KR100242168B1 - 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및이를 사용하는 스크린 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 분해속도의 조절이 가능하고 광전도 특성과 필터링특성이 우수한 음극선관의 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 이용한 스크린 제조방법을 제공한다.

그 광전도막도포용액은, 패널내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 가시광선 내지 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키며, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 광원에 의해 선택적으로 상기 광전도막의 정전하를 방출시켜서 정전하로 대전된 미세분말 입자를 부착시키는 건식 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막 도포용액에 있어서, 상기 광전도막의 조성이, 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머가 5 : 5 내지 6 : 4의 비율로 혼합된 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이에 따라, 광전도막 도포용액의 용해특성 및 여과특성을 향상시키고 이에 의해 형성된 광전도막(34)의 대전 및 광전도 특성과 연소 내지 열분해 특성을 향상시키고 비용절감을 도모하는 등의 효과가 있다.

Description

음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 스크린 제조방법

본 발명은 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법에 관한 것으로, 특히 분해속도의 조절이 가능하고 광전도 특성과 필터링특성이 우수한 블렌드(blend)계의 음극선관의 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 이용한 스크린 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 음극선관은, 제1도에 도시된 바와 같이, 판넬(panel)(12), 펀넬(funnel)(13) 및 네크(14)로 구분되는 진공 벌브(bulb)와, 그 네크(14)내부에 장착되는 전자총(11)과, 패널(12)의 측벽에 장착되는 새도우마스크(16)를 구비한다.

그 판넬(12)의 면판(18)의 내면에는 형광면(20)이 형성되어 있어, 전자총(11)으로부터 방출된 전자빔(19a)(19b)은 각종 렌즈계에 의해 집속되고 가속되며, 양극보턴(15)을 통해 인가되는 고전압에 의해 크게 가속되면서 편향요크(17)에 의해 편향되고 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬리트(16a)를 통과하여 형광면(20)에 주사된다.

형광면(20)은 면판(18)의 배면에 형성되는데, 칼라의 경우 제2도에 도시된 바와 같이 일정한 배열구조의 다수의 스트라이프(stripe) 또는 도트(dot)형상의 형광체(R, G, B)와, 그 각 형광체들사이의 플랙코팅과 같은 빛흡수물질로 형성된다. 또, 그 배면은 전도막층으로서 알루미늄박막층(22)이 형성되어 형광면의 휘도증대, 형광면의 이온손상방지, 형광면의 전위강하방지 등의 역할을 하게 된다. 또한, 그 알루미늄박막층(22)의 평면도 및 반사율을 높이기 위해서는 형광면(20)과 전도막층(22)사이에 라커(lacquer)와 같은 수지로 된 수지층(22')이 형성된다.

이러한 형광면(20)이 발색광 인성분과 같은 형광입자들을 포함하는 현탁액(slurry) 또는 빛흡수물질을 포함하는 현탁액을 도포하고 건조시켜 형성되는 종래의 습식 사진 석판슬(photolithographic wet process)은, 고화질의 요구를 충족시키지 못할 뿐만 아니라 제조공정 및 제조설비가 복잡하여 제조비용이 크게 소요되며, 또한, 대량의 청정수 소모와 폐수발생, 인배출물, 6가 크롬감광체 배출 등 여러 가지 문제점들을 안고 있다. 최근에 이러한 습식사진석판술을 개량한 전자사진식(electrophotographical) 스크린제조방법이 개발되었는데, 이 전자사진식 제조방법도 습식은 여전히 상술한 문제점들을 안고 있으며, 건식 제조방법에 의해서는 상술한 문제점들이 상당히 해소되었다.

그 대표적인 건식 전자사진식 스크린제조방법은 미국 특허 제 4,921,767호(1990년 5월 1일 특허됨)에 개시되어 있다. 그러나, 그 특허에서는 광전도막이 가시광선에 반응하는 염료를 포함하고 있어 암실작업이 불가피하며, 고착공정에서 적외선 가열에 의하고 있기 때문에 에너지 소모가 상당하다.

이에, 본 출원인은 광전도막을 자외선에 감응하는 광전도성 용액으로 형성함으로써 상기의 문제점을 해결하였다.

그 일예로, 본 출원인이 출원한 "음극선관의 스크린 제조방법"에 관하여 설명하면 다음과 같다.

제3(a)도 내지 제3(e)도는 상기 제조방법에 따른 각 공정을 개략적으로 도시한다. 제3(a)도는 면판(18)의 내면에 전도막(132)과 그 위에 광전도막(134)이 형성되는 코팅공정이다. 전도막(132)은 예를 들면, 폴리일렉트로라이트(polyelectrolyte)로서 Calgontkwpvna인 상품명 Catfloc-c 1-50 중량%와 1-50 중량%의 10% PVA용액의 수용액(나머지는 물)을 종래의 방법으로 도포하여 건조시키므로써 형성된다. 그 위에 자외선에 반응하는 물질을 포함하는 신규한 광전도막도포용액을 도포하여 건조시킨다. 자외선에 반응하는 물질의 일예로는 도너(doner)로서 0.01 내지 1중량%의 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔(bis-1, 4-dimethyl phenyl (-1, 4 -dihpenyl (butatriene))) 또는 2 내지 5 중량%의 테트라페닐 에틸렌(tetraphenyl ethylene)과, 어셉터(acceptor)로서 트리니트로플루오리논(trinitro-fluorenone : TNF) 및 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone : EAQ)중 적어도 1종 이상 각각 0.01 내지 1중량%를 고분자바인더(binder)로서의 1 내지 30 중량%의 폴리스티렌(polystyrene : PS)과 함께 잔량인 톨루엔(toluene)이나 크실렌(xylene)에 용해시켜 사용하였다. 상기 고분자바인더(binder)로서 상기 폴리스티렌이외에 폴리 알파메틸스티렌(poly(α-methylstyrene : PAMS), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethylmethacrylate : PMMA) 및 폴리스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymer : PS-OX) 등이 사용될 수 있다.

제3(b)도는 대전공정을 개략적으로 도시한 것이다. +1K볼트 이하, 바람직하게는 +700볼트이상의 직류전압을 인가하여 코로나 방전장치(36)로 대전시켰다. 광전도막(134)이 적어도 파장 450nm 이하의 자외선에 반응하기 때문에 암식작업이 불필요하다.

제3(c)도는 노광공정을 개략적으로 도시한 것으로서, 자외선광원(138)으로부터 파장이 짧고 직진성을 가진 자외선이, 자외선투과렌즈(140)를 통과하여 소망의 입사각으로 새도우마스크(16)에 입사하며, 소망의 배열을 가진 새도우마스크(16)의 애퍼처(aperture) 또는 실리트(16a)홀을 통과하여 광전도막(134)을 소망의 배열로 노광시킨다. 이때 전도막(132)이 어스되어 있어 그 노광부분의 전하는 그 전도막(132)을 통과하여 방출된다. 그리고, 비노광부분의 전하는 그대로 광전도막(134)에 잔존하게 된다. 이 노광공정도 자외선광원(138)을 사용하기 때문에 암실에서 작업할 필요가 없다.

제3(d)도는 현상공정을 개략적으로 도시한다. 종래에는 이 현상공정에서 캐리어 비드와 형광에 입자 또는 빛흡수물질입자들을 혼합하여 마찰에 의한 정전기를 대전시켰으나, 본 출원인의 발병에 의하면, 형광체 분말 또는 빛흡수물질의 분말과 같은 미세분말을 공기압에 의해 호퍼(148)로부터 벤츄리관(146)을 통해 코로나방전장치와 같은 방전전극(144a)과 노즐(144b)을 통과시켜 분사시키므로써 그 미세분말을 대전시키고 광전도막(134)의 노광부분과 비노광부분의 어느 하나에 부착시킨다. 방전전극(144a)에 의해 비세분말에 대전되는 정전기의 극성은 상기 노광공정에서의 노광부분과 비노광부분중 어느 부분에 그 미세분말을 부착시킬 것인가에 따라 결정된다. 즉 +전하를 띤 비노광부분에 부착시킬 경우에는 미세분말이 -전하로 대전되고, 전하가 방출된 노광부분에 부착시킬 경우에는 미세분말이 +전하로 대전된다. 현상용기(142)로 분사된, 대전된 미세분말은 전기적 인력과 반발력의 작용에 의하여 소망의 배열로 광전도막(134)의 표면에 강하게 부착된다.

제3(e)도는 액체 정전 스프레이 건을 이용한 고착(fixing)공정을 개략적으로 도시한다. 이 공정에서는, 상기 현상공정에서 소망의 미세분발(들)이 소망의 배열로 부착된 광전도막(134)의 표면에 석유계 크실렌(xylene), 톨루엔(toluene), TCE, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등의 솔벤트를 스프레이 시킴으로써 적어도 광전도막(134)에 포함된 폴리머를 용해시키고, 이 용해된 폴리머의 접착력에 의해 전기력 작용으로 부착된 미세분말(들)을 고착시킨다. 이 고착공정에는 아세톤, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 솔벤트증기를 접촉시켜 현상된 미세분말들을 고착시키는 베이퍼 스웰링(vapour swelling)법이 이용될 수도 있다.

상술한 공정들이 칼라음극선관의 제조를 위해서는 3종의 형광체에 대해 반복 실시된다. 또한, 불랙 매트릭스의 빛흡수물질도 3종의 형광체의 부착 전이나 그 후에 상술한 바와 같이 형성될 수 있다.

이와 같이 형광체 및 빛흡수물질이 형성된 다음, 라커공정에서 라커막이 종래의 방법으로 형성되고, 알루마이징공정에서 알루미늄박막도 종래의 방법으로 형성되며, 그 위, 베이킹(baking)공정으로 투입되어 대기 중에서 약 30분 동안 425℃에서 가열 건조됨으로써, 전도막(132), 광전도막(134)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성 성분이 제거되고 빛 흡수물질(21)과 각 형광체(R, G, B)가 제2도에서와 같이 형성된 형광면(20)이 얻어진다.

그러나, 상술한 고분자 바인더의 선정에 있어서 폴리머의 연소특성, 솔벤트에 대한 용해도, 전기적 특성(대전 및 광전도 특성) 그리고 필터링 특성 등이 고려되지만, 상기 단일계 폴리머들은 상술한 모든 조건을 만족하지 아니하여, 열분해속도가 빨라 상술한 베이킹시에 알루미늄막을 들뜨게 하거나, 솔벤트에 대한 용해특성 또는 광전도특성(DDc : dark decay 특성, Rp : residual potential 특성 등)이 좋지 아니하며, 비용이 고가일 뿐만 아니라, 광전도막(34) 용액의 필터링(입도가 10 내지 20 μ이상의 이물이나 불용의 폴리머 등의 여과)에도 어려움이 있다는 문제점이 있다.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 연소특성, 용해도특성, 광전도특성, 필터링특성 등이 우수할 뿐만 아니라, 비용도 저렴한 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.

제1도는 칼라음극선관의 부분단면한 개략평면도.

제2도는 제1도의 음극선관의 스크린 구성을 나타낸 부분 확대 단면도.

제3(a)도 내지 제3(e)도는 건식전자사진식 스크린 제조방법을 설명하기 위한 개략도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 음극선관(CRT) 11 : 전자총

12 : 패널(panel) 13 : 펀넬(funnel)

14 ; 네크(neck) 15 : 양극 보턴

16 : 새도우마스크 17 : 편향 요크

18 : 패널면판 19a, 19b : 전자빔

20 : 형광면(스크린) 21 : 빛흡수물질

22 : 알루미늄박막층 32 : 전도막

34 : 광전도막 35 : 광원(가시광선)

35′: 렌즈 35″: 현상용기

36 : 대전장치

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액은, 판넬내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 가시광선 내지 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키며, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 광원에 의해 선택적으로 상기 광전도막의 정전하를 방출시켜서 정전하로 대전된 미세분말 입자를 부착시키는 건식 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막 도포용액에 있어서, 상기 광전도막의 조성이, 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머가 5 : 5 내지 6 : 4의 비율로 혼합된 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 혼합물은, 6-10 wt%로서, 1.0-2.0 wt%의 테트라페닐 에틸렌(tetraphenyl ethylene : TPE), 01-0.3 wt%의 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone : EAQ) 및 0.05-0.2 wt%의 트리니트로플루오리논(trinitro-fluorenone : TNF)과 함께 잔량의 솔벤트인 톨루엔이나 크실렌 또는 그 톨루엔/크실렌 혼합용매 등에 용해되어 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액을 형성한다.

상기 폴리스티렌은 제반특성을 위해 분자량(M.W)이 10만 내지 30만 사이이며, 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머는 옥사졸린(OXAZOLINE)의 함유율이 1-5%이고 분자량(M.W)이 10만-20만의 범위인 것이 광전도막(34)의 물리적 특성(도포특성, 미세크랙발생 등)과 연소온도가 우수하다.

본 발명은 또한, 상기 광전도막도포용액을 이용하여 상기 판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 휘발성 광전도막을 형성함으로서, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 가시광선 내지 자외선 광원으로부터 가시광선 내지 자외선을 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 대전된 형광체를 부착시키는 단계들을 포함하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조방법을 제공한다.

이하, 첨부된 도면과 함께 본 발명의 실시예의 구성과 작용을 상세히 설명한다.

상술한 건식 전자사진식 음극선관의 스크린 제조공정에 있어서, 광전도막(134)으로 사용되는 고분자 바인더는 도포특성, 대전특성 및 광전도특성도 중요하지만, 후공정에서 완전히 분해되어 제거되는 것이 바람직하며, 또한, 분해되는 도중에 알루미늄박막층(22)을 부풀게 해서는 안되기 때문에 그 분해 온도와 분해 속도 또한 중요하다. 즉, 베이킹공정에서의 온도에서 완전히 열분해되어 기체상태로 제거되어야 하며, 특히 탄화물이 생성되지 않아야 할 뿐만 아니라, 분해속도가 너무 빨라 발생되는 연소가스가 한꺼번에 배출되면 그 배출가스의 압력에 의해 알루미늄박막층(22)이 부풀어 오르게되는 불량이 일어나기 쉬우며, 반대로 너무 천천히 분해되면 그 분해공정의 싸이클 시간이 길어져 생산량면에서 비경제적이다.

본 출원인은 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머의 연소온도가 상이한 점에 착안하여 광전도특성면에서 우수한 폴리스티렌과 연소특성이 우수한 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머를 혼합하여 PS/PS-옥사졸린 블렌드(blend)계의 고분자 바인더를 개발하였다. 따라서, 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머의 보관시 경시변화로 인하여 광전도특성이 저하되는 것을 저렴하고 국내생산이 가능한 폴리스티렌으로 보완한 것이다.

먼저, 폴리스티렌(PS)과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(PS-OX)의 열분해특성을 비교하며, 제4도와 제5도에 도시된 바와 같으며, 그 데이터는 다음과 같다.

위에서 알 수 있는 바와 같이 공전도막(134)의 고분자 바인더가 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머는 각기 다른 열분해속도와 완전분해온도를 가지고 있다. 따라서, PS/PS-OX 브렌드 타입(1 : 1 또는 6 : 4)을 적용하면 서로 열분해특성 즉, 완전분해온도와 분해속도가 다르기 때문에 폴리스티렌이나 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머의 단일 폴리머의 사용시 발생되는 과다한 탄화가스 양에 의한 알루미늄박막층(22)의 부풀음 현상을 줄일 수 있으며, 베이킹공정에서 완전히 연소되어 휘발될 수 있다.

본 발명의 실시예들에 있어서도, 제3(a)도와 관련하여 설명된 종래의 기술에서와 같이, 판넬 내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 휘발성 광전도막을 형성시킨다. 이때 사용되는 휘발성 공전도막 도포용액은, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리스티렌(PS), 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(PS-OX), 및 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머가 5 : 5 내지 6 : 4의 비율로 혼합된 혼합물(PS/PS-OX 브렌드)의 각각을 도너로서 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔(bis-1, 4-dimethyl phemyl (-1, 4 -diphenyl(butatrene)) : EMPBT) 또는 테트라페닐 에틸렌(tetraphenyl ethylene : TPE)의 각각에 대해 실시한 결과는 다음과 같았다. 이때, 그 고분자 바인더의 혼합물을 6-10wt%와 1.0-2.0 wt%의 도너를 01-0.3 wt%의 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone : EAQ) 및 0.05-0.2 wt%의 트리니트로플루오리논(trinitro-fluorenone : TNF)과 함께 잔량의 솔벤트인 톨루엔이나 크실렌 또는 그 톨루엔/크실렌의 혼합용매 등에 용해시켜 광전도막도포용액을 형성하였으며, 이를 상기 전도막(32)위에 도포하여 광전도막(34)을 형성하였다. 또한, 조도는 3.0mw/㎤, 파장은 365㎚로 하여 노광하였다.

상술한 광전도막(134)은 대전공정에서 약 400V(V_A)로 대전되었으며, 정전하 분포 변화에 대한 측정에 있어서 제6도에 도시된 바로부터 알 수 있는 바와 같이 DDc는 "Dark decay"의 약어로서 10초동안 대전시킨 후의 전압(V_A)으로부터 암실에서의 5초동안 경과한 후의 전압(V_D)으로 강하된 전압비([V_A-(V_D/V_A) 8 100]%)이며, t_1/2은 전압 "V_D"로부터 "V_D/2"로 되는 시간이고, RP(residual petential)는 t_1/2의 10배에 goekdg는 시점에서의 잔류전압이다.

상기 데이터로부터 알 수 있는 바와 같이 그 결과는 대략 DDc 효율은 PS-OX〉 PMMA 〉 PS/PS-OX 브렌드 〉 PS의 순이며, t_1/2효율 PS, PS-OX 〉PS/PS_OX 브렌드 〉 PMMA의 순이고, RP은 PS 〈 PS/PS-OX 브렌드 〈 PS-OX 〈 PMMA의 순이었으며, 광전도성은 DMPBT 〉 TPE이었다.

상기 PS/PS-OX 브렌드에 있어 폴리스티렌은 제반특성을 위해 분자량(M.W)이 10만 내지 30만사이인 것이 바람직하며, 그 이하에서는 대전후 이베 크랙이 발생하여 통전되는 등 도포특성이 저하하여 막 형성이 어려웠고, 그 이상의 분자량에서는 후술하는 바와 같이 베이킹공정에서 연소온도가 높아져 연소(열분해)특성이 저하하는 문제가 있었다.

또한, 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머는 옥사졸린(OXAZOLINE)의 함유율이 1-5%이고 분자량(M.W)이 10만-20만의 범위인 것이 적절하였다. 그 이하에서는 크게 연소특성을 향상시키지 못하였고 이상에서는 용해특성이 저하하여 여과가 용이하지 아니하며, 도포 후에 이물이 발생하여 응고되거나 기포가 발생하는 등 바람직스럽지 못하였다. 이와 같이 하여 용해된 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머는 솔벤트에의 용해가 용이하였으며, 나아가 10 내지 20μ이상의 입도의 미립자들의 여과 또한, 용이하게 실시되었다.

이와 같이 형성된 광전도막 용액을 상술한 바와 같이 전도막(32)위에 종래의 방법으로 도포하여 광전도막(34)을 형성하며, 이때, 도포막으로서의 강도를 유지하는 부착력도 개선되었다.

상기와 같이 구성된 본 발명의 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막 용액은 일예로서 다음과 같은 스크린 제조공정에 사용된다.

즉, (1) 패널의 내면에 종래와 같은 유기전도막 수용액으로 휘발성 전도막을 형성시킨 후 : (2) 그 전도막 위에 본 발명에의한 광전도막 용액으로 휘발성 광전도막을 형성시키고 : (3) 그 광전도막 위에 균일한 정전하를 대전시키며 : (4) 그 대전된 광전도막의 정전하를 선택적으로 방출시키도록 새도우마스크를 통과시켜 노광시키며 : (5) 그 후 소정의 미세분말을 대전시켜 상기 노광단계에서 정전하가 선택적으로 노광부분과 비노광부분 중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 거치게 되며, 칼라 음극선관의 경우 이러한 공정들이 3종의 형광체에 대해 실시되고 각 형광체들이 고착된다. 빛흡수물질(21)도 위와 같은 방법으로 각 형광체(R, G, B)의 현상 전이나 후에 형성될 수 있으며, 상기 투입되는 패널(12)이, 종래의 습식 슬러리법으로 빛흡수물질들을 소정의 패턴으로 배열시킨 판넬(12)일 수도 있다.

이와 같이 형광체 및 빛흡수물질이 형성된 다음, 라커공정에서 라커막 즉 수지필름층(22')이 종래의 방법으로 형성되고, 알루마이징공정에서 알루미늄박막도 종래의 방법으로 형성되며, 그 뒤, 베이킹(baking)공정으로 투입되어 대기 중에서 약 30분 동안 425℃에서 가열 건조됨으로써, 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성 성분이 제거되고 빛흡수물질(21)과 각 형광체(R, G, B)가 제2도에서와 같이 형성된 형광면(20)이 얻어진다.

이상에서 본 발명의 광전도막 도포용액에 의해 형성된 광전도막(34)은 제3(b)의 대전공정에 있어서 그 광전도막(34)에의 대전 특성 내지는 전기적 특성이 월등하게 나타났다. 특히, 옥사졸린군이 5wt%나 함유된 경우, 강한 도너로서 작용해 더욱 광전도특성을 향상시켰다.

또, 상술한 바와 같이 노광공정(제3(c)도), 현상공정(제3(d)도) 및 고착공정(제3(e)도)을 거쳐 베이킹공정에서 그 광정도막(34)은 연소, 휘발하는 과정에서 상기 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머의 연소온도가 상이하기 때문에 그 열분해속도가 완만하게 이루어지고 이에 따라 완만하게 상층의 알루미늄박막층(22)을 통해 방출될 수 있어 알루미늄박막층(22)이 들뜨거나 그 알루미늄박막층(22)에 크랙이 형성되지 아니하였다.

결론적으로, PS/PS-OX 브렌드의 경우 열분해 속도 차이로 인하여 완전분해 및 배출특성이 우수하여 알루미늄박막층(22)의 들뜸이 없이 완전 배출되었다.

한편, 광전도막도포용액을 위한 솔벤트로는 상술한 고분자 바인더를 용해시키는 용매로서 톨루엔과 크실렌이외에도 벤젠 또는 벤젠 유도체 및 그 혼합물이 사용될 수 있을 것이다.

또한, 상술한 2차 코팅단계에서 상기 광전도막(34)이 가시광선과 자외선의 어느 하나에 반응하는 물질을 포함하며, 이 경우 상기 노광단게에서는 그 광전도막(34)의 성분에 따라 가시광 광원 내지 자외선 광원에 의해 노광된다.

또, 상기 현상단계는 제3(d)도의 방전전극(144a)에 의해 대전시키고 노즐(144b)에 의해 분사시키는 방법이외에 현상용기에서의 캐리어와의 마찰대전방법이나 형광체 등의 미세분말을 공급하는 과정에서 파이프와의 마찰대전에 의해 그 미세분말을 대전시키는 것도 가능하다.

또한 제3(e)도의 고착공정은, 아세톤, 베틸 이소부틸 케톤과 같은 술벤트증기를 접촉시켜 고착시키는 베이퍼 스웰링(vapour swelling)법이나, 적외선 가열에 의한 고착공정도 가능하며, 아예 고착공정의 일부 내지는 전부가 생략될 수도 있다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법의 구성과 작용에 의하면, 광전도막 도포용액의 용해특성 및 여과특성을 향상시키고 이에 의해 형성된 광전도막(34)의 대전 및 광전도 특성과 연소 내지 열분해특성을 향상시키고 비용절감을 도모하는 등의 효과가 있다. 즉, 폴리스티렌의 우수한 대전 및 광전도 특성을 보완하여 기존의 폴리스티렌-옥사졸린 코폴리머 계의 문제점으로 야기되었던 용해성과 그에 따른 이물/불용폴리머등의 필터링과정 등이 용이해졌으며, 광전도막(34)의 강도유지도 개선되었고, 이중 연소온도로서 열분해속도를 조절하여 알루미늄박막층(22)의 들뜸이 없이 폴리머들을 휘발시킬 수 있었고, 단일 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머는 국내에서는 생산되지 않는 고가의 재료를 일부 국내에서 저가로 대량생산되는 폴리스티렌으로 대체할 수 있어 비용절감효과도 얻었다.

이상에서 본 발명의 일예를 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 아니하고, 청구범위 기재사항으로부터 당업자라면 용이하게 여러 가지 응용과 변형이 가능할 것이다.

Claims (4)

1. 판넬내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 가시광선 내지 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키며, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 광원에 의해 선택적으로 상기 광전도막의 정전하를 방출시켜서 정전하로 대전된 미세분말 입자를 부착시키는 건식 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막 도포용액에 있어서, 상기 광전도막의 조성이, 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머가 5 : 5 내지 6 : 4의 비율로 혼합된 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액.
2. 제1항에 있어서, 상기 혼합물이, 6-10 wt%로서 1.0-2.0 wt%의 테트라페닐 에틸렌(tetraphenyl ethylene : TPE), 01-0.3 wt%의 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone : EAQ) 및 0.05-0.2 wt%의 트리니트로플루오리논(trinitro-fluorenone : TNF)과 함께 잔량의 솔벤트인 톨루엔이나 크실렌 E는 그 톨루엔/크실렌의 혼합용매 등에 용해돈 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리스티렌은 제반특성을 위해 분자량(M.W)이 10만 내지 30만사이이며, 폴리스티렌-옥사졸린 코폴리머는옥사졸린(OXAZOLINE)의 함유율이 1-5%이고 분자량(M.W)이 10만∼20만의 범위인 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액.
4. 판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 가시광선 내지 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키고, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 가시광선 내지 자외선광원으로부터 가시광선 내지 자외선을 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 대전된 형광체를 부착시키는 단계들을 포함하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조방법에 있어서, 상기 광전도막이, 폴리스티렌과 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머가 5 : 5 내지 6 : 4의 비율로 혼합된 혼합물을 포함하는 광전도막 도포용액을 도포하여 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식전자사진식 스크린 제조방법.

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