KR0185051B1 - Brush cleaning apparatus and cleaning method therefor - Google Patents

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Abstract

세척조에 버블러를 설치하여, 이물질로 오염되어 있는 브러쉬를 세척하기 위해 버블러를 설치하여 버블러에 가스를 주입하고 세척액에 공기방울을 발생시켜서 브러쉬 표면의 이물질을 효과적으로 세척하여 브러쉬의 수명을 증가시키고, 오버플로우조에 센서를 설치하여 브러쉬가 세척조에 투입되면 이를 감지하여 공급관의 에어 밸브를 개방하여 세척액을 공급관에 공급하고, 브러쉬가 감지되지 않으면 공급관의 에어 밸브를 폐쇄하여 세척액 공급을 중단시켜 세척액이 낭비되는 것을 방지 하였으며, 세척액을 공급하는 공급관에 경보센서를 설치하여 세척액의 공급여부를 확인 하므로써 브러쉬가 건조한 상태로 웨이퍼가 세척되는 것을 방지할 수 있다.By installing a bubbler in the cleaning tank, a bubbler is installed to clean the brushes contaminated with foreign substances, injecting gas into the bubbler and generating air bubbles in the cleaning liquid, effectively cleaning the foreign substances on the brush surface to increase the life of the brush. The sensor is installed in the overflow tank, and when the brush is put in the cleaning tank, it detects this and opens the air valve of the supply pipe to supply the cleaning liquid to the supply pipe.If the brush is not detected, the cleaning solution is stopped by closing the air valve of the supply pipe. This was prevented from being wasted, and by installing an alarm sensor in the supply pipe for supplying the cleaning liquid, it is possible to prevent the wafer from being cleaned while the brush is dry by checking whether the cleaning liquid is supplied.

Description

브러쉬 세척 장치 및 세척 방법Brush cleaning device and cleaning method

제1도는 종래의 브러쉬 세척 장치의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도.1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional brush cleaning device.

제2도는 본 발명에 의한 버블러 방식의 브러쉬 게척장치의 구성을 나타낸 부분 절개 사시도.2 is a partial cutaway perspective view showing the configuration of a bubbler type brush chuck device according to the present invention.

제3도(a)는 본 발명에 의한 버블러 방식의 브러쉬 세척 장치의 세척조에 브러쉬부가 투입되어 브러쉬를 세척하는 상태를 나타낸 상태도.Figure 3 (a) is a state diagram showing a state in which the brush is put into the washing tank of the brush cleaning device of the bubbler method of the present invention to wash the brush.

(b)는 본 발명에 의한 버블러 방식의 브러쉬 세척 장치에 브러쉬가 나가고 세척조내의 오염된 세척액을 배출시키는 상태를 나타낸 상태도.(B) is a state diagram showing a state that the brush out of the bubbler type brush cleaning device according to the present invention to discharge the contaminated cleaning liquid in the cleaning tank.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

20 : 브러쉬 세척 배쓰 21 : 오버플로우즈20: brush cleaning bath 21: overflows

23 : 세척조 25 : 오버플로우관23: washing tank 25: overflow pipe

27 : 공급관 29 : 배출관27 supply pipe 29 discharge pipe

31, 33 : 에어 밸브 34 : 경보센서31, 33: air valve 34: alarm sensor

35 : 버블러 37 : 가스 공급관35 bubbler 37 gas supply pipe

38 : 솔레노이드 밸브 39 : 광센서38 solenoid valve 39 light sensor

본 발명은 브러쉬 세척 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 이물질로 오염되어 있는 브러쉬를 세척하기 위해 버블러를 설치하여 버블러에 가스를 주입하고 세척액에 공기 방울을 발생시켜서 브러쉬 표면의 이물질을 세척하여 브러쉬의 수명을 증가시킨 브러쉬 세척 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a brush cleaning device, and more particularly, to install a bubbler to clean a brush contaminated with foreign substances, inject gas into the bubbler and generate air bubbles in the cleaning liquid to wash the foreign substances on the surface of the brush It relates to a brush cleaning device that increases the life of the brush.

일반적으로 브러쉬 세척 장치는 브러쉬가 웨이퍼를 세척하면서 웨이퍼에서 브러쉬로 옮겨 붙은 이물질을 제거하기 위한 장치로 이물질로 오염되어 있는 브러쉬에 세척액을 분사하여 브러쉬에 붙어 있는 이물질을 제거함으로써 후속 웨이퍼가 오염되는 것을 방지하기 위한 장치이다.In general, the brush cleaning device is a device for removing foreign matter that has been transferred from the wafer to the brush while the brush cleans the wafer. It is a device for preventing.

제1도는 종래의 브러쉬 세척 장치의 구성을 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the configuration of a conventional brush cleaning device.

브러쉬 세척 장치는 브러쉬를 세척하기 위한 세척조(10)가 설치되어 있고, 세척조(10)내에는 브러쉬부(1)가 투입되어 있다. 여기서, 브러쉬부(1)는 브러쉬(1a)를 장착하여 고정해 주는 브러쉬 고정 캡(1b)과 브러쉬 고정 캡(1b)에 연결되어 브러쉬 고정 캡(1b)을 회전시켜 주는 회전축(1c)으로 구성되어 있다.The brush washing apparatus is provided with a washing tank 10 for washing the brush, and the brush unit 1 is put into the washing tank 10. Here, the brush part 1 is composed of a brush holding cap (1b) for mounting and fixing the brush (1a) and a rotating shaft (1c) connected to the brush holding cap (1b) to rotate the brush holding cap (1b) It is.

또한, 세척조(10)의 하부면에는 분사된 세척액을 배출하기 위해 배출관(3)이 형성되어 있고, 배출관(3)과 연결되어 배출된 세척액을 저장하는 저장탱크(5)가 있으며, 세척조(10)의 일측면에는 세척액을 공급해주는 공급관(7)이 설치되어 있다. 공급관(7)에는 세척액을 공급관(7)에 공급해주는 챔버(9)가 연결되고, 챔버(9)에는 세척액을 공급관(7)에 공급해 주기 위해 구동되는 펌프(11)가 연결되어 있다.In addition, the lower surface of the washing tank 10 is formed with a discharge pipe (3) for discharging the sprayed washing liquid, there is a storage tank (5) for storing the discharged washing liquid connected to the discharge pipe (3), washing tank (10) One side of the) is provided with a supply pipe (7) for supplying the cleaning liquid. The supply pipe 7 is connected to a chamber 9 for supplying the cleaning liquid to the supply pipe 7, and the chamber 9 is connected to a pump 11 driven to supply the cleaning liquid to the supply pipe 7.

이와 같이 구성된 브러쉬 세척 장치를 설명하면 다음과 같다.The brush cleaning device configured as described above is as follows.

먼저, 세척된 브러쉬(1a)가 웨이퍼를 세척하면 웨이퍼에 존재하던 오염물질이 일부 브러쉬(1a)에 옮겨 붙게 되어 브러쉬(1a)가 오염된다. 이 오염된 브러쉬(1a)는 웨이퍼 세척을 마치고 후속 웨이퍼를 세척하기 위해서 세척조(10)에 투입된다. 이물질로 오염되어 있는 브러쉬(1a)의 이물질을 제거하기 위해서는 브러쉬부(1)가 세척조(10)내에 투입되면 공급관(7)으로부터 분사되는 세척액에 의해서 브러쉬(1a)에 붙어 있는 이물질이 제거됨과 아물러 브러쉬(1a)가 건조해지지 않도록 한다.First, when the cleaned brush 1a cleans the wafer, the contaminants existing on the wafer are transferred to some of the brushes 1a and the brushes 1a are contaminated. This contaminated brush 1a is put into the cleaning bath 10 to finish the wafer cleaning and to wash the subsequent wafer. In order to remove the foreign matters of the brush 1a contaminated with foreign matters, when the brush part 1 is introduced into the washing tank 10, the foreign matters attached to the brush 1a are removed by the cleaning liquid sprayed from the supply pipe 7. Keep the brushes 1a dry.

여기서, 브러쉬(1a)는 건조해지면 수축되어 크기가 작아지고 표면이 거칠어지는 특성을 가진 PVA 재질로 형성되어 있기 때문에 브러쉬가 건조해지지 않도록 항상 세척액이 공급되어야 한다.Here, since the brush 1a is formed of a PVA material having a property of shrinking and shrinking as it dries and having a rough surface, a cleaning solution should always be supplied so that the brush does not dry out.

이후, 브러쉬(1a)의 세척이 끝난 후에 브러쉬부(1)가 후속 웨이퍼를 세척하기 위해 세척조(10)를 나가도 펌프(11)는 계속 구동되어 공급관(7)에 세척액을 계속 공급한다.Thereafter, after the cleaning of the brush 1a is finished, the pump 11 continues to be driven to supply the cleaning liquid to the supply pipe 7 even if the brush part 1 exits the cleaning tank 10 to clean the subsequent wafer.

그러나, 오염된 브러쉬에 세척액이 분사되어도 세척액의 운동량이 적기 때문에 브러쉬에 붙어있는 이물질이 제거되지 않고 브러쉬에 계속 쌓이게 되어 후속 웨이퍼 세척시 브러쉬에 의해 웨이퍼가 오염되어 제품의 불량을 유발시키며, 또한, 이물질들이 브러쉬에 계속 쌓여 브러쉬의 수명이 저하됨으로 작업자는 자주 교환해야 하는 불편함과 아울러 가동 시간도 그만큼 줄어 생산성이 저하되었다.However, even when the cleaning solution is sprayed on the contaminated brush, the amount of movement of the cleaning solution is small, so that foreign matter adhering to the brush is not removed, and is continuously accumulated on the brush. The debris continued to accumulate on the brush, which reduced the life of the brush, which in turn made the operator uncomfortable to replace it often, reducing the uptime and reducing productivity.

또한, 설비 고장시 세척액이 공급되지 않을때 작업자가 세척액의 공급 여부를 확인할 수 없어 세척액이 공급되지 않을 경우 브러쉬가 건조해져 후속 웨이퍼를 세척할 때 웨이퍼 표면에 손상을 주게 되며, 또한, 브러쉬부가 배쓰에 없을 때에도 항상 세척액이 분사되기 때문에 세척액의 낭비가 커진다는 문제점이 있었다.In addition, when the cleaning solution is not supplied when the equipment is broken, the operator cannot check whether the cleaning solution is supplied. If the cleaning solution is not supplied, the brush is dried, which damages the wafer surface when the subsequent wafer is cleaned. There was a problem that the waste of the washing liquid is increased because the washing liquid is always sprayed even when not.

따라서, 본 발명의 목적은 브러쉬에 붙어 있는 이물질을 효과적으로 제거하기 위해서 세척조에 버블러를 설치하여 세척액에 공기 방울을 발생시키고 이 공기 방울을 이용하여 브러쉬에 붙어 있는 이물질을 효과적으로 제거함으로써 브러쉬의 수명을 증가시키고 웨이퍼의 수율도 향상시킨 브러쉬 세척 장치를 제공하는데 있다.Therefore, an object of the present invention is to install a bubbler in the cleaning tank to effectively remove the foreign matter adhering to the brush to generate air bubbles in the cleaning liquid and to effectively remove the foreign matter adhering to the brush by using the air bubbles to reduce the life of the brush The present invention provides a brush cleaning apparatus that has increased the yield of wafers.

본 발명의 다른 목적은 브러쉬를 감지하는 광센서를 오버 플로우조에 설치하여 브러쉬가 세척조를 나가면 세척액의 공급을 중단하고 브러쉬가 배쓰내에 투입되면 세척액을 공급하여 세척액의 낭비를 방지하며, 또한, 세척액을 공급하는 공급관에 경보센서를 설치하여 세척액이 공급관에 공급되지 않으면 경보센서는 작업자에게 신호를 보내 브러쉬가 건조된 상태로 웨이퍼가 세척되는 것을 방지하는 브러쉬 세척 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to install a light sensor for detecting the brush in the overflow tank to stop the supply of the cleaning liquid when the brush exits the cleaning tank and to supply the cleaning liquid when the brush is put into the bath to prevent waste of the cleaning liquid, If an alarm sensor is installed in the supply pipe to supply the cleaning liquid, the alarm sensor signals a worker to provide a brush cleaning device to prevent the wafer from being cleaned while the brush is dried.

이와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명은 브러쉬를 세척하는 세척조에 버블러를 설치하고 버블러에 가스를 주입하면 버블러는 세척액에 공기방울을 발생시켜 브러쉬 표면에 붙어 있는 이물질을 효과적으로 제거하여 브러쉬의 수명을 증가시키는 특징이 있다.In order to achieve the above object, the present invention installs a bubbler in a washing tank for washing a brush, and when gas is injected into the bubbler, the bubbler generates air bubbles in the cleaning liquid to effectively remove foreign substances adhering to the brush surface. There is a characteristic to increase the life.

또한 오버플로우조에 광센서를 설치하여 브러쉬가 세척조에 춥입되면, 광센서는 브러쉬를 감지하여 공급관의 에어 밸브를 개방시켜 세척액을 공급하고, 브러쉬가 세척액 저장조를 나가면, 광센서는 이를 감지하여 공급관의 에어 밸브를 폐쇄하여 세척액의 공급을 중단시켜 세척액이 낭비되는 것을 방지하고, 또한, 공급관의 일정영역에 경보센서를 설치하여 에어 밸브가 개방되어도 세척액이 공급되지 않으면 이를 감지하여 알람신호를 작업자에게 전달하는 것을 특징으로 한다.In addition, when the brush is cold in the washing tank by installing the light sensor in the overflow tank, the light sensor detects the brush and opens the air valve of the supply pipe to supply the cleaning liquid, and when the brush exits the washing liquid storage tank, the light sensor detects this and Close the air valve to stop the supply of the cleaning liquid to prevent wasting liquid.In addition, install an alarm sensor in a certain area of the supply pipe to detect the alarm when the cleaning liquid is not supplied even if the air valve is opened and send an alarm signal to the operator. Characterized in that.

이하, 본 발명에 의한 버블러 방식의 브러쉬 세척 장치를 제2도 및 제3도를 참조하여 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of a bubbler type brush cleaning device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

제2도는 본 발명에 의한 버블러 방식의 브러쉬 세척 장치의 구성을 나타낸 부분 절개 사시이고, 제3도(a)는 본 발명에 의한 버블러 방식의 브러쉬 세척 장치에 브러쉬부가 투입되어 브러쉬를 세척하는 상태를 나타낸 상태도이고, 제3도(b)는 브러쉬부가 브러쉬 세척 세척조를 이탈하여 브러쉬 세척조내의 세척액을 배출시킨 상태를 나타낸 상태도이다.2 is a partial cutaway perspective view showing the configuration of a bubbler brush cleaning device according to the present invention, Figure 3 (a) is a brush unit is put into the bubbler brush cleaning device according to the present invention to wash the brush Figure 3 (b) is a state diagram showing a state in which the brush portion is separated from the brush washing tank to discharge the cleaning liquid in the brush washing tank.

버블러 방식의 브러쉬 세척 장치는 오버플로우된 세척액(45)을 배출하기 위해 형성된 오버플로우조(21)와, 오버플로우조(21) 내측에 일정 간격으로 이격되어 오버플로우조(21)에 에워싸여 있는 세척조(23) 2개조로 구성되어 있다.The bubbler type brush cleaning device is surrounded by the overflow tank 21 spaced at a predetermined interval inside the overflow tank 21 and the overflow tank 21 formed to discharge the overflowed washing liquid 45. The washing tank 23 consists of two tanks.

오버플로우조(21)의 하부에는 오버플로우된 세척액(45)을 배출하기 위해 오버플로우조(21) 하부에 연통된 오버플로우관(25)이 있고, 세척조(23)의 하부에는 세척액(45)을 공급하는 공급관(27)이 연통되어 있으며, 공급관(27)의 소정의 영역에 연통되어 세척조(23)내의 세척액(45)을 배출하는 배출관(29)이 형성되어 있다. 공급관(27)에 설치되어 공급관(27)에 설치되어 공급관(27)을 개폐하는 에어 밸브(31)와 배출관(29)에 설치되어 세척조(23)내에 존재하는 오염된 세척액(45)을 배출시키는 에어 밸브(33)는 서로 상반되게 동작한다. 또한, 세척액(45)을 공급하는 공급관(27)에는 세척액(45)이 공급되는지의 여부를 감지하는 경보센서(34)가 설치되어 있다.The lower portion of the overflow tank 21 has an overflow tube 25 communicating with the lower portion of the overflow tank 21 to discharge the overflowed washing liquid 45, and the lower portion of the washing tank 23 has a washing liquid 45. The supply pipe 27 for supplying the gas is in communication with each other, and a discharge pipe 29 is formed in communication with a predetermined region of the supply pipe 27 to discharge the washing liquid 45 in the washing tank 23. Installed in the supply pipe 27 and installed in the supply pipe 27 to open and close the supply pipe 27 and the discharge pipe 29 is installed to discharge the contaminated cleaning liquid 45 present in the washing tank 23 The air valves 33 operate opposite to each other. In addition, the supply pipe 27 for supplying the washing liquid 45 is provided with an alarm sensor 34 for detecting whether the washing liquid 45 is supplied.

또한, 세척조(23)내에는 가스를 이용해 공기 방울(46)을 발생시키는 버블러(35)가 세척조(23)의 하부면에 설치되어 있고, 버블러(35)에 가스를 공급하는 가스 공급관(37)의 일측이 버블러(35)와 연결되어 있으며, 가스 공급관(37)의 소정 영역에 가스 공급관(37)을 개폐하기 위해 솔레노이드 밸브(38)가 설치되어 있다.In addition, in the washing tank 23, a bubbler 35 for generating an air bubble 46 using gas is provided on the lower surface of the washing tank 23, and a gas supply pipe for supplying gas to the bubbler 35 ( One side of the 37 is connected to the bubbler 35, and a solenoid valve 38 is installed to open and close the gas supply pipe 37 in a predetermined region of the gas supply pipe 37.

또한, 오버플로우조(21)의 일측면에 광센서(39)가 설치되어 세척조(23)내에 브러쉬부(43)의 투입여부를 감지하고, 광센서(39)의 신호를 입력받아 구동부에 구동신호를 출력하는 제어부(40)의 구동신호에 의해서 밸브를 개폐시키는 구동부(41)가 있으며, 구동부(41)는 가스 공급관(37)에 설치되어 있는 솔레노이드 밸브(38)와 공급관(27)에 설치되어 있는 에어 밸브(31)와 배출관에 설치되어 있는 에어 밸브(33)를 구동시킨다.In addition, an optical sensor 39 is installed at one side of the overflow tank 21 to detect whether the brush 43 is inserted into the washing tank 23, and receives a signal from the optical sensor 39 to drive the driving unit. There is a driving unit 41 for opening and closing the valve by a drive signal of the control unit 40 for outputting a signal, and the driving unit 41 is installed in the solenoid valve 38 and the supply pipe 27 installed in the gas supply pipe 37. The air valve 31 and the air valve 33 provided in the discharge pipe are driven.

여기서, 브러쉬부(43)는 브러쉬 고정 캡(43b)과 브러쉬 고정 캡(43b)에 장착된 브러쉬(43a)와 브러쉬(43a)를 세척하기 위해서 브러쉬 고정 캡(43b)을 회전시켜 주는 회전축(43c)으로 구성되어 있다.Here, the brush portion 43 is a rotation shaft 43c for rotating the brush fixing cap 43b to wash the brush 43a and the brush 43a mounted to the brush fixing cap 43b and the brush fixing cap 43b. )

또한 세척조(23)의 상측면 가장자리에는 세척조(23)가 기올어지게 설치되어 있어도 세척액(23)이 어느 곳에서나 오버플로우조(21)로 오버플로우되도록 홈(24)이 형성되어 있다.In addition, the groove 24 is formed on the upper side edge of the washing tank 23 so that the washing liquid 23 overflows to the overflow tank 21 anywhere in the washing tank 23.

이와 같이 구성된 버블 방식의 브러쉬 세척 방법을 제3도(a) 및 (b)도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.The brush cleaning method configured as described above will be described with reference to FIGS. 3A and 3B as follows.

먼저, 제3도(a)에 도시된 바와 같이 웨이퍼 세척을 마친 오염된 브러쉬부(43)가 세척조(23)에 투입되면 광이 브러쉬부(43)에 의해 차단되어 광센서(39)는 세척조(23)내에 브러쉬부(43)가 투입되었음을 감지하고, 이 신호를 제어부(40)에 출력한다. 광센서(39)의 신호를 받은 제어부(40)는 이에 상응하는 구동신호를 구동부(41)에 출력하여 구동부(41)를 제어하고, 제어부(40)의 신호를 입력한 구동부(41)는 솔레노이드 밸브(38)에 전원을 인가하여 솔레노이드 밸브(38)를 개방시킴과 아울러 공급관(27)에 형성되어 있는 에어 밸브(31)를 에어 밸브(27)가 개바되는 방향으로 공기를 주입하여 에어 밸브(31)를 개방시키고 동시에 배출관(29)에 형성되어 있는에 에어 밸브(33)를 폐쇄하는 방향으로 공기를 가하여 에어 밸브(33)를 폐쇄시킨다.First, as shown in FIG. 3A, when the contaminated brush portion 43 that has finished the wafer cleaning is introduced into the washing tank 23, the light is blocked by the brush portion 43 so that the optical sensor 39 is washed. It detects that the brush part 43 is put into 23, and outputs this signal to the control part 40. FIG. The control unit 40 receiving the signal from the optical sensor 39 outputs a corresponding driving signal to the driving unit 41 to control the driving unit 41, and the driving unit 41 inputting the signal of the control unit 40 is a solenoid. The solenoid valve 38 is opened by applying power to the valve 38 and air is introduced into the air valve 31 formed in the supply pipe 27 in the direction in which the air valve 27 opens. 31 is opened and at the same time, air is applied to the air valve 33 formed in the discharge pipe 29 to close the air valve 33.

이때, 배출관(29)에 설치되어 있는 에어 밸브(33)가 폐쇄되면 세척조(23)내에 존재하는 오염된 세척액(45)의 배출이 중단된다.At this time, when the air valve 33 installed in the discharge pipe 29 is closed, the discharge of the contaminated washing liquid 45 existing in the washing tank 23 is stopped.

여기서, 에어 밸브(21)와 솔레노이드 밸브(38)가 개방되면 공급관927)으로는 세척액이 공급되어 세척액 저장조(23)로 유입되고, 가스 공급관(37)으로는 가스, 예를 들어 질소 가스가 공급되어 버블러(35)에 유입되며 버블러(35)는 질소 가스를 이용하여 세척액(45)에 공기 방울(46)을 발생시킨다.Here, when the air valve 21 and the solenoid valve 38 are opened, the washing liquid is supplied to the supply pipe 927 and flows into the washing liquid storage tank 23, and gas, for example, nitrogen gas, is supplied to the gas supply pipe 37. And flows into the bubbler 35, and the bubbler 35 generates air bubbles 46 in the washing liquid 45 using nitrogen gas.

세척액(45)에 공기 방울(46)이 발생되면 공기 방울은 회전되고 있는 브러쉬(43a) 표면에 부딪혀 브러쉬(43a) 표면에 붙어 있는 오염 물질을 제거하고, 세척액 저장조(23)에 세척액(45)이 계속 유입되면 브러쉬(43a) 표면에서 제거된 이물질들이 세척액(45)과 함께 오버플로우조(21)로 오버플로우되고 오염된 세척액은 오버플로우관(25)으로 배출되어 저장탱크(도시안됨)에 저장된다.When an air bubble 46 is generated in the cleaning liquid 45, the air bubble hits the surface of the brush 43a which is being rotated to remove contaminants attached to the surface of the brush 43a, and the cleaning liquid 45 is supplied to the cleaning solution reservoir 23. If it continues to flow in, foreign substances removed from the surface of the brush 43a overflow with the washing liquid 45 to the overflow tank 21, and the contaminated washing liquid is discharged to the overflow tube 25 to the storage tank (not shown). Stored.

여기서, 에어 밸브(31)가 개방되어도 세척액(45)이 공급되지 않을 경우에 공급관(27)에 설치된 경보 센서(34)는 이를 감지하여 작업자에게 알람신호를 보내어 브러쉬부(43)가 건조해진 상태로 웨이퍼를 세척하는 것을 방지하도록 한다.Here, when the cleaning liquid 45 is not supplied even when the air valve 31 is opened, the alarm sensor 34 installed in the supply pipe 27 detects this and sends an alarm signal to the worker, thereby drying the brush part 43. To prevent the wafer from being cleaned.

제3도(b)에 도시된 바와 같이 브러쉬부(43)가 세척조(23)를 나가게 되면 광센서(39)는 이를 감지하여 신호를 제어부(40)에 출력하고, 광센서(39)의 출력 신호를 받은 제어부(40)는 이에 상응하는 구동신호를 구동부(41)에 보내어 구동부(41)를 제어한다.As shown in FIG. 3 (b), when the brush part 43 exits the washing tank 23, the optical sensor 39 detects this and outputs a signal to the controller 40, and the output of the optical sensor 39. The control unit 40 receiving the signal transmits a corresponding driving signal to the driving unit 41 to control the driving unit 41.

제어부(40)의 신호를 입력한 구동부(41)는 솔레노이드 밸브(38)에 전원공급을 중단하여 솔레노이드 밸브(38)를 폐쇄시켜 가스 공급관(37)으로 유입되는 가스의 공급을 중단시킴과 아울러 공급관(27)에 설치되어 있는 에어 밸브(31)가 폐쇄되는 방향으로 공기를 공급하여 공급관(27)에 세척액 공급을 중단시키고 동시에 배출관(29)에 설치된 에어 밸브(33)가 개방되도록 공기를 가하여 세척조(23)내에 존재하는 오염된 세척액(45)을 배출관(29)으로 배출시켜서 세척조(23)내에 오염된 세척액을 제거한다.The drive unit 41, which inputs the signal from the control unit 40, stops the power supply to the solenoid valve 38, closes the solenoid valve 38, and stops the supply of the gas flowing into the gas supply pipe 37. Supplying air in the direction in which the air valve 31 installed in the (27) is closed to stop the supply of the cleaning liquid to the supply pipe 27 and at the same time to apply air to open the air valve 33 installed in the discharge pipe (29) The contaminated washing liquid 45 present in the (23) is discharged to the discharge pipe 29 to remove the contaminated washing liquid in the washing tank 23.

이상에서 설명한 바와 같이 세척조에 버블러를 설치하여 버블러에서 세척액에 발생시킨 공기 방울을 이용해서 브러쉬 표면에 붙어 있는 이물질을 효과적으로 제거하여 브러쉬의 수명을 증가시키고, 오버플로우조에 광센서를 설치하여 브러쉬의 투입여브를 감지함으로써 세척액이 낭비되는 것을 방지 하였으며, 세척액을 공급하는 공급관에 경보 센서를 설치하여 세척액의 공급여부를 확인 하므로써 브러쉬가 건조한 상태로 웨이퍼가 세척되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, the bubbler is installed in the cleaning tank to effectively remove the foreign matter adhering to the brush surface by using the air bubbles generated in the cleaning liquid in the bubbler to increase the life of the brush, and install the optical sensor in the overflow tank to install the brush The cleaning solution was prevented from being wasted by detecting the input of the cleaning valve, and the alarm sensor was installed in the supply pipe supplying the cleaning solution to check whether the cleaning solution was supplied, thereby preventing the wafer from being cleaned in the dry state of the brush.

Claims (15)

브러쉬 세척용 세척액을 저장하기 위한 저장수단과, 상기 저장수단내에서 상기 브러쉬를 회전시키기 위한 브러쉬 회전수단과, 상기 저장수단에 상기 세척액을 공급하기 위한 세척액 공급수단과, 상기 브러쉬에 세척력을 제공하기 위한 세척력 제공수단과, 상기 저장수단으로부터 오버플로우된 세척액을 처리하기 위한 오버플로우 수단과, 상기 저장수단내 상기 세척액을 배출하기 위한 배출수단과, 상기 브러쉬의 상기 저장수단으로의 투입여부에 따라 상기 세척액 공급수단과, 상기 세척력 제공수단 및 상기 배출수단을 제어하기 위한 제어수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.Storage means for storing the cleaning liquid for brush cleaning, brush rotating means for rotating the brush in the storage means, washing liquid supply means for supplying the cleaning liquid to the storage means, and providing cleaning power to the brush Cleaning means for providing, overflow means for processing the cleaning liquid overflowed from the storage means, discharge means for discharging the cleaning liquid in the storage means, and whether the brush is inserted into the storage means. Brush cleaning apparatus comprising a cleaning liquid supply means, and a control means for controlling the cleaning force providing means and the discharge means. 제1항에 있어서, 상기 저장수단의 상부 가장자리면에 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning apparatus according to claim 1, wherein a groove is formed in an upper edge surface of the storage means. 제1항에 있어서, 상기 세척액 공급수단은 상기 저장수단의 하부에 연통된 공급관과, 상기 공급관의 소정 영역에 설치된 개폐 밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning apparatus according to claim 1, wherein the washing liquid supply means comprises a supply pipe communicating with a lower portion of the storage means, and an opening / closing valve installed in a predetermined region of the supply pipe. 제3항에 있어서, 상기 개폐 밸브는 에어 밸브인 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning device according to claim 3, wherein the on-off valve is an air valve. 제3항에 있어서, 상기 개폐 밸브와 상기 저장수단 사이에 있어 상기 공급관의 소정 위치에 세척액 공급 감지용 센서가 설치된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning apparatus according to claim 3, wherein a cleaning solution supply detection sensor is installed at a predetermined position of the supply pipe between the on-off valve and the storage means. 제1항에 있어서, 상기 세척력 제공수단은 상기 저장수단내에 설치된 버블러와 상기 버블러에 가스를 공급하는 가스 공급관과 상기 공급관의 소정 영역에 설치된 개폐 밸브로 그성된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning force providing means comprises a bubbler installed in the storage means, a gas supply pipe for supplying gas to the bubbler, and an on / off valve provided in a predetermined region of the supply pipe. 제6항에 있어서, 상기 개폐 밸브는 솔레노이드 밸브인 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning device according to claim 6, wherein the on-off valve is a solenoid valve. 제1항에 있어서, 상기 오버플로우 수단은 상기 저장수단의 외측에 일정간격 이격되어 상기 저장수단을 에워싸는 오버플로우조와, 상기 오버플로우조의 하부에 연통된 오버플로우관으로 구성된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning apparatus according to claim 1, wherein the overflow means comprises an overflow tank spaced apart from the storage means by a predetermined interval to surround the storage means, and an overflow tube connected to a lower portion of the overflow tank. . 제8항에 있어서, 상기 배출수단은 상기 세척액 공급용 공급관의 소정 영역에 연통된 배출관과, 상기 배출관의 소정 영역에 설치된 개폐 밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning apparatus according to claim 8, wherein the discharge means comprises a discharge tube communicating with a predetermined region of the supply pipe for supplying the cleaning liquid, and an opening / closing valve provided in the predetermined region of the discharge tube. 제9항에 있어서, 상기 개폐 밸브는 에어 밸브인 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning device according to claim 9, wherein the on-off valve is an air valve. 제1항에 있어서, 상기 제어수단은 상기 브러쉬의 상기 저장수단으로의 투입여부를 감지하는 감지수단과, 상기 감지수다능로부터의 신호를 입력받아 구동신호를 출력하는 제어수단과, 상기 제어수단에 의해 제어되는 구동수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The method of claim 1, wherein the control means comprises: a sensing means for sensing whether the brush is inserted into the storage means, a control means for receiving a signal from the sensing versatility and outputting a driving signal, and the control means. Brush cleaning apparatus, characterized in that consisting of a drive means controlled by. 제11항에 있어서, 상기 감지수단은 광센서인 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.The brush cleaning apparatus according to claim 11, wherein the sensing means is an optical sensor. 제3항 또는 제5항 또는 제7항의 오느 한 항에 있어서, 상기 개폐 밸브들은 상기 제어수단에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 장치.8. A brush cleaning apparatus according to claim 3, 5 or 7, wherein said on / off valves are controlled by said control means. 저장조내에 브러쉬를 투입하는 단계와, 상기 투입된 브러쉬를 감지하여 산기 저장조내에 세척액을 공급하고 동시에 상기 저장조내의 버블러에 가스를 공급하는 단계와, 상기 저장조내의 브러쉬를 회전 세탁시키는 단계와, 상기 저장조내의 상기 세척액을 배출시키는 단계를 이루어진 것을 특징으로 하는 브러쉬 세척 방법.Injecting a brush into a reservoir, sensing the brush and supplying a washing liquid to an air storage tank and simultaneously supplying gas to a bubbler in the reservoir, rotating washing the brush in the reservoir, and Brush cleaning method comprising the step of discharging the cleaning liquid. 제14항에 있어서, 상기 세척액이 상기 저장조에 공급되지 않는 경우 경보를 발생시키는 단계를 더 포함하는 것으 특징으로 하는 브러쉬 세척 방법.15. The method of claim 14, further comprising generating an alarm if the cleaning liquid is not supplied to the reservoir.
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