KR100208358B1 - 유체의 흐름을 제어하는 극소형밸브장치 - Google Patents

Abstract

미량의 유체를 제어할 수 있는 극소형밸브장치가 개시된다. 상기 극소형밸브장치는, 제어대상 유체의 통과를 위한 유입구와 유출구가 형성된 제1피복층과, 상기 제1피복층과 소정 간격을 두며, 챔버출입공이 관통 형성된 제2피복층과, 상기 제1 및 제2피복층 사이에 게재되며, 상기 제1피복층과의 사이에 상기 유입구와 유출구간의 유체 유로를 형성하고 상기 제2피복층과의 사이에 상기 유입구로 공급되는 유체와 동일한 상기 챔버출입공을 통해 유입된 유체가 수용되는 챔버를 형성하는 탄성 격벽을 가지는 실리콘층과, 상기 챔버출입공을 개폐하는 개폐수단과, 상기 챔버내의 유체를 가열하는 가열수단과, 상기 격벽에 형성되어 상기 가열수단으로부터 상기 챔버에 수용된 유체가 팽창할 때, 상기 격벽의 탄성변형에 의해 상기 유출구를 차단하는 밸브부를 포함한다. 이에 따라, 제어대상 유체의 압력에 관계 없이 미량의 유체를 제어할 수 있다.

Description

유체의 흐름을 제어하는 극소형밸브장치

본 발명은 미량의 유체를 제어할 수 있는 극소형밸브장치에 관한 것이다.

의료기기나 화학분석장치 또는 냉장고, 에어컨 등에 사용되는 냉각시스템에서는 미량의 유체의 공급을 제어하는 극소형밸브장치가 사용되고 있다. 극소형밸브장치는 시료나 냉매 등을 미소량씩 정밀 제어하여 공급을 단속하는 역할을 한다.

종래의 극소형밸브장치를 제7도를 참조하여 설명한다. 제7도는 종래의 극소형밸브장치의 종단면도이다.

극소형밸브장치는 파이렉스층(51)과, 파이렉스층(51)의 하부에 접합된 제1 및 제2실리콘층(52,54)을 가진다. 파이렉스층(51)과 접하고 있는 제1실리콘층(52)은 상부가 함몰형성되어 파이렉스층(51)의 하측면과 함께 챔버(60)를 형성하고, 챔버(60)내에는 열에 의해 팽창하는 열팽창성 유체로 구성된 조절유체(61)가 수용된다. 챔버(60) 내의 파이렉스층(51) 하측면에는 열선(67)이 설치되어 챔버(60)내의 조절유체(61)를 가열한다.

제2실리콘층(54)은 접합층(53)에 의해 제1실리콘층(52)과 접합되며, 제1실리콘층(52)과 제2실리콘층(54) 사이에는 소정의 공간이 형성되어 제어대상이 되는 유체가 유입되는 유체관(70)을 형성한다. 제2실리콘층(54)의 하부에는 제어대상이 되는 유체가 유체관(70)내로 유입되게 안내하는 유입구(71)가 형성되어 있다. 제2실리콘층(54)의 유입구(71)는 제1실리콘층(52)의 챔버(60) 하부를 향하도록 형성되고, 챔버(60) 하부는 유입구(71)의 상부개구에 인접하여 위치되는 격막(80)으로 마련된다. 유입구(71)를 통해 유입된 유체는 격막(80) 하부를 거쳐 극소형밸브장치의 후면 등을 향해서 형성된 유출구(도시 않음)를 통해 유출된다.

유입구(71)를 통해 유입된 유체의 유출구로의 흐름은 격막(80)에 의해 제어된다. 외부로부터의 전류 공급 등에 의해 열선(67)이 가열되면 챔버(60)내의 조절유체(61)가 팽창하고, 이 팽창력에 의해 격막(80)이 하부의 유입구(71)를 향해 벤딩되어 격막(80)과 유입구(71)간의 간격이 좁아지게 되고, 이에 따라 유입구(71)를 통해 유입되는 유체의 양이 줄어들게 된다. 열선(67)을 더 가열하면 조절유체(61)는 더욱 팽창하므로 격막(80)은 더욱 하향밴딩되어 유입구(71)를 폐쇄하고, 이에 따라 유입구(71)는 폐쇄되어 유체의 흐름이 차단된다.

또한, 빛을 통과시키는 파이렉스층(51)의 상부에 빛을 공급하는 광파이프(81)를 설치하고, 광파이프(81)로부터 공급되는 빛으로 조절유체(61)를 팽창시켜 격막(80)의 벤딩을 조절하기도 한다.

이와 같이, 열선(67)의 가열 정도 또는 빛의 양에 따라 유입구(71)를 통해 유입되는 유체의 양을 조절 및 단속할 수 있는 극소형밸브장치가 구성된다.

그런데, 이러한 종래의 극소형밸브장치는, 유입구(71)를 통해 유입되어 제어되는 유체의 압력이 달라질 경우, 유입량의 정확한 제어가 힘들다는 문제점이 있다. 즉, 유입구(71)를 통해 유입되는 유체의 압력이 클 경우에는 상대적으로 챔버(60)내의 조절유체(61)의 팽창력을 증대시켜야 하는데, 이에 따라 열선(67) 또는 광파이프(81)를 이용하여 동일한 양만큼 조절유체(61)를 가열하더라도 유입구(71)의 개도는 상대적으로 커지게 되어 유입되는 유체의 양은 증가하게 된다. 따라서, 정확한 유입량의 제어가 힘들게 된다.

또한, 이러한 종래의 극소형밸브장치는 유체의 압력에 따라 조절유체(61)를 가열하는 정도를 조절하더라도 유체의 압력이 커질 경우에는 격막(80)의 강도 등의 문제로 그 조절에 한계가 있게 된다. 예컨데, 유입구(71)를 폐쇄하여 유체의 유입을 차단하고자 할 경우에 약 7기압 정도의 압력이 필요하게 되는데, 이때 유입구(71)를 통해 유입되는 유체의 압력이 3기압 정도라면, 조절유체(61)의 팽창력은 10기압 정도가 되어야 격막(80)에 의한 유입구(71)의 폐쇄가 가능하게 된다. 그런데, 이러한 고압에서는 격막(80)이 파열될 수가 있으므로, 사용이 불가능하다. 따라서 유입되는 유체의 압력이 클 경우에는 유체의 흐름을 완전하게 차단하기가 힘들게 된다.

따라서, 본 발명의 목적은 상기와 같은 제 문제점을 고려하여, 다양한 압력 범위에서도 사용이 가능하며, 유입되는 유체의 압력에 관계없이 정확하게 미량의 유체를 조절 및 단속할 수 있는 극소형밸브장치를 제공하는 것이다.

제1도는 본 발명의 일 실시예에 따른 극소형밸브장치의 종단면도.

제2도 내지 제6도는 본 발명의 각기 다른 실시예에 따른 극소형밸브장치의 종단면도.

제7도는 종래의 극소형밸브장치의 종단면도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1,4 : 제1,2피복층 2,3 : 제1,2실리콘층

10 : 유체관 11 : 유입구

13 : 유출구 20 : 챔버

21 : 챔버출입구 23 : 외팔보형밸브

27 : 저항발열체 30 : 격막

31 : 밸브부 41 : 바이메탈스위치

상기 목적은 본 발명에 따라, 미량의 유체의 흐름을 제어하는 극소형밸브장치에 있어서, 제어대상 유체의 통과를 위한 유입구와 유출구가 형성된 제1피복층과; 상기 제1피복층과 소정 간격을 두며, 챔버출입공이 관통 형성된 제2피복층과; 상기 제1 및 제2피복층 사이에 게재되며, 상기 제1피복층과의 사이에 상기 유입구와 유출구간의 유체 유로를 형성하고 상기 제2피복층과의 사이에 상기 유입구로 공급되는 유체와 동일한 상기 챔버출입공을 통해 유입된 유체가 수용되는 챔버를 형성하는 탄성 격벽을 가지는 실리콘층과; 상기 챔버출입공을 개폐하는 개폐수단과; 상기 챔버내의 유체를 가열하는 가열수단과; 상기 격벽에 형성되어 상기 가열수단으로부터 상기 챔버에 수용된 유체가 팽창할 때, 상기 격벽의 탄성변형에 의해 상기 유출구를 차단하는 밸브부를 포함하는 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치에 의해 달성된다.

상기 유입구는 복수개로 구성되어 상기 유출구에 대해 대칭적으로 배치되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 유입구는 상기 격막의 벤딩 방향에 가로방향으로 상기 유체가 상기 유로로 유입되도록 형성된 것이 효과적이다.

상기 개폐수단은, 상기 챔버의 내벽면으로부터 상기 챔버출입구에 인접한 영역으로 연장 돌출형성된 외팔보형밸브와, 상기 외팔보형밸브를 벤딩시켜 상기 챔버출입구를 폐쇄하는 벤딩수단으로 이루어진 것이 바람직하다.

상기 벤딩수단은, 상기 외팔보형밸브와 상기 챔버출입구의 둘레구간에 걸쳐 환형으로 설치된 전극인 것이 바람직하다. 또한, 상기 벤딩수단은, 상기 외팔보형 밸브의 길이방향에 걸쳐 설치된 바이메탈스위치인 것이 바람직하다. 또한, 상기 벤딩수단은, 상기 외팔보형밸브의 길이방향에 걸쳐 설치된 저항발열체인 것이 바람직하다.

상기 가열수단은 상기 챔버 내에 설치된 저항발열체인 것이 바람직하다.

상기 격막은 실리콘고무 재질 또는 폴리아미드 재질로 구성되는 것이 바람직하다.

이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 각 실시예에서 동일한 부분은 동일한 참조부호를 사용한다.

제1도는 본 발명의 일 실시예에 따른 극소형밸브장치의 종단면도이다.

이에 도시하듯이, 본 실시예에 다른 극소형밸브장치는, 파이렉스(Pyrex)재로 된 제1 및 제2피복층(1,4)들 사이에 개재된 실리콘층을 가진다. 실리콘층은 제1 및 제2실리콘층(2,3)을 가진다.

상측에 위치되는 제1실리콘층(2)은 하향함몰되어 상부의 제1피복층(1)의 하측면과 함께 제어대상이 되는 유체가 흐르는 유로(10)를 이룬다. 제1피복층층(1)에는 유로(10)와 연통된 두 개의 유입구(11)와 한 개의 유출구(13)가 형성되어 있다. 이때, 유출구(13)를 중심으로 각 유입구(11)가 대칭이 되도록, 유출구(13)는 각 유입구(11)의 중앙부위에 위치한다.

제1실리콘층(2)은, 제2실리콘층(3) 및 제2실리콘층(3) 하부의 제2피복층(4)과 함께 챔버(20)를 형성하며, 제1실리콘층(2)의 하향함몰된 저면은 유로(10)와 챔버(20) 사이를 구획하는 격막(30)을 형성한다. 유로(10)측의 격막(30)의 내벽면에는 메사(MESA) 형태의 밸브부(31)가 돌출형성되어 있고, 챔버(20)측의 격막(30)의 내벽면에는 단열을 위한 SiO₂층(32) 및 Si₃N₄층(33)이 증착되어 있다. 밸브부(31)는 유출구(13)의 하부에 위치한다.

제2피복층(4)에는 챔버(20)내로 유체가 유입되는 챔버출입구(21)가 형성되어 있다. 제1피복층(1)의 유입구(11)와 제2피복층(4)의 챔버출입구(21)는 서로 연통되어 있다. 즉, 제어대상이 되는 유체는 유입구(11)와 챔버출입구(21)를 통해 유로(10) 및 챔버(20)로 각각 유입되며, 유출구(13)는 유체를 유출시키고자 하는 소정의 장소와 연통한다. 이에 따라, 유로(10)와 챔버(20)는 제어대상 유체의 유입에 의해 동일한 압력으로 유지되고, 유입구(11)를 통해 유입된 유체는 유출구(13)를 통해 소정의 장소로 유출된다. 제2실리콘층(3)의 내벽면에는 외팔보 형태의 밸브(23)가 돌출 형성되어 있다. 외팔보형밸브(23)는 챔버(20)내측과 인접된 챔버출입구(21)와 소정 거리 이격되도록 챔버출입구(21)의 상부에 위치한다. 외팔보형밸브(23)의 저면과 챔버출입구(21)에는 환 형상을 가지는 한 쌍의 전극(25)이 대향되게 설치되어 있다. 전극(25)은 외부의 전원 인가에 의해 상호 접합되는 힘을 받게 되고, 이에 따라 외팔보형밸브(23)는 하향이동하여 챔버출입구(21)를 폐쇄하게 된다.

챔버(20)내에는 다수의 저항발열체(27)가 설치되어 있다. 저항발열체(27)는 외부로부터의 전류의 공급에 따라 발열하여, 챔버(20)내에 수용된 유체를 가열팽창시키는 역할을 한다.

이와 같은 구성에 의한 극소형밸브장치의 작동을 설명하면 다음과 같다.

유로(10) 및 챔버(20)에 제어대상 유체가 충진된 상태에서, 유입구(11)로 유입된 유체는 유입 압력에 의해 유출구(13)를 통해 유출된다. 이때, 유체의 유출량을 조절하기 위해서는 먼저, 전극(25)이 상호 접착되게 하여 챔버출입구(21)를 외팔보형밸브(23)로 폐쇄하고, 저항발열체(27)에 전원을 공급하여 챔버(20) 내부의 유체를 가열한다. 가열된 챔버(20)내의 유체는 팽창하고, 이 팽창력은 격막(30)에 전달되어 격막(30)을 벤딩시킨다. 격막(30)이 벤딩됨에 따라 밸브부(31)는 상향이동하므로 유출구(13)와 밸브부(31)간의 간격은 좁아진다. 그러면 유출구(13)를 통해 유출되는 유체의 양이 적어지게 되고, 저항발열체(27)의 가열이 진행됨에 따라 밸브부(31)는 유출구(13)를 폐쇄하게 되므로 유출구(13)를 통한 유체의 유출이 차단된다. 다시 유출구(13)를 개방시키고자 할 경우에는 저항발열체(27)와 전극(25)으로의 전원 공급을 차단하면, 챔버(20)내의 팽창된 유체가 챔버출입구(21)를 통해 챔버(20) 외부로 유출된다. 그러면, 격막(30)이 원상복귀하여 밸브부(31)에 의한 유출구(13)의 폐쇄를 해제한다. 이에 따라 유입구(11)로 유입된 유체가 유출구(13)를 통해 다시 유출되기 시작한다. 이와 같은 과정을 거쳐 본 실시예에 따른 극소형밸브작동이 행해진다.

이와 같은 본 발명에 따른 극소형밸브장치에서는, 챔버(20)와 유로(10)이 정상적인 상태에서는 상호 연통되어 있으므로, 격막(30)의 양측면에는 동일한 압력이 작용한다. 따라서, 유입구(11)를 통해 유입되는 유체의 압력에 관계없이 격막(30)을 벤딩시키기 위한 압력은 일정하여, 저항발열체(27)를 통한 유출구(13)의 개도 조절이 용이하게 된다. 예컨데, 유출구(13)를 완전히 폐쇄하는데 7기압의 압력이 필요하고 유입되는 유체의 압력이 3기압일 경우, 전술한 바와 같은 종래의 극소형 밸브장치는 유입되는 유체의 압력을 극복하고 격막(3)을 벤딩시켜야 하므로 10기압의 압력이 필요하다. 즉, 종래의 장치는 큰 압력이 필요함과 동시에 유체의 유입압력에 따라 별도로 조절이 필요하였으나, 본 장치에 따르면, 격막(30)의 양측이 동일 유체에 의해 이미 3기압을 유지하고 있으므로 저항발열체(27)를 통해 생성시켜야 하는 압력은 변함없이 7기압이다. 즉, 항상 일정한 압력을 요구한다. 따라서, 저항발열체(27)를 통한 유출구(13)의 개도 조절이 용이하고 과도한 압력으로 인한 격막(30)의 파손이 발생하지 않게 된다.

또한 유로(10)에 유입되는 유입구(11)가 유출구(13)를 중심으로 대칭적으로 형성되어 있으므로, 각 유입구(11)로부터 유입된 유체는 유출구(13) 부근에서 그 흐름이 충돌하여 압력이 상쇄된다. 따라서, 일 방향에서만 유체의 유입이 이루어질 때에 비하여 격막(30)에 가해지는 유체의 압력이 줄어들게 된다. 또한, 격막(30)의 벤딩방향에 대하여 가로방향으로 유체의 압력이 가해지므로, 종래와 같이 격막(30)의 벤딩방향에 세로로 유체의 압력이 가해지는 것에 비하여 격막(30)의 벤딩이 용이하다.

제2도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 극소형밸브장치의 종단면도이다. 본 실시예에서는 피복층(1,4), 실리콘층(2,3), 챔버(20), 유로(10), 유입구(11), 유출구(13), 외팔보형밸브(23) 및 저항발열체(27) 등의 구성은 제1도의 실시예에서와 같다. 그리고, 외팔보형밸브(23)에 의한 챔버출입구(21)의 구동은 알루미늄으로 구성된 바이메탈스위치(41)에 의해 이루어진다. 저항발열체(27)가 챔버(20) 내에 충진된 유체를 가열하면, 이 열에 의해 바이메탈스위치(41)가 하향벤딩되면서 외팔보형밸브(23)를 하향이동시킨다. 이에 따라, 외팔보형밸브(23)에 의해 챔버출입구(21)가 폐쇄되고, 챔버(20)내의 유체의 팽창력은 격막(30)을 벤딩시켜 밸브부(31)에 의한 유출구의 폐쇄가 이루어진다. 본 실시예에 따르면, 유출구(13)를 폐쇄하기 위해 저항발열체(27)로 챔버(20)의 유체를 가열함에 따라 외팔보형밸브(23)에 의한 챔버출입구(21)의 폐쇄가 이루어지므로 외팔보형밸브(23)를 구동하기 위한 별도의 전극과 전극에 전원을 공급하기 위한 별도의 부가장치가 필요하지 않게 된다.

제3도는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 극소형밸브장치의 종단면도이다.

본 실시예에서는 피복층(1,4), 실리콘층(23), 챔버(20), 유로(10), 유입구(11) 및 유출구(13) 등의 구성은 제2도의 실시예에서와 같다. 외팔보형밸브(23)는 제2도의 실시예 보다 길게 형성되고, 저항발열체(27)는 외발보형밸브(23)의 상부에 설치되어 있다. 또한, 하향하여 돌출하는 부위가 2개로 형성되어 있다. 저항발열체(27)가 가열작동을 개시하면, 외팔보형밸브(23)의 상부가 하부보다 가열량이 크게 되므로 상부가 팽창되어 외팔보형밸브(23)가 하향벤딩되게 된다. 이에 따라 챔버출입구(21)가 폐쇄된다. 이와 같은 구성에 의하면, 제2도의 실시예에서와 같은 바이메탈스위치(41)의 역할을 저항발열체(27)가 수행하게 된다. 또한, 외팔보형밸브(23) 하부에 2개로 구성된 돌출부에 의해 챔버출입구(21)가 2중으로 폐쇄되므로, 챔버(20)가 더욱 견고하게 폐쇄된다.

제4도는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 극소형밸브장치의 종단면도이다. 본 실시예에서는, 피복층(1,4), 실리콘층(2,3), 유입구(11), 유출구(13), 외팔보형밸브(23), 저항발열체(27) 및 바이메탈스위치(41)의 구성은 제2도의 실시예에서와 같다. 유로(10)과 챔버(20)를 구획하는 격막(45)은 실리콘러버(Silicon Rubber)에 의해 이루어진다. 실리콘러버를 스핀코팅하여 막을 형성시키고, 화학식각을 하여 밸브부(31)가 있는 격막(45)으로 형성한다. 유체의 제어작동은 제2도의 실시예에서와 같다. 이 실리콘러버로 구성된 격막(45)에 의해 적은 압력의 변화에도 격막의 벤딩 폭이 커지게 되어, 적은 압력변화로도 제어가 가능하다.

제5도는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 극소형밸브장치의 종단면도이다. 본 실시예에서도, 피복층(1,4), 실리콘층(2,3), 유입구(11), 유출구(13), 외팔보형밸브(23), 저항발열체(27) 및 바이메탈스위치(41) 등의 구성은 제2도의 실시예에서와 같다. 격막(47)은 폴리아미드 재질로 형성된다. 제1실리콘층(2)을 화학식각한 후 알루미늄을 증착시키고, 폴리아미드를 스핀코팅한 후 백에칭(back etching)하여 폴리아미드 재질의 격막(47)을 형성한다. 본 실시예에 따르면, 제4도의 실시예에서와 마찬가지로 적은 압력변화로도 제어가 가능하게 된다.

제6도는 본 발명의 또 다른 실시예에 다른 극소형밸브장치의 종단면도이다. 본 실시예에는, 피복층(1,4), 실리콘층(2,3), 유출구(13), 외팔보형밸브(23), 저항발열체(27), 바이메탈스위치(41) 및 격막(30)등의 구성은 제2도의 실시예에서와 같다. 유로(10)내에 유체를 유입시키는 유입구(11)는 제2도의 실시예와는 달리 제1실리콘층(2)에 형성되어 있다. 유입구(11)는, 전술한 바와 같이 유출구(13)의 위치로부터 대칭이 되게 형성되어 있고, 형성방향은 격막의 방향과 수평방향을 이루어 유체의 유입방향에 따른 압력이 격막에 직접 전달되지 않도록 되어 있다. 따라서, 유입구(11)를 통해 유입되는 유체의 압력에 의해 격막(30)의 벤딩이 저지되지 않게 되어 더욱 정확한 제어가 가능하다. 또한, 본 실시예에 따르면, 제1피복층(1)에 여러개의 구멍을 가공하는 어려움을 피하고 용이하게 유입구(11) 및 유출구(13)를 구성할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 제어대상 유체의 압력에 관계 없이 미량의 유체를 제어할 수 있는 극소형밸브장치가 제공된다.

Claims (10)

1. 미량의 유체의 흐름을 제어하는 극소형밸브장치에 있어서, 제어대상 유체의 통과를 위한 유입구와 유출구가 형성된 제1피복층과; 상기 제1피복층과 소정 간격을 두며, 챔버출입공이 관통 형성된 제2피복층과; 상기 제1 및 제2피복층 사이에 게재되며, 상기 제1피복층과의 사이에 상기 유입구와 유출구간의 유체 유로를 형성하고 상기 제2피복층과의 사이에 상기 유입구로 공급되는 유체와 동일한 상기 챔버출입공을 통해 유입된 유체가 수용되는 챔버를 형성하는 탄성 격벽을 가지는 실리콘층과; 상기 챔버출입공을 개폐하는 개폐수단과; 상기 챔버내의 유체를 가열하는 가열수단과; 상기 격벽에 형성되어 상기 가열수단으로부터 상기 챔버에 수용된 유체가 팽창할 때, 상기 격벽의 탄성변형에 의해 상기 유출구를 차단하는 밸브부를 포함하는 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 유입구는 복수개로 구성되어 상기 유출구에 대해 대칭적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 유입구는 상기 격막의 벤딩 방향에 가로방향으로 상기 유체가 상기 유로로 유입되도록 형성된 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 개폐수단은, 상기 챔버의 내벽면으로부터 상기 챔버출입구에 인접한 영역으로 연장 돌출형성된 외팔보형밸브와, 상기 외팔보형밸브를 벤딩시켜 상기 챔버출입구를 폐쇄하는 벤딩수단으로 이루어진 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 벤딩수단은, 상기 챔버출입구의 둘레에 환형으로 설치된 전극과, 상기 외팔보형밸브에 상기 챔버출입구의 전극에 대응하도록 설치되는 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
6. 제4항에 있어서, 상기 벤딩수단은 상기 외팔보형밸브의 길이방향에 걸쳐 설치된 바이메탈스위치인 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
7. 제4항에 있어서, 상기 벤딩수단은, 상기 외팔보형밸브의 길이방향에 걸쳐 설치된 저항발열체인 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
8. 제1항에 있어서, 상기 가열수단은 상기 챔버 내에 설치된 저항발열체인 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 격막은 실리콘고무 재질로 구성되는 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.
10. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 격막은 폴리아미드 재질로 구성되는 것을 특징으로 하는 극소형밸브장치.