KR100217322B1 - 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치 - Google Patents

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KR100217322B1 KR1019960006865A KR19960006865A KR100217322B1 KR 100217322 B1 KR100217322 B1 KR 100217322B1 KR 1019960006865 A KR1019960006865 A KR 1019960006865A KR 19960006865 A KR19960006865 A KR 19960006865A KR 100217322 B1 KR100217322 B1 KR 100217322B1
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Abstract

본 발명은 스핀 방식에 의한 포토레지스트 도포작업에서 고속 회전에 따른 잉여 액상이 되튀겨지지 않도록 받아주는 캣치컵을 세정하도록 하는 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치에 관한 것으로, 그 구성은 캣치컵을 다수개 수용하는 바스켓 및 소정량의 세정액을 수용할 수 있는 세정챔버가 형성된 세정장치에 있어서, 소정량의 세정액을 저장하기 위한 저장탱크와, 상기 저정탱크로 세정액을 공급할 수 있도록 연결된 세정액 투입용 공급용기가 구비되고 상기 공급용기의 일측면에는 세정액 정량용기를 착탈시킬 수 있는 용기 케이스가 고정된 회전대가 수평배치되어 그 양단이 자전 가능하도록 지지되며 상기 회전대 일단의 굴곡부에는 실린더 축이 연결되어 상기 회전대를 회전시킬 수 있도록 된 세정액 투입부와, 상기 저장탱크와 연결되어 상기 저장탱크 내부에 투입된 세정액을 다수개의 세정챔버에 공급하는 세정액 공급펌프;를 포함한 구성으로 이루어진다.
따라서, 캣치컵에 의한 화재의 위험을 방지하고, 작업자의 신체에 대한 손상이 없도록 하며, 작업자의 노동력과 세정에 소요되는 시간을 단축하게 되는 효과가 있다.

Description

반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치
제1도는 종래의 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
제2도는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
제3도는 본 발명의 세정장치에 있어서 세정액 투입부를 나타낸 사시도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10,22 : 세정장치 12 : 캣치컵
14,24 : 뚜껑 16,28 : 세정챔버
18,26 : 바스켓 20 : 배출구
30 : 세정액 투입부 32 : 공급용기
33 : 연결관 34 : 지지구
36 : 회전대 38 : 실린더 축
39 : 실린더 40 : 정량용기
42 : 용기 케이스 43 : 차단밸브
44 : 저장탱크 46 : 세정액 공급펌프
48 : 온도 감지센서 50 : 소화기
52 : 가스 공급부 54 : 이송부
56 : 척
본 발명은 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스핀 방식에 의한 포토레지스트 도포작업에서 고속 회전에 따라 잉여 액상이 되튀겨지지 않도록 받아주는 캣치컵을 유기용제를 사용하여 세정하도록 하는 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치에 관한 것이다.
일반적으로 포토리소그래피(photolithography) 공정은 웨이퍼 표면상에 요구되는 청정도가 높은 균일한 PR(Photoresist) 패턴을 형성시키기 위한 공정으로서, 고속회전하는 웨이퍼의 표면상에 액상의 PR 및 점착액을 공급하거나 점착성이 강한 PR을 공급하여 웨이퍼의 고속회전에 따른 원심력으로 균일하게 도포하고 점착시키는 스핀방식을 주로 사용하고 있다.
이러한 스핀방식은 PR 및 점착액이 웨이퍼의 표면에 불충분하게 도포되는 부위가 없도록 충분한 양을 공급하게 되며, 이에 따라 웨이퍼의 표면으로부터 원심력에 의해 벗어나게 되는 잉여분의 PR 및 점착액은 주변 설비에 반사되어 웨이퍼의 표면으로 되튀겨지는 현상이 있게 된다.
이렇게 되튀겨진 잉여액상의 PR 및 점착액은 웨이퍼를 오염시키거나 균일한 패턴의 PR 층을 이루지 못하게 되어 불량을 초래하게 된다.
따라서, 이러한 스핀방식을 채택한 포토리소그래피 공정은 웨이퍼의 주연으로부터 소정 거리 이격된 위치에 잉여분의 PR 및 점착액이 되튀겨지지 않도록 방지하는 캣치컵이 설치된다.
그러나, 이러한 캣치컵의 표면에 잉여액상의 PR 및 점착액이 계속적으로 굳어져 누적됨에 따라 오히려 잉여액상의 PR 및 점착액에 대한 반사판 역할을 하게 되어 그 기능을 수행할 수 없게 된다.
그러므로, 일정 주기를 정하여 캣치컵을 분리 교체하고, 분리된 캣치컵을 세정한 후 여분으로 보관하여 사용하도록 되어 있다.
그리고, 통상 캣치컵을 세정하는데 사용되는 용제는 아세톤과 같은 유기화합무로서 PR 및 점착액에 대한 세척력에 강할 뿐아니라 인화성이 높고, 인체에 손상을 주는 유해 성분을 함유하고 있어 특수 용기에 소량이 담겨져 제공되고 있다.
제1도는 종래의 캣치컵 세정장치의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도로서, 이하 제1도를 참조하여 종래기술을 설명하기로 한다.
제1도에 캣키컵(12)을 세정하도록 형성된 세정장치(10)가 도시되어 있다.
이 세정장치(10)의 상측부에는 뚜껑(14)이 형성되어 있고 이 뚜껑(14)은 일측부가 힌지 결합되어 있어 회동식으로 개폐된다.
또한, 뚜껑(14)의 하측에는 세정챔버(16)가 형성되어 있으며, 이 세정챔버(16)의 내부에는 다수개의 캣치컵(12)을 수용하고 있는 망에 형상의 바스켓(18)이 수용되고, 소정량의 세정액을 수용할 수 있도록 되어 있다.
그리고, 세정챔버(16)의 하측부 소정 위치에는 캣키컵(12)으로부터 제거된 찌꺼기를 함유한 폐세정액이 배출되는 배출구(20)가 형성되어 있다.
이렇게 형성된 세정장치(10)에 대한 캣키컵(12)의 세정 과정을 설명하기로 한다.
공정챔버(도시 안됨)로부터 분리한 다수개의 캣키컵(12)은 망체 형상의 바스켓(18) 내부에 담겨져 세정장치(10)로 이송되고, 이렇게 이송된 바스켓(18)을 세정장치(10)의 뚜껑(14)을 개폐한 후 세정챔버(16) 내부에 투입하게 된다.
이후 바스켓(18)이 투입된 세정챔버(16)의 내부에 소정량의 세정액을 공급하게 되는데 공급되는 세정액(16)이 정량용기(도시 안됨)에 소량으로 담겨져 제공됨에 따라 많은 양을 필요로 하는 세정챔버(16)에 의해 작업자가 많은 시간을 소요하여 정량용기의 뚜겅을 개폐하여 공급하게 된다.
따라서, 바스켓(18)이 다공의 망체 형상으로 형성됨에 따라 세정챔버(16)의 내부에 위치된 캣치컵(12)은 공급된 세정액에 충분히 담겨져 세정되고, 소정 시간이 경과한 후에 바스켓(18)은 꺼내어지며 캣치컵(12)은 예비 보관장소로 옮겨진다.
그러나, 전술한 세정장치는 정량용기에 담긴 세정액을 공급함에 있어서, 인화성이 높은 세정액에 의한 화재발생 위험에 대해 무방비할 뿐 아니라 작업자의 수작업에 의한 노동력 및 시간적 손실이 있으며, 인체에 유해한 유기용제를 작업자가 직접 접촉하게 됨에 따라 인체에 상해를 주게 되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은 화재의 위험이 없도록 하고, 인체에 상해를 주지 않도록 세정애과 접촉하게 되는 것을 방지하며, 노동력 및 세정하는 시간을 단축하도록 하는 반도체 제조설비에 캣치컵 세정장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치는 캣치컵 을 다수개 수용하는 바스켓 및 소정량의 세정액을 수용할 수 있는 세정챔버가 형성된 세정장치에 있어서, 소정량의 세정액을 저장할 수 있도록 상기 세정챔버의 일측에 구비된 저장탱크와, 상기 저정탱크와 연결되는 연결관을 통해 상기 저장탱크로 세정액을 공급할 수 있도록 그 상부에 세정액 투입용 공급용기가 구비되며 상기 공급용기의 일측면에는 세정액 정량용기를 착탈시킬 수 있는 다수의 용기 케이스가 고정된 축봉형태의 회전대가 인접하여 수평배치되고 상기 공급용기의 상기 측면 양측에는 상기 회전대의 양단을 자전 가능하도록 지지하는 지지구가 각각 형성되며 상기 회전대 일단에 형성된 굴곡부에는 실린더 축이 연결되어 상기 회전대를 회전시킬 수 있도록 된 세정액 투입부와, 상기 저장탱크와 연결되어 상기 저장탱크 내부에 투입된 세정액을 다수개의 세정챔버에 공급하는 세정액 공급펌프를 포함한 구성으로 이루어진다.
또한, 상기 세정챔버의 내벽에는 화재의 위험을 방지하기 위한 온도 감지센서 및 소화기를 설치하고, 상기 세정챔버 하측으로 세정액의 세정능력을 향상시킬 수 있도록 저온의 질소가스를 공급하는 가스 공급부를 설치함이 바람직하다.
그리고, 상기 캣치컵 을 수용하고 있는 바스켓을 장착하여 세정장치의 뚜껑 개페시에 승강되도록 설치된 이송부를 형성함이 효과적이다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제2도는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치의 요부를 개략적으로 나타낸 단면도이고, 제3도는 본 발명의 세정장치에 있어서 세정액 투입부를 나타낸 사시도이다.
제2도와 제3도를 참조하면 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장치를 설명하면, 캣치컵(도시 안됨)을 다수개 수용하고 있는 바스켓(26)과 소정량의 세정액을 수용할 수 있는 세정챔버(28)가 형성되어 있고, 이 세정챔버(28)의 측부 상측에는 세정액 투입부(30)가 형성되어 있다.
이 세정액 투입부(30)에 대하여 제3도를 참조하여 설명하면, 유체을 수용할 수 있는 용기 형상으로 소정량의 세정액을 담을 수 있도록 형성된 공급용기(32)가 있고, 이 공급용기(32)의 길이 방향 양측에는 지지구(34)가 고정되어 있다.
또한, 상기 양측 지지구(34)에 회전가능하게 지지되어 있는 일단부가 굴국된 형상을 이루는 회전대(36)가 있고, 이 회전대(36)의 굴곡된 일단부는 수직 왕복운동을 하는 실린더 축(38)과 링크결합되어 있다.
그리고, 지지구(34) 사이의 회전대(36) 소정 부위에는 세정액을 담은 정량용기(40)을 고정할 수 있도록 형성된 용기 케이스(42)가 다수개 부착되어 있다.
이렇게 형성된 세정액 투입부(30)는 작업자가 뚜껑을 개폐한 정량용기(40)를 상기과 같이 설치된 용기 케이스(42)에 각각 올려놓고 실린더(39)를 구동시킴에 따라 실린더 축(38)과 링크결합된 회전대(36)가 회전하게 되며, 용기 케이스(42)는 고정된 정량용기(40)와 함께 회전대(36)를 중심으로 회전하며 정량용기(42) 내부에 수용된 세정액을 공급용기(32)에 투입하게 된다.
한편, 공급용기(32)는 하측에 위치한 저장탱크(44)와 연결관(33)과 차단밸브(43)로 연결되어 있으며, 이 연결관(33)과 차단밸브(43)를 통하여 공급용기(32)에 투입된 세정액을 저장탱크(44)로 전달하게 된다.
이때 차단밸브(43)는 세정액이 저장탱크(44)로 유입되게끔 하는 통로 역할을 함과 동시에 세정액이 외부로 노출되는 공급용기(32)로부터 저장탱크(44)의 화재를 예방하도록 밀폐시키는 역할을 하게 된다.
그리고, 저장탱크(44)는 공급용기(32)로부터 전달된 세정액을 소정량 저장할 수 있는 부피를 형성하고 있으며, 이 저장탱크(44)의 소정 부위는 다수개의 세정챔버(28)에 세정액을 소정량씩 공급하도록 하는 세정액 공급펌프(46)와 연결되어 있다.
따라서, 저장탱크(44)에 저장된 세정액은 세정액 공급펌프(46)에 의해 각각의 세정챔버(28)에 공급된다.
한편, 세정챔버(28) 내부에 측벽 소정 위치에는 인화성이 높은 세정액에 의해 발생 가능한 화재를 진화하도록 세정액의 인화점 이상의 온도를 감지하게 되는 온도 감지센서(48)와 이 온도 감지센서에 의해 동작하는 소화기(50)가 설치되어 있다.
또한, 세정챔버(28)의 하측부 밑면에는 다수개의 구멍을 이루고 있으며, 이 구멍은 세정챔버(28)에 투입된 캣치컵(12)이 보다 효과적으로 세정되도록 세정액을 유동시키게 하는 가스 공급부(52)와 연결되어 있다.
이 가스 공급부(52)에 의해 공급되는 가스는 통상 생산라인에서 용이하게 구할 수 있는 질소가스를 사용하게 되고, 이러한 질소가스는 세정액의 인화점 이하의 온도를 유지시켜 화재 위험을 미연에 방지하도록 0℃ 이하의 저온 상태를 유지시킴이 바람직하다.
따라서, 가스 공급부(52)에 의해 공급되는 질소가스는 세정챔버(28)의 하측에 형성된 구멍을 통하여 세정액 내에서 기포 상태로 분출되어 세정액을 유동시키게 되며, 계속적인 질소가스의 기포 분출 작용에 의해 캣치컵(12) 표면으로부터 PR 및 점착액에 의한 찌꺼기를 효과적으로 떼어내게 된다.
그리고 이렇게 공급되는 질소가스는 세정액의 인화점 이하의 상태를 유지하도록 0℃ 이하의 저온의 것을 사용함으로써 세정챔버(28) 내부의 화재 발생 요인을 미연에 방지하게 된다.
한편, 세정챔버(28)의 주연부에는 세정장치(22)의 뚜껑(24)을 개폐함에 따라 상승 및 하강하도록 되어 있는 이송부(54)가 설치되어 있고, 이 이송부(54)의 소정 부위에는 바스켓(26)을 장착할 수 있는 척(56)이 설치되어 있다.
따라서, 작업자가 바스켓(56)을 세정챔버(28)에 투입하기 위해 세정장치(22)의 뚜껑(24)을 열게 되면, 척(56)을 수용하고 있는 이송부(54)가 상승하게 되며, 이에 따라 상기 척(56)은 작업자가 바스켓(26)을 척(56)에 장착하기 용이한 위치에 있게 된다.
이렇게 바스켓(26)을 척(56)에 장착한 후 다시 세정장치(22)의 뚜껑(24)을 닫게 되면, 이송부(54)는 척(56)과 함께 하강하여 바스켓(26)을 세정챔버(28) 내부로 투입하게 된다.
그리고, 소정 시간이 경과한 후 다시 뚜껑(24)을 열게되면 이송부(54)가 상승하여 작업자로 하여금 바스켓(26)을 들어내기 용이한 형태로 있게 되고, 작업자는 바스켓(26)을 들어내어 소정 위치로 옮기게 된다.
이하, 전술한 바와 같이 구성된 세정장치에 대하여 동작관계 및 효과를 요약하여 설명하면, 작업자가 다수개의 정량용기(40)의 뚜껑을 개폐하여 세정액 투입부(30)의 용기 케이스(42)에 다수개 비치한 후 실린더(39)를 구동시키게 된다.
이에 따라 정량용기(40)는 회전대(36)를 중심으로 회전하며, 정량용기(40) 내부의 세정액을 공급용기(32)에 투입하게 되고, 이렇게 투입된 세정액은 연결관(33)과 차단밸브(43)을 통하여 저장탱크(44)로 흘러들어가게 된다.
상기와 같은 동작을 수번 반복 시행함에 따라 소정량의 세정액이 저장탱크(44)내부에 저장된 상태로 있게 되고, 이러한 상태에서 작업자가 캣치컵(12)을 다수개 수용하고 있는 바스켓(26)을 세정챔버(28)에 투입하기 위해 세정장치(22)의 뚜껑(24)을 열게 되면 이송부(54)가 척(56)과 함께 상승하게되며, 작업자는 바스켓(26)을 척(56)에 장착하고 세정장치(22)의 뚜껑을 닫게 된다.
이렇게 세정장치(22)이 뚜껑(24)을 닫음에 다라 상기 이송부(54)가 하강하여 바스켓(26)을 세정챔버(28) 내부로 이동시킨다.
이때, 상기 저장탱크와 연결된 세정액 공급펌프(46)가 구동되어 저장탱크(44)로부터 세정액을 빼내어 다수개의 세정챔버(280에 공급하게 되며, 세정챔버(28) 내부에 소정량의 세정액이 투입되면 세정액 공급펌프(46)는 동작을 멈추게 된다.
그리고, 캣치컵(12)은 바스켓(26)과 함께 세정챔버(28) 내의 세정액에 담겨진 상태로 있게 되고, 또한 가스 공급부(52)에 의한 질소가스가 세정챔버(28) 하측에 구멍을 통하여 공급됨에 따라 세정액이 공급된 질소가스가 이루는 기포에 의해 유동되며 캣치컵(12)에 묻은 찌꺼기를 효과적으로 제거하게 된다.
그리고, 이렇게 세정챔버(28) 내부에 공급되는 질소가스를 공급하는 가스 공급부는 세정액의 인화점 이상의 온도로 상승하는 것을 방지하도록 0℃ 이하의 충분히 냉각된 상태이므로 세정챔버(28) 내부의 화재 위험을 미연에 방지하게 된다.
한편, 이렇게 소정 시간이 소요된 후 작업자가 세정장치(22)의 뚜껑(24)을 열게 되면 바스켓(26)은 세정액으로부터 이송부(54)에 의해 올려져 작업자에 인계하기 좋은 위치에서 멈추게 되고, 작업자는 바스켓(26)을 인계받아 캣치컵 보관장소로 옮겨진다.
또한, 상기 온도 감지센서(48)는 세정챔버(28) 내부의 온도를 감지하여 과열 위험시 상기 소화기(50)를 작동시키기 위한 것으로, 세정챔버(28) 내부에서 세정액에 의한 화재가 발생되면 세정챔버(28) 내부에 설치된 상기 온도 감지센서(48)의 감지신호에 의해 소화기(50)가 작동하여 화재를 진화할 수 있게 된다.
이렇게 구성된 본 발명은 캣치컵에 의한 화재에 위험을 방지하고, 작업자의 신체에 대한 손상이 없도록 하며, 작업자의 노동력과 세정하는데 필요한 소요 시간을 단축시키는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상과 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구의 범위에 속함은 당연하다.

Claims (8)

  1. 캣치컵을 다수개 수용하는 바스켓 및 소정량의 세정액을 수용할 수 있는 세정챔버가 형성된 세정장치에 있어서, 소정량의 세정액을 저장할 수 있도록 상기 세정챔버의 일측에 구비된 저장탱크; 상기 저정탱크와 연결되는 연결관을 통해 상기 저장탱크로 세정액을 공급할 수 있도록 그 상부에 세정액 투입용 공급용기가 구비되며, 상기 공급용기의 일측면에는 세정액 정량용기를 착탈시킬 수 있는 다수의 용기 케이스가 고정된 축봉형태의 회전대가 인접하여 수평배치되고, 상기 공급용기의 상기 측면 양측에는 상기 회전대의 양단을 자전 가능하도록 지지하는 지지구가 각각 형성되며, 상기 회전대 일단에 형성된 굴곡부에는 실린더 축이 연결되어 상기 회전대를 회전시킬 수 있도록 된 세정액 투입부; 및 상기 저장탱크와 연결되어 상기 저장탱크 내부에 투입된 세정액을 다수개의 세정챔버에 공급하는 세정액 공급펌프;로 구성됨을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 연결관의 소정 부위에는 상기 저장탱크에 세정액의 양을 적정하게 조절하여 공급할 수 있도록 상기 저장탱크를 개폐시키는 차단밸브가 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 세정챔버의 내벽 일측에는 세정액이 인화점 이상의 온도를 상승하는 것을 감지하기 위한 온도 감지센서가 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 세정챔버의 내벽에는 상기 온도 감지센서의 감지신호를 받아 작동하게 되는 소화기가 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 세정챔버의 하측에는 수용된 세정액의 유동을 활성화시킬 수 있도록 상기 세정챔버의 내부로 가스를 공급하는 가스 공급부가 연결됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 가스는 소정온도 이하의 저온을 유지하는 공정용 질소가스임을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 질소가스는 세정액의 인화점 이상의 온도롤 상승하지 않도록 0℃ 이하로 저온 냉각된 것임을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 세정장치의 상부에는 개폐용의 뚜겅이 설치되고, 상기 뚜겅의 개폐시 상기 바스켓을 승강 이동시키기 위한 바스켓 고정용 척이 설치되어 상기 바스켓을 세정챔버 내부로 투입할 수 있도록 된 이송부를 포함하는 구성으로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치.
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KR101574645B1 (ko) * 2014-06-19 2015-12-07 주식회사 원익큐엔씨 연속 세정 장치
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