KR0172078B1 - 노광 장치의 광축 조정 방법 - Google Patents
노광 장치의 광축 조정 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR0172078B1 KR0172078B1 KR1019960032851A KR19960032851A KR0172078B1 KR 0172078 B1 KR0172078 B1 KR 0172078B1 KR 1019960032851 A KR1019960032851 A KR 1019960032851A KR 19960032851 A KR19960032851 A KR 19960032851A KR 0172078 B1 KR0172078 B1 KR 0172078B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- laser beam
- reticle
- optical axis
- illumination system
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
이 발명은 노광 장치의 광축 조정 방법에 관한 것으로서, 레티클 스테이지를 이동시켜 레티클상의 제1마크를 프리즘의 끝단과 일치시킨 후 상기 레티클 스테이지를 고정시키는 단계와, 레이져빔이 레티클상의 제2마크를 지나도록 레이져빔을 정렬하는 단계와, 레이져빔을 플레이트 스테이지 위에 설치하는 단계와, 레이져빔이 브라인드를 지나 조명계의 중심홀에 입사되도록 조명계를 조정하는 단계를 포함하여 이루어지며, 레티클상의 제1마크를 프리즘의 끝단과 일치시킨 다음, 레티클 상에 형성된 제2마크에 레이져 빔이 지나도록 레이져빔 발생기를 레티클 스테이지 위쪽에 위치시키고, 조사되는 레이져빔과 플레이트 스테이지에 의해 반사된 레이져빔이 일치하도록 플레이트 스테이지의 위치를 조정한 후, 레이져빔 발생기를 플레이트 스테이지 위에 위치시키고, 조명계쪽으로 조사시켜 조명계의 중심홀에 레이져빔이 지나도록 조명계의 위치를 조정함으로써, 광축 조정이 간단하고, 정확하게 광축 조정을 할 수 있는 효과를 제공한다.
Description
제1도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 광축 조정을 위해 조사되는 레이져빔의 광로도이고,
제2도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 레티클과 프리즘의 상태도이고,
제3도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 광축 조정 순서도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 조명계 2 : 브라인드(blind)
3 : 레티클 스테이지 4 : 프리즘
5 : 플레이트 스테이지 6 : 레이져빔 발생기
11 : 조명계 중심홀 31 : 레티클
m1 : 제1마크 m2 : 제2마크
이 발명은 노광 장치의 광축 조정 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 말하자면, 레이져 빔(laser beam)을 레티클(reticle) 스테이지(stage) 및 플레이트(plate) 스테이지 위에 위치시켜 조사시킴으로써, 노광 장치의 광축을 조정하는 노광 장치의 광축 조정 방법에 관한 것이다.
노광 장치는 광원에서 조사되는 광을 이용하는 장치이므로, 광원에서 조사되는 광축의 조정이 중요하다. 그래서 종래의 노광 장치는 광축을 조정하기 위해 각기 노광 장치에 부합한 광축 조정방법이 있다.
그러나 이 발명의 노광 장치는 처음 사용되는 것으로서, 이 발명에 사용되는 노광 장치의 광축 조정 방법은 아직 나와 있지 않다. 따라서 이 발명의 목적은 이 발명에 사용되는 노광 장치에 적용시킬 수 있는 노광 방법을 제시하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 수단으로서 이 발명의 구성은, 레티클 스테이지를 이동시켜 레티클상의 제1마크를 프리즘의 끝단과 일치시킨 후 상기 레티클 스테이지를 고정시키는 단계와; 레이져빔이 레티클의 중심에 위치한 제2마크를 지나도록 정렬하는 단계와; 레이져빔을 플레이트 스테이지 위에 설치하는 단계와; 레이져빔이 브라인드를 지나 조명계의 중심홀에 입사되도록 조명계를 조정하는 단계를 포함하여 이루어진다.
레티클상의 제1마크를 프리즘의 끝단과 일치시킨 다음, 레티클의 중심에 위치한 제2마크에 레이져 빔이 지나도록 레이져빔 발생기를 레티클 스테이지 위쪽에 위치시키고, 조사되는 레이져빔과 플레이트 스테이지에 의해 반사된 레이져빔이 일치하도록 플레이트 스테이지의 위치를 조정한 후, 레이져빔 발생기를 플레이트 스테이지 위에 위치시키고, 조명계쪽으로 조사시켜 조명계의 중심홀에 레이져빔이 지나도록 조명계의 위치를 조정함으로써, 노광장치의 광축을 조정하는 효과를 제공한다.
상기한 구성에 의하여, 이 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 이 발명을 용이하게 실시할 수 있는 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조로 하여 상세히 설명한다.
첨부된 제3도를 참조로 한 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 광축 조정 방법은, 레티클(31)상의 제1마크(m1)를 프리즘(4)의 끝단과 일치시키는 단계(S100)와; 레티클 스테이지(3)를 고정시키는 단계(S200)와; 레이져빔 발생기(6)를 레티클 스테이지 위쪽에 설치하는 단계(S300)와; 레이져빔 발생기(6)에서 조사되어 브라이드(2)를 통과한 후, 레티클(31)의 중심에 위치한 제2마크(m2)를 지나 플레이트 스테이지(5)를 조사한 광과 상기 플레이트 스테이지(5)에 의해 반사되어 브라이드(2)쪽으로 조사되는 광을 일치시키는 단계(S400)와; 브라인드(2)내 개방된 윈도우에 레이져빔이 통과하도록 브라인드(2)를 조정하는 단계(S500)와; 레이져빔 발생기(6)를 플레이트 스테이지(5)위쪽에 설치하는 단계(S600)와; 프리즘(4)을 통과한 레이져빔이 레티클의 제2마크(m2)를 지나도록 레이져빔 발생기(6)의 위치를 설정하는 단계(S700)와; 레이져빔 발생기에서 조서된 레이져빔이 프리즘을 지난 후, 조명계(1)의 중심홀(11)을 지나도록 조명계(1)를 조정하는 단계(S800)를 포함하여 이루어진다.
제1도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 광축 조정을 위해 조사되는 레이져빔의 광로도이고, 제2도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장치의 레티클과 프리즘의 상태도이다.
상기 제1도와 제2도를 참조로 하여 노광 장치의 광축 조정 방법을 설명하면 다음과 같다.
광축 조정자는 광원이 부착된 현미경을 사용하여 레티클 스테이지(3)를 이동시켜 레티클상에 형성되어 있는 제1마크(m1)를 프리즘(4)의 끝단과 일치시키며, 상기 광원이 부착된 현미경의 사용은 정확하게 제1마크(m1)와 프리즘(4)의 끝단을 일치시키기 위해서이다.(S100)
그리고, 상기의 동작이 이루어진 다음, 레티클 스테이지(3)는 광축조정의 기준으로 삼기 위해 고정시킨다.(S200)
그런 다음, 레이져빔이 브라인드(2)를 지나서 레티클의 중심에 위치한 제2마크(m2)를 자나도록 레이져빔 발생기(6)를 레티클 상단에 위치시킨다.(S300)
상기 레이져빔 발생기에서 발생된 레이져빔은 레티클상에 형성된 제2마크(m2)를 지나고 프리즘(4)을 지나 플레이트 스테이지(5)로 조사되며, 상기 플레이트 스테이지(5)에 의해 반사되어 브라인드(2)쪽으로 조사된다.
상기에서 플레이트 스테이지(5)를 조사하는 광과 상기 플레이트 스테이지(5)에 의해 반사된 광이 일치하도록 레이져 빔을 얼라인한다.(S400)
그리고 브라인드(2)는 브라인드(2)의 윈도우를 약 2mm *2mm크기로 열어 놓고, 열린 윈도우에 레이져빔 발생기(6)에서 발생된 레이져빔이 통과하도록 상기 브라인드(2)를 이동시킨다.(S500)
상기와 같은 과정에서 브라인드(2)의 작은 윈도우와 레티클 상의 마스크는 우리가 조정하고자 하는 광축에 위치하게 된다.
상기와 같이 레티클 스테이지(3) 및 브라인드(2) 및 플레이트 스테이지(5)의 위치를 설정하면, 레이져빔 발생기(6)에서 발생된 레이져빔은 브라인드(2)를 지나 레티클(31)상에 형성된 제2마크를 지나게 된다.
그리고, 광축 조정자는 이미 얼라인을 마친 레이져빔 발생기(6)를 플레이트 스테이지(5) 위에 위치시켜 브라인드(2)쪽으로 레이져빔을 조사시킨다.(S600)
레이져빔 발생기에서 조사된 레이져빔은 프리즘(4)을 지나 레티클상에 형성된 제2마크(m2)를 조사하나, 레이져빔이 제2마크(m2)를 조사하지 않으면, 광축 조정자는 레이져빔이 상기 레티클(3)상에 형성된 제2마크에 조사되도록 레이져빔 발생기(6)를 이동시킨다.(S700)
그런 다음, 광축 조정자는 레이져빔이 이미 광축에 맞추어진 레티클(31)상의 제2마크(m2)를 지나 브라인드(2)의 윈도우를 통과하도록 레이져빔을 다시 얼라인한다.
마지막으로 광축 조정자는 브라인드(2)를 지난 레이져빔이 조명계의 중심홀(11)을 지나도록 조명계를 이동시킨다.(S800)
이상에서와 같이 이 발명의 실시예에서, 레티클상의 제1마크를 프리즘의 끝단과 일치시킨 다음, 레티클 상에 형성된 제2마크에 레이져빔이 지나도록 레이져빔 발생기를 레티클 스테이지 위쪽에 위치시키고, 조사되는 레이져빔과 플레이트 스테이지에 의해 반사된 레이져빔이 일치하도록 플레이트 스테이지의 위치를 조정한 후, 레이져빔 발생기를 플레이트 스테이지 위에 위치시키고, 조명계쪽으로 조사시켜 조명계의 중심홀에 레이져빔이 지나도록 조명계의 위치를 조정함으로써, 광축조정이 간편하고, 정확하게 광축 조정이 이루어지는 효과를 제공한다.
이 발명의 이러한 효과는 노광 장치의 광축 조정 분야에 이용될 수 있다.
Claims (4)
- 레티클 스테이지를 이동시켜 래티클상의 제1마크를 프리즘의 끝단과 일치시킨 후 상기 레티클 스테이지를 고정시키는 단계와; 레이져빔이 레티클의 중심에 위치한 제2마크를 지나도록 레이져빔을 정렬하는 단계와; 레이져빔을 플레이트 스테이지 위에 설치하는 단계와; 레이져빔이 브라인드를 지나 조명계의 중심홀에 입사되도록 조명계를 조정하는 단계를 포함하여 이루어지는 노광 장치의 광축 조정 방법.
- 제1항에 있어서, 레이져빔을 정렬하는 단계는, 플레이트 스테이지를 조사하는 레이져빔과 상기 플레이트 스테이지에 의해 반사된 레이져빔이 일치하도록 상기 플레이트 스테이지를 이동시키는 노광 장치의 광축 조정 방법.
- 제2항에 있어서, 플레이트 스테이지의 이동으로 레이져빔이 일치되면, 브라인드의 윈도우를 2mm*2mm 크기로 열어 놓고, 열린 윈도우에 레이져빔이 통과하도록 브라인드를 이동시는 단계를 더 포함하여 이루어지는 노광 장치의 광축 조정 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기한 레이져빔이 브라인드를 지나 조명계의 중심홀에 입사시키는 단계는, 조명계를 이동시켜 브라인드를 통과한 광이 조명계의 중심홀을 지나도록 하는 노광 장치의 광축 조정 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960032851A KR0172078B1 (ko) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 노광 장치의 광축 조정 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960032851A KR0172078B1 (ko) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 노광 장치의 광축 조정 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980014051A KR19980014051A (ko) | 1998-05-15 |
| KR0172078B1 true KR0172078B1 (ko) | 1999-03-20 |
Family
ID=19468976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960032851A Expired - Fee Related KR0172078B1 (ko) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 노광 장치의 광축 조정 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0172078B1 (ko) |
-
1996
- 1996-08-07 KR KR1019960032851A patent/KR0172078B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19980014051A (ko) | 1998-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3201233B2 (ja) | 裏面にアライメント・マークが設けられたワークの投影露光方法 | |
| JPH03211813A (ja) | 露光装置 | |
| JPH0614508B2 (ja) | ステップアンドリピート露光方法 | |
| TW200500822A (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| US6927854B2 (en) | Projection exposure device and position alignment device and position alignment method | |
| KR960015092A (ko) | 노광 장치 | |
| JPH04270082A (ja) | マーキングシステム | |
| KR950034479A (ko) | 조명광학계 | |
| US5231471A (en) | Alignment and exposure apparatus | |
| KR0172078B1 (ko) | 노광 장치의 광축 조정 방법 | |
| KR940020476A (ko) | 노광 장치 및 노광 방법(Exposure apparatus) | |
| KR960015073A (ko) | 마스크와 작업편의 위치맞춤방법 및 장치 | |
| JP2616576B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| EP1265271A4 (en) | DEVICE AND METHOD FOR X-RAY PROJECTION EXPOSURE AND SEMICONDUCTOR DEVICE | |
| JPH0298119A (ja) | 露光装置 | |
| EP1455235A3 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| CN106569392B (zh) | 一种光刻装置和方法 | |
| KR100285580B1 (ko) | 웨이퍼 에지 노광 장치 | |
| JP3200777B2 (ja) | 投影露光機 | |
| JPH1048845A (ja) | マスクとワークステージの位置合わせ方法および装置 | |
| JPS56132326A (en) | Exposure method and exposure device | |
| JP2973737B2 (ja) | 露光方法およびその実施に用いる露光装置 | |
| JPH09230610A (ja) | 投影露光方法および装置 | |
| JPH11121330A (ja) | 露光装置 | |
| JP3211424B2 (ja) | 走査型露光装置と該装置を用いる回路製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19960807 |
|
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 19960807 Comment text: Request for Examination of Application |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 19980929 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 19981022 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 19981022 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20010928 Year of fee payment: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20010928 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20030710 |