄 세라믹스, 합성수지 등으로 이루어지고, 유해물 처리재로서는 백금촉매, 알칼리 금속실리케이트, 인산금속염 등이 많이 사용된다.The pest treatment material 102 is composed of, for example, a substrate formed in a granular form or agglomerate with a particle diameter of about 5 to 18 mm, and a pest treatment material supported thereon. The substrate is made of, for example, activated carbon ceramics, synthetic resin, or the like. Platinum catalysts, alkali metal silicates, metal phosphates, and the like are often used as the treatment materials.

[발명이 해결하려고 하는 과제][Problems that the invention tries to solve]

이 종래의 유해물 제거장치에 있어서는 유해성분을 포함하는 배기가스가 케이싱(101)의 입구(103)로부터 곧바로 출구(104)로 향하는 범위에서(제5도에 피치의 미세한 해칭으로 도시하는 범위) 유로(108)를 형성하면서 흐르기 쉽지만, 유로 형성범위가 좁기 때문에 효율이 나쁘고, 게다가 그 유로(108)의 주위의 유해물처리재(102)의 처리능력이 거의 발휘되지 못한 채 단시간 내에 유해물 제거능력이 저하하여 파괴하여 버리고 수명이 짧아지는 결점이 있다.In this conventional harmful substance removal device, the flow path in which exhaust gas containing harmful components is directed from the inlet 103 of the casing 101 to the outlet 104 directly (indicated by the fine hatching of the pitch in FIG. 5) Although it is easy to flow while forming the 108, the efficiency is poor because the flow path formation range is narrow, and furthermore, the ability to remove the pests decreases within a short time with little treatment ability of the hazardous material 102 around the flow path 108 being exhibited. There is a drawback to destroy and shorten the life.

또, 종래의 유해물 제거장치에 있어서는 케이싱(101)의 하단에 입구(103)를 설치하고, 상단에 출구(104)를 설치하고, 대기압의 작용으로 배기가스가 유로(108)을 빠져나가는 것을 억제하고, 케이싱(101) 내에서 유로(108) 외의 유해물처리재(102)에도 배기가스를 접촉시키려 하지만, 배기가스에는 펌프(2)의 압력이 작용하고 있으므로 효과를 높이는데 있어서는 거의 영향이 없다.In addition, in the conventional harmful substance removal device, the inlet 103 is provided at the lower end of the casing 101, the outlet 104 is provided at the upper end, and the exhaust gas is prevented from exiting the flow path 108 by the action of atmospheric pressure. The exhaust gas is also brought into contact with the noxious substance treatment material 102 other than the flow path 108 in the casing 101. However, since the pressure of the pump 2 acts on the exhaust gas, there is almost no effect on increasing the effect.

더욱 종래의 유해물 제거장치에서는 유해물 처리재를 지지하는 지지판(106)이 유공판이므로, 비개구부분에 대응하는 부분에는 전혀 배기가스가 유입하는 일이 없고, 또 개구부분을 입상 내지 덩어리상의 처리재가 맞닿아서 막는 결과, 유해물 처리재의 이용 효율이 낮아지고, 효율을 높이는 점에서 불리함과 동시에 파괴시간을 길게하여 수명을 길게하는 점에서 불리하게 된다.Further, in the conventional hazardous substance removing apparatus, since the support plate 106 supporting the hazardous substance treatment material is a perforated plate, no exhaust gas flows into the portion corresponding to the non-opening portion, and the opening portion has granular or lump-like treatment material. As a result of the abutment prevention, the utilization efficiency of the harmful treatment material is lowered, which is disadvantageous in terms of increasing the efficiency, and at the same time, it is disadvantageous in terms of extending the breakdown time and extending the life.

본 발명은 상기의 기술적 과제에 비추어 이루어진 것이고, 반도체소자 제조공정 등에서 발생하는 기체에 포함된 유해물이 케이싱 내에 충전된 유해물 처리재 전체가 극력 효과적으로 접촉하도록 구성함으로써, 이 유해물 처리재의 이용율을 높이는 점, 이로서 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 유해물 제거장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described technical problem, and in that the harmful substances contained in the gas generated in the semiconductor device manufacturing process or the like are configured to contact the whole harmful substance treatment material filled in the casing most effectively, thereby increasing the utilization rate of the harmful substance treatment material, It is an object of the present invention to provide an apparatus for removing harmful substances that can realize high processing capacity and long life.

[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]

본 발명의 유해물 제거장치는 상기 목적을 달성하기 위하여 이하에 설명하는 기술적 수단을 강구한 것이다.In order to achieve the above object, the apparatus for removing harmful substances of the present invention takes the technical means described below.

즉, 본 발명의 제1의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과 이 케이싱 내에 충전되고, 동시에 유해물을 흡착 내지 분쇄하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판을 설치하고, 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부재로 돌출하는 주위방해판을 설치한 것을 특징으로 한다.That is, the first pest removal device of the present invention includes a normal casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling part of granular or lump-like processing material for adsorbing or pulverizing the pest at the same time. In one pest removal apparatus, an inlet obstruction plate is provided at the inlet of the casing to cover the inlet from the inside thereof, and at the same time, the filling part of the treatment material is filled with the treatment material on the inner circumferential surface of the casing at least in the upper part, the upper and lower middle part, or the lower part. It is characterized in that a peripheral disturbance plate protruding from the member is provided.

본 발명의 제2의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에, 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.The second pest removal device of the present invention includes a normal casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling part of granular or lump-like processing material filled in the casing and adsorbing or decomposing harmful substances at the same time. In a noxious substance removal device, a support plate for receiving a noxious substance treatment material is disposed in the lower portion of the casing, and the support plate has a perforated plate and a foot protruding upward from the upper surface thereof.

본 발명의 제3의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되어 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.The third pest removal device of the present invention has a conventional casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling part of granular or agglomerate treatment material filled in the casing and adsorbing or decomposing the pest at the same time. In the removal apparatus, an inlet obstruction plate covering the inlet at the inlet of the casing, and a support plate receiving the hazardous substance treatment material at the lower portion of the casing are disposed so that the support plate protrudes upward from the upper plate and the upper surface thereof. Characterized in having a.

본 발명의 제4의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지관이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이것의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.The fourth pest removal device of the present invention includes a conventional casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling part of granular or agglomerate treatment material filled in the casing and adsorbing or decomposing the pest at the same time. In the removal apparatus, the filling part of the processing material includes a peripheral blockage plate protruding into the filling part of the processing material on the inner circumferential surface of the casing on at least an upper portion, an upper middle portion or a lower portion thereof, and a support tube receiving the hazardous material treatment material on the lower portion of the casing. It is arrange | positioned and this support plate is characterized by having a perforated plate and the foot which protrudes upwards from the upper surface of this.

본 발명의 제5의 유해물 제거장치는 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물 제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내로 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 한다.The fifth pest removal device of the present invention has a conventional casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling part of granular or agglomerate treatment material filled in the casing and adsorbing or decomposing the pest at the same time. In the removal device, the entrance of the casing is an inlet obstruction plate covering the inlet from the inside, and in the charging portion of the processing material, the peripheral obstruction protruding into the charging portion of the processing material from the inner circumferential surface of the casing on at least an upper portion of the upper or upper middle portion or lower portion thereof. A plate and a support plate which receives a hazardous substance treatment material are arranged in the lower part of the said casing, and this support plate has a perforated plate and the foot which protrudes upwards from the upper surface thereof.

본 발명의 제6의 유해물 제거장치는 상기 각 유해물 제거장치에 있어서, 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한 끝에 출구를 설치하고, 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한 끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루는 것을 특징으로 한다.According to the sixth hazardous substance removing apparatus of the present invention, in each of the hazardous substance removing apparatuses, the outlet is provided at one end and the outlet is installed at one end instead of having the inlet at one end and the outlet at the other end. Characterized in that the filling section is provided by a passage communicating from the outlet side of the processing gas to the outlet of the one end.

이하, 본 발명을 명확히 하기 위하여 더욱 상세히 설명한다.It will be described below in more detail to clarify the present invention.

본 발명의 유해물 제거장치의 입구는 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 유해물 발생원이 접속된다.The inlet of the harmful substance removing device of the present invention is connected to a harmful substance generating source for generating exhaust gas including harmful substances.

이 유해물 발생원은 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 것이면 특히 한정되지 않고 예를 들면 반도체 제조공정중의 반도체 기둥형성공정에 있어서 사용되는 기상 성장처리실, 플라스마 기상성장처리실, 소자형성공정 중에 있어서, 사용되는 박막형성처리실, 도우핑처리실, 에칭처리실, 플라스마 에칭처리실, 각 공정 중 또는 각 공정간의 세정공정에서 사용되는 세정처리실 등을 그 전형예로서 들 수 있다.The source of harmful substances is not particularly limited as long as it generates exhaust gas containing harmful substances. For example, the source of harmful substances is used in the gas phase growth processing chamber, the plasma gas phase growth processing chamber, and the element formation process used in the semiconductor pillar forming process in the semiconductor manufacturing process. As a typical example, a thin film formation process chamber, a doping process chamber, an etching process chamber, a plasma etching process chamber, the washing process chamber used in the washing process in each process or between each process are mentioned.

본 발명의 유해물 제거장치의 입구는 직접 이들 유해물 발생원에 접속하여도 좋지만 유해물 발행원이 동시에 먼지를 발생하는 경우에는 먼지에 의한 눈막힘이나, 유해물이 부착한 먼지가 유해물 제거장치를 통과하는 것을 방지하기 때문에 집진장치를 사이에 두고 유해물 발생원에 접속하는 것이 바람직하다.The inlet of the pest removal device of the present invention may be directly connected to these sources, but when the source of issue of the pests generates dust at the same time, clogging caused by dust or dust attached to the pests is prevented from passing through the pest removal device. Therefore, it is preferable to connect the dust generating source with the dust collector in between.

이 집진장치에 대하여는 본 발명이 직접문제로 하는 바는 아니므로 그 상세한 설명을 생략한다.This dust collector is not a direct problem in the present invention, and its detailed description is omitted.

본 발명의 유해물 제거장치의 출구는 직접으로 대기 중에 연통시켜도 좋고, 또 별도의 유해물 제거장치와 소음기를 사이에 두고 연통시켜도 상관없다.The outlet of the harmful substance removal device of the present invention may be directly communicated with the atmosphere, or may be communicated with another hazardous substance removal device and a silencer.

상기 케이싱의 현상은 통형이면 좋고, 예를 들면 4각, 6각, 8각의 다각형 통형도 좋고, 또 타원통형도 좋지만, 유해물 처리재의 열화가 될 수 있는 대로 균등하게 진행하게 하기 위하여 축심을 중심으로 전 방향으로 균등한 원통형으로 형성하는 것이 바람직하고, 또 입구 및 출구가 케이싱과 동축 상으로 설치되는 것이 바람직하다.The phenomenon of the casing may be a tubular shape, for example, a polygonal tubular shape of 4, 6, or 8 angles may be good, and an elliptic cylindrical shape may be used, but the center of the shaft is centered so as to proceed evenly as the degradation of the pest treatment material may occur. Therefore, it is preferable to form the cylindrical shape equally in all directions, and it is preferable that the inlet and the outlet are provided coaxially with the casing.

상기 케이싱의 소재는 특히 한정되지 않지만, 기밀성, 내약품성, 내산성, 내알칼리성, 내후성 및 충분한 기계적 강도를 구비하는 것이 바람직하고, 예를 들면 섬유강화합성섬유, 고무라이닝 등의 내식처리를 실시한 철, 스테인리스강을 포함하는 강등의 금속 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서는 내외의 청소 등의 처리가 용이 내지 불요한 것이 보다 바람직하고 예를 들면 스테인리스강이 많이 사용된다.Although the material of the casing is not particularly limited, it is preferable to have airtightness, chemical resistance, acid resistance, alkali resistance, weather resistance and sufficient mechanical strength, for example, iron subjected to corrosion treatment such as fiber reinforced synthetic fiber, rubber lining, Metals, such as steel bars containing stainless steel, can be used. In these, it is more preferable that the process of cleaning etc. inside and outside is easy or unnecessary, for example, many stainless steels are used.

상기 유해물 처리재는 종래부터 사용하고 있는 것으로 충분하고, 예를 들면 입상에서 덩어리상의 기재에 처리제를 담지시킨 것이 사용된다.It is sufficient that the above-mentioned hazardous substance treatment material is used conventionally, for example, the thing which supported the processing agent on the lump-like base material in granular form is used.

기재로서는 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖지 않는 것을 사용하여도 좋지만, 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 것을 사용하는 것이 처리능력을 높이는 점에서 바람직하다. 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 기재로서는 예를 들면 활성탄, 세라믹스, 제올라이트, 알루미나, 산성백토 등을 들 수 있다.Although the substrate itself may be one that does not have the ability to adsorb or soak the harmful substances, it is preferable to use one having the ability to adsorb or soak the harmful substances by itself in terms of enhancing the treatment capacity. As a base material which has the ability to adsorb | suck a pest or adsorb | sucks a harmful substance, activated carbon, ceramics, a zeolite, alumina, an acidic clay, etc. are mentioned, for example.

또 기재로서 후술하는 처리제를 입상 내지 덩어리상으로 형성한 것을 사용하여도 좋다.Moreover, you may use what formed the processing agent mentioned later as a base material in granular form or lump form.

처리제로서는 인산알루미늄 등의 금속인산염, 알루미노규산염, 알칼리 금속실리케이트, 백금촉매 등이 많이 사용된다.As the treatment agent, metal phosphates such as aluminum phosphate, aluminosilicates, alkali metal silicates, platinum catalysts and the like are frequently used.

또 다른 처리제로서는 이하의 것을 그 예로서 들 수 있다.As another processing agent, the following are mentioned as the example.

즉, Na2O, K2O, CaO, MgO, CuO, Ag2O, 알루미나, 산화지르코늄 등의 주기율표의 Ⅰ족, Ⅱ족, Ⅲ족 또는 Ⅳ족의 산화물, 또는 이들 산화물을 포함하는 화합물로서, (Mc1)x(Mc2)y(O)z로 표시되는 것 등이 사용된다.That is, as an oxide of group I, group II, group III, or group IV of the periodic table such as Na 2 O, K 2 O, CaO, MgO, CuO, Ag 2 O, alumina, zirconium oxide, or a compound containing these oxides , (Mc 1 ) x (Mc 2 ) y (O) z, and the like are used.

다만, 상기 Mc1은 Ⅰ족, Ⅱ족 또는 Ⅲ족의 원소이고, 상기 Mc2는 알루미늄(An) 등의 Ⅲ족 탄소(C), 규소(Si), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr) 등의 Ⅳ족, 인(P), 바나듐(V) 등의 Ⅴ족 원소이고, O는 산소이고, x, y, z는 각각 정수이다.However, Mc 1 is an element of Group I, II or III, and Mc 2 is Group III carbon (C) such as aluminum (An), silicon (Si), titanium (Ti), zirconium (Zr), or the like. Is a Group V element such as Group IV, phosphorus (P), vanadium (V), O is oxygen, and x, y, and z are each an integer.

본 발명의 제1의 유해물 제거장치에 있어서는 케이싱의 입구와 유해물 처리재가 충전되는 처리재의 충전부와의 사이에 적당한 간격이 설치되고 이 입구와 처리재의 충전부와의 사이에서 이들로부터 각각 적당한 거리를 두고 배치되는 입구 방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 충돌한 주위 방해판을 설치하여 이룬다.In the first noxious substance removal device of the present invention, an appropriate distance is provided between the inlet of the casing and the charging portion of the treatment material filled with the hazardous treatment material, and is disposed at appropriate distances from the inlet and the charging portion of the treatment material, respectively. The inlet baffle plate and the filling part of the processing material are provided by at least an upper part of the upper part, an upper middle part or a lower part of the lower part of the processing material.

이 입구 방해판은 케이싱의 입구를 내측에서 덮는 것이 필요하지만 꼭 입구를 전면적으로 덮을 필요는 없고, 입구로부터 유입하는 배기가스의 흐름을 케이싱내의 중심에서 분산할 수 있는 크기로 형성되어 있으면 충분하다.The inlet baffle plate is required to cover the inlet of the casing from the inside, but it is not necessary to cover the inlet entirely, and it is sufficient that the inlet baffle is formed to have a size that can disperse the flow of exhaust gas flowing from the inlet in the center of the casing.

또, 입구 방해판의 형상은 특히 한정되지 않고 입구측에서 보아 망성형, 다각형 또는 타원형으로 형성하여도 좋고, 배기가스를 균등하게 분산시키기 위하여 입구와 동심의원형으로 형성하는 것이 바람직하다.In addition, the shape of the inlet baffle plate is not particularly limited, and may be formed in a net shape, a polygonal shape or an oval shape when viewed from the inlet side, and it is preferable that the inlet baffle plate is formed concentrically with the inlet to distribute the exhaust gas evenly.

더욱 입구 방해판은 예를 들면 원뿔형, 국좌판 등의 입체적인 판이라도 좋지만 형상을 간단히 하여 코스트를 저감시킬 수 있는 평판상으로 형성하는 것이 바람직하다.Further, the entrance barrier plate may be, for example, a three-dimensional plate such as a cone or a seat plate, but is preferably formed in a flat plate shape that can simplify the shape and reduce the cost.

이와 같이 입구 방해판은 케이싱의 입구를 내측에서 덮으므로 유해물을 포함하는 배기가스가 처리재의 충전부상의 전체에 퍼지고, 처리재의 충전부의 특정한 곳만을 통과하는 것이 방지되고, 유해물의 제거효율이 양호하게 되는 것이다.In this way, the inlet baffle covers the inlet of the casing from the inside, so that the exhaust gas containing the harmful substances is spread over the whole of the filling portion of the treatment material and is prevented from passing through only a specific portion of the filling portion of the treatment material, and the removal efficiency of the harmful substance is satisfactorily. Will be.

또, 케이싱의 내주면이 평활하기 때문에 처리재의 형상에 따라서는 처리재의 충전부내에서 유해물 처리재 사이에 형성되는 유로보다도 케이싱의 내주면과 유해물 처리재와의 사이에 유동저항이 작은 유로가 형성되어 이 유동저항이 작은 케이싱의 내주면과 유해물 처리재와의 사이의 유로에 배기가스가 흐르고 이로서 처리효율이 저하함과 동시에 처리재의 충전부의 주위부가 단시간 내에 파괴되기 쉬운 경우가 있다.In addition, since the inner circumferential surface of the casing is smooth, a flow path having a smaller flow resistance is formed between the inner circumferential surface of the casing and the pesticide treatment material than the flow path formed between the pesticide treatment material in the filling portion of the treatment material depending on the shape of the treatment material. Exhaust gas flows through the flow path between the inner circumferential surface of the casing with a low resistance and the pesticide treatment material, thereby degrading the treatment efficiency and causing the periphery of the filling part of the treatment material to be easily broken in a short time.

여기서 본 발명의 제1의 유해물 제거장치에 있어서, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판이 설치되어 있다.In the first harmful substance removal apparatus of the present invention, the charging section of the treatment material is provided with a peripheral disturbance plate protruding into the charging section of the treatment material from the inner circumferential surface of the casing at least at an upper portion, an upper middle portion, or a lower portion thereof.

이 경우, 이 주위방해판은 배기가스의 이동이 처리재의 내측으로 향하도록 그 기단에서 선단을 향하여 비스듬히 설치하는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that the peripheral disturbance plate is provided at an angle from the base end toward the tip so that the movement of the exhaust gas is directed to the inside of the processing material.

또, 유해물 처리재를 지지하는 지지판의 유공판이면, 비개구부분에 대응하는 부분에는 전혀 배기가스가 유입하는 일 없이 또 개구부분을 입상 내지 덩어리상의 처리재가 직접 맞닿아서 막는 결과, 유해물 처리재의 이용효율이 낮아지고, 효율을 높이는 점에는 불리하게 됨과 동시에 파괴시간을 길게 하여 수명을 길게하는 점에서도 불리하게 된다.In addition, in the case of the perforated plate of the support plate for supporting the hazardous substance treatment material, no exhaust gas flows into the portion corresponding to the non-opening portion, and the opening portion is directly contacted and prevented by the granular or lump-like treatment material. It is disadvantageous in that the utilization efficiency is lowered and the efficiency is increased, and at the same time, it is disadvantageous in that the breakdown time is extended and the life is extended.

여기서, 본 발명의 제2의 유해물 제거장치에 있어서는 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 점에 가장 큰 특징을 갖는다.Here, in the second noxious substance removal device of the present invention, the most important feature is that a supporting plate receiving the hazardous material is disposed in the lower portion of the casing, and the support plate has a foot that protrudes upward from the perforated plate and its upper surface. Have

이와 같이 처리재의 충전부가 유공판에서 발에 의하여 떠오른 상태로 지지되므로 처리재의 충전부 내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판의 비개구부에 의하여 막히지 않고, 발의 눈 사이에 개구하여 집합되고(유로 집합효과), 배출가스의 처리재의 충전부로의 유입이나 배기가스의 처리재의 충전부로터의 유출이 부분적으로 막혀지는 일이 없이 이로서 처리재의 충전재의 충전부 전체에 걸쳐서 배기가스를 평균적으로 흐르게 할 수 있다.In this way, since the filling part of the processing material is supported by the foot from the perforated plate, most of the flow paths formed in the filling part of the processing material are not blocked by the non-opening part of the perforated plate, but are opened and collected between the eyes of the foot (Euro collection effect). In addition, the inflow of the exhaust gas into the filling portion of the treating material and the outflow of the filling portion rotor of the treating material of the exhaust gas are not partially blocked, thereby allowing the exhaust gas to flow on an average throughout the filling portion of the filling material of the treating material.

또 이 발의 높이는 유해물 처리재를 유공판에서 떼서 지지하도록 설정할 필요가 있고, 발의 높이가 3∼30mm, 특히 5∼15mm인 것이 바람직하다.In addition, the height of the foot needs to be set so as to support the pest treatment material from the perforated plate, and the height of the foot is preferably 3 to 30 mm, particularly 5 to 15 mm.

이 발의 높이가 3mm미만으로 하회하면 발의 눈을 작게 할 필요가 있고, 유로저항이 증가할 염려가 있으므로 바람직하지 않고, 한편 발의 높이가 30mm를 초과할 때에는 발에 의한 유로 집합효과가 한계에 도달하여 그 이상 높여질 수 없는데 비하여 발의 재료비가 높아지므로 바람직하지 않다.If the height of the foot is less than 3 mm, the eyes of the foot need to be made small and the flow resistance may increase, which is undesirable. On the other hand, when the height of the foot exceeds 30 mm, the flow path effect by the foot reaches its limit. It is not preferable because the material cost of the foot is higher than that can not be increased further.

그런데 본 발명의 제3의 유해물 제거장치에 있어서 특히 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치한 점에서 가장 큰 특징을 갖는다.In the third harmful substance removal device of the present invention, in particular, an inlet obstruction plate covering the inlet from the inside of the casing and a support plate receiving the hazardous substance treatment material in the lower portion of the casing are disposed, and the support plate includes a perforated plate, It has the biggest feature in that it installs the foot which protrudes upwards from the upper surface.

즉, 이것은 입구 방해판과, 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판의 유공판과 이것의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치함으로써 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음과 또 이로서, 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 것이다. 여기서 입구 방해판 및 지지판으로서는 상술의 것을 들 수 있다.In other words, this includes the inlet obstruction plate and the support plate receiving the pest treatment material in the lower part of the casing, and further includes the harmful substances by the synergistic effect by installing the perforated plate of the support plate and the foot protruding upward from the upper surface thereof. Since the exhaust gas can be distributed to the entire filling part of the treatment material, the utilization rate of the hazardous substance treatment material can be increased, and thus, high treatment capacity and long life can be realized. Examples of the inlet obstruction plate and the support plate include the above.

또, 본 발명의 제4의 유해물 제거장치에 있어서는 특히 유해물의 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내로 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 점에서 가장 큰 특징을 갖는다.In the fourth harmful substance removing device of the present invention, in particular, in the charging portion of the hazardous material treatment, at least an upper portion, an upper middle portion, or a lower portion, a peripheral blockage plate protruding from the inner circumferential surface of the casing into the charging portion of the treatment material and the lower portion in the casing. The support plate which receives a pesticide processing material is arrange | positioned at this, and this support plate has the largest characteristic in that it has a hole and the foot which protrudes upwards from the upper surface.

즉, 이것은 주위 방해판과 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치하여 이루어지는 것으로 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재의 이용율을 높임과 동시에 이로서 높은 처리능력과 긴 수명을 한층 실현할 수 있는 것이다.That is, this is made by placing a support plate receiving the pest treatment material at the lower part of the surrounding obstruction plate and the casing, and the support plate is provided with a perforated plate and a foot protruding upward from the upper surface thereof to further contain the harmful matter by the synergistic effect. Since the exhaust gas can be distributed to the whole filling part of the treatment material, the utilization rate of the hazardous substance treatment material can be increased, and therefore, high treatment capacity and long life can be realized.

여기서 주위 방해판 및 지지판으로서 상술의 것을 들 수 있다.The above-mentioned thing can be mentioned here as a peripheral obstruction plate and a support plate.

본 발명의 제5의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되어 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 점에서 특징을 갖는다.In the fifth noxious substance removal device of the present invention, an inlet obstruction plate covering the inlet of the inlet at the inlet of the casing, and a filling part of the treatment material at the inner circumferential surface of the casing at least at an upper portion of the casing or at the upper or lower middle portion thereof. A peripheral obstruction plate protruding in the live part, and a support plate receiving the hazardous treatment material at the lower portion of the casing are disposed so that the support plate has a perforated plate and a foot protruding upward from the upper surface thereof.

즉, 이것은 입구 방해판과 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것으로 이들의 상승효과에 의하여 특히 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재의 이용율을 한층 더 높여주는 것임과 동시에 이로서 한층 더 높은 처리능력과 한층 더 긴 수명을 실현할 수 있는 것이다.That is, this means that the inlet baffle plate and the charging part of the processing material have a peripheral baffle projecting from the inner circumferential surface of the casing into the charging part of the processing material on at least an upper part of the upper or upper middle part or the lower part thereof, and a support plate receiving the hazardous material on the lower part of the casing. And the support plate has a foot that protrudes upward from the perforated plate and its upper surface, and the synergistic effect thereof makes it possible to further distribute the exhaust gas containing the harmful substance to the whole filling part of the treatment material. In addition, the higher processing capacity and longer lifespan can be realized.

여기서, 입구방해판, 주위방해판 및 지지판으로서는 상술한 것을 들 수 있다.Here, the above-mentioned ones can be mentioned as the entrance barrier plate, the peripheral barrier plate, and the support plate.

본 발명의 제6의 유해물 제거장치는 상기 각 유해물 제거장치에 있어서, 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한끝에 출구를 설치하고 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루고, 상기 각 유해물 제거장치의 상기 효과에 더하여, 더욱 그 설치공간을 작게하거나, 상기 각 유해물 제거장치의 부착이 더 없이 용이하게되는 것이다.The sixth hazardous substance removing device of the present invention includes the inlet at one end and the outlet at the same time, instead of having the inlet at one end and the outlet at the other end, the outlet is installed at the one end and the filling part of the treatment material. In this case, a passage communicating with the outlet of one end is provided on the outlet side of the processing gas, and in addition to the above effects of the respective harmful removal devices, the installation space is further reduced, or the attachment of each harmful removal device is further eliminated. It is to be easy.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 상기 구성을 갖고, 입구 방해판과, 처리재 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위 방해판을 가짐으로서 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재와 배기가스와의 접촉이 더 없이 유효하게 행해지는 작용을 갖는 것이다.In the apparatus for removing harmful substances of the present invention, it has the above-described configuration, and the inlet baffle plate and the treatment material filling part have a peripheral baffle that protrudes into the filling part of the treatment material from the inner circumferential surface of the casing on at least an upper portion thereof, an upper middle portion, or a lower portion thereof. Since the exhaust gas containing the harmful substance can be distributed to the whole filling part of the processing material, the contact between the harmful processing material and the exhaust gas can be effectively performed.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖으면 처리재의 충전부가 유공판에서 발에 의하여 떠오른 상태에 지지되므로 처리재의 충전부내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판의 비개구부에 의하여 막히지 않고, 발의 눈의 사이에 개구하여 집합되어(유로집합효과), 배기가스의 처리재의 충전부로의 유입이나, 배기가스의 처리재의 충전부로부터의 유출이 부분적으로 막히는 일없이 처리재의 충전부 전체에 걸쳐 배기가스를 평균적으로 흐르게 할 수 있는 작용을 갖는 것이다.In the apparatus for removing harmful substances of the present invention, when a support plate receiving a pest treatment material is disposed in the lower part of the casing, and the support plate has a foot protruding upward from the hole plate and its upper surface, the filling part of the treatment material is lifted by the foot from the hole plate. Since most of the flow path formed in the filling portion of the processing material is not blocked by the non-opening portion of the perforated plate, it is opened and collected between the eyes of the foot (euro aggregation effect) so that the exhaust gas flows into the filling portion of the treating material or exhausts. It has the effect | action which can make exhaust gas flow on the average throughout the whole filling part of processing material, without the outflow from the filling part of the processing material of gas being partially blocked.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치함으로써 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와 접촉이 더없이 양호하게되어 유해물을 효율 좋게 제거할 수 있는 작용을 갖는 것이다.In the apparatus for removing harmful substances of the present invention, in particular, an inlet obstruction plate covering the inlet is provided at the inlet of the casing, and a support plate receiving the hazardous substance treatment material at the lower portion of the casing is disposed, and the support plate is upwardly from the perforated plate and its upper surface. By providing a protruding foot, the synergistic effect makes it possible to further distribute the exhaust gas containing the harmful substances to the whole filling part of the treatment material, so that the contact with the exhaust gas and the hazardous substance treatment material becomes better and the harmful substances can be efficiently removed. It has action.

또, 본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 유해물 처리재의 충전부에는 그의 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내로 돌출하는 주위 방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상면으로 돌출하는 발을 설치하여 이루어지므로 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와의 접촉이 더없이 양호하게되어 유해물을 효율 좋게 제거할 수 있는 작용을 갖는 것이다.In the harmful substance removing device of the present invention, in particular, the charging portion of the hazardous substance treatment material includes a peripheral blockage plate protruding into the charging portion of the treatment material from the inner circumferential surface of the casing on at least an upper portion thereof, an upper middle portion, or a lower portion thereof, and a harmful substance at the lower portion of the casing. A support plate receiving the treatment material is disposed, and the support plate is formed by installing a perforated plate and a foot protruding from the upper surface to the upper surface thereof, so that the synergistic effect allows the exhaust gas containing harmful substances to be distributed to the whole filling part of the treatment material. As a result, the contact between the exhaust gas and the harmful treatment material becomes better, and thus, it is possible to efficiently remove the harmful substances.

또, 본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮는 입구방해판과 상기 처리충전부에는 그의 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 가짐으로써 이들의 상승효과에 의하여 특히 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재의 접촉이 특히 양호하게되어 유해물을 한층 더 효율 좋게 제거할 수 있는 작용을 갖는 것이다.In addition, in the apparatus for removing harmful substances of the present invention, an inlet obstruction plate covering the inlet at the inlet of the casing and the treatment filling part protrude in the filling part of the treatment material on the inner circumferential surface of the casing at least at the upper or upper and lower middle portions or the lower portion thereof. And a support plate receiving the hazardous treatment material at the lower portion of the casing, and the support plate has a foot which protrudes upwardly from the perforated plate and its upper surface, thereby further including the harmful substance. Since the exhaust gas can be distributed to the entire charging portion of the treatment material, the contact between the exhaust gas and the pest treatment material is particularly good, and the harmful gas can be removed more efficiently.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는, 상기 각 유해물 제거장치에서 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 가짐에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한끝에 출구를 설치하고, 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루어지므로 상기 각 유해물 제거장치의 상기 작용에 더하여 더욱이 그 설치공간을 작게 하거나, 상기 각 유해물 제거장치의 부착이 더 없이 용이하게 되는 작용을 갖는 것이다.In the pest removal device of the present invention, in each of the above-mentioned pest removal devices, instead of having an inlet at one end and having an outlet at the other end, an outlet is provided at one end and an outlet at the one end thereof, In addition to the above action of each pest removal device, the installation space is further reduced or the attachment of each pest removal device is facilitated by providing a passage communicating with the outlet of one end at the outlet side of the processing gas. It has action.

[실시예]EXAMPLE

이하, 본 발명의 일 실시예에 관한 유해물 제거장치를 도면에 의거하여 구체적으로 설명하지만 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the pest removal apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.

제1도 및 제2도에 있어서, 이 유해물 제거장치는 케이싱(41)내에 유해물 처리재(42)를 충전한 것이고, 이 케이싱(41)은 상단에 입구(43)를 가짐과 동시에 하단에 출구(44)를 갖고, 상기 입구(43)는 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 유해물 발생원에 접속된다.In FIG. 1 and FIG. 2, this harmful substance removal apparatus is filled with the hazardous substance treatment material 42 in the casing 41, This casing 41 has an inlet 43 at the upper end, and it exits at the lower end. (44), the inlet (43) is connected to a noxious substance source that generates exhaust gas containing noxious substances.

이 유해물 발생원은 유해물을 포함한 배기가스를 생성하는 것이면 특히 한정되지 않고, 예를 들면 반도체 제조공정 중의 반도체기둥형성 공정에 있어서 사용되는 기상성장처리실, 플라스마 기상성장처리실, 소자형성공정 중에 있어서 사용되는 박막형성처리실, 도핑처리실, 에칭처리실, 플라스마에칭처리실, 각 공정 또는 각 공정간의 세정공정에 사용되는 세정처리실 등을 그 전형예로서 들 수 있다.The source of the harmful substance is not particularly limited as long as it generates exhaust gas containing the harmful substance. For example, the thin film used in the vapor phase growth chamber, the plasma vapor phase growth chamber, and the element formation process used in the semiconductor pillar forming step in the semiconductor manufacturing process. Typical examples thereof include a formation treatment chamber, a doping treatment chamber, an etching treatment chamber, a plasma etching treatment chamber, a cleaning treatment chamber used for each step or a cleaning step between steps.

상기 입구(43)는 직접으로 이들 유해물 발생원에 접촉하여도 좋지만, 유해물 발생원이 동시에 먼지를 발생하는 경우에는 먼지에 의한 눈막힘이나, 유해물이 부착한 먼지가 유해물 제거장치를 통과하는 것을 방지하는 것이 바람직하다.The inlet 43 may be in direct contact with these source of harmful substances, but when the source of harmful substances generates dust at the same time, it is possible to prevent clogging caused by dust or dust attached to the harmful substances through the harmful substance removing device. desirable.

따라서 이 유해물 제거장치(4)의 입구(43)는 예를 들면 제4도에 도시하는 바와 같이 집진장치(3)와 펌프(2)를 통하여 유해물 발생원(1)에 접속된다.Therefore, the inlet 43 of this harmful substance removal device 4 is connected to the harmful substance generation source 1 via the dust collector 3 and the pump 2, for example as shown in FIG.

또, 이 유해물 제거장치(4)의 출구(44)는 별도의 유해물 제거장치를 통하여 대기 중에 연통시켜도 좋지만, 이 실시예서는 1단의 유해물 제거장치(4)에 의하여 충분히 유해물 제거 효과를 얻을 수 있으므로 직접 대기 중에 연통되어 있다.In addition, although the outlet 44 of this harmful substance removal apparatus 4 may be made to communicate with air through a separate harmful substance removal apparatus, this embodiment can fully acquire the harmful substance removal effect by the 1st stage harmful substance removal apparatus 4. Therefore, they communicate directly with the atmosphere.

상기 케이싱(41)의 형상은 통형이면 좋고 예를 들면 4각, 6각, 8각 등의 다각형 통형, 타원통형 등도 좋지만, 여기서는 유해물처리재(42)의 열화가 될 수 있는 데로 균등히 진행하도록 하기 위하여 축심을 중심으로 전방향으로 균등인 원통형으로 형성하고, 입구(43)및 출구(44)를 케이싱(41)과 동축심상으로 설치하고 있다.The shape of the casing 41 may be a cylindrical shape, for example, polygonal cylindrical, elliptical cylindrical, etc., such as 4, 6, 8, etc., but may be deteriorated evenly where the harmful treatment material 42 may be deteriorated. To this end, the cylindrical center is formed in a uniform cylindrical shape in all directions, and the inlet 43 and the outlet 44 are provided coaxially with the casing 41.

상기 케이싱(41)의 소재는 특히 한정되지 않지만, 기밀성, 내약품성, 내산성, 내알칼리성, 내후성 및 충분한 기계적 강도를 구비하는 것이 바람직하고, 예를 들면 섬유강화합성수지, 내면에 고무라이닝 등의 내식처리를 실시한 철, 스테인리스강을 포함하는 강등의 금속 등을 사용할 수가 있다. 이 실시예에서는 이들 중에서 내외의 청소 등의 처리가 용이 내지 불요인 스테인리스강을 사용하여 케이싱(41)을 형성하고 있다.Although the material of the casing 41 is not particularly limited, it is preferable to have airtightness, chemical resistance, acid resistance, alkali resistance, weather resistance, and sufficient mechanical strength, for example, fiber reinforced synthetic resin, corrosion resistance such as rubber lining on the inner surface. It is possible to use a metal such as iron, a steel containing stainless steel. In this embodiment, the casing 41 is formed by using stainless steel which is easy or unnecessary to process, such as internal and external cleaning among these.

이 케이싱(41)의 내주면의 하부에는 케이싱의 보강을 겸하는 지지틀(45)이 고정되고, 지지틀(45)에 지지판(46)의 둘레가장자리부가 지지된다.The support frame 45 which serves as a reinforcement of the casing is fixed to the lower portion of the inner circumferential surface of the casing 41, and the circumferential edge portion of the support plate 46 is supported by the support frame 45.

이 지지판(46)은, 제2도의 확대단면도에 도시하는 바와 같이 유공판(47)과 그 상면에 고정된 발(48)로 이루어진다.As shown in the enlarged cross-sectional view of FIG. 2, this support plate 46 consists of the perforated plate 47 and the foot 48 fixed to the upper surface.

이 발(48)은 유해물처리재(42)를 유공판(47)으로부터 떼어 지지할 수 있도록 형성할 필요가 있고, 따라서 그 눈의 크기는 유해물 처리재의 입도보다도 작고, 이 경우, 특히 1∼12mm 정도로 설정된다. 또 발(48)은 평면에서 격자상이라도 좋지만 이 실시예에서는 구성을 간단히 하여 코스트다운을 도모하기 위하여 줄무늬 상으로 형성하고 있다.The foot 48 needs to be formed so that the pest treatment material 42 can be detached from the hole plate 47 so that the size of the eye is smaller than the particle size of the pest treatment material, in this case in particular, 1 to 12 mm. Is set to a degree. The foot 48 may be a lattice in a plane, but in this embodiment, the foot 48 is formed in a stripe shape to simplify the configuration and to reduce cost.

또 발(48)의 높이도 유해물처리재(42)를 유공판(47)으로부터 떼어 지지할 수 있도록 설정할 필요가 있고, 3∼30mm 정도로 하는 것이 바람직하다.In addition, it is necessary to set the height of the foot 48 so that the hazardous substance treatment material 42 can be detached from the hole plate 47, and it is preferable to set it as about 3-30 mm.

발(48)의 높이가 3mm 미만으로 하회할 때에는 발(48)의 눈을 작게 할 필요가 있고, 유로저항이 현저히 증가함으로 바람직하지 않고, 한편 발(48)의 높이가 30mm를 초과할 때에는 발(48)에 의한 유로 집합효과가 한계에 도달하여 그 이상 높여지는 일이 없는데 더하여 발(48)의 재료비가 높아지므로 바람직하지 않다.When the height of the foot 48 is less than 3 mm, it is necessary to make the eyes of the foot 48 small, and it is not preferable because the flow path resistance is significantly increased. On the other hand, when the height of the foot 48 exceeds 30 mm, the foot The flow path aggregation effect by (48) never reaches the limit and is not increased any more. In addition, the material cost of the foot 48 is high, which is not preferable.

상기 유해물처리재(42)는 종래부터 사용하고 있는 것으로 충분하고, 예를 들면 입상 내지 덩어리상의 기재에 처리제를 담지시킨 것이 사용된다.It is sufficient that the above-mentioned hazardous substance treatment material 42 has been used conventionally, and for example, a material in which a treatment agent is supported on granular or lumpy substrates is used.

기재로서는 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖지 않는 것을 사용하여도 좋지만, 그것 자체가 유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 것을 사용하는 것이 처리능력을 높여주는 점에서 바람직하다.Although the substrate itself may be one that does not have the ability to adsorb or adsorb the harmful substances, it is preferable to use one having the ability to adsorb or adsorb the harmful substances in itself, in terms of enhancing the treatment capacity.

유해물을 흡착 내지 수착하는 능력을 갖는 기재로서는 예를 들면 활성탄, 세라믹스, 제올라이트, 알루미나, 산성백토 등을 들 수 있다.As a base material which has the ability to adsorb | suck a pest or adsorb | sucks a harmful substance, activated carbon, ceramics, a zeolite, alumina, an acidic clay, etc. are mentioned, for example.

또 기재로서, 후술하는 처리제를 입상 내지 덩어리 상으로 형성한 것을 사용하여도 좋다.Moreover, you may use what formed the processing agent mentioned later in granular form or lump form as a base material.

처리제로서는 인산 알루미늄 등의 금속인산염, 알칼리금속 실리케이트, 알루미노 규산염, 백금촉매 등이 많이 사용된다.As the treatment agent, metal phosphates such as aluminum phosphate, alkali metal silicates, aluminosilicates, platinum catalysts and the like are often used.

또, 다른 처리제로서는 이하의 것을 그 예로서 들 수 있다.Moreover, the following are mentioned as the other processing agent as the example.

즉, Na2O, K2O, CaO, MgO, CuO, Ag2O, 알루미나, 산화지르코늄 등의 주기율표의 Ⅰ족, Ⅱ족, Ⅲ족 또는 Ⅳ족의 산화물, 또는 이들 산화물을 포함하는 화합물로서, (Mc1)x(Mc2)y(O)z로 표시되는 것 등이 사용된다.That is, as an oxide of group I, group II, group III, or group IV of the periodic table such as Na 2 O, K 2 O, CaO, MgO, CuO, Ag 2 O, alumina, zirconium oxide, or a compound containing these oxides , (Mc 1 ) x (Mc 2 ) y (O) z, and the like are used.

다만, 상기 Mc1은 Ⅰ족, Ⅱ족 또는 Ⅲ족이고, 상기 Mc2는 알루미늄(Al) 등의 Ⅲ족 탄소(C), 규소(Si), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr)등의 Ⅳ족, 인(P), 바나듐(V) 등의 Ⅴ족 원소이고, O는 산소이고, x,y,z는 각각 정수이다.However, Mc 1 is Group I, Group II or Group III, and Mc 2 is Group IV such as aluminum (Al), silicon (Si), titanium (Ti), zirconium (Zr) and the like. Group V elements, such as group, phosphorus (P), and vanadium (V), O is oxygen, and x, y, and z are integers, respectively.

이 유해물 제거장치(4)에 있어서는 그 케이싱(41)의 입구(43)와 유해물처리재(42)가 충전되는 처리재의 충전부(해칭으로 도시)와의 사이에는 적당한 간격이 설치되어 이 입구(41)와 처리재의 충전부와의 사이에서 이들로부터 각각 적당한 거리를 두고 입구방해판(49)이 설치됨과 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 충전부 또는 하부 중 적어도 상부에 이 실시예에서는 상부와 상하중간부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판(50,51)이 설치되어 있다.In this harmful substance removal device 4, an appropriate space is provided between the inlet 43 of the casing 41 and the filling part (shown by hatching) of the processing material in which the hazardous substance treatment material 42 is filled. And the inlet obstruction plate 49 are provided at appropriate distances from the charging section of the processing material, respectively, and at the upper part of the upper or upper charging part or the lower part of the processing material. Peripheral disturbance plates 50 and 51 protruding from the inner circumferential surface of the casing into the filling portion of the processing material are provided.

이 입구방해판(49)은 케이싱(41)의 입구(43)를 내측에서 덮는 것이 필요하고, 반드시 입구(43)를 전면적으로 덮을 것은 필요하지 않지만, 이 실시예에서는 입구(43)보다도 대직경으로 형성하여 확실히 입구(43)로부터 유입하는 배기가스의 흐름을 케이싱(41)내의 중심에서 방사방향으로 분산할 수 있도록 하고 있다.It is necessary for the inlet obstruction plate 49 to cover the inlet 43 of the casing 41 from the inside, and it is not necessary to cover the inlet 43 entirely, but in this embodiment a larger diameter than the inlet 43 is required. It is formed so that the flow of exhaust gas flowing from the inlet 43 can be reliably dispersed radially from the center of the casing 41.

또, 입구방해판(49)의 형상은 특히 한정되는 것은 아니고, 입구(43)측에서 볼 때, 망성형, 다각형 또는 타원형으로 형성하여도 좋지만, 이 실시예에서는 배기가스를 균등히 분산시키기 위하여 입구(43)와 동심의 원형으로 형성하고 있다.In addition, the shape of the inlet obstruction plate 49 is not particularly limited, and may be formed in a net shape, a polygon or an ellipse when viewed from the inlet 43 side. In this embodiment, the inlet is uniformly dispersed to exhaust gas. 43 is formed in concentric circles.

더욱, 입구방해판(49)은 예를 들면 원뿔형, 국좌판 등의 입체적인 판이라도 좋지만, 이 실시예에서는 형상을 간단히 하여 코스트를 저감할 수 있는 평판상으로 형성하고 있다.Further, the entrance barrier plate 49 may be, for example, a three-dimensional plate such as a cone or a seat plate, but in this embodiment, the entrance barrier plate 49 is formed in a flat plate shape that can simplify the shape and reduce the cost.

그런데 이 입구방해판(49)을 설치함으로써, 입구(43)로부터 유입하는 배기가스는 주위 방향으로 분산되지만, 케이싱(41)의 내주면이 평활하기 때문에 처리재의 중간부 내에서 유해물 처리재 사이에 형성되는 유로보다는 케이싱(41) 내주면과 유해물 처리재와의 사이에 유동저항이 작은 유로가 형성되고, 이 유동저항이 작은 케이싱의 내주면과 유해물 처리재와의 사이의 유로에 배기가스가 흘러 이로서 처리효율이 저하함과 동시에 처리재 충전부의 주위부가 단시간 내에 파괴되기 쉬워질 염려가 있다.However, by providing the inlet obstruction plate 49, the exhaust gas flowing from the inlet 43 is dispersed in the circumferential direction, but is formed between the hazardous materials in the middle of the treatment material because the inner circumferential surface of the casing 41 is smooth. A flow path having a smaller flow resistance is formed between the inner circumferential surface of the casing 41 and the pest treatment material than the flow path being formed, and exhaust gas flows through the flow path between the inner circumferential surface of the casing having the small flow resistance and the pesticide treatment material, thereby processing efficiency. At the same time as this decreases, there is a fear that the periphery of the treatment material filling part is likely to be destroyed within a short time.

여기서 상기 케이싱(41)내의 처리재의 충전부의 상부에 케이싱(41)의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판(50)을 설치하고 케이싱(41)의 내주면에 따르는 배기가스의 흐름이 처리재의 충전부내에 안내되도록 하고 있다.In this case, a peripheral disturbance plate 50 protruding from the inner circumferential surface of the casing 41 in the filling portion of the processing material is installed on the upper portion of the filling portion of the processing material in the casing 41, and the flow of exhaust gas along the inner circumferential surface of the casing 41 is increased. It is guided in the charging section.

이 경우, 이 주위방해판(50)은 제1도에 도시하는 바와 같이 기단에서 선단으로 향하여 비스듬히 하향하고 즉, 배기가스의 이용이 처리재의 내측으로 향하도록 설치하는 것이 바람직하고, 특히 제1도에 있어서, α가 15∼80도, 특히 30∼60도의 범위로 하는 것이 바람직하고, 이 실시예에서는 45도로 형성되어 있다.In this case, as shown in FIG. 1, the peripheral disturbance plate 50 is preferably obliquely downward from the base end to the tip, that is, the exhaust gas is directed toward the inside of the treatment material. In the above, α is preferably in the range of 15 to 80 degrees, in particular 30 to 60 degrees, and is formed at 45 degrees in this embodiment.

이 α가, 15도 미만에서는 그 효과가 부족하고 의미가 없는 것이고, 한편 80도를 초과하면 배기가스의 유통을 저해할 염려가 있으므로 바람직하지 않다.If the α is less than 15 degrees, the effect is insufficient and meaningless. On the other hand, if α is more than 80 degrees, the flow of exhaust gas may be inhibited, which is not preferable.

또, 처리재의 충전부의 중간부에 케이싱(41)의 내주면에 고정되는 보강되므로 이루어지는 주위방해판(51)을 설치하고, 그 주위방해판(51)에도 상부의 주위방해판(50)과 꼭 같은 역할을 부여하고 있다.In addition, a peripheral barrier plate 51 formed of a reinforcement fixed to the inner circumferential surface of the casing 41 is provided at an intermediate portion of the filling portion of the processing material, and the peripheral barrier plate 51 is also exactly the same as the upper peripheral barrier plate 50 of the upper portion. Granting role.

이 유해물 제거장치에서는 입구(43)로부터 흘러들어가는 배기가스의 흐름이 입구방해판(49)에 맞닿아 케이싱(41)내에서 방사방향으로 넓혀진다.In this harmful substance removal device, the flow of the exhaust gas flowing from the inlet 43 abuts against the inlet obstruction plate 49 and is widened radially in the casing 41.

또, 입구방해판(49)과 처리재의 충전부와의 사이에 적당한 간격이 설치되어 있으므로 방사방향으로 넓혀진 배기가스의 흐름의 일부분이 입구방해판(49)의 뒤쪽으로 흘러 들어가, 처리재의 충전부의 끝면전체에 걸쳐서 균등하게 배기가스가 흘러 들어간다.In addition, since a suitable distance is provided between the inlet obstruction plate 49 and the charging portion of the treatment material, a part of the flow of exhaust gas expanded in the radial direction flows to the rear of the inlet obstruction plate 49, and the end face of the charging portion of the treatment material. The exhaust gas flows in evenly throughout.

이로서 유해물 처리재(42)의 전체에 걸쳐서 균등히 배기가스를 접촉시킬 수 있으므로 처리효율이 높여짐과 동시에 부분적인 유해물 처리재(42)의 열화를 방지하여 파괴시간을 연장할 수 있으므로 수명을 길게 할 수 있다.As a result, the exhaust gas can be brought into contact with the entire pest treatment material 42 evenly, thereby increasing the processing efficiency and preventing the partial pest treatment material 42 from being deteriorated, thereby extending the breakdown time, thereby increasing the service life. Can be.

또, 유해물 처리재의 충전층의 출구측에 있어서, 처리재의 충전부가 발(48)에 의하여 유공판(47)에서 떠오른 상태에서 지지되므로 처리재의 충전부내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판(47)의 개구부에 의하여 막히지 않고 발(48)의 눈 사이에 개구하여 집합되고, 배기가스가 처리재의 충전부내에서 부분적으로 막히는 일없이 처리재의 충전부전체에 걸쳐서 평균적으로 흐른다.In addition, at the exit side of the filling layer of the pesticide treatment material, since the filling part of the processing material is supported by the foot 48 from the hole plate 47, most of the flow path formed in the filling part of the processing material is formed in the hole plate 47. Opened and collected between the eyes of the foot 48 without being blocked by the openings, the exhaust gas flows on the whole of the filling portion of the treatment material without being partially blocked in the filling portion of the treatment material.

이로서 유해물 처리재(42)의 전체에 걸쳐서 균등한 배기가스를 접촉시킬 수 있으므로 처리효율이 높여짐과 동시에 부분적인 유해물처리재(42)의 열화를 방지하여 파과시간을 한층 더 연장할 수 있으므로 한층 더 수명을 길게 할 수 있다.As a result, even exhaust gas can be brought into contact with the entire pesticide treatment material 42, thereby improving treatment efficiency and preventing the partial pesticide treatment material 42 from deteriorating, thereby further extending the breakthrough time. Can extend the service life.

그리고, 이들의 상승작용에 의하여 종래보다도 소량의 유해물처리재(42)로 종래 예와 동등 이상의 처리능력이 얻어짐과 동시에 종래와 동량의 유해물 처리재를 사용한 경우에는 파과시간이 종래 예보다 50∼100배 길게 되었다.In addition, the synergistic effect of the same amount of pesticide treatment material 42 as that of the conventional example is obtained with a smaller amount of the pesticide treatment material 42 than in the prior art. It is 100 times longer.

더욱, 이 실시예에서는 케이싱(41)의 상방에서 배기가스를 유입시키고 있으므로 배기가스의 압력으로 유해물 처리재가 상방으로 들어올려질 염려는 없지만, 출구(44)와 입구(43)를 교체시켜 케이싱(41)의 하방에서 배기가스를 유입시켜도, 상하중간부의 주위방해판(51)과 상부와 주위방해판(50)에 의하여 유해물처리재(42)가 상승하는 것이 방지되므로, 하등 문제는 없다.Further, in this embodiment, since the exhaust gas is introduced above the casing 41, there is no fear that the harmful treatment material will be lifted upward by the pressure of the exhaust gas, but the outlet 44 and the inlet 43 are replaced with the casing ( Even if the exhaust gas flows in from below 41, the harmful treatment material 42 is prevented from rising by the peripheral disturbance plate 51 and the upper and peripheral disturbance plate 50 of the upper and lower middle portions, so that there is no problem at all.

제3도는 본 발명의 유해물 제거장치의 다른 실시예를 도시하고, 이 유해물 제거장치에 있어서는 상기 유해물 제거장치에서 한끝에 입구(43)를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구(44)를 가진 것에 대신하여 한끝에 입구(43)를 가짐과 동시에 해당 한끝에 출구(44)를 설치하여 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측(53)에서 상기 한끝의 출구(44)에 연통하는 통로(54)를 설치하여 이루어지는 것으로 상기 각 유해물 제거장치의 상기 효과에 더하여 더욱 그 설치공간을 작게 하거나, 상기 각 유해물 제거장치를 설치면에 얹어놓아 부착할 수 있으므로 그 구비가 더없이 용이하게 된다.3 shows another embodiment of the pest removal device of the present invention, in which the pest removal device has an inlet 43 at one end and an outlet 44 at the other end instead of having an outlet 44 at the other end. In addition to having an inlet 43 at the same time, an outlet 44 is provided at one end thereof, and a passage 54 communicating with the outlet 44 at one end at the outlet side 53 of the processing gas is provided at the filling part of the processing material. In addition to the above effects of the respective harmful substances removing apparatus, the installation space can be further reduced, or the harmful substance removing apparatus can be placed on the installation surface so as to be easily attached.

더욱, 제3도에 도시하는 바와 같이 입구방해판(49)은 반드시 케이싱(41)내 중앙에 설치할 필요는 없다.Further, as shown in FIG. 3, the inlet barrier plate 49 does not necessarily need to be installed in the center of the casing 41.

즉, 이와 같이 구성하더라도 입구(43)로부터 흘러 들어가는 배기가스의 흐름이 입구방해판(49)에 맞닿아서 케이싱(41)내에서 방사방향으로 넓혀짐과 동시에 처리재의 충전부의 저항에 의하여 해당 처리재의 충전부의 끝면전체에 걸쳐서 균등히 배기가스가 흘러 들어가는 것이다.That is, even if it is comprised in this way, the flow of the exhaust gas which flows in from the inlet 43 contacts with the inlet obstruction plate 49, expands in the radial direction in the casing 41, and is processed by the resistance of the charging part of a process material. The exhaust gas flows evenly over the entire end face of the ash fill section.

본 발명의 유해물 제거장치는 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 상기 각 구성을 조합시킴으로써, 본 발명의 기술적 사상을 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변형이 가능하며, 또, 이 유해물 제거장치는 그 사용에 있어서 2이상의 것을 예를 들면 직렬 또는 병렬 더욱더 병직렬로 조합시켜 유해물의 제거를 한층 더 확실히 행해지도록 하거나, 장치가 한층 더 장기간에 걸쳐서 사용할 수 있도록 구성하여도 좋다.The harmful substance removing apparatus of the present invention is not limited to the above embodiments, and various combinations can be made without departing from the technical spirit of the present invention by combining the above components, and the harmful substance removing apparatus can be used. Two or more of them may be combined, for example, in series or in parallel, in parallel and in parallel to further eliminate the harmful substances, or may be configured so that the apparatus can be used for a longer period of time.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 입구방해판과, 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위방해판을 가짐으로써 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체로 유통시킬 수 있으므로 유해물 처리재와 배기가스와의 접촉이 더 없이 유효하게 행해지는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음과 동시에 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.In the apparatus for removing harmful substances of the present invention, the inlet obstruction plate and the charging portion of the treatment material include harmful substances by having a peripheral interference plate protruding into the charging portion of the treatment material from the inner circumferential surface of the casing on at least an upper portion thereof, an upper middle portion, or a lower portion thereof. Since the exhaust gas can be distributed to the entire charging part of the treatment material, the contact between the hazardous substance treatment material and the exhaust gas can be effectively performed, resulting in higher utilization of the hazardous substance treatment material, and at the same time, high processing capacity and long life can be realized. It has an effect.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 가짐과 처리재의 충전부가 유공판에서 발에 의하여 떠올라간 상태에서 지지되므로 처리재의 충전부내에 형성되는 유로의 대부분이 유공판의 비개구부에 의하여 막히지 않고, 발의 눈 사이에 개구하여 집합되어(유로 집합효과) 배기가스의 처리재의 충전부로의 유입이나, 배기가스의 처리재의 충전부로부터의 유출이 부분적으로 막혀지는 일 없이, 처리재의 충전부 전체에 걸쳐서 배기가스를 평균적으로 흐르게 할 수 있는 결과 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있는데 더하여 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는다.In the apparatus for removing harmful substances of the present invention, a support plate receiving a hazardous substance treatment material is disposed in the lower portion of the casing, and the support plate has a foot that protrudes upward from the perforated plate and its upper surface, and the filling portion of the treatment material is disposed from the perforated plate to the foot. Since most of the flow path formed in the filling part of the processing material is not blocked by the non-opening part of the perforated plate, but is opened and collected between the eyes of the foot (euro aggregation effect), and the exhaust gas enters the filling part of the processing material. As a result, the outflow of the exhaust gas from the filling section of the treating material is not blocked, and the exhaust gas can flow on the entire filling section of the treating material, resulting in an increase in the utilization rate of the harmful treatment material. It has an effect that can be realized.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮는 입구방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치함으로써, 그 상승효과에 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와의 접촉이 더없이 양호하게되어 유해물을 효율좋게 제거할 수 있는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음과 동시에 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.In the apparatus for removing harmful substances of the present invention, in particular, an inlet obstruction plate covering the inlet is provided at the inlet of the casing, and a support plate for receiving a pest treatment material at the lower part of the casing is disposed, and the support plate is a perforated plate and an upper surface thereof. By providing the protruding foot, the synergistic effect makes it possible to further distribute the exhaust gas containing the harmful substances to the entire charging portion of the treatment material, so that the contact between the exhaust gas and the hazardous material treatment material becomes better and the harmful substances are efficiently removed. As a result, it is possible to increase the utilization rate of the hazardous substance treatment material and at the same time have the effect of realizing high treatment capacity and long life.

또 본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 특히 유해물의 처리재의 충전부에는 그의 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부 내에 돌출하는 주위방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되어, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 설치하여 이루어지므로 그 상승효과에· 의하여 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재의 접촉이 더없이 양호하게 되어 유해물을 효율 좋게 제거할 수 있는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있음에 더하여 높은 처리능력과 긴 수명을 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.In the harmful substance removing device of the present invention, in particular, the filling portion of the treatment material of the harmful substance includes a peripheral disturbance plate protruding into the filling portion of the treatment material from the inner circumferential surface of the casing on at least an upper portion thereof, an upper middle portion, or a lower portion thereof, and a harmful substance on the lower portion of the casing. The support plate receiving the treatment material is disposed, and the support plate is formed by installing the perforated plate and the foot protruding upward from the upper surface thereof, and by the synergistic effect, the exhaust gas containing harmful substances can be further distributed throughout the treatment material. As a result, the contact between the exhaust gas and the pest treatment material becomes better, and the pests can be efficiently removed. As a result, the utilization rate of the pest treatment material can be increased, and high treatment capacity and long life can be realized.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서, 케이싱의 입구에는 해당 입구를 내측에서 덮은 입구방해판과 상기 처리재 충전부에는 그의 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위 방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고 이 지지판이 유공판과 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 가짐으로써 이들의 상승효과에 의하여 특히 한층 더 유해물을 포함하는 배기가스를 처리재의 충전부 전체에 유통시킬 수 있으므로 배기가스와 유해물 처리재와의 접촉이 특히 양호하게 되어 유해물을 한층 더 효율 좋게 제거할 수 있는 결과, 유해물 처리재의 이용율을 높일 수 있는데 더하여 한층 더 높은 처리능력과 긴 수명을 확실히 실현할 수 있는 효과를 갖는 것이다.In the apparatus for removing harmful substances of the present invention, the inlet obstruction plate covering the inlet at the inlet of the casing and the treatment material filling part protrude into the filling part of the treatment material on the inner circumferential surface of the casing at least at the upper part, the upper and lower middle part, or the lower part thereof. In the lower part of the casing and the support plate receiving the harmful treatment material is disposed and the support plate has a foot protruding upward from the perforated plate and its upper surface, and by their synergistic effect, the exhaust gas containing further harmful substances Since the gas can be distributed throughout the charging section of the treatment material, the contact between the exhaust gas and the pest treatment material is particularly good, and the removal of harmful substances can be carried out more efficiently, resulting in a higher utilization rate of the pest treatment material. It has the effect of realizing the ability and long life.

본 발명의 유해물 제거장치에 있어서는 상기 각 유해물 제거장치에 있어서, 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당한 끝에 출구를 설치하여 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루어지는 것으로 상기 각 유해물 제거장치의 상기 효과에 더하여 더욱 더 그 설치공간을 작게 하거나 상기 각 유해물 제거장치를 설치면에 얹어 놓아 부착시킬 수 있으므로 그 구비가 더없이 용이하게 되는 효과를 갖는 것이다.In the harmful substance removing device of the present invention, in each of the harmful substance removing devices, instead of having an inlet at one end and having an outlet at the other end, an inlet is provided at one end and an outlet at the corresponding end is provided at the filling portion of the treatment material. By installing a passage communicating from the outlet side of the processing gas to the outlet of the one end, in addition to the above effects of the respective harmful removal device, the installation space is further reduced or attached to the installation surface by placing each harmful removal device on the installation surface. It is possible to have an effect that can be easily provided.

Claims (6)

한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구 방해판을 설치하고, 동시에 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내에 돌출하는 주위 방해판을 설치한 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.A noxious substance removal device comprising an ordinary casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling portion of granular or lump-like processing material filled in the casing and adsorbing or decomposing harmful substances at the same time. An inlet baffle covering the inlet from the inside, and at the same time, a filling baffle of the treatment material is provided with a surrounding baffle plate protruding into the filling part of the treatment material from the inner circumferential surface of the casing on at least an upper portion thereof, an upper middle portion or a lower portion thereof. Harmful removal device. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱 내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.A noxious substance removal device comprising a normal casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling portion of granular or lump-like processing material filled in the casing and adsorbing or decomposing harmful substances at the same time. And a support plate receiving a pest treatment material, the support plate having a perforated plate and a foot protruding upward from the upper surface thereof. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱내의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮는 입구방해판과, 상기 케이싱내의 하부에 유해물 처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.A noxious substance removal device comprising an ordinary casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling portion of granular or lump-like processing material filled in the casing and adsorbing or decomposing harmful substances at the same time. An inlet obstruction plate covering the inlet from the inside, and a support plate receiving a pest treatment material at a lower portion of the casing, the support plate having a perforated plate and a foot protruding upward from the upper surface thereof. . 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하 중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재 충전부내에 돌출하는 주위방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판의 유공판과, 이의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.A noxious substance removal device comprising an ordinary casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling portion of granular or lumped material which is filled in the casing and adsorbs or decomposes harmful substances at the same time. At least one of the upper or upper and lower middle portions or the lower portion of the casing is provided with a peripheral interference plate protruding from the inner circumferential surface of the casing into the treatment material filling portion and a support plate receiving the hazardous substance treatment material at the lower portion of the casing, and the perforated plate of the supporting plate and the upper surface thereof. Pest removal device, characterized in that having a foot protruding upward from the. 한끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 통상의 케이싱과, 이 케이싱 내에 충전되고 동시에 유해물을 흡착 내지 분해하는 입상 내지 덩어리상의 처리재의 충전부를 구비한 유해물제거장치에 있어서, 상기 케이싱내의 입구에는 해당입구를 내측에서 덮은 입구방해판과, 상기 처리재의 충전부에는 그 상부 또는 상하중간부 또는 하부 중 적어도 상부에 케이싱의 내주면에서 처리재의 충전부내로 돌출하는 주위방해판과 상기 케이싱내의 하부에 유해물처리재를 받는 지지판이 배치되고, 이 지지판이 유공판과 이들의 상면에서 상방으로 돌출하는 발을 갖는 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.A noxious substance removal device comprising an ordinary casing having an inlet at one end and an outlet at the other end, and a filling portion of granular or lump-like processing material filled in the casing and adsorbing or decomposing harmful substances at the same time. An inlet obstruction plate covering the inlet from the inside, and a periphery obstruction plate protruding from the inner circumferential surface of the casing into the charging part of the treatment material on at least an upper part of the upper, upper, middle, or lower part of the processing material, and a hazardous substance treatment on the lower part of the casing. A support plate receiving ash is disposed, the support plate having a perforated plate and a foot protruding upward from the upper surface thereof. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 한 끝에 입구를 가짐과 동시에 다른 끝에 출구를 갖는 것에 대신하여 한끝에 입구를 가짐과 동시에 해당 한 끝에 출구를 설치하고, 처리재의 충전부에 있어서 처리기체의 출구측에서 상기 한 끝의 출구에 연통하는 통로를 설치하여 이루어진 것을 특징으로 하는 유해물 제거장치.The process according to any one of claims 1 to 5, wherein the inlet is provided at one end and the outlet is provided at one end instead of having the inlet at one end and the outlet at the other end. And a passage communicating with the outlet of the one end at the outlet side of the gas.
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