KR100249598B1 - 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법 - Google Patents

광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100249598B1
KR100249598B1 KR1019970051456A KR19970051456A KR100249598B1 KR 100249598 B1 KR100249598 B1 KR 100249598B1 KR 1019970051456 A KR1019970051456 A KR 1019970051456A KR 19970051456 A KR19970051456 A KR 19970051456A KR 100249598 B1 KR100249598 B1 KR 100249598B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
value
image data
optical
difference
nonuniformity
Prior art date
Application number
KR1019970051456A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19980069997A (ko
Inventor
쿠니오 우에타
Original Assignee
이시다 아키라
다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이시다 아키라, 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 filed Critical 이시다 아키라
Publication of KR19980069997A publication Critical patent/KR19980069997A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100249598B1 publication Critical patent/KR100249598B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004—Industrial image inspection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/8858—Flaw counting
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/8861—Determining coordinates of flaws

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

대상물의 광학적 불균일을 자동적으로 변동없이 검사할 수 있는 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법을 제공하는데 있다.
CCD 카메라(17)로 검사 대상물(100)을 촬영하고, 검사 대상물(100)의 화상에 대응하는 화상데이터를 출력한다. 화상데이터를 규격화함으로써 규격화 화상데이터를 얻는다. 규격화 화상데이터의 화소치의 평균치를 산출하고, 규격화 화상데이터의 각 화소치와 평균치와의 차이의 절대치를 산출한다. 차이의 절대치가 문턱치 이하인 화소치를 " 0 "으로 치환하고, 또 나머지 화소치를 유지하여 적산 대상데이터로 한다. 적산 대상데이터의 화소치를 적산한다. 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무를 판정한다.

Description

광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법
본 발명은, 대상물 농도의 불균일, 광투과율의 불균일 등의 광학적 불균일의 유무를 검사하는 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법에 관한 것이다.
컬러 브라운관용의 섀도우 마스크, 디스플레이 패널, 필름, 종이 등의 시트(sheet) 형상물은, 균일 또는 거의 균일한 농도 또는 투과율을 가지도록 제조된다. 이와 같은 시트 형상물의 검사단계에서는, 제조된 시트 형상물에 농도나 광투과율의 불균일이 없는가 어떤가를 판정할 필요가 있다.
예를들면, 섀도우 마스크는, 포토 에칭법을 사용해서 금속 박판(薄板)에 다수의 투과구멍을 거의 주기적으로 형성하는 것에 의해 제조된다. 상기 다수의 투과구멍에 국부적인 치수 이상이 있으면, 섀도우 마스크에 광투과율의 불균일이 발생한다. 이와 같은 섀도우 마스크의 광투과율의 불균일의 유무는, 통상 검사원의 눈(目)으로 보는 검사에 의해 판정된다.
이 경우, 양품(良品)의 섀도우 마스크라도 허용되는 범위의 광학적 불균일이 존재하고 있다. 검사원은, 검사 대상이 되는 섀도우 마스크를 눈으로 보아 검사하면서 그 섀도우 마스크의 불균일을 경험적으로 인식하고 있는 양품의 섀도우 마스크의 불균일과 비교함으로써 검사 대상이 되는 섀도우 마스크의 양부(良否)를 판정한다.
이와 같은 양부의 판정에는 고도의 숙련 및 상당한 경험이 필요하다. 또한, 숙련의 정도나 경험이 거의 동일하더라도 검사원의 개인 차이나 건강 상태에 의해 양부의 판정 결과가 변동되는 일이 있다.
한편, 일본공개특허 평 3-61805호 공보에는 2차원적인 불균일의 검사장치가 개시되어 있다. 이 검사장치에서는, 시료면을 2차원적으로 촬영하고, 그 촬영 데이터를 어떤 폭을 가지는 중간 레벨과, 그 중간 레벨을 위로 초과하고 있는 레벨과, 그 중간 레벨을 아래로 초과하고 있는 레벨로 변환하여 3치로 화상 표시하고 있다.
상기 종래의 검사장치에 의하면, 2차원적인 불균일을 보기가 쉽게 되지만, 검사 대상이 양품인가 아닌가의 최종적 판단은 검사원에게 맡겨져 있고, 자동적으로 불균일을 검출할 수는 없다. 그 때문에, 상기 검사장치를 사용하여도 양부 판정에 고도의 숙련과 상당한 경험이 필요하게 되고 또한 검사원의 개인 차이나 건강 상태에 의해 양부의 판정 결과가 변동되는 일도 있다.
본 발명의 목적은, 대상물의 광학적 불균일을 자동적으로 변동없이 검사할 수 있는 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법을 제공하는데 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에서의 광학적 불균일 검사장치의 정면도,
도 2는 도 1의 광학적 불균일 검사장치의 전기적 구성을 나타내는 블록도,
도 3은 화상데이터의 규격화 처리의 일예를 나타내는 파형도,
도 4는 도 1의 광학적 불균일 검사장치에서의 광학적 불균일의 판정처리를 나타내는 플로 챠트,
도 5는 광학적 불균일의 판정처리에서의 데이터 처리를 나타내는 파형도,
도 6은 노이즈 제거처리를 나타내는 파형도이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 광학 측정장치, 12 확산판,
13 광원, 17 CCD 카메라,
20 데이터 처리장치, 22 화상처리장치,
100 검사 대상물.
(1) 제1 발명
제1 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치는, 대상물의 광학적 불균일을 검사하는 광학적 불균일 검사장치에 있어서, 규격화 수단, 산출수단, 추출수단, 적산수단 및 판정수단을 구비한다.
규격화 수단은, 대상물의 화상에 대응하는 화상데이터를 규격화함으로써 규격화 화상데이터를 얻는다. 산출수단은, 규격화 수단에 의해 얻어진 규격화 화상데이터의 화소치의 평균치를 산출하고, 규격화 화상데이터의 각 화소치와 평균치와의 차이의 절대치를 산출한다. 추출수단은, 산출수단에 의해 산출된 차이의 절대치를 미리 정해진 문턱치와 비교하여 문턱치보다도 큰 차이의 절대치를 추출한다. 적산수단은, 추출수단에 의해 추출된 차이의 절대치를 적산한다. 판정수단은, 적산수단에 의해 얻어진 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무를 판정한다.
제1 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치에 있어서는, 규격화 화상데이터의 각 화소치와 평균치와의 차이의 절대치가 산출되고, 산출된 차이의 절대치중 문턱치보다도 큰 차이의 절대치가 추출되며, 추출된 차이의 절대치가 적산되고, 그 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무가 판정된다. 이 경우, 적산치는 평균치와 문턱치와의 차이보다도 큰 변동폭을 가지는 불균일의 면적 및 변동의 정도를 나타내고 있다.
이와 같이, 평균치 및 문턱치로 결정되는 폭보다도 큰 변동폭을 가지는 불균일의 면적 및 변동의 정도에 의거해서 광학적 불균일의 유무가 판정된다. 이 경우, 문턱치를 임의의 값으로 설정함으로써 임의의 변동폭을 가지는 불균일을 검출할 수 있다. 따라서, 일정 기준을 초과하는 광학적 불균일의 유무를 자동적으로 또 높은 자유도로 변동없이 판정하는 것이 가능해진다.
(2) 제2 발명
제2 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치는, 제1 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치의 구성에 있어서, 판정수단이 적산수단에 의해 얻어진 적산치를 판정 기준치와 비교함으로써 광학적 불균일의 유무를 판정하는 것이다.
이 경우, 판정 기준치를 임의의 값으로 설정함으로써 검출되는 광학적 불균일의 면적 또는 변동의 정도를 임의로 변경하는 것이 가능해진다.
(3) 제3 발명
제3 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치는, 제1 또는 제2 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치의 구성에 있어서, 대상물을 촬영해서 화상을 입력하고, 입력된 화상을 화상데이터로서 규격화 수단에 공급하는 화상 입력수단을 더 구비한 것이다.
이 경우, 대상물의 화상에 대응하는 화상데이터의 입력으로부터 광학적 불균일의 유무 판정까지가 자동적으로 행해진다.
(4) 제4 발명
제4 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치는, 제1, 제2 또는 제3 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치의 구성에 있어서, 규격화 수단이 화상데이터에서의 저주파 성분을 제거함으로써 규격화를 행하는 것이다.
이것에 의해, 대상물의 성질에 기인하는 화상데이터의 저주파 성분이나 광학계에 기인하는 화상데이터의 저주파 성분이 제거되므로, 광학적 불균일의 유무 판정이 정확히 행해진다.
(5) 제5 발명
제5 발명에 관한 광학적 불균일 검사방법은, 대상물의 광학적 불균일을 검사하는 광학적 불균일 검사방법에 있어서, 대상물의 화상에 대응하는 화상데이터를 규격화함으로써 규격화 화상데이터를 산출하고, 산출된 규격화 화상데이터의 화소치의 평균치를 산출하며, 규격화 화상데이터의 각 화소치와 평균치와의 차이의 절대치를 산출하고, 산출된 차이의 절대치를 미리 정해진 문턱치와 비교하며, 문턱치보다도 큰 차이의 절대치를 추출하고, 추출된 절대치를 적산하며, 얻어진 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무를 판정하는 것이다.
제5 발명에 관한 광학적 불균일 검사방법에 있어서는, 규격화 화상데이터의 각 화소치와 평균치와의 차이의 절대치가 산출되고, 산출된 차이의 절대치중 문턱치보다도 큰 차이의 절대치가 추출되며, 추출된 차이의 절대치가 적산되고, 그 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무가 판정된다. 이 경우, 적산치는 평균치와 문턱치와의 차이보다도 큰 변동폭을 가지는 불균일의 면적 및 변동의 정도를 나타내고 있다.
이와 같이, 평균치 및 문턱치로 결정되는 폭보다도 큰 변동폭을 가지는 불균일의 면적 및 변동의 정도에 의거해서 광학적 불균일의 유무가 판정된다. 이 경우, 문턱치를 임의의 값으로 설정함으로써 임의의 변동폭을 가지는 불균일을 검출할 수 있다. 따라서, 일정 기준을 초과하는 광학적 불균일을 자동적으로 또 높은 자유도로 변동없이 판정하는 것이 가능해진다.
(6) 제6 발명
제6 발명에 관한 광학적 불균일 검사방법은, 제5 발명에 관한 광학적 불균일 검사방법에 있어서, 적산치를 판정 기준치와 비교함으로써 광학적 불균일의 유무를 판정하는 것이다.
이 경우, 판정 기준치를 각각 임의의 값으로 설정함으로써 검출되는 광학적 불균일의 면적 및 변동의 정도를 임의로 변경하는 것이 가능해진다.
도 1은 본 발명의 일실시예에서의 광학적 불균일 검사장치의 정면도, 도 2는 도 1의 광학적 불균일 검사장치의 전기적 구성을 나타내는 블록도이다.
도 1의 광학적 불균일 검사장치는, 검사 대상물을 촬영해서 화상데이터를 얻기 위한 광학 측정장치(10) 및 화상데이터에 의거해서 여러 가지 데이터 처리를 행하는 데이터 처리장치(20)로 구성되어 있다.
광학 측정장치(10)에 있어서는, 정반(定盤)(11)상에 광원(13)이 배치되고, 광원(13)의 상방에 유리 등으로 이루어지는 확산판(12)이 설치되어 있다. 광원(13)으로서는, 예를 들면 고주파 점등형의 형광등이 사용된다. 확산판(12)상에는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 개구부(14a)를 가지는 마스크판(14)이 얹혀지고, 이 마스크판(14)상에 검사 대상물(100)이 고정된다. 또, 이하의 설명에서는 검사 대상물(100)이 섀도우 마스크인 경우를 설명한다. 이 경우, 검사 대상물(100)은 중앙부에 투과구멍 영역(100a)을 가진다.
정반(11)에는 상방으로 연장되는 지지암(15)이 기립 설치되어 있고, 이 지지암(15)에 카메라 유지부재(16)가 상하 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 또한, 카메라 유지부재(16)에는 CCD 카메라(17)가 수평 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 이것에 의해, 여러 가지 사이즈의 검사 대상물(100)의 검사영역과 CCD 카메라(17)의 촬영영역이 일치하도록 CCD 카메라(17)를 상하 및 좌우로 이동시킬수 있다.
CCD 카메라(17)는, 2차원 CCD(전하결합소자)를 가지고, 화상의 농담(濃淡)을 화상데이터로서 출력한다.
데이터 처리장치(20)는, CCD 카메라(17)의 게인(gain) 및 셔터속도를 제어하는 카메라 제어장치(21), 후술하는 화상처리를 행하는 화상처리장치(22) 및 화상을 표시하는 디스플레이(23)를 포함한다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 광원(13)에서 방사된 빛은 확산판(12) 및 검사 대상물(100)의 투과구멍을 순차 통과하여 CCD 카메라(17)로 입사한다. 이 경우, 검사 대상물(100)의 투과구멍 영역(100a)은 마스크판(14)의 개구부(14a)에 위치 결정되어 있다. 따라서, 검사 대상물(100)의 투과구멍 영역(100a)의 주위 영역은 마스크판(14)에 의해 마스크된다.
CCD 카메라(17)는, 검사 대상물(100)의 화상을 다치(多値)의 화상데이터로서 출력한다. 이 화상데이터는 카메라 제어장치(21)를 통해서 화상처리장치(22)로 입력된다.
화상처리장치(22)는, 미리 기억된 프로그램에 따라 후술하는 판정처리를 행하는 CPU(중앙연산처리장치)(31), 화상데이터 및 그 밖의 다른 데이터를 일시적으로 기억하는 RAM(random access memory) 등으로 구성되는 주기억장치(32), 데이터 및 각종 지령을 입력하기 위한 키보드(33), 화상데이터 및 그 밖의 다른 데이터를 기억하는 보조 기억장치(34) 및 검사결과를 출력하기 위한 프린터(35)를 구비하고, 이것들은 서로 버스 라인(36)을 통해서 접속되어 있다. 또한, 이 버스 라인(36)에는 카메라 제어장치(21) 및 디스플레이(23)가 접속되어 있다.
본 실시예에서는, CPU(31)가 규격화 수단, 산출수단, 추출수단, 적산수단 및 판정수단을 구성하고, CCD 카메라(17)가 화상 입력수단을 구성한다.
다음에, 도 3∼도 6을 참조하면서 도 1의 광학적 불균일 검사장치의 동작을 설명한다. 도 3은 화상데이터의 규격화 처리의 일예를 나타내는 파형도, 도 4는 광학적 불균일의 판정처리를 나타내는 플로 챠트, 도 5는 광학적 불균일의 판정처리에서의 데이터 처리를 나타내는 파형도, 도 6은 노이즈 제거처리를 나타내는 파형도이다.
우선, 도 1의 확산판(12)상에 설치된 검사 대상물(100)이 CCD 카메라(17)로 촬영되어 검사 대상물(100)의 화상이 입력된다. CCD 카메라(17)는, 검사 대상물(100)의 화상을 화상데이터로 해서 화상처리장치(22)로 전송한다. 화상처리장치(22)는, 광원(13)의 조명 특성, CCD 카메라(17)의 렌즈계의 광학 특성 및 검사 대상물(100)의 성질에 기인하는 화상데이터의 큰 변동(저주파 성분)을 제거하기 위해 규격화 처리를 행한다.
도 3(a)는 CCD 카메라(17)에서 출력되는 화상데이터의 파형을 나타내고, 도 3(b)는 그 화상데이터를 평활화함으로써 얻어지는 평활화 데이터의 파형을 나타내며, 도 3(c)는 규격화 처리에 의해 얻어진 규격화 화상데이터의 파형을 나타낸다. 도 3의 각 파형에 있어서, 횡축은 화소 위치에 상당하고, 종축은 화소치에 상당한다.
도 3의 규격화 처리에서는, 화상데이터(D1)를 평활화 데이터(D2)로 나누는 것에 의해 규격화 화상데이터(D3)가 얻어진다. 이렇게 해서 얻어진 규격화 화상데이터(D3)는, 화상처리장치(22)의 주기억장치(32) 및 보조 기억장치(34)에 기억된다. 또한, 주기억장치(32) 또는 보조 기억장치(34)에는 판정처리에 사용되는 문턱치(th)가 미리 기억되어 있다.
이하, CPU(31)는 주기억장치(32) 또는 보조 기억장치(34)에 기억된 규격화 화상데이터 및 문턱치(th)에 의거해서 도 4의 플로 챠트에 나타내는 광학적 불균일의 판정처리를 행한다.
우선, 주기억장치(32) 또는 보조 기억장치(34)에 기억된 규격화 화상데이터 및 문턱치(th)를 판독한다(스텝 S1). 다음에, 도 5(a)에 나타낸 바와 같이, 규격화 화상데이터의 화소치의 평균치를 산출한다(스텝 S2).
이어서, 도 5(b)에 나타낸 바와 같이, 규격화 화상데이터의 화소치와 평균치와의 절대치를 산출하고, 차이의 절대치 데이터로 한다(스텝 S3). 이 차이의 절대치 데이터에 스텝(S1)에서 판독한 문턱치(th)를 설정한다.
게다가, 도 5(c)에 나타낸 바와 같이, 차이의 절대치 데이터에 있어서 차이의 절대치가 문턱치(th) 이하인 화소치를 " 0 "로 치환하고, 또 나머지 화소치를 유지하여 적산데이터로 한다(스텝 S4). 이 처리는, 문턱치(th)보다도 큰 차이의 절대치를 추출하는 것에 상당한다.
다음에, 적산데이터의 화소치를 적산한다(스텝 S5). 이 처리는, 문턱치(th)보다도 큰 차이의 절대치를 적산하는 것에 상당한다.
그 후, 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무를 판정한다(스텝 S6). 예를 들면, 적산치를 미리 정해진 판정 기준치와 비교하고, 적산치가 판정 기준치 이상인 경우에는 검사 대상물(100)을 불량품으로 판정하고, 적산치가 판정 기준치보다도 작은 경우에는 검사 대상물(100)을 양품으로 판정한다.
최후로, 양부의 판정결과를 디스플레이(23)에 표시함과 동시에 프린터(35)로 출력한다(스텝 S7).
이렇게 해서, 본 실시예의 광학적 불균일 검사장치에 있어서는 일정 기준을 초과하는 광학적 불균일의 유무가 자동적으로 변동없이 판정된다.
이 광학적 불균일의 검사장치에서는, 문턱치(th)를 임의의 값으로 설정함과 동시에 판정 기준치를 임의의 값으로 설정함으로써 검출되는 광학적 불균일의 기준을 임의로 변경하는 것이 가능해진다.
또, 적산데이터에 소정의 노이즈 제거처리를 행해도 된다. 도 6(a)는 노이즈 제거처리 전(前)의 적산 대상데이터의 파형을 나타내고, 도 6(b)는 마스크 데이터의 파형을 나타내며, 도 6(c)는 노이즈 제거처리 후(後)의 적산 대상데이터의 파형을 나타낸다.
도 6(a)에 나타낸 바와 같이, 노이즈 제거처리 전의 적산 대상데이터는 노이즈(200a)를 포함하는 것으로 한다. 도 6(b)에 나타낸 마스크 데이터는 도 5(a)에 나타낸 차이의 절대치 데이터에 있어서 문턱치(th)보다도 큰 화소치를 " 1 "로 치환하고, 나머지 화소치를 " 0 "으로 치환하여 수축 및 팽창처리에 의해 노이즈(200a)를 제거함으로써 작성된다. 이 마스크 데이터를 사용해서 적산 대상데이터를 마스크함으로써 노이즈(200a)를 제거한다. 즉, 도 6(a)의 적산 대상데이터에 있어서, 마스크 데이터의 값이 " 1 "인 화소치를 유지하고, 마스크 데이터의 값이 " 0 "인 화소치를 " 0 "으로 치환한다. 이것에 의해, 도 6(c)의 적산 대상데이터가 얻어진다.
또, 본실시예와 같이, 검사 대상물(100)의 일부에 검사 대상영역(투과구멍 영역 100a)이 존재하는 경우에는, 규격화 화상데이터에 검사 대상영역 설정용의 문턱치를 설정하고, 그 문턱치보다도 큰 값을 가지는 부분만이 검사 대상이 되도록 마스크 처리를 행하면 된다.
상기 실시예에서는, 검사 대상물이 섀도우 마스크인 경우를 설명하였지만, 본 발명의 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법은, 디스플레이 패널, 필름, 종이 등의 시트 형상물의 농도의 불균일, 광투과율의 불균일 등 광학적 불균일의 검사에도 같은 형태로 적용할 수 있고, 게다가 시트 형상물에 한정되지 않고 임의의 대상물의 2차원적인 불균일의 검사에도 적용 가능하다.
본 발명의 제1 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치에 의하면, 평균치 및 문턱치로 결정되는 폭보다도 큰 변동폭을 가지는 불균일의 면적 및 변동의 정도에 의거해서 광학적 불균일의 유무가 판정되므로, 문턱치를 임의의 값으로 설정함으로써 임의의 변동폭을 가지는 불균일을 검출할 수 있다. 따라서, 일정 기준을 초과하는 광학적 불균일의 유무를 자동적으로 또 높은 자유도로 변동없이 판정하는 것이 가능해진다.
본 발명의 제2 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치에 의하면, 판정 기준치를 임의의 값으로 설정함으로써 검출되는 광학적 불균일의 면적 또는 변동의 정도를 임의로 변경하는 것이 가능해진다.
본 발명의 제3 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치에 의하면, 대상물의 화상에 대응하는 화상데이터의 입력으로부터 광학적 불균일의 유무 판정까지가 자동적으로 행해진다.
본 발명의 제4 발명에 관한 광학적 불균일 검사장치에 의하면, 대상물의 성질에 기인하는 화상데이터의 저주파 성분이나 광학계에 기인하는 화상데이터의 저주파 성분이 제거되므로, 광학적 불균일의 유무 판정이 정확히 행해진다.
본 발명의 제5 발명에 관한 광학적 불균일 검사방법에 의하면, 평균치 및 문턱치로 결정되는 폭보다도 큰 변동폭을 가지는 불균일의 면적 및 변동의 정도에 의거해서 광학적 불균일의 유무가 판정되므로, 문턱치를 임의의 값으로 설정함으로써 임의의 변동폭을 가지는 불균일을 검출할 수 있다. 따라서, 일정 기준을 초과하는 광학적 불균일을 자동적으로 또 높은 자유도로 변동없이 판정하는 것이 가능해진다.
본 발명의 제6 발명에 관한 광학적 불균일 검사방법에 의하면, 판정 기준치를 각각 임의의 값으로 설정함으로써 검출되는 광학적 불균일의 면적 및 변동의 정도를 임의로 변경하는 것이 가능해진다.

Claims (6)

  1. 대상물의 광학적 불균일을 검사하는 광학적 불균일 검사장치에 있어서,
    상기 대상물의 화상에 대응하는 화상데이터를 규격화함으로써 규격화 화상데이터를 얻는 규격화 수단과,
    상기 규격화 수단에 의해 얻어진 규격화 화상데이터의 화소치의 평균치를 산출하고, 상기 규격화 화상데이터의 각 화소치와 상기 평균치와의 차이의 절대치를 산출하는 산출수단과,
    상기 산출수단에 의해 산출된 차이의 절대치를 미리 정해진 문턱치와 비교하고, 상기 문턱치보다도 큰 차이의 절대치를 추출하는 추출수단과,
    상기 추출수단에 의해 추출된 차이의 절대치를 적산하는 적산수단과,
    상기 적산수단에 의해 얻어진 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무를 판정하는 판정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 광학적 불균일 검사장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 판정수단은, 상기 적산수단에 의해 얻어진 적산치를 판정 기준치와 비교함으로써 광학적 불균일의 유무를 판정하는 것을 특징으로 하는 광학적 불균일 검사장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 대상물을 촬상해서 화상을 입력하고, 입력된 화상을 화상데이터로서 상기 규격화 수단에 공급하는 화상 입력수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 광학적 불균일 검사장치.
  4. 제1 항 내지 제3 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 규격화 수단은, 상기 화상데이터에서의 저주파 성분을 제거함으로써 규격화를 행하는 것을 특징으로 하는 광학적 불균일 검사장치.
  5. 대상물의 광학적 불균일을 검사하는 광학적 불균일 검사방법에 있어서,
    상기 대상물의 화상에 대응하는 화상데이터를 규격화함으로써 규격화 화상데이터를 산출하고,
    상기 산출된 규격화 화상데이터의 화소치의 평균치를 산출하고, 상기 규격화 화상데이터의 각 화소치와 상기 평균치와의 차이의 절대치를 산출하며,
    상기 산출된 차이의 절대치를 미리 정해진 문턱치와 비교하고, 상기 문턱치보다도 큰 차이의 절대치를 추출하고,
    상기 추출된 차이의 절대치를 적산하고,
    얻어진 적산치에 의거해서 광학적 불균일의 유무를 판정하는 것을 특징으로 하는 광학적 불균일 검사방법.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 적산치를 판정 기준치와 비교함으로써 광학적 불균일의 유무를 판정하는 것을 특징으로 하는 광학적 불균일 검사방법.
KR1019970051456A 1997-01-16 1997-10-07 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법 KR100249598B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9005722A JPH10197451A (ja) 1997-01-16 1997-01-16 光学的むら検査装置および光学的むら検査方法
JP97-5722 1997-01-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980069997A KR19980069997A (ko) 1998-10-26
KR100249598B1 true KR100249598B1 (ko) 2000-04-01

Family

ID=11619022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970051456A KR100249598B1 (ko) 1997-01-16 1997-10-07 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH10197451A (ko)
KR (1) KR100249598B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100451537B1 (ko) * 2001-04-17 2004-10-06 가부시키가이샤 시마쓰세사쿠쇼 방사선 검사장치 및 방사선 검사방법

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5482417B2 (ja) * 2010-05-10 2014-05-07 パナソニック株式会社 インクジェット装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100451537B1 (ko) * 2001-04-17 2004-10-06 가부시키가이샤 시마쓰세사쿠쇼 방사선 검사장치 및 방사선 검사방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10197451A (ja) 1998-07-31
KR19980069997A (ko) 1998-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5228490B2 (ja) 画像解析によって欠陥検査を行う欠陥検査装置
KR0150689B1 (ko) 평면형 표시패널 검사장치
KR100235476B1 (ko) 피검사체의 표면검사방법 및 장치
EP1174707A1 (en) Defect inspection method and defect inspection apparatus
EP3557216B1 (en) Inspecting device, inspecting method, and program
KR20100137176A (ko) 색상 검사 장치 및 색상 검사 방법
US5204617A (en) Liquid crystal panel inspection method
WO2008053490A2 (en) Method and system for defect detection using transmissive bright field illumination and transmissive dark field illumination
KR100249597B1 (ko) 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법
KR100249598B1 (ko) 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법
JP2001209798A (ja) 外観検査方法及び検査装置
US7538750B2 (en) Method of inspecting a flat panel display
KR100249599B1 (ko) 광학적 불균일 검사장치 및 광학적 불균일 검사방법
JP4664417B2 (ja) 表示パネル点灯検査装置、及び表示パネル点灯検査方法。
JP3806461B2 (ja) 物品外観検査装置
JP2001194322A (ja) 外観検査装置及び検査方法
JPH11257937A (ja) 欠陥検査方法
KR100661013B1 (ko) 모폴로지 기법을 이용한 티에프티 엘시디 결함 검출 및분류 방법
KR20050068086A (ko) Ｌｃｄ 모듈 검사 방법 및 장치
WO2024063471A1 (ko) 제품의 외관 검사 장치 및 방법
KR100939600B1 (ko) 제품 품질 검사 시스템 및 그 방법
JP4382210B2 (ja) 周期性パターンの検査方法及び装置
JPH05218160A (ja) 半導体チップの外観検査装置
KR20190082703A (ko) 평판 검사 방법 및 장치
US5744809A (en) Chromaticity testing device of CRT phosphor screen

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20071224

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee