KR100396829B1 - Device for cleaning a brush of a brush type of substrate cleaning apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 브러시를 세척하기 위한 세척액의 불필요한 사용을 피하고 또한 브러시의 지속적인 사용으로 인한 구동원의 고장을 방지하여 구동원의 수명을 연장할 수 있는 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구에 관한 것이다. 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구는 기판 세정 위치로부터 벗어난 대기 위치에 위치되어 기판 세정용 브러시를 세척한다. 이를 위하여, 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구는 바닥면의 중앙에 드레인 포트가 형성되는 브러시 대기 포트와; 세척될 브러시의 밑면에 세척 용액을 분사하도록 대기 포트 바닥면에 등간격으로 형성되는 다수의 세척 용액 통로의 출구에 각각 설치되는 다수의 세척 용액 분사 노즐들과; 대기 포트 내에서 세척될 브러시의 하부 부분이 항상 잠겨질 수 있는 브러시 세척 용액의 레벨을 감지하기 위한 용액 레벨 센서와; 대기 포트의 드레인 포트의 통로의 크기를 조정하는 온/오프 밸브와; 드레인 포트를 통하여 드레인되는 세척 용액을 저장하는 하나 이상의 세척 용액 드레인 탱크들과; 용액 레벨 센서의 신호에 따라서 세척 용액 저장 탱크로부터 대기 포트 내로 세척 용액을 공급하는 하나 이상의 용액 공급 펌프를 포함한다.The present invention relates to a brush cleaning mechanism of a substrate cleaning apparatus which can extend the life of the driving source by avoiding unnecessary use of the cleaning liquid for cleaning the brush and also preventing the failure of the driving source due to the continuous use of the brush. The brush cleaning mechanism of the substrate cleaning apparatus is located at a standby position away from the substrate cleaning position to clean the substrate cleaning brush. To this end, the brush cleaning mechanism of the substrate cleaning apparatus includes a brush standby port having a drain port formed at the center of the bottom surface; A plurality of cleaning solution spray nozzles respectively installed at outlets of the plurality of cleaning solution passages formed at equal intervals on the bottom of the standby port to spray the cleaning solution to the bottom of the brush to be cleaned; A solution level sensor for sensing the level of the brush cleaning solution in which the lower portion of the brush to be cleaned in the standby port can always be locked; An on / off valve for adjusting the size of the passage of the drain port of the standby port; One or more wash solution drain tanks for storing the wash solution drained through the drain port; One or more solution feed pumps for supplying the wash solution from the wash solution storage tank into the atmosphere port in response to a signal from the solution level sensor.
Description
본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것이고, 보다 상세하게는 기판 세정에 이용되는 브러시를 세척하기 위한 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a brush cleaning mechanism of a substrate cleaning apparatus for cleaning a brush used for substrate cleaning.
일반적으로, 이러한 종류의 브러시 세정 장치로서는 예를 들면 도 1에 도시된 바와 같이 척(102)에 회전 가능하게 지지되는 기판(W)의 외주 가장자리의 외측에 있는 대기 위치에서 선회 아암(61)의 선단부에 설치된 브러시(1)가 대기하고, 선회 아암(61)이 선회하는 것에 의하여, 브러시(1)는 대기 위치와 기판 표면의 중앙부 사이(기판 세정 위치) 사이에서 이동할 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 브러시(1)는 선회 아암(61)의 선단부에 회전(자전) 가능하게 설치된다.Generally, as this type of brush cleaning apparatus, for example, as shown in FIG. 1, the pivoting arm 61 is in a standby position outside the outer peripheral edge of the substrate W rotatably supported by the chuck 102. The brush 1 provided in the front end waits, and the turning arm 61 rotates, and the brush 1 is comprised so that it can move between a standby position and the center part of a board | substrate surface (substrate cleaning position). Moreover, the brush 1 is provided so that rotation (rotation) is possible in the front-end | tip part of the turning arm 61. As shown in FIG.
초기 상태에서, 도 1에서 이점 쇄선으로 도시된 바와 같이 선회 아암(61)은 대기 포트(TP, 브러시 세척 용기)의 상부에서 대기하고 있으며, 이 때, 아암 지지축(62)의 스토퍼(68)는 지지대(69)에 접하고 있는 동시에, 에어 실린더(70)의 피스톤 로드(70a)가 신장되어 아암 지지축(62)이 신장된 상태이다. 또한, 이러한 브러시(1)의 대기 상태에서, 브러시(1)가 전동 모터(도시되지 않음)의 구동력에 의하여 자전된다.In the initial state, as shown by the dashed-dotted line in FIG. 1, the swinging arm 61 is standing on top of the standby port (TP, brush cleaning vessel), at which time the stopper 68 of the arm support shaft 62. Is in contact with the support 69 and the piston rod 70a of the air cylinder 70 is extended so that the arm support shaft 62 is extended. Further, in the standby state of the brush 1, the brush 1 is rotated by the driving force of the electric motor (not shown).
또한, 브러시(1)의 세척을 위하여 에어 실린더(70)의 피스톤 로드(70a)가 후퇴하며 선회 아암(61)이 하강되어 브러시(1)가 대기 포트(TP)에 수납되며, 브러시 세척 상태에서, 브러시(1)는 전동 모터의 구동력에 의하여 계속적으로 자전되면서세척액으로 브러시(1)의 솔 부분이 세척된다.In addition, the piston rod 70a of the air cylinder 70 is retracted and the turning arm 61 is lowered to wash the brush 1 so that the brush 1 is stored in the standby port TP, and in the brush washing state. The brush 1 is continuously rotated by the driving force of the electric motor, and the brush part of the brush 1 is washed with the washing liquid.
대기 포트(TP)에서 브러시(1)의 세척이 완료되면, 브러시(1)가 기판(W)을 세정하기 위하여 기판(W)과 접촉하도록 또는 기판(W)으로부터 약간 떨어지도록 선회 아암(61)이 도 1의 실선 위치로 선회한다.When the cleaning of the brush 1 is completed at the standby port TP, the turning arm 61 is brought into contact with the substrate W or slightly away from the substrate W to clean the substrate W. It turns to this solid line position of FIG.
대기 포트(TP)는 기판(W)을 수용하는 컵(도시되지 않음)의 수평 방향 외측에 위치되며, 대기 위치에 있는 브러시(1)를 에워싸도록 구성된다. 이러한 대기 포트(TP) 내에는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 대기 포트(TP) 내에 수용 위치된 브러시(1)에 순수, 초음파수 또는 화학 용액과 같은 세척 용액을 분사하는 다수의 노즐(N)들이 설치되는 동시에, 대기 포트(TP)의 바닥에는 세척 용액을 드레인하기 위한 드레인 포트(HD)가 형성된다. 각각의 노즐(N)들은 브러시(1)의 솔 부분의 측부를 세척하도록 대기 포트(TP) 내에 수평으로 설치되거나 세척 용액의 분사 방향이 약간 위쪽으로 향하도록 설치된다.The standby port TP is located horizontally outward of a cup (not shown) containing the substrate W and is configured to surround the brush 1 in the standby position. In the standby port TP, as shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of nozzles for spraying a cleaning solution such as pure water, ultrasonic water or chemical solution to the brush 1 accommodated in the standby port TP ( At the same time as N) are installed, a drain port HD for draining the washing solution is formed at the bottom of the standby port TP. Each nozzle N is installed horizontally in the standby port TP to wash the side of the brush portion of the brush 1 or so that the spraying direction of the cleaning solution is slightly upward.
브러시(1)는 통상적으로 나일론, PVA와 같은 부드러운 재질로 만들어지며, 브러시(1)를 세척하기 위한 세척 용액으로서는 기판(W)을 세정할 때 사용되는 순수 또는 H2SO4, H2O2, HF, NH4OH와 같은 화학 용액이 사용된다.The brush 1 is usually made of a soft material such as nylon or PVA, and the cleaning solution for cleaning the brush 1 is pure water or H 2 SO 4 , H 2 O 2 used to clean the substrate W. Chemical solutions such as, HF, NH 4 OH are used.
그러나, 상기된 바와 같은 종래의 브러시 세정 장치의 브러시 세척 구조는 기판 세정부가 아닌 브러시의 측면만을 세척하여 세척 효율이 높지 않을 뿐만 아니라 세척액의 불필요한 사용이 따르며, 또한 대기 위치에서 브러시가 계속적으로 자전하기 때문에, 브러시를 구동하기 위한 구동원의 지속적인 사용으로 인하여 고장이 잦고, 구동원의 수명이 저하된다는 문제가 있었다.However, the brush cleaning structure of the conventional brush cleaning apparatus as described above not only cleans the side surface of the brush but the substrate cleaning portion, so that the cleaning efficiency is not high, and the use of the cleaning liquid is unnecessary, and the brush continuously rotates in the standby position. Therefore, due to the continuous use of the drive source for driving the brush, there is a problem that frequent failure, the life of the drive source is reduced.
또한, 이와 같은 종래의 브러시 세정 장치의 브러시 세척 구조는 기판 세정에 사용되는 용액에 따른 세척 용액만을 사용한다는 문제점이 있었다.In addition, the brush cleaning structure of the conventional brush cleaning device has a problem that only the cleaning solution according to the solution used for cleaning the substrate.
따라서, 본 발명의 목적은 브러시를 세척하기 위한 세척액의 불필요한 사용을 피하고 또한 지속적인 사용으로 인한 구동원의 고장을 방지하여 구동원의 수명을 연장할 수 있는 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구를 제공하는데 있다.It is therefore an object of the present invention to provide a brush cleaning mechanism of a substrate cleaning apparatus which can extend the life of the driving source by avoiding unnecessary use of the cleaning liquid for cleaning the brush and also preventing the failure of the driving source due to continuous use.
본 발명의 또 다른 목적은 기판의 세정 용액에 따라서 브러시의 세척 용액을 적절하게 분사할 수 있는 구조를 가지는 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a brush cleaning mechanism of a substrate cleaning apparatus having a structure capable of appropriately spraying the cleaning solution of the brush in accordance with the cleaning solution of the substrate.
도 1은 종래의 브러시로 기판을 세정하기 위한 브러시 세정 장치를 개략적으로 도시한 도면.1 schematically illustrates a brush cleaning apparatus for cleaning a substrate with a conventional brush.
도 2는 도 1에 도시된 대기 포트에서 브러시가 세정되는 상태를 도시한 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a state in which a brush is cleaned in the standby port shown in FIG. 1. FIG.
도 3은 다수의 노즐들이 대기 포트에 설치되는 도시한 평면도.3 is a plan view showing a plurality of nozzles are installed in the standby port.
도 4는 본 발명에 따른 브러시 세정 장치의 브러시 세척 기구의 구조를 개략적으로 도시한 도면.Figure 4 schematically shows the structure of the brush cleaning mechanism of the brush cleaning device according to the present invention.
(도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)
1 : 브러시 2 : 지지 아암1 brush 2 support arm
3a,3b : 통로 4 : 드레인 포트3a, 3b: passage 4: drain port
5a,5b : 용액 공급로 6a,6b : 용액 드레인 탱크5a, 5b: solution supply passage 6a, 6b: solution drain tank
7 : 방향 전환 솔레노이드 밸브 8 : 레벨 센서7: directional solenoid valve 8: level sensor
9 : 온/오프 밸브 10a,10b : 펌프9: on / off valve 10a, 10b: pump
11 : 경사면 12 : 노즐11: slope 12: nozzle
상기된 바와 같은 본 발명의 목적은, 기판 세정 위치로부터 벗어난 대기 위치에 위치되며 기판 세정용 브러시를 세척하는 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구에 있어서, 바닥면의 중앙에 드레인 포트가 형성되는 브러시 대기 포트와; 세척될 브러시의 밑면에 세척 용액을 분사하도록 상기 대기 포트 바닥면에 등간격으로 형성되는 다수의 세척 용액 통로의 출구에 각각 설치되는 다수의 세척 용액 분사 노즐들과; 상기 대기 포트 내에서 세척될 브러시의 하부 부분이 항상 잠겨질 수 있는 브러시 세척 용액의 레벨을 감지하기 위한 용액 레벨 센서와; 상기 대기 포트의 드레인 포트의 통로의 크기를 조정하는 온/오프 밸브와; 상기 드레인 포트를 통하여 드레인되는 세척 용액을 저장하는 하나 이상의 세척 용액 드레인 탱크들과; 상기 용액 레벨 센서의 신호에 따라서 상기 세척 용액 저장 탱크로부터 상기 대기 포트 내로 세척 용액을 공급하는 하나 이상의 용액 공급 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구에 의하여 달성될 수 있다.An object of the present invention as described above, in the brush cleaning mechanism of the substrate cleaning apparatus, which is located in the standby position away from the substrate cleaning position and cleans the substrate cleaning brush, the brush standby port in which the drain port is formed at the center of the bottom surface Wow; A plurality of cleaning solution spray nozzles respectively installed at outlets of the plurality of cleaning solution passages formed at equal intervals on the bottom surface of the air port to spray the cleaning solution to the bottom of the brush to be cleaned; A solution level sensor for sensing the level of the brush cleaning solution in which the lower portion of the brush to be cleaned in the standby port can always be locked; An on / off valve for adjusting the size of the passage of the drain port of the standby port; One or more wash solution drain tanks for storing the wash solution drained through the drain port; At least one solution supply pump for supplying a cleaning solution from the cleaning solution storage tank to the standby port in accordance with a signal of the solution level sensor, which is to be achieved by a brush cleaning mechanism of a substrate cleaning apparatus according to the invention. Can be.
상기에서, 상기 대기 포트로부터 드레인된 세척 용액을 상기 드레인 탱크로 분배하기 위한 솔레노이드 밸브를 추가로 포함하며, 상기 드레인 탱크들은 서로 다른 용액을 저장한다.In the above, it further comprises a solenoid valve for dispensing the washing solution drained from the standby port to the drain tank, the drain tanks store different solutions.
또한, 상기 대기 포트의 바닥면은 바람직하게 원추 형상으로 형성되며, 상기 세척 용액 통로들은 상기 원추 형상의 경사면에 형성된다.Further, the bottom surface of the standby port is preferably formed in a conical shape, and the cleaning solution passages are formed in the conical inclined surface.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 명세서에 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 4에는 본 발명에 따른 브러시 세정 장치의 브러시 세척 기구의 구조가 개략적으로 도시되어 있다.Figure 4 schematically shows the structure of a brush cleaning mechanism of the brush cleaning device according to the present invention.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 브러시 세정 장치의 브러시 세척 기구는 기판 세정 위치로부터 벗어난 대기 위치에 위치되며 기판 세정용 브러시를 세척하기 위한 것이다.As shown in Fig. 4, the brush cleaning mechanism of the brush cleaning apparatus according to the present invention is located at a standby position away from the substrate cleaning position and is for cleaning the substrate cleaning brush.
상기된 바와 같이, 기판을 세정하기 위한 브러시(1)는 지지 아암(2)에 회전(자전) 가능하게 설치되어 기판을 세정한 후에 브러시(1)에 부착된 오염물을 제거하도록 대기 포트(TP)로 이동된다. 대기 포트(TP)는 브러시(1)를 세척하는데 사용되는 브러시 세척 용액을 드레인하기 위하여 바닥면의 중앙에 드레인 포트(4)가 형성된다.As described above, the brush 1 for cleaning the substrate is rotatably installed (rotating) on the support arm 2 so as to remove the contaminants attached to the brush 1 after cleaning the substrate. Is moved to. The standby port TP has a drain port 4 formed at the center of the bottom surface to drain the brush cleaning solution used to clean the brush 1.
대기 포트(TP)의 바닥면은 도면으로부터 알 수 있는 바와 같이 본 발명에 따라서 원추 형상으로 형성되며, 그 중앙 부분에 드레인 포트(4)가 위치되며, 드레인 포트(4) 주위의 원추 형상의 경사면(11)에는 다수의 세척 용액 통로(3a,3b)들이 동일한 간격으로 원형(위에서 보았을 때)을 이루도록 형성된다. 다수의 세척 용액 통로(3a,3b)들의 출구에는 세척될 브러시(1)의 밑면에 세척 용액을 분사하기 위하여 다수의 세척 용액 분사 노즐(12)들이 설치된다. 그러므로, 노즐(12)로부터의 세척 용액은 브러시(1)의 밑면을 향하여 일정한 각도로 분사된다.As can be seen from the figure, the bottom surface of the standby port TP is formed in the shape of a cone according to the present invention, and the drain port 4 is located at the center portion thereof, and the conical inclined surface around the drain port 4 is formed. In 11, a plurality of washing solution passages 3a and 3b are formed to form a circle (as viewed from above) at equal intervals. At the outlet of the plurality of cleaning solution passages 3a and 3b, a plurality of cleaning solution spray nozzles 12 are installed to spray the cleaning solution to the underside of the brush 1 to be cleaned. Therefore, the cleaning solution from the nozzle 12 is sprayed at an angle toward the bottom of the brush 1.
한편, 대기 포트(TP)에는 대기 포트(TP) 내에서 세척될 브러시(1)의 하부 부분이 잠겨질 수 있는 정도의 세척 용액이 수용되어야 하며, 이러한 세척 용액의 레벨을 감지하기 위한 용액 레벨 센서(8)가 대기 포트(TP)에 설치된다. 그러므로, 브러시(1)가 세척될 때, 세척 용액은 용액 레벨 센서(8)에 의하여 항상 브러시(1)의 하부 부분이 잠겨질 수 있도록 노즐(12)로부터 분사되어 대기 포트(TP) 내에 채워지게 된다.On the other hand, the standby port (TP) should accommodate the cleaning solution to the extent that the lower portion of the brush (1) to be cleaned in the standby port (TP) should be accommodated, the solution level sensor for detecting the level of the cleaning solution (8) is installed in the standby port (TP). Therefore, when the brush 1 is cleaned, the cleaning solution is sprayed from the nozzle 12 so that the lower part of the brush 1 is always locked by the solution level sensor 8 to be filled in the standby port TP. do.
브러시(1)가 세척될 때, 대기 포트(TP)의 드레인 포트(4)에 연결되는 통로는 통로에 설치된 온/오프 밸브(9)의 작동에 의하여 그 개방도가 조절되며, 온/오프 밸브(9)가 드레인 포트(4)의 통로의 개방도를 감소시키도록 작동하였을 때, 드레인 포트(4)의 통로는 미세한 크기로 개방되어, 적은 양의 세척 용액이 대기 포트(TP)로부터 미세한 크기로 개방된 통로를 통하여 드레인된다.When the brush 1 is washed, the passage connected to the drain port 4 of the standby port TP is controlled by the operation of the on / off valve 9 installed in the passage, and the on / off valve When (9) is operated to reduce the opening of the passage of the drain port 4, the passage of the drain port 4 is opened to a fine size, so that a small amount of the washing solution is finely sized from the standby port TP. It is drained through the open passage.
상기된 바와 같이, 드레인 포트(4)를 통하여 대기 포트(TP)로부터 드레인되는 세척 용액은 하나 이상의 세척 용액 드레인 탱크(6a,6b)에 저장된다. 대기 포트(TP)로부터 드레인 포트(4)를 통하여 드레인 탱크(6a,6b)로 드레인되는 세척 용액은 세척 용액 드레인 탱크(6a,6b)들 사이에 제공되는 방향 전환 솔레노이드 밸브(7)에 의하여 어느 하나의 세척 용액 드레인 탱크(6a 또는 6b)로 분배된다. 따라서, 방향 전환 솔레노이드 밸브(7)의 작동에 의하여 대기 포트(TP)에서 브러시(1)를 세정하는데 사용되는 다른 종류의 용액이 각각의 세척 용액 드레인 탱크(6a,6b)에서 모아져 저장될 수 있다.As described above, the wash solution drained from the standby port TP through the drain port 4 is stored in one or more wash solution drain tanks 6a, 6b. The cleaning solution drained from the standby port TP through the drain port 4 to the drain tanks 6a and 6b is provided by the diverting solenoid valve 7 provided between the cleaning solution drain tanks 6a and 6b. It is dispensed into one wash solution drain tank 6a or 6b. Thus, different kinds of solutions used to clean the brush 1 in the standby port TP by the operation of the divert solenoid valve 7 can be collected and stored in the respective washing solution drain tanks 6a and 6b. .
한편, 레벨 센서(8)에 의하여 대기 포트(TP) 내의 용액이 일정 레벨, 즉 브러시(1)의 하부면이 잠겨질 수 있는 레벨에 못 미치는 경우에, 레벨 센서(8)의 신호에 따라서 각 세척 용액 탱크(도시되지 않음)로부터 대기 포트(TP)로 용액을 펌핑하기 위한 적어도 하나 이상의 펌프(10a,10b)가 통로(3a,3b)에 연결되는 용액 공급로(5a,5b)에 설치된다.On the other hand, when the solution in the standby port TP by the level sensor 8 falls short of a certain level, i.e., the level at which the lower surface of the brush 1 can be locked, the angle according to the signal of the level sensor 8 At least one pump 10a, 10b for pumping the solution from the washing solution tank (not shown) to the atmosphere port TP is installed in the solution supply passages 5a, 5b connected to the passages 3a, 3b. .
상기된 바와 같은 구조를 가지는 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구는 다음과 같이 작동한다.The brush cleaning mechanism of the substrate cleaning apparatus according to the present invention having the structure as described above operates as follows.
먼저, 브러시(1)가 기판의 세정을 종료한 후에, 도 4에 도시된 바와 같이 브러시(1)에 부착된 오염물을 세척하기 위하여 대기 포트(TP)에 위치되면, 브러시(1)는 브러시(1)에 부착된 오염물을 제거하기 위하여 자전된다. 이 때, 대기 포트(TP)에 제공되는 노즐(12)들은 상기된 바와 같이 통로(3a,3b)와 용액 공급로(5a,5b)를 통하여 하나 이상의 용액 저장 탱크에 각각 연결되어 있으며, 각각의 용액 저장 탱크는 순수와 화학 용액 등 서로 다른 종류의 세척 용액이 저장된다.First, after the brush 1 finishes cleaning the substrate and is placed in the standby port TP to clean the contaminants attached to the brush 1 as shown in FIG. 4, the brush 1 is placed in the brush ( It is rotated to remove the contaminants attached to 1). At this time, the nozzles 12 provided to the standby port TP are connected to one or more solution storage tanks through the passages 3a and 3b and the solution supply passages 5a and 5b, respectively, as described above. Solution storage tanks store different types of cleaning solutions, such as pure water and chemical solutions.
그러므로, 노즐(12)들은 세척될 오염물에 따라서 적절한 세척 용액을 분사하도록 일부 노즐(12)은 통로(3a)와 용액 공급로(5a)를 통하여 순수 저장 탱크에, 나머지 다른 노즐(12)들은 통로(3b)와 용액 공급로(5b)를 통하여 화학 용액 저장 탱크에 연결된다. 브러시(1)는 용액 공급로(5a,5b)에 제공되는 펌프(10a,10b)의 구동에 의해 각각의 탱크에 저장된 다른 종류의 세척 용액의 분사에 의하여 브러시(1)의 오염물이 제거된다. 이 때, 대기 포트(TP)에 설치된 노즐(12)들이 브러시(1)의 밑면을 향하여 세척 용액을 분사하기 때문에 브러시(1)에 부착된 오염물이 보다 효과적으로 제거되고, 브러시(1)의 세척이 완료되면, 브러시(1)는 자전이 정지된다.Therefore, some nozzles 12 pass through the passage 3a and the solution supply passage 5a to the pure storage tank, while the other nozzles 12 pass through the nozzles 12 so as to spray the appropriate cleaning solution according to the contaminants to be cleaned. It is connected to the chemical solution storage tank via 3b and the solution supply passage 5b. The brush 1 is removed by contaminants of the brush 1 by spraying different kinds of cleaning solutions stored in respective tanks by driving the pumps 10a and 10b provided to the solution supply paths 5a and 5b. At this time, since the nozzles 12 installed in the standby port TP spray the cleaning solution toward the bottom of the brush 1, the contaminants attached to the brush 1 are more effectively removed, and the cleaning of the brush 1 When finished, the brush 1 stops rotating.
이 때, 대기 포트(TP) 내의 세척 용액을 드레인하기 위한 드레인 포트(4)는 온/오프 밸브(9)의 작동에 의하여 미세하게 개방되고, 대기 포트(TP) 내의 세척 용액은 미세량이 드레인 포트(4)를 통하여 각 탱크로 드레인된다. 드레인 포트(4)를 통하여 드레인되는 세척 용액은 방향 전환 솔레노이드 밸브(7)의 작동에 의하여 적절한 드레인 탱크(6a 또는 6b)에서 저장된다.At this time, the drain port 4 for draining the washing solution in the standby port TP is finely opened by the operation of the on / off valve 9, and the washing solution in the standby port TP has a small amount of the drain port. It is drained to each tank through (4). The cleaning solution drained through the drain port 4 is stored in a suitable drain tank 6a or 6b by actuation of the divert solenoid valve 7.
대기 포트(TP)로부터 미세한 양이 드레인되는 한편, 노즐(12)로부터 드레인되는 용액보다 많은 양의 세척 용액이 대기 포트(TP) 내의 브러시(1)의 밑면으로 분사되기 때문에, 대기 포트(TP) 내에서 세척 용액의 레벨은 상승된다.A fine amount is drained from the standby port TP, while a larger amount of cleaning solution than the solution drained from the nozzle 12 is sprayed to the underside of the brush 1 in the standby port TP, so that the standby port TP The level of the washing solution in the rise is raised.
대기 포트(TP) 내에서 세척 용액의 레벨이 상승되어, 레벨 센서(8)에 의하여 용액의 레벨이 감지되면, 노즐(12)을 통하여 대기 포트(TP) 내의 브러시(1)의 밑면에 용액을 분사하도록 작동중인 펌프(10a 또는 10b)가 정지된다. 그러나, 펌프(10a 또는 10b)의 작동이 정지중인 상태에서도, 대기 포트(TP) 내의 세척 용액은 미세하게 개방된 드레인 포트(4)를 통하여 계속적으로 드레인되기 때문에, 대기 포트(TP)내의 세척 용액의 레벨은 서서히 낮아진다. 대기 포트(TP) 내에서 세척 용액의 레벨이 낮아지는 경우에, 레벨 센서(8)는 대기 포트(TP) 내의 세척 용액의 레벨을 감지하여, 펌프(10a 또는 10b)를 구동시킨다. 펌프(10a 또는 10b)의 구동에 의하여 대기 포트(TP) 내에서 세척 용액은 브러시(1)의 하부 부분이 항상 잠겨질 수 있을 정도의 레벨을 항상 유지할 수 있다.When the level of the cleaning solution is raised in the standby port TP and the level of the solution is detected by the level sensor 8, the solution is applied to the bottom of the brush 1 in the standby port TP through the nozzle 12. The pump 10a or 10b in operation to inject is stopped. However, even when the operation of the pump 10a or 10b is stopped, the washing solution in the standby port TP is continuously drained through the finely opened drain port 4, so that the washing solution in the standby port TP is maintained. The level gradually decreases. In the case where the level of the washing solution in the standby port TP is lowered, the level sensor 8 senses the level of the washing solution in the standby port TP and drives the pump 10a or 10b. By driving the pump 10a or 10b, the cleaning solution in the standby port TP can always maintain a level such that the lower part of the brush 1 can always be locked.
상기된 바와 같이 대기 포트(TP) 내에서 세척 용액이 적정한 레벨, 즉 브러시(1)의 하부 부분이 세척 용액에 항상 잠겨질 정도의 레벨로 유지되기 때문에, 브러시(1)의 기판 세정부, 즉 브러시(1)의 밑면은 항상 양호한 상태로 유지될 수 있다.As described above, since the cleaning solution is maintained at an appropriate level in the standby port TP, i.e., the level at which the lower part of the brush 1 is always immersed in the cleaning solution, the substrate cleaning part of the brush 1, i.e. The underside of the brush 1 can always be kept in good condition.
상기된 바와 같은 브러시(1)의 세척 공정이 완료되고, 브러시(1)가 기판 세정 위치로 이동하는 동시에, 온/오프 밸브(9)는 드레인 포트(4)를 개방하도록 작동된다. 이러한 드레인 포트(4)의 개방으로 대기 포트(TP) 내의 세척 용액은 방향 전환 솔레노이드 밸브(7)에 의하여 적정한 드레인 탱크(6a,6b)로 드레인된다.The cleaning process of the brush 1 as described above is completed, and at the same time the brush 1 moves to the substrate cleaning position, the on / off valve 9 is operated to open the drain port 4. The opening of the drain port 4 drains the washing solution in the standby port TP to the appropriate drain tanks 6a and 6b by the turn-over solenoid valve 7.
상기된 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 브러시 세척 기구에 의하면, 브러시의 세정부(밑면)가 세척되기 때문에 세척 용액이 브러시의 측면만을 세척하는 종래의 브러시의 세척 기구와 비교하여 브러시 세척 효과가 우수하며 사용되는 세척 용액의 양이 적게 될 수 있으며, 브러시의 세척 후에 브러시의 자전이 중지되기 때문에 브러시를 자전시키기 위한 구동원의 수명이 보다 연장될 수 있다.As described above, according to the brush cleaning mechanism of the substrate cleaning apparatus according to the present invention, since the cleaning portion (bottom) of the brush is cleaned, the brush cleaning is compared with the conventional cleaning mechanism of the brush, in which the cleaning solution washes only the sides of the brush. The effect can be excellent and the amount of cleaning solution used can be reduced, and the life of the drive source for rotating the brush can be further extended because the rotation of the brush is stopped after the cleaning of the brush.
또한, 제거될 오염물의 종류에 따라서 적절한 세척 용액을 사용할 수 있기때문에, 브러시 세척에 필요한 작업 시간 및 인력을 단축할 수 있다는 효과를 가진다.In addition, since an appropriate cleaning solution can be used depending on the type of contaminant to be removed, the work time and manpower required for brush cleaning can be shortened.
이상에서는, 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대해 기술하고 도시하였으나, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니고, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해, 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상으로부터 벗어남이 없이, 다양하게 변형 및 변경될 수 있다.In the above, the present invention has been described and illustrated with respect to specific preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and is intended by those skilled in the art to which the present invention pertains. Various modifications and changes may be made without departing from the spirit of the invention described in.
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