KR100189065B1

KR100189065B1 - Exposure device

Info

Publication number: KR100189065B1
Application number: KR1019960037568A
Authority: KR
Inventors: 이상훈
Original assignee: 이해규; 삼성항공산업주식회사
Priority date: 1996-08-31
Filing date: 1996-08-31
Publication date: 1999-06-01
Also published as: KR19980017751A

Abstract

이 발명은 노광 장치에 관한 것으로서, 일정 속도로 이동하며, 노광할 패턴이 형성되어 있는 마스크를 올려놓을 수 있는 마스크지지 수단과, 렌즈의 비율이 1:a(a1)인 투영 렌즈 수단과, 일정 속도보다 a배 빠르게 이동하며, 마스크에 형성된 패턴이 노광되는 노광 수단과, 마스크지지 수단과 노광 수단의 위치를 제어하는 위치 제어 수단과, 위치 제어 수단으로 해당하는 구동 신호를 출력하여 마스크지지 수단과 노광 수단의 이동을 제어하는 동작 제어 수단을 포함하여 이루어지며, 스캔방식으로 노광하여 이음 오차의 발생을 제거하고, 레티클 스테이지와 플레이트 스테이지의 이동을 다르게 할 뿐만 아니라 투영렌즈의 물면과 상면과의 배율을 1:a(a1)로 하여 플레이트 스테이지에 결상되는 상이 a³배 확대시키게 함으로써, 레티클 스테이지의 크기를 줄여도 종래와 효과가 동일하고, 생산단가가 저렴해지는 효과를 가진 노광 장치를 제공할 수 있다.The present invention relates to an exposure apparatus, which comprises a mask holding means which moves at a constant speed and on which a mask on which a pattern to be exposed is formed can be placed, projection lens means with a ratio of 1: a (a1) A position control means for controlling the position of the mask holding means and the exposure means, and a position control means for outputting a corresponding drive signal to the mask holding means, And an operation control means for controlling the movement of the exposure means. In addition to the movement of the reticle stage and the plate stage, the exposure of the reticle stage and the plate stage is performed differently, 1: by thereby to as a (a1) expanding a phase ³ times that forms an image on the plate stage, reduces the size of the reticle stage Also it is possible to provide an exposure apparatus having the same effect that the prior art to the effect, and the low manufacturing cost.

Description

Exposure device

이 발명은 노광 장치에 관한 것으로서, 노광 면적이 크고 저해상도를 요구하는 노광 장비에 있어서, 마스크(mask) 제작비를 줄일 수 있는 액정 표시 장치용 노광 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus for a liquid crystal display capable of reducing a mask production cost in an exposure apparatus requiring a large exposure area and a low resolution.

종래에 노광 면적이 크고 비교적 저해상도를 요구하는 엘시디 노광 방법은 물면과 상면의 비율이 1 : 1인 광학계를 이용한다.Conventionally, an optical system having a ratio of a water surface to an image surface of 1: 1 is used in an EL exposure method which requires a large exposure area and a relatively low resolution.

상기 엘시디 노광 방법은 디스플레이(display) 크기에 따라 크게 두가지로 나눌 수 있다.The LCD exposure method can be roughly classified into two types according to the display size.

하나는 디스플레이 크기가 투영 렌즈의 노광 범위를 넘을 때에 사용하는 방법으로One is the method used when the display size exceeds the exposure range of the projection lens

-디스플레이 화면을 여러조작으로 나누어 노광을 하면서 여러조각의 화면의 이음을 정밀하게 수행하는 화면 분할 방식인 스티칭(stiching) 방식이다.- It is a stiching method which divides the display screen into several operations to precisely perform joining of several pieces of screen while exposing.

그리고 다른 하나는 디스플레이 크기가 투영 렌즈의 노광 범위보다 작을 때 사용하는 방법으로 마스크와 플레이트(plate)를 동시에 이동시키면서 큰 노광 범위를 형성하는 스캔(scan) 방식으로 나눌 수 있다.And the other is a method used when the display size is smaller than the exposure range of the projection lens, and can be divided into a scan method in which a mask and a plate are simultaneously moved while forming a large exposure range.

그러나 상기 스티칭 방법은 분할된 여러조각의 디스플레이 화면을 이어주어야 하며, 이음 과정에서 이음 오차가 발생하여 불량품이 많이 나오게 되어 생산성이 떨어지는 문제점이 있으며, 스캔 방식은 이음 오차의 발생은 없지만 마스크를 플레이트 크기 이상으로 만들어야 하므로 마스크 제작비용이 높아지는 문제점이 있다.However, in the stitching method, there is a problem in that the display screen of the divided pieces must be connected. In addition, there arises a problem that the manufacturing error is caused due to the occurrence of a joint error in the process of jointing, The mask fabrication cost is increased.

상기와 같은 문제점이 있음에도 불구하고, 종래에는 별다른 해결 방안이 없어 상기 스티칭 방식과 스캔 방식중 어느 한 가지 방식이 그대로 실행되고 있다.In spite of the above-described problems, there is no solution in the prior art, and any one of the stitching method and the scanning method is performed as it is.

이 발명은 스티칭 방식의 결함인 화면 이음을 제거하고, 스캔 방식의 결함인 마스크 크기를 줄여 생산 단가를 줄이는 엘시디용 노광 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide an exposure apparatus for an LCD that eliminates screen stitches, which are defects of a stitching method, and reduces a manufacturing cost by reducing a mask size, which is a defect of a scanning method.

제1도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 구성 블록도이다.FIG. 1 is a block diagram of the configuration of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

상기한 목적을 달성하기 위한 수단으로서 이 발명은, 노광할 패턴이 형성되어 있는 마스크를 올려놓을 수 있는 마스크지지 수단과; 렌즈이 비율이 1:a(a1)인 투영 렌즈 수단과; 마스크에 형성되어 있는 패턴이 노광되는 노광 수단과; 상기 마스크지지 수단의 위치를 제어하는 제1 위치 제어 수단과; 상기 노광 수단의 위치를 제어하는 제2 위치 제어 수단과; 상기 제1 위치 제어 수단과 상기 제2 위치 제어 수단으로 해당하는 구동 신호를 출력하여 상기 마스크지지 수단과 상기 노광 수단의 이동을 제어하는 동작 제어 수단을 포함하여 이루어진다.Means for Achieving the Object According to the present invention, there is provided a mask comprising: mask holding means for holding a mask on which a pattern to be exposed is formed; A projection lens means having a lens ratio of 1: a (a1); An exposure means for exposing a pattern formed on the mask; First position control means for controlling the position of the mask holding means; Second position control means for controlling the position of the exposure means; And an operation control means for outputting a corresponding drive signal to the first position control means and the second position control means and controlling the movement of the mask holding means and the exposure means.

광이 일정 속도로 이동하는 마스크지지 수단을 지나 투영 렌즈 수단에 입사되면, 광은 a(a1)배만큼 확대되어 노광 수단으로 조사된다.When the light is incident on the projection lens means through the mask holding means moving at a constant speed, the light is magnified by a (a1) times and irradiated by the exposure means.

노광 수단은 마스크지지 수단보다 a배 빠르게 이동하므로 조사되는 광이 a×a배만큼 확대되어 나타나게 되어 마스크지지 수단을 a×a배만큼 축소시켜도 종래의 상면과 동일한 크기가 되게 한다.Since the exposure means is moved a times faster than the mask supporting means, the light to be irradiated is enlarged by a × a times, so that the size of the mask supporting means is reduced to the size of the conventional upper surface even if the mask supporting means is reduced by a × a times.

상기한 구성에 의하여, 이 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자가 이 발명을 용이하게 실시할 수 있는 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조로 하여 상세히 설명한다.The present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout.

첨부한 제1도에 도시되어 있는 바와 같이, 이 발명의 일실시예에 따른 노광 장치의 구성은, 마스크를 올려놓을 수 있는 레티클 스테이지(1)와; 물면과 상면의 비율이 1:a(a1)이며, 레티클 스테이지(1)를 통과한 광의 상을 a배 확대시켜 투영시키는 투영 렌즈계(2)와; 투영 렌즈계(2)를 통과한 광의 상이 노광되는 플레이트 스테이지(3)와; 레티클 스테이지(1)와 연결되어 있으며, 레티클 스테이지(1)를 일정 속도로 이동시키는 제1 위치 제어부(4)와; 플레이트 스테이지(3)와 연결되어 있으며, 플레이트 스테이지(3)를 레티클 스테이지(1)의 반대 방향으로 레티클 스테이지(1)보다 a배 빠르게 이동시키는 제2 위치 제어부(5)와; 일측은 제1 위치 제어부(4)와 연결되고, 타측은 제2 위치 제어부(5)와 연결되어 있으며, 제1 위치 제어부(4)와 제2 위치 제어부(5)로 해당하는 구동 신호를 출력하여 제1 위치 제어부(4)와 제2 위치 제어부(5)의 동작을 제어하는 중앙 제어부(6)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 1, the structure of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention includes a reticle stage 1 on which a mask can be placed; A projection lens system 2 for projecting the image of the light passing through the reticle stage 1 by a magnification with a ratio of the water surface to the image surface being 1: a (a1); A plate stage (3) on which an image of light passing through the projection lens system (2) is exposed; A first position control unit 4 connected to the reticle stage 1 and configured to move the reticle stage 1 at a constant speed; A second position control unit 5 connected to the plate stage 3 and configured to move the plate stage 3 in the direction opposite to the reticle stage 1 a times faster than the reticle stage 1; The first position control unit 4 and the second position control unit 5 output a corresponding drive signal to the first position control unit 4 and the second position control unit 5, respectively, And a central control unit (6) for controlling the operations of the first position control unit (4) and the second position control unit (5).

상기한 구성에 의한 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 작용은 다음과 같다.The operation of the exposure apparatus according to the embodiment of the present invention with the above-described configuration is as follows.

이음 오차의 발생을 제거하기 위해 기본적으로 마스크와 플레이트를 동시에 이동시키면서 큰 노광 범위를 형성하는 스캔 방식으로 노광한다.In order to eliminate the occurrence of a joint error, the mask and the plate are moved at the same time, and exposure is performed by a scanning method in which a large exposure range is formed.

레티클 스테이지(1)에 레티클을 올려놓고, 광을 조사하면, 상기 레티클 스테이지(1)는 제1 위치 제어부(4)에 의해 일정 속도로 이동한다.When the reticle is placed on the reticle stage 1 and the light is irradiated, the reticle stage 1 is moved by the first position control part 4 at a constant speed.

상기 제1 위치 제어부(4)는 중앙 제어부(6)에서 출력하는 구동 신호에 따라 일정한 기전력으로 구동한다.The first position control unit 4 is driven with a constant electromotive force according to a driving signal outputted from the central control unit 6.

상기 중앙 제어부(6)는 제1 위치 제어부(4)로 구동 신호를 출력하여 일정한 기전력을 가지도록 제어하며, 제2 위치 제어부(5)로 해당하는 구동 신호를 출력하여 제1 위치 제어부(4)보다 a배 큰 기전력을 가지도록 제어하여 플레이트 스테이지(3)의 이동 속도가 상기 레티클 스페이지(1)의 이동 속도보다 a배 빠르게 이동되도록 한다.The central control unit 6 outputs a driving signal to the first position control unit 4 and controls the first position control unit 4 to have a constant electromotive force. The second position control unit 5 outputs a corresponding driving signal to the first position control unit 4, So that the movement speed of the plate stage 3 is shifted a times faster than the movement speed of the reticle page 1. [

상기에서 제1 위치 제어부(4)와 제2 위치 제어부(5)의 구동 방향은 반대이고, 그로인해 레티클 스테이지(1)와 플레이트 스테이지(3)의 이동 방향은 반대가 되며, 레티클 스테이지(1)와 플레이트 스테이지(3)의 이동은 동시에 이루어진다.The driving directions of the first position control part 4 and the second position control part 5 are opposite to each other so that the moving directions of the reticle stage 1 and the plate stage 3 are opposite to each other, And the plate stage 3 are simultaneously moved.

상기 레티클 스테이지(1)를 통과한 광은 물면과 상면의 비율이 1:a인 투영 렌즈계(2)로 입사한다.The light having passed through the reticle stage 1 is incident on the projection lens system 2 having a ratio of the water surface to the image surface of 1: a.

상기의 레티클 스테이지(1)를 통과한 광은 레티클 스테이지(1)위에 올려진 레티클상에 형성된 패턴을 조사하여 패턴의 크기와 동일한 크기를 이루고 있으며, 상기 투영 렌즈계(2)로 입사되면, 크기가 a배 확대되어 상기 플레이트 스테이지(3)를 조사한다.The light having passed through the reticle stage 1 irradiates a pattern formed on the reticle placed on the reticle stage 1 and has the same size as the pattern. When the projection lens system 2 is incident on the reticle stage 1, and the plate stage 3 is irradiated.

상기 플레이트 스테이지(5)는 a배 확대된 레티클 패턴상이 입사되고, 레티클 스테이지(1)보다 a배 빠른 이동으로 a×a배의 상이 노광된다.The plate stage 5 receives a reticle pattern image enlarged by a times, and exposes a times a times a phase by moving it a times faster than the reticle stage 1.

따라서, 레티클 스테이지(1)의 크기를 1/a²배 만큼 줄여도 플레이트 스테이지(3)에 결상되는 노광 면적은 종래와 변함없게 된다.Therefore, even if the size of the reticle stage 1 is reduced by 1 / a ² times, the exposure area formed on the plate stage 3 remains unchanged from the conventional one.

이상에서와 같이 이 발명의 실시예에서, 스캔 방식으로 노광하여 이음 오차의 발생을 제거하고, 레티클 스테이지와 플레이트 스테이지의 이동을 다르게 할 뿐만 아니라 투영렌즈계의 물면과 상면과의 배율을 1:a(a1)로 하여 플레이트 스테이지에 결상되는 상이 a³배 확대시키게함으로써, 레티클 스테이지의 크기를 줄여도 종래와 효과가 동일하고, 생산단가가 저렴해지는 효과를 가진 노광장치를 제공할 수 있다.As described above, in the embodiment of the present invention, the generation of the joint error is eliminated by the scanning method, and the movement of the reticle stage and the plate stage is made different, and the magnification between the water surface and the image surface of the projection lens system is made 1: a by thereby to as a1) expanding a phase ³ times that forms an image on the stage plate, the same effect as the prior art, cutting to size of the reticle stage, and can provide an exposure apparatus with the effect that the production cost low.

Claims

Mask holding means for holding a mask on which a pattern to be exposed is formed; First position control means for moving the furnace mask holding means at a first set speed; A projection lens means in which the ratio of the lenses is 1: a (a1); A plate holding means for holding a plate on which a pattern formed on the mask is exposed; Second position control means for moving the plate holding means at a second set speed; And an operation control means for outputting a corresponding drive signal to the first position control means and the second position control means and controlling the operation of the mask holding means and the plate support.

The exposure apparatus according to claim 1, wherein the following condition is satisfied.

Second set speed = first set speed x K (K1)

The exposure apparatus according to claim 1, wherein the projection lens means has a ratio of a water surface to an image surface of 1: A (A1).

The exposure apparatus according to claim 1, wherein said mask holding means and said plate holding means comprise moving means for moving in opposite directions.