KR100200768B1 - 나노메모리 반도체 소자 - Google Patents
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Abstract
나노메모리 반도체 소자에 관하여 개시한다. 본 발명은 반도체 기판의 표면근방에 서로 채널영역만큼 이격된 소오스 및 드레인 영역과, 상기 반도체 기판의 채널 영역 상에 형성된 터널링 산화막과, 상기 터널링 산화막 상에 형성되고, 불순물이 이온주입되어 에너지갭 내에 에너지 레벨을 갖는 실리콘 나노크리스탈층과, 상기 실리콘 나노크리스탈층 및 상기 터널링 산화막 상에 형성된 조절산화막과, 상기 조절산화막 상에 형성된 게이트 전극을 포함한다. 상기 불순물은 금인 것이 바람직하다. 본 발명의 나노메모리 반도체 소자는 실리콘 나노크리스탈층에 불순물을 이온주입하여 에너지갭내에 에너지 레벨을 형성함으로써 소거시간을 수나노초로 줄일 수 있다.
Description
본 발명은 나노메모리 반도체 소자에 관한 것으로, 특히 실리콘 나노크리스탈층의 에너지갭내에 에너지 레벨을 갖는 나노메모리 반도체 소자에 관한 것이다.
일반적인 MOS 반도체 소자는 반도체 기판의 표면근방에 채널영역을 사이에 되고 형성된 소오스 및 드레인영역과, 상기 채널 영역 상에 형성된 게이트 산화막 및 게이트 전극으로 구성된다. 따라서, 상기 게이트 전극에 양의 바이어스 또는 음의 바이어스를 가하여 상기 소오스 및 드레인 영역의 캐리어를 채널영역을 통하여 이동시킴으로써 온오프 동작을 수행한다.
한편, 상기 MOS 반도체 소자의 게이트 산화막에 실리콘 나노크리스탈층을 개재하여 새로운 구조를 갖고 임계전압 이동(shift)를 이용하는 나노메모리 반도체 소자가 제안되었다. 상기 나노메모리 반도체 소자는 소오스 및 드레인 영역이 형성된 반도체 기판 상에 순차적으로 터널산화막, 실리콘 나노크리스탈층, 조절산화막 및 게이트 전극이 형성된 구조이다.
그리고, 상기 나노메모리 반도체 소자는 5nm 정도의 크기를 갖는 실리콘 나노크리스탈층에 전자를 주입 및 제거하여 쓰기 및 소거 동작을 수행한다. 이에 따라, 상기 0.2 내지 0.4V의 임계전압 이동을 갖는 나노메모리 반도체 소자는 2.5V의 동작전압에서 100나노초보 작은 쓰기 및 읽기 시간을 갖는다. 또한, 나노메모리 반도체 소자의 유지시간은 수 주간 지속되며, 고밀도 및 저전압에 필요한 전기적 특성을 나타낸다.
그러나, 상술한 종래의 나모메모리 반도체 소자는 기껏해야 수 ms 정도의 소거시간을 가져 빠른 소거시간을 갖는 DRAM 등의 반도체 소자에 적용하기가 불가능한 단점이 있다.
따라서, 본 발명의 기술적 과제는 상술한 단점을 해결하여 소거 시간을 줄일 수 있는 나노메모리 반도체 소자를 제공하는 데 있다.
도 1은 본 발명에 의한 나노메모리 반도체 소자를 도시한 단면도이다.
도 2의 (a) 내지 도 2의(c)는 각각 도 1에 도시한 본 발명의 나노메모리 반도체 소자의 쓰기(write), 저장(store) 및 소거(erase)를 설명하기 위한 에너지밴드 다이어그램이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 반도체 기판의 표면근방에 서로 채널영역만큼 이격된 소오스 및 드레인 영역과, 상기 반도체 기판의 채널 영역 상에 형성된 터널링 산화막과, 상기 터널링 산화막 상에 형성되고, 불순물이 이온주입되어 에너지갭 내에 에너지 레벨을 갖는 실리콘 나노크리스탈층과, 상기 실리콘 나노크리스탈층 및 상기 터널링 산화막 상에 형성된 조절산화막과, 상기 조절산화막 상에 형성된 게이트 전극을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나모메모리 반도체 소자를 제공하는 데 있다.
상기 불순물은 금인 것이 바람직하다.
본 발명의 나노메모리 반도체 소자는 실리콘 나노크리스탈층에 불순물을 이온주입하여 에너지갭내에 에너지 레벨을 형성함으로써 소거시간을 수 나노초로 줄일 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 의한 나노메모리 반도체 소자를 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 나노메모리 반도체 소자는 반도체 기판(1)의 표면근방에 서로 채널영역만큼 이격된 소오스(3) 및 드레인 영역(5)이 형성되어 있으며, 상기 상기 반도체 기판(1)의 채널 영역 상에 터널링 산화막(7)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 상기 터널링 산화막(7) 상에 불순물, 예컨대 금이 이온주입되어 에너지갭 내에 에너지 레벨을 갖는 실리콘 나노크리스탈층(9)이 형성되어 있으며, 상기 실리콘 나노크리스탈층(9) 및 상기 터널링 산화막(7) 상에 조절산화막(11) 및 게이트 전극(13)이 순차적으로 형성되어 있다.
특히, 본 발명의 나노메모리 반도체 소자는 상기 실리콘 나노크리스탈층(9)에 불순물이 주입됨으로써 에너지 갭내에 에너지 레벨이 형성되어 있어 후술되는 바와 같이 소거시간을 줄일 수 있다.
본 실시예에서는 상기 불순물로 금을 이용하였으나 상기 실리콘 나노크리스탈층의 에너지갭내에 에너지 레벨을 만들 수 있는 다른 물질들도 이용할 수 있다.
도 2의 (a) 내지 도 2의 (c)는 각각 도 1에 도시한 본 발명의 나노메모리 반도체 소자의 쓰기(write), 저장(store) 및 소거(erase)를 설명하기 위한 에너지밴드 다이어그램을 도시한 도면이다.
도 2의 (a) 및 도 2의 (b)를 참조하면, 게이트 전극이 소오스 및 드레인에 대하여 양 바이어스(forward biased) 되었을 때 반도체 기판의 반전층으로부터 터널링을 통하여 전자(15)가 실리콘 나노크리스탈층으로 유입되어 기입동작이 완료된다. 이렇게 되면, 나노메모리 반도체 소자는 도 2 (b)에 도시한 바와 같이 전자(15)가 실리콘 나노크리스탈층으로 저장되게 된다. 결과적으로, 상기 저장된 전자(15)는 반전층의 전자전도를 억제하여 임계전압을 양의 값으로 변경시킨다. 도 2 (a) 및 (b)에서, 참조번호 17은 실리콘 나노크리스탈층에 불순물이 주입되어 만들어진 에너지 레벨을 나타낸다.
도 2의 (c)를 참조하면, 상기 게이트 전극이 소오스 및 드레인에 대하여 음 바이어스양 바이어스(negative biased) 되었을 때, 저장된 전자(15)가 기판으로 빠져나감으로써 소거동작을 완료한다. 이때, 본 발명의 나노메모리 반도체 소자는 상기 실리콘 나노크리스탈층에 불순물, 예컨대 금이 이온주입되어 참조번호 17로 표시한 바와 같이 실리콘 나노크리스탈층의 에너지갭내에 에너지 레벨이 존재한다. 이렇게 에너지 갭 내에 에너지 레벨이 존재하면 상기 주입된 전자의 여기(excitation) 확률을 증가시킬 수 있다.
결과적으로, 상기 나노크리스탈층의 에너지 갭 내에 에너지 레벨이 존재하여 주입된 전자의 여기(excitation) 확률을 증가시키면, 나노메모리 반도체소자의 소거시간을 수 밀리초에서 수 나노초로 줄일 수 있다. 또한, 본 발명의 나모메모리 반도체 소자는 비휘발성 반도체 소자나 DRAM(dynamic random acess memory) 반도체 소자에도 응용할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 기술적 사상내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진자에 의하여 가능함은 명백하다.
상술한 바와 같이 본 발명의 나노메모리 반도체 소자는 실리콘 나노크리스탈층에 불순물을 이온주입하여 에너지갭내에 에너지 레벨을 형성함으로써 소거시간을 수 나노초로 줄일 수 있다.
Claims (2)
- 반도체 기판의 표면근방에 서로 채널영역만큼 이격된 소오스 및 드레인 영역;상기 반도체 기판의 채널 영역 상에 형성된 터널링 산화막;상기 터널링 산화막 상에 형성되고, 불순물이 이온주입되어 에너지갭 내에 에너지 레벨을 갖는 실리콘 나노크리스탈층;상기 실리콘 나노크리스탈층 및 상기 터널링 산화막 상에 형성된 조절산화막; 및상기 조절산화막 상에 형성된 게이트 전극을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노메모리 반도체 소자.
- 제1항에 있어서, 상기 불순물은 금인 것을 특징으로 하는 나노메모리 반도체 소자.
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