KR0164213B1

KR0164213B1 - 화장 조성물에 사용하기 위한 비히클 계

Info

Publication number: KR0164213B1
Application number: KR1019900012071A
Authority: KR
Inventors: 쥬니어 레이몬드 에드워드 볼리치; 제임스 노튼 마이클; 데이비드 럿셀 글렌
Original assignee: 리챠드 챨스 위트; 더 프록터 앤드 갬블 캄파니
Priority date: 1989-08-07
Filing date: 1990-08-07
Publication date: 1999-01-15
Also published as: KR910004167A; IE902827A1; DE69020978D1; CA2022463A1; AU6015990A; AU646637B2; ATE125151T1; NZ234797A; HK207996A; JPH03218306A; CA2022463C; DE69020978T2; FI903884A0; IE67804B1; BR9003858A; EP0412710B1; EP0412710A3; PE24691A1; DK0412710T3; EP0412710A2

Abstract

내용 없음

Description

[발명의 명칭]

화장 조성물에 사용하기 위한 바히클 계

[발명의 상세한 설명]

본 발명은 혼화성 용매중에 특정 임계량으로 분산된 특정의 비이온성 장쇄 알킬화 수용성 중합체 유도체 및 수불용성 계면활성제를 기본으로 하는 신규한 비히클 계(vehicle system) 및 이와 함께 제형화시킨 화장 조성물(cosmetic composition)에 관한 것이다. 본 발명의 특히 유용한 용도는 모발 보호 조성물, 특히 세정식 모발 컨디셔닝 조성물에서 발견된다.

통상적인 모발 컨디셔닝 제품은 이러한 제품에 바람직한 특정의 증점 리올로지(think rheology)를 갖는다. 이러한 제품은 일반적으로 4급 암모늄 화합물인 계면활성제와 지방 알콜의 혼합물을 기본으로 한다. 이러한 혼합물은 증점 리올로지를 갖는 조성물을 제공하는 겔 망상 구조(gel-network structure)를 제공한다. 그러나, 이러한 조성물은 모발에 대해 컨디셔닝 이점을 제공하나, 또한 모발의 외관을 형성하는 모발에 부착되고 불결하게 느껴지기도 한다.

또 다른 증점 계(thickening system)가 모발 보호 조성물에 사용되어져 왔으나, 위에서 기술한 바와같이 바람직한 리올로지를 제공하는 증점계는 발견된 바 없다. 중합성 증점제를 사용하여 증점시킨 모발 보호 제품은 증점 리올로지를 갖는 것으로 제조할 수 있으나, 이러한 제품은 일반적으로 바람직하지 못한 슬림성(slimy)으로 특징지워지고, 그 제공 형태를 그대로 유지시키지 못한다.

비이온성의 수용성 셀룰로오즈 에테르를 모발 보호 조성물을 포함하는 각종 용도에 사용한다. 광범위하게 사용되는 시판용 비이온성 셀룰로오즈 에테르에는 메틸 셀룰로오즈, 하이드록시 프로필 메틸 셀룰로오즈, 하이드록시에틸 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 셀룰로오즈 및 에틸 하이드록시에틸 셀룰로오즈가 포함된다.

보다 우수한 증점 효과는 고분자량의 셀룰로오즈 에테르를 사용하는 경우 실현된다. 그러나, 이러한 물질을 제조하기는 어려우며 비경제적이다. 이러한 중합체를 가교결합 시키는 것은 고점도의 용액을 수득하기 위한 또 하나의 방법이지만, 우수한 가교 결합 기술은 공지된 바 없다. 물론, 고농도의 중합체는 또한 고점도를 제공할 것이나, 이러한 접근방법은 특히 고생산비로 인해 불충분하고 실용적이지 못한 것이다. 또한, 고도로 가교 결합된 중합체 또는 다량의 중합성 증점제를 사용하면 본 발명에 사용하기에 너무 신축성이 큰 비히클 계를 제공할 수 있다.

증점 모발 보호 조성물에 종종 사용된 또 다른 수용성의 중합성 증점제는 구아르 검, 크산탄 검 및 로커스트 비인 검(locust bean gum)과 같은 천연 폴리삭카라이드이다.

모발 보호 조성물을 증점시키기 위해 비이온성 셀룰로오즈 에테르 및 수용성 고무를 사용하는 방법에 대해서는 다수의 문헌에 교시된 바 있다. 예를 들어, 미합중국 특허 제4,557,928호(Glover; 1985년 12월 10일 허여)에는 글루칸 검, 구아르 검 및 하이드록시에틸 셀룰로오즈 중의 하나로 이루어진 현탁계로 이루어진 모발 컨디셔너가 교시되어 있고, 제4,581,230호(Grollier 등; 1986년 4월 8일자 허여)에는 증점제로서 하이드록시 에틸셀룰로오즈 또는 수용성의 식물성 증점제(예: 구아르 검)를 포함하는 모발 처리용 화장 조성물이 교시되어 있다. 일본국 특허공보 제61-053211호(1986년 3월 7일자 공개)에는 방향족 알콜, 크산탄 및 하이드록시에틸 셀룰로오즈를 포함하는 모발 염색체가 교시되어 있다.

비교적 저분자량이지만 실용 농도의 고점성 수용액을 생성할 수 있는 특정 셀룰로오즈 에테르에 대해서는 미합중국 특허 제4,228,277호(Landoll; 1980년 10월 14일자 허여)에 기술되어 있다. 이러한 물질은 이를 수용성으로 만드는 메틸, 하이드록시에틸 및 하이드록시 프로필 중에서 선택된 치환체에 의해 충분한 비이온성 치환도를 제공하며, 탄소수 약 10 내지 24의 탄화수소 라디칼에 의해 약 0.2중량% 내지 비이온성 셀룰로오즈 에테르를 물에 1중량% 미만의 양으로 용해시키는 양으로 추가로 치환된 비이온성 셀룰로오즈 에테르이다. 개질되는 셀룰로오즈 에테르는 바람직하게 저분자량 내지 중간 분자량, 즉 약 800,000미만, 바람직하게는 약 20,000 내지 700,000(약 75 내지 2500 D.P.)의 분자량을 갖는다.

각종 조성물 형태로 사용하기 위한 이러한 개질된 셀룰로오즈 에테르에 대해서는 이미 기술되어진 바 있다. 랜돌(Landoll)('277)은 샴푸 제형중에서 이들 물질의 용도에 대해 기술한 바 있다. 헤르큘레스(Hercules)의 트레이드 문헌에는 샴푸, 액체 비누 및 로션중에서 이들 물질의 용도에 대해 기술되어 있다. 미합중국 특허 제4,683,004호(Goddard; 1987년 7월 28일자 허여)에는 모발용 무스 조성물중에서 이들 물질의 용도가 기술되어 있다. 미합중국 특허 제4,485,089호(Leipold; 1984년 11월 27일자 허여)에는 이들 물질을 포함하는 치약 조성물이 교시되어 있다.

이들 물질은 계면활성제와 특정의 임계량으로 혼합될 경우, 통상적인 모발 컨디셔너의 매우 바람직한 겔 망상 구조를 갖는 리올로지(대부분의 중합성 증점제로 인한 슬림성이 느껴지지 않는)을 제공하는 것으로 본 발명에 의해 밝혀졌다.

따라서, 본 발명의 목적은 조성물에 겔 망상 구조를 제공하지만 통상적인 4급 암모늄 화합물/지방 알콜 겔 망상 구조의 증점계를 기본으로 하지 않는 모발 보호용 및 기타 화장 조성물용 비히클 계를 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 광범위한 활성 모발 또는 피부 보호 성분을 분산시키는 모발 보호 및 기타 화장 조성물용 비히클 계를 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 모발 또는 피부에 비히클 계 성분이 부착되는 것을 최소화시키면서 활성의 모발 또는 피부 보호 성분이 부착되는 것을 최대화시키는 모발 보호용 및 기타 화장 조성물용 비히클 계를 제공하는 것이다.

이러한 목적 및 기타의 목적은 하기의 상세한 설명에 의해 쉽게 명백해질 것이다.

본 발명은 중합체를 기본으로 하지만 화장 조성물에 대해 겔 망상계와 유사한 리올로지를 제공하는, 화장 조성물에 사용하기 위한 단일 비히클 계에 관한 것이다. 이러한 비히클 계는 2성분 증점계를 기본으로 한다. 특히, 본 발명의 화장 조성물은

(a)(A) 수용성 중합체 주쇄 및 C_8-22알킬, 아릴 알킬, 알킬 아릴 및 이들의 혼합물중에서 선택된 소수성 그룹을 포함하며, 중합체의 소수성 부분에 대한 친수성 부분의 비가 약 10:1 내지 약 1000:1인, 소수성으로 개질된 비이온성의 수용성 중합체(바람직하게는, 비이온성 셀룰로오즈 에테르를 수용성으로 만드는, 메틸, 하이드록시 에틸 및 하이드록시프로필 중에서 선택된 치환체에 의해 충분한 비이온성 치환도를 제공하는 비이온성 셀루로오즈 에테르를 포함하며, 탄소수 10 내지 24의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 약 0.2중량% 내지 셀룰로오즈 에테르를 물에 1중량% 미만의 양으로 용해시키는 양으로 추가로 치환된 소수성으로 개질된 비이온성의 수용성 중합체)의 화장 조성물 약 0.1 내지 약 10중량%;

(B) 분자량의 약 20,000 미만인 수불용성 계면활성제의 화장 조성물 약 0.02 내지 약 5.0 중량%; 및

(C) 혼화성 용매의 화장 조성물 약 65 내지 약 99중량%를 함유하는 비히클 계 약 80 내지 약 100%, 바람직하게는 약 80 내지 약 99.9%, 및

(b) 활성 화장 성분 0 내지 약 20%, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 20%를 포함한다(여기서, 비히클 계를 포함하는 조성물은 수용성 계면활성제 물질 약 1.0% 이하, 바람직하게는 약 0.5% 이하를 함유한다).

이러한 비히클 계는 0 내지 50파스칼(Pascal)의 전단응력 및 약 0.04 내지 약 25sec^-1의 전단 속도에 의해 바람직하게 특징화되는 리올로지를 이를 사용하여 제형화시킨 화장 조성물에 제공한다.

이러한 비히클 계는 모발 보호 조성물, 특히 세정식 모발 컨디셔너에서 특히 유용하다. 가장 바람직하게, 이러한 단일 비히클 계를 사용하여 제형화한 모발 보호 조성물은 지방 알콜 물질 약 1% 이하를 함유한다.

본 발명의 조성물의 필수 성분 뿐만 아니라 임의 성분에 대해서는 이후에 상세히 기술한다.

[제1증점제]

본 발명의 비히클 계는 필수 성분으로 제1증점제를 포함한다. 제1증점제는 소수성으로 개질된 비이온성의 수용성 중합체이다. 소수성으로 개질된 비이온성의 수용성 중합체는 중합체를 물에 대해 보다 난용성으로 만들기에 충분한 양의 소수성 그룹으로 치환시킴으로써 개질된 비이온성의 수용성 중합체를 의미한다. 소수성 그룹은 C₈-C₂₂알킬, 아릴 알킬, 알킬 아릴 그룹 및 이들의 혼합물일 수 있다. 중합체 주쇄에서의 소수성 치환도는 특정 중합체 주쇄에 따라 약 0.10 내지 약 1.0% 이어야 한다. 보다 일반적으로, 중합체의 소수성 부분에 대한 친수성 부분의 비율은 약 10:1 내지 약 1000:1이다.

위에서 기술한 요건에 상응하며, 본 발명에서 유용한 비이온성 중합체 물질에 대해서는 다수의 특허문헌에 기술된 바있다. 미합중국 특허 제4,496,708호(Dehm 등; 1985년 1월 29일자 허여)에서는 친수성/친유성 균형을 약 14 내지 약 19.5로 제공하도록 친수성 폴리에테를 주쇄 및 측쇄의 1가 소수성 그룹을 포함하는 수용성 폴리우레탄이 기술되어 있다. 미합중국 특허 제4,426,485호(Hoy 등; 1084년 1월 17일자 허여)에는 일단의 1가 소수성 그룹 부위를 포함하는 수용성의 열가소성 유기 중합체가 기술되어 있다. 미합중국 특허 제4,415,701호(Bauer; 1983년 11월 15일자 허여)에는 모노에폭사이드 및 디옥솔란을 포함하는 공중합체가 기술되어 있다.

본 발명에 사용하기에 가장 바람직한 제1증점제에 대해서는 미합중국 특허 제4,228,277호(Landoll; 1980년 10월 14일자 허여)에 기술되어 있다. 이러한 특허 문헌에 기술되어 있는 물질은 비이온성 장쇄 알킬화 셀룰로오즈 에테르를 포함하는 증점제이다.

셀룰로오즈 에테르는 이를 수용성으로 만드는, 메틸, 하이드록시에틸 및 하이드록시프로필로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환체에 의한 충분한 비이온성 치환도를 제공한다. 셀룰로오즈 에테르는 또한 탄소수 약 10 내지 24의 탄화수소 라디칼을 약 0.2 중량% 내지 이러한 셀룰로오즈 에테르를 물에 1중량% 이하의 양으로 용해시키는 양으로 함유하는 탄화수소 라디칼에 의해 추가로 치환된다. 개질되는 셀룰로오즈 에테르는 바람직하게 저분자량 내지 중간 분자량, 즉 약 800,000 이하, 바람직하게는 약 20,000 내지 700,000(약 75 내지 2500D.P)의 분자량을 갖는다.

이러한 랜돌(Landoll)의 특허 문헌에는 모든 비이온성의 수용성 셀룰로오즈 에테르를 셀룰로오즈 에테르 기재로서 사용할 수 있다. 즉, 예를 들어, 하이드록시에틸 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 셀룰로오즈, 메틸 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 메틸 셀룰로오즈, 에틸 하이드록시에틸 셀룰로오즈 및 메틸 하이드록시에틸 셀룰로오즈는 모두 개질시킬 수 있다. 비이온성 치환체(예: 메틸, 하이드록시에틸 또는 하이드록시프로필)의 양은 에테르를 수용성으로 만들기에 충분한 양인 한 중요하지 않은 것으로 교시되어 있다.

바람직한 셀룰로오즈 에테르 기재(substrate)는 분자량이 약 50,000 내지 700,000 인 하이드록시에틸 셀룰로오즈(HEC)이다. 본 발명의 이러한 분자량 수준의 하이드록시에틸 셀룰로오즈는 시도된 물질중에서 가장 친수성이 크다. 따라서, 이는 불용성이 수득되기 전에 기타의 수용성 셀룰로오즈 에테르 기재로부터 수득할 수 있는 것보다 대량으로 개질시킬 수 있다. 따라서, 개질 방법 및 개질된 제품의 특성의 조절은 이러한 기재를 사용하는 경우 더욱 명백해질 수 있다. 가장 통상적으로 사용되는 비이온성 셀룰로오즈 에테르의 친수성은 일반적으로 하이드록시에틸→히이드록시프로필→하이드록시프로필 메틸→메틸의 순서이다.

장쇄 알킬 개질제는 에테르, 에스테르 또는 우레탄 결합을 통해 셀룰로오즈 에테르 기재에 결합시킬 수 있다.

랜돌이 교시한 기재는 개질된 장쇄 알킬 그룹으로서 언급되는데, 이는 알킬 할라이드를 사용하여 개질시킬 경우는 제외하고는 개질제가 단순한 장쇄 알킬 그룹이 아닌 것으로 간주된다. 이러한 그룹은 실제로 에폭사이드의 경우에는 알파 하이드록시알킬 라디칼이고, 이소시아네이트의 경우에는 우레탄 라디칼이며, 산 또는 아실 클로라이드의 경우에는 아실 라디칼이다. 개질 분자의 탄화수소 부분의 크기 및 효과가 연결 그룹으로부터의 모든 주목할만한 효과를 완전히 차단시키기 때문에, 장쇄 알킬 그룹이라는 용어를 사용하는 것이다. 그 특성은 단순한 장쇄 알킬 그룹을 사용하여 개질시킨 제품의 특성과 크게 다르지는 않다.

이러한 개질된 셀룰로오즈 에테르를 제조하는 방법에 대해서는 랜돌의 문헌('277)의 칼럼2, 라인 36 내지 65에 교시되어 있다.

이러한 물질이 본 발명의 화장 조성물의 비히클 계에 사용하기에 특히 바람직한 것으로 밝혀졌다. 이러한 물질은 분산상의 현탁액을 안정화시킬 수 있고, 본 발명의 비히클 계중에서 추가의 성분과 함께 사용할 경우에, 이들은 대부분의 중합성 증점제에 의한 슬림성이 결핍된, 유동학적 증점 제품을 제공한다.

이러한 요건에 상응하는 시판 물질은 아쿠알론 캄파니(Aqualon Company; Wilmington, Delaware 소재]에서 시판하는 소수성으로 개질된 하이드록시에틸셀룰로오즈인 니트로졸 플러스 등급(NATROSOL PLUS Grade) 330이다. 이러한 물질은 약 0.4 내지 약 0.8중량%의 C₁₆알킬 치환도를 갖는다. 이 물질의 하이드록시에틸 몰 치환도는 약 3.0 내지 약 3.7이다. 개질시키기 전의 수용성 셀룰로오즈의 평균 분자량은 약 300,000이다.

이러한 형태의 기타 물질에는 아쿠알론 캄파니에서 나트로졸 플러스 CS 등급 D-67이라는 상표명으로 시판하는 물질이 있다. 이 물질은 약 0.50 내지 약 0.95중량%의 C₁₆알킬 치환도를 갖는다. 이 물질의 하이드록시에틸 몰 치환도는 약 2.3 내지 약 3.3이고, 약 3.7으로 높을 수도 있다. 개질시키기 전의 수용성 셀룰로오즈의 평균 분자량은 약 700,00이다.

제1증점제 성분은 본 발명의 화장 조성물 내에 약 0.1 내지 약 10.0%, 바람직하게는 약 0.2 내지 약 5.0%의 양으로 존재한다.

제1증점제는 본 발명의 조성물에서 잘 수화되고 분산된다.

[수불용성 계면활성제]

본 발명의 비히클 계는 제2필수 성분으로서 분자량이 약 20,000미만인 수불용성 계면활성제이다. 용어, 수불용성 계면 활성제는 대기 조건하에서 물에 0.2주량% 이상의 양으로 용해시킬 경우에 투명한 등방성 용액을 형성하지 않는 계면활성제 물질을 의미한다.

본 발명의 조성물의 비히클 계에 사용할 수 있는 수불용성 계면활성제는 수불용성 음이온성, 비이온성, 양이온성, 쯔비터 이온성 및 양쪽성 계면 활성제중에서 제한없이 선택할 수 있다.

음이온성의 합성 계면활성제에는 알킬 및 알킬 에테르설페이트가 포함된다. 이 물질의 일반식은 각각 ROSO₃M 및 RO(C₂H₄O)_XSO₃M(여기서, R은 탄소수 약 10 내지 약 20의 알킬 또는 알케닐이고, x는 1 내지 10이며, M은 암모늄, 나트륨, 칼륨 및 트리에탄올아민과 같은 수용성 양이온이다)이다. 본 발명에서 유용한 알킬 에테르 설페이트는 탄소수 약 10 내지 20의 1가 알콜과 에틸 옥사이드의 축합 생성물이다. 바람직하게는, R그룹의 탄소수는 알킬 및 에테르 설페이트 모두에 있어서 약 14 내지 약 20이다. 알콜은 예를 들어 코코넛 오일 또는 탤로우와 같은 지방으로부터 유도할 수 있거나, 합성시킬 수 있다. 본원에서는 탤로우 오일로부터 유도된 스테아릴 알콜 및 직쇄 알콜이 바람직하다. 이러한 알콜은 약 1 내지 약 10몰 비, 특히 약 3몰 비의 에틸렌 옥사이드와 반응시키고, 예를 들어 알콜 1몰당 에틸렌 옥사이드 평균 3몰을 포함하는 분자 중의 생성물을 설페이트화시킨후 중화시킨다.

본 발명에서 사용할 수 있는 알킬 에테르 설페이트의 구체적인 예에는 나트륨 탤로우 알킬 디에틸렌 글리콜 에테르 설페이트 및 나트륨 탤로우 알킬 설페이트가 있다.

또 다른 적합한 음이온성 계면활성제의 예에는 일반식 R₁-SO₃-M[여기서, R₁은 탄소수 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 18 내지 약 22의 직쇄 또는 측쇄의 포화된 지방족 탄화수소 라디칼이고, M은 양이온이다]의 유기 황산 반응 생성물의 염이 있다. 중요한 예에는 이소-, 네오-, 인에소- 및 n-파라핀을 함유하는 탄소수 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 12 내지 약 18의 메탄 계열의 탄화수소의 유기 황산 반응생성물의 염, 및 공지된 설폰화방법(예: 표백 및 가수분해)에 따라 수득되는 설폰화제[예: SO₃, H₂SO₄, 올레움 등]가 있다. 바람직한 것은 알칼리 금속 및 암모늄 설폰화 C₁₂-C₁₈n-파라핀이다.

본 발명에서 사용할 수 있는 음이온성의 합성 계면활성제의 추가 예에는, 예를 들어 지방산을 탤로우 오일로부터 유도한 경우에는 이세티온산으로 에스테르화시킨후 수산화나트륨으로 중화시킨 지방산의 반응 생성물, 및 지방산을 예를 들어 탤로우 오일로부터 유도한, 메틸 타우라이드의 지방산 아미드의 나트륨 또는 칼륨염이 있다. 다양한 기타의 음이온성 합성 계면활성제에 대해서는 미합중국 특허 제2,486,921호; 제2,486,922호 및 제2,396,278호에 기술되어 있다.

기타의 음이온성의 합성 계면활성제에는 숙신나메이트로 표시되는 종류가 포함된다. 이러한 종류에는 이나트륨 N-옥타데실설포숙신나메이트; 테트라나트륨 N-(1,2-디카복시에틸)-N-옥타데실설포숙신나메이트; 나트륨 설포숙신산의 디옥틸 에스테르와 같은 계면활성제가 포함된다.

본원에서 사용할 수 있는 기타의 적합한 음이온성 계면활성제에는 탄소수 약 12 내지 24의 올레핀 설포네이트가 있다. 용어 올레핀 설포네이트는 착체화되지 않는 삼산화황을 사용하여 α-올레핀을 설포화시킨후, 반응시 형성된 모든 설폰을 가수분해시켜 상응하는 하이드록시-알칸설포네이트를 수득하는 조건하에서 산 반응 혼합물을 증화시킴으로써 제조할 수 있는 화합물을 의미한다. 삼산화황은 액체상 또는 기체상일 수 있고, 필수적이지 않으나, 통상적으로 불활성 희석제, 예를 들어 액체 형태로 사용할 경우에는 액체 SO₂, 염소화 탄화수소 등, 또는 기체 형태로 사용할 경우에는 공기, 질소, 기체상 SO₂등을 사용하여 희석킬 수 있다.

올레핀 설포네이트로부터 유도시킨 α-올레핀은 탄소수 약 12 내지 약 24, 바람직하게는 14 내지 약 24의 모노-올레핀이다. 바람직하게는 이들은 직쇄 올레핀이다. 적합한 1-올레핀의 예에는 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센, 1-에이코센 및 1-테트라에코센이 포함된다.

원래의 알켄 설포네이트 및 하이드록시-알칸 설포네이트 비율 이외에, 올레핀 설포네이트는 반응조건, 반응물의 비율, 출발 올레핀의 특성 및 올레핀 원료의 불순물 및 설폰화 공정동안의 부반응에 따라 알켄 디설포네이트와 같은 소량의 기타 물질을 포함할 수 있다.

상기한 형태의 특정 α-올레핀 설포네이트 혼합물에 대해서는 미합중국 특허 제3,332,880호(Pflaumer 및 Kessler; 1967년 7월 25일자 허여)에 기술되어 있다.

음이온성의 유기 계면활성제의 기타 종류에는 β-알킬 옥시 알칸 설포네이트가 있다. 이는 다음 일반식의 화합물이다:

상기식에서,

R₁은 탄소수 약 6 내지 약 20의 직쇄 알킬 그룹이고,

R₂는 탄소수 약 1(바람직함)내지 약 3의 저급 알킬 그룹이며,

M은 위에서 기술한 바와 같은 수용성 양이온이다.

다수의 추가 반비누성 및 음이온성의 합성 계면활성제에 대해서는 문헌에 상세하게 기술되어 있다[참조:McCutcheon's Detergents and Emulsifiers. 1984 Annual, Allured Publishing Corporation]. 또한, 미합중국 특허 제3,929,678호(Laughlin 등; 1975년 12월 30일자 허여)에는 다수의 기타 음이온성 계면활성제의 유형 뿐만 아니라 기타의 계면활성제 유형에 대해서도 기술되어 있다.

비이온성 계면활성제는 광범위하게 소수성 잔기 및 비이온성의 친수성 잔기를 포함하는 화합물로서 정의할 수 있다. 소수성 잔기의 예에는 알킬, 알킬 방향족, 디알킬 실록산, 폴리옥시알킬렌 및 플루오로 치환된 알킬이 있다. 친수성 잔기의 예에는 폴리옥시알킬렌, 포스핀 옥사이드, 설폭사이드, 아민 옥사이드 및 아미드가 있다. 바람직한 종류의 비이온성 계면활성제의 예에는 다음과 같은 종류가 있다:

1. 예를 들어, 탄소수 약 6 내지 약 12의 알킬 그룹을 포함하는 직쇄 또는 측쇄 형태의 알킬 페놀과 알킬 페놀 1몰당 에틸렌 옥사이드 약 2 내지 약 6몰에 상응하는 양으로 존재하는 에틸렌 옥사이드의 축합 생성물과 같은 알킬페놀의 폴리에틸렌 옥사이드 축합 생성물, 이 화합물의 알킬 치환체는 예를 들어 중합된 프로필렌, 디이소부틸렌, 옥탄 또는 노난으로부터 유도할 수 있다.

2. 목적하는 소수성 성분과 친수성 성분 사이의 균형에 따라 조성물내에서 변화시킬 수 있는, 프로필렌 옥사이드와 에틸렌 디아민 생성물의 반응으로부터 수득한 생성물과 에틸렌 옥사이드의 축합 생성물의 유도체. 예를 들어, 에틸렌 디아민과 과량의 프로필렌 옥사이드의 반응 생성물로 이루어진, 분자량이 만족스럽게 약 2,500 내지 약 10,000인 소수성 염기와 에틸렌 옥사이드 그룹의 반응으로부터 생성된, 약 500 내지 약 4,000의 분자량을 가지며, 폴리옥시에틸렌 약 10 내지 약 40중량%를 포함하는 화합물.

3. 예를 들어, 탄소수 약 16 내지 약 18의 탤로우 알콜 분획 1몰당 에틸렌 옥사이드 약 2 내지 약 10몰을 포함하는 탤로우 알콜 에틸렌 옥사이드 축합물과 같은 에틸렌 옥사이드와 탄소수 약 8 내지 약 20의 직쇄 또는 측쇄 지방족 알콜의 축합생성물.

4. 다음 일반식의 장쇄 3급 아민 옥사이드.

R₁R₂R₃N → O

상기식에서,

R₁은 탄소수 약 12 내지 약 22의 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시 알킬 라디칼, 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥사이드 잔기 및 0 내지 약 1개의 글리세릴 잔기를 포함하고,

R₂및 R₃은 0 내지 약 1개의 하이드록시 그룹을 포함하는 탄소수 약 1 내지 약 3의 그룹(예: 메틸, 에틸, 프로필, 하이드록시에틸 또는 하이드록시프로필 라디칼)이다.

위에서 기술한 일반식에서 화살표는 반극성 결합을 통상적으로 표시한 것이다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 아민 옥사이드의 예에는 디메틸 옥타데실아민 옥사이드, 올레일디(메틸)아민 옥사이드, 디메틸헥사데실아민 옥사이드, 베헤닐디메틸아민 옥사이드가 있다.

5. 다음 일반식의 장쇄 3급 포스핀 옥사이드.

RR'RP → O

상기식에서,

R은 탄소수 약 12 내지 약 22의 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시알킬 라디칼, 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥사이드 잔기 및 0 내지 약 1개의 글리세릴 잔기를 포함하며,

R' 및 R는 각각 탄소수 약 1 내지 약 3의 알킬 또는 모노하이드록시알킬 그룹이다.

위에서 기술한 일반식에서의 화살표는 반극성 결합을 통상적으로 표시한 것이다.

6. 탄소수 약 1 내지 약 3의 하나의 단쇄 알킬 또는 하이드록시 알킬 라디칼(통상적으로 메틸), 및 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥사이드 잔기 및 0 내지 약 1개의 글리세릴 잔기를 포함하는 탄소수 약 12 내지 약 20의 알킬, 알케닐, 하이드록시 알킬 또는 케토 알킬 라디칼을 포함하는 하나의 소수성 장쇄를 포함하는 장쇄 디알킬 설폭사이드.

7. 다음 일반식의 폴리알킬렌 옥사이드 개질된 폴리디메틸실록산일 수 있는 실리콘 코폴리올.

상기식에서, R은 소수, 탄소수 1 내지 약 12의 알킬 그룹, 탄소수 1 내지 약 6의 알콕시 그룹 또는 하이드록실 그룹이고,

R', 및 R는 탄소수 1 내지 약 12의 알킬 그룹이며,

x는 1 내지 100, 바람직하게는 20 내지 30의 정수이고,

y는 1 내지 20, 바람직하게는 2 내지 10의 정수이며,

a 및 b는 0 내지 50, 바람직하게는 20 내지 30의 정수이다.

본 발명에서 사용하기에 유용한 것들 중에서 디메티콘에 대해서는 미합중국 특허 제4,122,029호(Gee 등; 1978년 10월 24일자 허여), 제4,265,878호(Keil; 1981년 5월 5일자 허여), 및 제4,421,769호(Dixon 등; 1983년 12월 20일자 허여)에 상세히 기술되어 있다. 모발 조성물에서의 이러한 디메티콘 코폴리올 물질에 대해서는 또한 영국 특허원 제2,066,659호(Abe;1981년 7월 15일자 공개) 및 캐나다 특허 제727,588호(Kuehns; 1966년 2월 8일자 허여)에도 기술되어 있다. 본 발명에서 사용할 수 있는 시판용 디메티콘 코폴리올에는 실웨 서피스 액티브 코폴리머즈(Silwet Surface Active Copolymers)[제조원: (Union Carbide Corporation)] 및 다우 코닝 실리콘 서팩턴츠(Dow Corning Silicone Surfactants)[제조원: Dow Corning Corporation]가 포함된다.

8. 지방산의 암모니아, 모노에탄올, 디에탄올 및 탄소수 약 8 내지 약 22의 아실 잔기를 포함하는 기타 알칸올 아미드를 포함하는, 다음 일반식의 아미드 계면활성제.

R₁-CO-N(H)_m-1(R₂OH)_3-m

상기식에서,

R₁은 탄소수 7 내지 21, 바람직하게는 11 내지 17의 포화 또는 불포화 지방족 탄화수소 라디칼이고,

R₂는 C_1-4알칼렌 그룹이며,

m은 1, 2 또는 3, 바람직하게는 1이다.

위에서 기술한 아미드의 구체적인예에는 모노-에탄올 코코넛 지방산 아미드 및 디에탄올 도데실 지방산 아미드가 있다. 이러한 아실 그룹은 천연 글리세라이드(예: 코코넛유, 팜유, 대두유 및 탤로우)로부터 유도하거나, 예를 들어, 석유를 산화시키거나 일산화탄소를 피셔-톱쉬 공정(Fischer-Tropsch process)에 의해 수소화시킴으로써 합성적으로 유도할 수 있다. C₁₈-C₂₂지방산의 모노에탄올 아미드 및 디에탄올아미드가 바람직하다.

본 발명의 조성물의 비히클 계에서 유용한 양이온성 계면활성제는 본 발명의 수성 조성물에 용해시킬 경우 양성으로 하전되는 아미노 또는 4급 암모늄 친수성 잔기를 함유한다. 본 발명에서 특히 유용한 양이온성 계면활성제가 본 발명에서 참조문헌으로 인용된 문헌에 기술되어 있다[참조: M.C. Publishnig Co., McCutcheon's Detergents Emlsifiers, (North American Edition 1979); 슈바르츠(Schwartz) 등의 Surface Active Agents, Their Chemistry and Technology, New York: Interscience Publishers, 1949; 미합중국 특허 제3,155,591호, 힐퍼(Hilfer), 1964년 11월 3일자 허여; 미합중국 특허 제3,929,678호, 라우린(Laughlin) 등, 1975년 12월 30일자 허여; 미합중국 특허 제3,959,461호, 발레이(Bailey) 등, 1976년 5월 25일자 허여: 및 미합중국 특허 제4,387,090호, 볼리호(Bolich), Jr., 1983년 6월 7일자 허여].

본 발명에서 유용한 4급 암모늄 함유 양이온성 계면활성제 물질은 다음 일반식의 수불용성 계면활성제이다:

상기식에서

R₁, R₂, R₃및 R₄는 독립적으로 탄소수 약 1 내지 약 22의 지방족 그룹, C₁-C₃알킬, 하이드록시알킬, 폴리알콕시 또는 탄소수 약 12 내지 약 22의 방향족 아릴 또는 알킬 아릴 그룹 중에서 선택될 수 있으며;

X는 할로겐, 아세트산염, 인산염, 질산염 및 알킬 황산염 라디칼이다.

지방족 그룹은 탄소 및 수소 원자 이외에, 에테르 결합, 아미노 그룹과 같은 기타 그룹을 함유할 수 있다.

본 발명에 유용한 기타 4급 암모늄염은 다음 일반식을 갖는다:

상기식에서,

R₁은 탄소수 약 16 내지 22의 지방족 그룹이고;

R₂, R₃, R₄, R₅및 R₆은 수소, 및 탄소수 약 1 내지 약 4의 알킬이며;

X는 할로겐, 아세트산염, 인산염, 질산염 및 알킬 황산염 라디칼로부터 선택된 이온이다.

이러한 4급 암모늄염은 탤로우 프로판 디암모늄 디클로라이드를 포함한다.

바람직한 4급 암모늄염은 알킬 그룹의 탄소수가 약 12 내지 약 22이고 수소화 탤로우 지방산(수지 지방산은 R₁및 R₂의 탄소수가 우세하게는 16 내지 18인 4급 화합물을 제공한다)과 같은 장쇄 지방산으로부터 유도된, 디알킬디메틸암모늄 클로라이드를 포함한다. 본 발명에서 유용한 4급 암모늄 염의 예는 디댈로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 디댈로우 디메틸암모늄 메틸 설페이트, 디헥사데실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디(수소화 탤로우) 디메틸 암모늄 클로라이드, 디옥타데실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디에이코실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디도코실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디(수소화 탤로우) 디메틸 암모늄 아세테이트, 디헥사데실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디헥사데실 디메틸 암모늄 아세테이트, 디탤로우 디프로필 암모늄 포스페이트, 디탤로우 디메틸 암모늄 니트레이트, 디(코코넛알킬) 디메틸 암모늄 클로라이드 및 스테아릴 디메틸 벤질 암모늄 클로라이드를 포함한다. 디탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 디세틸 디메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴 디메틸 벤질 암모늄 클로라이드 및 베헤닐 트리메틸 암모늄 클로라이드는 본 발명에서 유용한 바람직한 4급 암모늄염이다. 디-(수소화 탤로우)디메틸 암모늄 클로라이드는 본 발명에서 사용하기에 특히 바람직한 4급 암모늄염이다.

1급, 2급 및 3급 지방산 아민의 염은 또한 본 발명에서 사용하기에 바람직한 양이온성 계면활성제 물질이다. 이러한 아민의 알킬 그룹의 탄소수는 약 12 내지 약 22이며, 치환되거나 치환되지 않을 수 있다. 2급 및 3급 아민의 바람직하며, 3급 아민이 특히 바람직하다. 본 발명에서 유용한 이러한 아민은 스테아르아미도 프로필 디메틸 아민, 디에틸 아미노 에틸 스테이르아미드, 디메틸 스테아르아민, 디메틸 소이아민, 소이아민, 트리데실 아민, 에틸 스테아릴아민, 에톡시화(2몰 E.O.) 스테아릴아민, 디하이드록시에틸 스테아릴아민, 및 아라키딜베헤닐아민을 포함한다. 적합한 아민염은 할로겐, 이세트산염, 인산염, 질산염, 시트로산염, 락테이트 및 알킬 설페이트 염을 포함한다. 이러한 염은 스테아릴아민 하이드로클로라이드, 소이아민 클로라이드, 스테아릴아민 포메이트, N-탤로우프로판 디아민 디클로라이드 및 스테아르아미도프로필 디메틸아민 시트레이트를 포함한다. 본 발명에서 특히 유용한 양이온성 아민 계면활성제는 본 명세서에서 참조로 인용된 나크티갈(Nachtigal) 등에게, 1981년 6월 23일자로 허여된 미합중국 특허 제4,275,055호에 기술되어 있다.

쯔비터 이온성 계면활성제의 예는 지방족 라디칼이 직쇄 또는 측쇄이고, 특정 지방족 치환체의 탄소수가 약 8 내지 약 18이고 음이온성 수용성 그룹, 예를 들면, 카복시, 설폰산염, 황산염, 인산염 또는 아인산염을 함유하는 지방족 4급 암모늄, 포스포늄 및 설포늄 화합물의 유도체로서 광범위하게 기술될 수 있는 것들이다. 이들 화합물의 일반식은 다음과 같다:

상기식에서,

R²는 알킬, 알케닐 또는 탄소수 약 8 내지 18이고 에틸렌 옥사이드 잔기수가 0 내지 약 10이며 글리세릴 잔기수가 0 내지 약 1인 하이드록시 알킬 라디칼을 함유하고;

Y은 질소, 인, 및 황원자 중에서 선택되며;

R³은 탄소수 약 1 내지 약 3의 알킬 또는 모노하이드록시 알킬 그룹이고;

X는 Y가 황원자일 경우 1이고 Y이 질소 또는 인원자인 경우 2이며;

R⁴는 탄소수 약 1 내지 약 4의 알킬렌 또는 하이드록시알킬렌이고;

Z은 카복실산염, 설폰산염, 황산염, 아인산염 및 인산염 그룹 중에서 선택된 라디칼이다.

베타인과 같은 기타 쯔비터 이온이 또한 본 발명에 유용하다. 본 발명에서 유용한 베티인의 예는 스테아릴 디메틸 카복시메틸 베타인, 베헤닐 디메틸 카복시메틸 베타인, 스테아릴 비스-(2-히드록시프로필) 카복시메틸 베타인, 올레일 디메틸 감마-카복시프로필 베타인과 같은 고급 알킬 베타인을 포함한다. 설포 베타인은 베헤닐 디메틸 설포프로필 베타인, 스테아릴 디메틸 설포프로필 베타인 등; 수소화 탤로우 디메틸 베타인; 아미도베타인 및 아미도설포베타인으로 나타내어질 수 있으며, RCONH(CH₂)₃라디칼이 베타인의 질소원자에 결합되어 있는 것이 또한 본 발명에서 유용하다.

본 발명의 조성물의 비히클 계에서 사용될 수 있는 양쪽성 계면활성제의 예는 지방족 라디칼이 직쇄 또는 측쇄일 수 있고 지방족 치환체 중의 하나가 탄소수 약 8 내지 약 18이고 음이온성 수용성 그룹, 예를 들면, 카복시, 설폰산염, 황산염, 인산염 또는 아인산염을 함유하는 지방족 그룹 및 4급 아민의 유도체로서 광범위하게 기술될 수 있는 것들이다.

본 발명에 사용하기 위한 바람직한 수불용성 계면활성제의 예는 스테아르아미드 DEA, 코크아미드 MEA, 디메틸 스테아르아민 옥사이드, 글리세릴 모노올레에이트, 슈크로오즈 스테아레이트, PEG-2 스테아르아민, 세테쓰(Ceteth)-2, 일반식 CH₃-(CH₂)₁₄-CH₂-(OCH₂CH₂)_n-OH(여기서, n의 평균값은 2이다)의 세틸 알콜의 폴리에틸렌 글리콜 에테르인 세테쓰-2[ICI 아메리카즈(Americas)에서 상표명 브리지(Brij) 52 하에 시판하고 있음], 글리세롤 스테아레이트 시트레이트, 이수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 폴록사머(Poloxamer)181, 폴리옥시에틸렌, 일반식

(여기서, 평균적으로 x는 3이고 y는 30이며 z는 3이다)의 폴리옥시프로필렌 블록 중합체[BASF 비얀도트(Wyandotte)에서 상표명 플루로닉 L-61하에 시판하고 있음], 수소화 탤로우 디메틸 베타인, 및 수소화 탤로우 아미드 DEA이다. 수불용성 계면활성제는 본 발명의 제1증점제와 함께 조성물의 약 0.02% 내지 약 10.0%, 바람직하게는 약 0.05% 내지 약 3.0%, 가장 바람직하게는 약 0.05% 내지 약 2.0%로 사용된다.

[용매]

본 발명의 비히클 계에서 세번째 필수 성분은 본 발명의 조성물중에서 기타 성분과 혼화성이 있는 용매이다. 일반적으로, 용매는 물 또는 물-저급 알칸올 혼합물을 함유할 것이다. 용매는 본 발명의 조성물 중에서 화장 조성물 약 65중량% 내지 약 99중량%의 양으로 존재할 것이다.

기타 비히클 성분을 용매중에서 분산시키거나 혼합하여 전형적인 모발 컨디셔닝 조성물의 젤 망상 리올로지를 모방하여 제형화된 화장 조성물에 최적 농도의 리올로지를 제공한다. 이 리올로지는 전단응력 0 내지 약 50 파스칼, 전단 속도 0.04/sec 내지 25/sec를 특징으로 한다. 리올로지는 다음과 같은 추 및 판 장치와 함께 볼린 리오미터(Bohlin Rheometer VOR)를 사용하여 측정한다: 추의 각도는 2.5°이고, 판의 직경은 30㎜이며, 절두형 추와 판 사이의 갭은 70㎛로 고정하고, 사용된 토오크바아는 20.148g-㎝이다. 샘플의 양은 0.35㎖이고, 샘플을 판중앙에 주사한다. 사용된 시스템은 다음과 같다: 초기 지연시간은 없으며, 스트레인 지연 시간은 25 초이고, 통합 시간은 5초이며, 감도는 1X로 고정시키고, 전단 만곡은 상부이며, 전단 범위는 약 0.0405/sec 내지 25.53/sec (전단 번호는 11 내지 39이다)이고, 온도를 주위 온도(20℃ 내지 25℃)에서 각 열사이에서 일정하게 유지시킨다.

[추가의 증점제]

본 발명의 비이클 계 또한 추가의 증점 성분을 함유할 수 있으며, 이것은 분자량이 약 20,000이상인 수용성 중합체성 물질을 함유한다. 수용성 중합체는 물질이 25℃에서 1%농도의 물 속에서 사실상 투명한 용액을 형성하고 물질이 물의 점도를 증가시킴을 의미한다. 본 발명의 비이클 계에서 추가의 증점제 성분으로서 바람직하게 사용될 수 있는 수용성 중합체의 예는 하이드록시에틸 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 메틸 셀룰로오즈, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 피롤리돈 K-120, 덱스트란(예: DO 케미칼즈에서 시판하는 덱스트란 정제된 조 그레이드 2P), 카복시메틸 셀룰로오즈, 식물 삼출물[예 : 아카시아, 가티(ghatti) 및 트라가칸트(tragacanth)], 해초 삼출물[예: 나트륨 알기네이트, 프로필렌 글리콜 알기네이트 및 나트륨 카라기난], 및 우카레(Ucare) JR-중합체[유니온 카바이드(Union Carbide)에서 시판하는 양이온성 개질화된 하이드록시 에틸 셀룰로오즈]이다. 본 발명의 비이클 계를 위한 임의의 추가 셀룰로오즈 증점제로서 바람직한 것은 천연 폴리삭카라이드 물질이다. 이러한 물질의 예는 구아르 검, 씨로커스트 빈 검, 및 크산탄 검이다. 본 발명의 조성물에서 추가의 증점제로서 또한 바람직한 것은 분자량이 약 700,000 이상인 하이드록시에틸 셀룰로오즈이다. 이들 중합체 물질은 셀룰라아제(이것은 최적 점도의 획득을 방해할 수도 있다)를 함유하지 않는다.

본 발명의 화장 조성물중에 존재하는 경우, 추가의 증점성분을 약 0.3% 내지 약 5.0%, 바람직하게는 약 0.4% 내지 약 3.0%의 양이다.

이들 추가의 중합체 물질이 본 발명의 조성물 중에서 양호하게 수화되고 분산되는 것은 중요하다.

[리올로지적 보조제]

본 발명의 비히클 계는 또한 바람직하게는 이를 사용하여 제형한 화장 조성물에 추가의 리올로지적 이점을 제공하는 물질을 함유한다. 이들 물질은 킬레이트화제이다. 일반적으로, 이러한 물질은 한자리 리간드 및 여러 가지 리간드 제제를 포함한다. 유용한 킬레이트화제의 구체적인 예는 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA) 및 이의 염, 니트릴로트리아세트산(NTA) 및 이의 염, 하이드록시 에틸 에틸렌 디아민트리아세트산(HEEDA) 및 이의 염, 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산(DTPA) 및 이의 염, 디에탄올 글리신(DEG) 및 이의 염, 에탄올디글리신(EDG) 및 이의 염, 시트르산 염 및 이의 염, 인산 및 이의 염을 포함한다. 이중 가장 바람직한 것은 EDTA이다. 킬레이트화제는 본 발명의 비이클 계의 유연성을 증가시키고 밀도에서 젤라틴성을 감소시키는 경향이 있다.

킬레이트화제가 본 발명의 조성물중에서 리올로지적 보조제로서 존재할 경우 조성물의 약 0.05 내지 약 1.0%, 바람직하게는 약 0.05% 내지 약 0.3% 양으로 존재한다.

[분배 보조제]

본 발명의 비이클 계에서 추가의 성분은 조성물을 위한 분배 보조제로서 작용하는 물질이다. 이러한 물질은 모발 또는 피부위에 화장 조성물을 분배시켜 모발 또는 피부 위에 활성 성분이 국부적으로 부착되는 것을 방지하는데 도움을 준다. 조성물중에 이러한 성분이 존재하지 않는 경우, 조성물중의 특정한 활성 성분은 부착되지 않으며, 고르게 분배되지도 않기 때문에 별로 효과적이지 못하다.

본 발명에서 유용한 분배 보조 물질은 실제적으로 본 발명에서 임의의 수용성 중합체 첨가 증점제로서 사용되는 물질군의 아군이다. 이러한 아군은 다음과 같이 정의된다: 고분자량, 즉 분자량이 1,000,000 이상이고/이거나 강이온성인 수용성 중합체 물질, 강이온성은, 물질이 30밀리볼트(milivolts) 이상에서 전기를 전도함을 의미한다. 이것은 눈금있는 코닝(Corning) 130PH 미터를 사용하여 0.03% 카톤(Kathon) CG[롬 앤드 하스(Rohm Hass)에서 시판하는 방부제]를 사용하여 보존시킨 DRO(이중 역삼투)에서 1%중합체 용액의 전도도를 평가함으로써 측정할 수 있다. 사용된 탐침은 다음과 같다:

참조 전극은 오리온(Orion) ahepf 9001 단일 접합이다. pH 전극은 오리온 모델 9161, 은-염화은이다. 탐침은 간격 3/8in로 이격시켜 고정한다. pH 측정기는 밀리볼트 판독이다. 절대 측정은 함침한지 4분 후에 기록한다.

이러한 요건에 부합하여 따라서 본 발명의 조성물 중에서 분배 보조제로서 작용할 수 있는 수용성 중합체 물질의 예는 크산탄 검; 덱스타란 정제된 조 그레이드 2P(DO 케미칼즈에서 시판); 카복시메틸 셀룰로오즈[예: CMC's 4H1F, 4M6F, 7HF, 7LF, 9H4F, 9M8, 12M8P, 16M31(모두 아쿠알론(Aqualon)에서 시판)]; 식물 삼출물[예: 아카시아, 가티 및 트라가칸트]; 해초 삼출물[예: 나트륨 알기네이트, 프로필렌 글리콜 알기네이트 및 나트륨 카라기난]; 고분자량 하이드록시 에틸 셀룰로오즈[예: 나트로졸 250H 및 나트로졸 250HHR(아쿠알론에서 시판)]; 및 펙틴을 포함한다.

본 발명에서 분배 보조제로서 작용할 수 있는 물질군은 수용성 첨가 증점제의 아군이기 때문에, 이러한 아군의 물질을 사용하여 조성물에 두 가지 이점을 제공할 수 있다. 예를 들면, 크산탄 검은 또한 고분자량을 갖는 수용성 천연 폴리삭카라이드 물질이다. 따라서, 이러한 물질은 독립적으로 사용되어 추가의 증점 이점 및 분배 이점을 제공한다. 그러나, 이러한 물질을 약간 높은 수준으로 사용함으로써 양쪽 이점을 제공하는 것이 필수적일 수 있다.

또한, 본 발명의 임의의 수용성 중합체 첨가 증점제 및 분배 보조제로서 두개의 독립된 물질을 사용할 수 있다. 수용성 중합체 첨가 증점제가 고분자량 물질 또는 강이온성이 아닌 경우 이것을 수행할 수 있다. 로커스트 빈 검이 이러한 물질이다. 크산탄 검과 같은 분배 보조제를 로커스트 빈 검과 함께 사용하여 추가의 분배 이점을 제공할 수 있다.

분배 보조제가 본 발명의 화장 조성물중에 존재할 경우, 화장 조성물의 약 0.02% 내지 약 2.5%, 바람직하게는 약 0.05% 내지 약 1.0%의 양으로 존재해야만 한다. 분배 보조제가 이작용성인 경우, 즉, 추가의 증점제 및 분배 보조제로서 작용할 경우, 조성물의 약 0.2% 내지 약 5.0% 양으로 존재해야만 한다.

분배 보조제는 특히 린스 모발 컨디셔너인 본 발명의 모발 보호 조성물에 특히 유용하다. 분배 보조제는 특정한 모발 컨디셔닝 성분이 모발에 고르게 분무되는 것을 돕는다.

본 발명의 비히클 계 및 이를 사용하여 제형한 화장 조성물은 실질적으로 수용성 계면활성제를 함유하지 않아야만 한다. 이러한 물질은 본 발명의 조성물의 비히클 계와 혼화되지 않는다. 실질적으로 수용성 계면 활성제를 함유하지 않는은 조성물이 본 발명의 목적인 본 발명의 독특한 목적하는 리올로지를 파괴하는 이러한 계면활성제를 보다 적은 양으로 함유함을 의미한다. 일반적으로, 이것은 본 발명의 조성물이 이러한 물질을 약 1% 이하, 바람직하게는 약 0.5% 이하로 함유함을 의미한다. 본 발명의 비히클 계에 특히 해를 미칠 수 있는 특정한 수용성 계면활성제 물질의 예는 알킬 설페이트 및 에톡시화 알킬 설페이트(예; 암모늄 라우릴 설페이트); 지방족 2급 및 3급 아민의 유도체인 양쪽성 계면활성제; 알킬렌 옥사이드 그룹과 유기 친수성 화합물과 축합반응에의해 제조된 비이온성 계면활성제[예: 라우레쓰-23(ICI 아메리카즈에서 상표명 브리지(Brij)35 하에 시판); 및 고급 알킬 베타인, 설포 베타인, 아미도 베타인 및 아미도 설포베타인(예: 세틸 베타인)이다. 이러한 물질은 모발 샴푸 조성물에서 통상적으로 사용된다.

이를 사용하여 제형화한 본 발명의 비히클 계 및 화장용 조성물은 또한 바람직하게는 스테아릴-, 세틸-, 미리스틸-, 베헤닐-, 라우릴-, 및 올레일 알콜과 같은 지방산 알콜 물질을 실질적으로 함유하지 않는다. 실질적으로 지방산 알콜 물질을 함유하지 않는은 본 발명의 조성물이 이러한 물질을 약 1% 이하로 함유함을 의미한다. 이들 물질은 통상적으로 모발 컨디셔닝 제품을 위한 비히클 계로서 사용된다. 그러나, 이들 물질은 이들이 모발에 부착되는 경향이 있으며 사용후 모발에 불결한 느낌을 남기는 경향이 있기 때문에 바람직하지 못하다. 이들 물질은 본 발명의 비히클 계에서 필요하지 않으며 바람직하지도 않고, 모발에 부착되지 않는 기타 물질에의해 증점된다.

본 발명의 비히클 계는 증점 겔 -망상형 리올로지를 갖고 모발 또는 피부 위에 일부 활성 성분을 운반하는데 사용되는 본질적으로 특정한 화장 제품에 사용될 수 있다. 이러한 조성물은 피부 습윤 로션,일광 차폐 조성물, 및 피부 세척용 조성물을 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명의 비히클 계와 함께 가장 바람직하게 사용되는 화장 조성물은 모발 보호제품, 특히 특정의 활성 모발 보호 성분이 모발에 부착되지만 이러한 성분을 운반하는 비히클이 바람직하게는 모발위에 비히클 물질을 거의 또는 전혀 부착시키지 않고서 린싱하는 모발 보호제품이다.

일반적으로, 본 발명의 비히클 계는, 이들 조성물이, 위에서 기술한 바와 같이, 위에서 언급한 바와 같이, 다량의 수용성 계면활성제를 함유하기 때문에 전형적인 샴푸 조성물에서는 유용하지 않고 본 발명의 비히클 계와 혼화될 수 없다. 그러나, 본 발명의 비히클 계는 전형적인 모발 염색 조성물, 모발 강장성 또는 겔 조성물, 모발 무스(mousse) 조성물, 및 특히 모발 컨디셔닝 조성물에서 유용하다.

[활성 화장용 성분]

본 발명의 화장 조성물은 일반적으로 모발 또는 피부에 특정 이익을 제공하는 특정 활성 성분을 함유할 것이다. 이러한 물질은 습윤제, 일광 차폐제, 세척제(본 발명의 비히클 계와 혼화성이 있음), 특히 모발 컨디셔닝제, 모발 스타일링제, 비듬방지제, 모발 성장 촉진제, 모발 염료 및 안료, 또는 향료를 포함할 수 있다.

다양한 범위의 통상적인 일광 차폐제가 본 발명의 화장 조성물에서 사용하기에 적합하다. 문헌[참조: 세가린(Segarin) 등의 Chater Ⅷ, pages 189 et seq., of Cosmetics Science and Technology]에는 다수의 적합한 제제가 기술되어 있다. 특정의 적합한 일광 차폐제는, 예를 들면, p-아미노벤조산, 이의 염 및 이의 유도체; 안트라닐레이트; 살리실레이트; 신남산 유도체; 디하이드록시신남산 유도체; 트리하이드록시신남산 유도체; 탄화수소; 디벤잘아세톤 및 벤잘아세토페논; 나프톨 설포네이트; 디하이드록시-나프톨산 및 이의 염; 쿠마린 유도체; 디아졸; 퀴닌 염; 퀴놀린 유도체; 하이드록시-또는 메톡시-치환된 벤조페논; 우르산 및 빌로우르산; 탄닌산 및 이의 유도체; 하이드로퀴논; 및 벤조페논을 포함한다.

물론, 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트, 4.4'-t-부틸 메톡시디벤조일메탄, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 옥틸 디메틸 p-아미노벤조산, 디갈로일트리올레에이트, 2,2-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 에틸-4-[비스(하이드록시프로필)]-아미노벤조에이트, 2-에틸헥실-2-시아노-3.3-디페닐아크릴레이트, 2-에틸헥실살리실레이트, 글리세릴 p-아미노벤조에이트, 3.3.5-트리메틸사이클로헥실살리실레이트, 메틸안트라닐레이트, p-디메틸-아미노벤조산 또는 아미노벤조에이트, 2-에틸헥실 p-디메틸아미노벤조에이트, 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산 2-(p-디메틸-아미노페닐)-5-설포닉벤즈옥사조산, 및 이들 화합물의 혼합물이 특히 유용하다.

본 발명의 비히클 계와 함께 사용하기에 적합한 비듬 방지제의 예는 아연 피리티온, 황, 및 셀레늄 설파이드를 포함한다. 본 발명의 비히클 계와 함께 사용하기에 적합한 모발 성장 촉진제의 한 가지 예는 업존(Upjohn)사가 시판하고 있는 미녹시닐(Minoxidil), (6-아미노-1, 2-디하이드로-1-하이드록시-2-이미노-4-피페리디노 피리미드)이다. 과산화수소, 과붕산염 및 과황산염과 같은 모발 산화(표백)제, 및 티오글리콜레이트와 같은 모발 환원제가 또한 사용될 수 있다.

본 발명의 비히클 계에서 사용하기에 적합한 모발 컨디셔닝 물질의 예는 휘발성 액체 탄화수소 또는 실리콘제이다.

이들 물질은 바람직하게는 약 99℃ 내지 약 260℃ 범위의 비점을 지니며 물 속에서 약 0.1% 미만의 용해도를 지닌다. 탄화수소는 직쇄 또는 측쇄일 수 있으며 탄소수는 약 10 내지 약 16, 바람직하게는 약 12 내지 16일 수 있다.

적합한 탄화수소의 예는 데칸, 도데칸, 테트라데칸, 트리데칸 및 이들의 혼합물이다.

본 발명의 조성물에서 활성 모발 처리 성분으로서 유용한 휘발성 실리콘을 사이클릭 또는 직쇄 폴리디메틸 실록산일 수 있다. 사이클릭 실리콘에서 규소 원자의 수는 바람직하게는 약 3 내지 약 7, 더욱 바람직하게는 4 또는 5이다.

이러한 실리콘의 일반식은

직쇄 폴리디메틸실록산의 규소 원자수는 약 3 내지 9이며 일반식은 (CH₃)₃Si-O-[Si(CH₃)₂-O-]-Si(CH₃)₃(여기서, n은 1 내지 7이다)이다. 위에서 기술한 사이클릭 및 직쇄형의 실리콘은 다우 코닝 코포레이션(Dow Corning Corporation)에서 다우 코닝 344, 345 및 200액하에; 유니온 카바이드(Union Carbide)에서 실리콘 7202 및 실리콘 7158하에; 및 스타우퍼케미칼(Stauffer Chemical)에서 SWS-03314 하에 시판하고 있다.

직쇄 휘발성 실리콘은 일반적으로 점도가 25℃에서 약 5cP(centipoise) 미만인 반면, 사이클릭 물질은 점도가 약 10cP 미만이다. 휘발성은, 물질이 측정가능한 증기압을 지님을 의미한다. 휘발성 실리콘은 본 발명에서 참조 문헌으로 인용한 문헌[참조: 토드(Todd) 및 바이에르즈(Byers)의 Volatile Silicone Fluids for Cosmetics, Cosmetics and Toiletries, Vol. 91, 1976년 1월, pp27-32]에 기술되어 있다.

휘발성 성분은 본 발명의 조성물중에서 약 1% 내지 약 20%, 바람직하게는 약 2% 내지 약 15% 양으로 존재할 수 있다. 휘발성 실리콘은 바람직한 휘발성 제제이다.

비휘발성 실리콘 유체가 또한 본 발명의 조성물 중에서 활성 모발 보호 성분으로서 유용하다. 이러한 물질의 예는 폴리디메틸실옥산 검, 아미노실리콘 및 페닐실리콘을 포함한다. 특히, 다음 일반식의 폴리알킬 또는 폴리아릴 실록산과 같은 물질을 사용할 수 있다.

상기식에서,

R가 알킬 또는 아릴이고,

X는 약 7 내지 약 8,000의 정수이며,

A는 실리콘 쇄의 말단을 폐쇄시키는 그룹을 나타낸다.

실록산 쇄(R) 또는 실록산 쇄(A)의 말단에서 치환된 알킬 또는 아릴 그룹은 수득한 실리콘이 실온에서 액상을 유지하며, 소수성이고, 자극성, 독성이 아니며, 모발에 사용할 경우 해를 미치지 않으며 조성물의 기타 성분과 혼화성이며, 통상적인 사용에서 화학적으로 안정하며, 모발에 부착되어 컨디셔닝시킬 수 있는 특정 구조를 지닌다.

적합한 A 그룹은 메틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 및 아릴옥시를 포함한다. 실리콘 원자에서 2개의 R 그룹은 동일하거나 상이한 그룹을 나타낼 수 있다. 바람직하게는, 2개의 R 그룹은 동일한 그룹을 나타낸다. 적합한 R 그룹은 메틸, 에틸, 프로필, 페닐, 메틸페닐 및 페닐메틸을 포함한다. 바람직한 실리콘은 폴리디메틸실록산, 폴리디에틸실록산, 및 폴리메틸페닐실록산이나 폴리디메틸실록산이 특히 바람직하다.

이러한 실리콘 물질을 제조하는 적합한 방법이 미합중국 특허 제2,826,551호 및 제3,964,500호 및 본 명세서에 인용된 참조 문헌에 기술되어 있다. 본 발명에 유용한 실리콘은 또한 시판되고 있다. 적합한 예는 비스카실(Viscasil)[제네랄 일렉트릭 캄파니(General Electric Company)의 상표명] 및 다우코닝 코포레이션이 제조하는 실리콘 및 스타우퍼 케미칼 캄파니(Stauffer Chemical Company)의 SWS 실리콘을 포함한다.

기타 유용한 실리콘 물질은 일반식(Ⅰ)의 물질을 포함한다.

상기식에서 X 및 Y은 분자량에 따른 정수이며, 평균 분자량은 약 5,000 내지 10,000이다.

이러한 중합체는 또한 아모디 메티콘으로서 공지되어 있다.

본 발명의 조성물에서 사용될 수 있는 기타 실리콘 양이온성 중합체는 다음 일반식에 상응한다.

(R₁)_aG_3-a-Si-(OSiG₂)_n-(OSiG_b(R₁)_2-b)_m-O-SiG_3-a(R₁)_a

상기식에서,

G는 수소, 페닐, OH 및 C₁-C₈알킬 중에서 선택되어 바람직하게는 메틸이고;

a는 0 또는 1 내지 3의 정수를 나타내며, 바람직하게는 0이고;

b는 0 또는 1이고 바람직하게는 1이며;

n과 m의 합은 1 내지 2,000, 바람직하게는 50 내지 150이고, n은 0 내지 1,999, 바람직하게는 49 내지 149의 수이며 m은 1 내지 2,000, 바람직하게는 1 내지 10의 정수를 나타내고;

R¹은 일반식 C_qH_2qL[여기서, q는 2 내지 8의 정수이고 L은 그룹

(여기서, R₂는 수소, 페닐, 벤질, 포화 탄화수소 라디칼 중에서 선택되며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 20의 알킬 라디칼이고, A^-는 할라이드 이온을 나타낸다)중에서 선택된다.

이들 화합물은 유럽 특허원 EP 제95,328호에 더욱 상세하게 기술되어 있다. 상기 일반식에서 상응하는 특히 바람직한 중합체는 구조식

의 트리메틸실릴아모디메티콘으로서 공지된 중합체이다.

본 발명의 조성물은 트리메틸실릴아모디메티콘 실리콘 모발 컨디셔닝 물질 약 1.0% 이하를 함유할 수 있다.

본 발명의 조성물에서 사용할 수 있는 기타 실리콘 양이온성 중합체는 일반식(Ⅲ)에서 상응한다.

상기식에서,

R₃은 탄소수 1 내지 18의 1가 탄화수소 라디칼이고, 특히 메틸과 같은 알킬 또는 알케닐 라디칼이며;

R₄는 바람직하게는 C₁-C₁₈알킬렌 라디칼 또는 C₁-C₁₈, 바람직하게는 C₁-C₈알킬렌옥시 라디칼과 같은 탄화수소 라디칼을 나타내고,

Q-는 할라이드 이온, 바람직하게는 클로라이드이며;

r은 평균 통계값 2 내지 20, 바람직하게는 2 내지 8을 나타내고;

s는 평균 통계값 20 내지 200, 바람직하게는 20 내지 50을 나타낸다.

특히 바람직한 이러한 중합체군은 상표명 UCAR SILICONE ALE 56하에 유니온 카바이드에서 시판하는 것이다.

실리콘 컨디셔닝제는 본 발명의 조성물에 있어서 약 0.1% 내지 약 18%, 바람직하게는 약 0.5% 내지 약 15%의 양으로 사용된다.

본 발명의 조성물에 사용되는 바람직한 실리콘 컨디셔닝제는 약 10cP 이하의 점도를 갖는 휘발성 실리콘 유체 및 약 0.015% 내지 약 9.0%, 바람직하게 약 0.5% 내지 약 2.0%의 약 1,000,000cP 이상의 점도를 갖는 실리콘 검의 혼합물(휘발성 유체 대 검의 비율은 약 90:10 내지 약 10:90, 바람직하게 약 85:15 내지 약 50:50이다)을 함유한다.

본 발명에 사용되는 또다른 바람직한 비휘발성 실리콘 물질은 약 100,000cP 이하의 점도를 갖는 비휘발성 실리콘 유체 및 약 1,000,000cP 이상의 점도를 갖는 실리콘 검 약 0.015% 내지 약 9.0%, 바람직하게 약 0.5% 내지 약 2.0%, 특히 폴리디메틸실록산 검 및 폴리페닐메틸실옥산 검을 함유하며, 비휘발성 유체 대 검의 비율은 약 70:30 내지 약 30:70, 바람직하게 약 60:40 내지 약 40:60이다.

본 발명의 비히클 계와 함께 사용되는 또 다른 바람직한 활성 모발 보호 물질은 모발에 대하여 스타일 보존 및 우수한 컨디셔닝 효과를 부여하는 실리콘 중합체 물질이다. 실리콘 유체가 본 발명 조성물에 유용하지만, 바람직한 실리콘 중합체는 강성 실리콘 중합체이다. 이러한 물질은 불리치(Bolich) 등의 미합중국 특허 제4,902,499호(허여일 : 1990. 2. 20) 및 볼리치 등의 미합중국 특허 제4,906,459호(허여일: 1990. 3. 6)에 기술되어 있다.

이러한 물질의 일부 에는 충진제 강화된 폴리디메틸 실록산 검[하이드록실과 같은 말단 그룹을 갖는 것도 포함한다] 유기 치환된 실리콘 탄성중합체와 같은 가교결합된 실록산; 유기적으로 치환된 실록산 검[하이드록실과 같은 말단 그룹을 갖는 것도 포함한다] 및 가교결합된 실록산 중합체이다.

본 발명에 유용한 강성 실리콘 중합체는 2x10⁵푸아즈(P; Pa.s) 이상, 바람직하게 약 1x10⁷P의 복합 정도를 가지며, 이 복합 점도는 약 1㎜의 두께를 갖는 리오메트릭 플루이드 스펙트로미터(Rheometric Fluids Spectrometer

) 측정 필름을 사용하여 25℃, 0.1㎭/sec의 고정 주파수에서 샘플을 진동 전단에 적용시킴으로써 측정된다. 이 결과 점성 및 탄성력 반응을 합하여 복합 모듈러스를 측정하며, 이를 부과된 주파수로 나누어 복합 점도를 계산한다.

본 발명에 유용한 바람직한 실록산 검은 약 500,000 이상의 분자량을 갖고, 3% 이상, 바람직하게는 약 5% 이상의 함량으로 디페닐 치환되어야만 하는 디페닐-디메틸 폴리실록산 검이다.

또한 실록산 검은 충전제 강화되어 추가의 강도를 가질 수도 있다. 바람직한 충전제는 실리카이다. 일반적으로 이러한 강화된 검은 약 15 내지 20%의 실리카를 함유한다.

본 발명의 조성물에 유용한 실리콘 탄성중합체는 본 발명에서 참고문헌으로 인용되는 존슨(Johnson) 등의 미합중국 특허 제4,221,688호(허여일: 1980. 9. 9)에 기술된 물질이다. 이 특허에 기술된 실질적 물질 및 본 발명의 조성물일 수 있는 것은 건조시켜 물이 제거되어 탄성중합체를 형성하는 수성 유화액이다.

실리콘 유화액은 연속 수성 상을 가지며, 여기에 음이온 안정화된 하이드록실화 폴리오가노실록산, 콜로이드성 실리카 및 촉매를 함유하는 분산된 상이 존재한다. 유화액의 pH는 약 9 내지 약 11.5, 바람직하게는 약 10.5 내지 약 11.2의 범위이어야 한다. 유화액의 고체 함량은 일반적으로 약 20% 내지 약 60%, 바람직하게는 약 30% 내지 약 50%이다. 폴리디오가노실록산 각각의 100중량부당 존재하는 콜로이드성 실리카의 양은 1 내지 150부이다. 같은 기준으로, 디오가노틴디카복실레이트(예: 디옥틸 틴디라우레이트) 촉매의 양은 0.1 내지 2부이다. 사용되는 탄성중합체 유화액은 양은 총 조성물의 약 0.1% 내지 약 5%, 바람직하게 약 0.5% 내지 약 4%이다.

본 발명의 조성물에 유용한 실리콘 수지는 삼작용성 및 사작용성 실란의 사용을 통해 도입되는, 가교결합도가 높은 실리콘 중합체이다. 수지의 제조에 사용되는 전형적인 실란은 모노메틸, 디메틸, 모노페닐, 디페닐, 메틸페닐, 모노비닐 및 메틸비닐 클로로실란, 또한 테트라클로로실란이다. 바람직한 수지는 제네랄 일렉트릭에서 공급되는 GE SR545이다. 이 수지는 톨루엔내의 용액으로 공급되어, 수지로 사용하는 경우 우선 용매를 제거시킨다.

본 발명에서 사용되는 기타의 강성 실리콘 중합체는 거의 가교결합되지 않지만 사이클로메티콘과 같은 용매에 여전히 가용성인 실록산이다. 강성 물질의 전구체는 비닐 그룹 및 기타의 실록산을 함유하는 임의의 고 분자량 폴리디메틸 실록산, 폴리디메틸 실록산일 수 있다. 가교결합 방법에는 디벤조일퍼옥사이드 및 디-t-부틸 퍼옥사이드와 같은 유기 과산화물을 사용한 열 경화, 황을 사용하는 가황처리(vulcanization) 및 고에너지 방사가 있다.

일반적으로, 실리콘 검이 본 조성물에 사용되는 경우, 이는 모발 보호 조성물내로 혼입되기에 앞서 휘발성 캐리어 또는 이의 혼합물에 용해된다. 바람직하게, 휘발성 케리어는 모발 보호 조성물의 약 0.1 내지 약 20%로 존재한다. 이들 물질은 위에서 기술한 휘발성 액체 탄화수소 또는 실리콘 유체를 함유한다.

바람직하게, 강성 실리콘 중합체 및 캐리어는 폴리디메틸실록산 검 약 0.1% 내지 약 2.5%, 열분해법 실리카 약 0.02% 내지 약 0.7% 및 휘발성 실리콘 캐리어 약 0.4% 내지 약 18%를 함유한다.

또 다른 모발 컨디셔닝 물질이 본 발명의 조성물에 사용될 수도 있다. 이들 물질들은 양이온성 계면 활성제 컨디셔닝제를 포함한다. 이들 물질은 실질적으로 위에서 언급된 것과 같은 본 조성물의 수불용성 계면 활성제 성분의 하위 성분이다. 본 조성물내 모발 컨디셔닝제로서 유용한 바람직한 양이온성 계면활성제는 4급 암모늄 함유 양이온성 계면활성제 물질이다. 이들 물질들은 위에서 더욱 자세히 기술하였다. 본 조성물이 이러한 물질을 함유하는 경우, 조성물 중량에 대해 약 2.5% 이하, 바람직하게는 약 0.5% 내지 약 2.0%의 양으로 존재한다. 본 발명에서 사용되는 바람직한 4급 암모늄 함유 양이온성 계면활성제는 디(수소화, 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드이다. 본 발명의 조성물에 이들 물질이 함유되는 경우, 비히클 뿐만 아니라 일부의 수불용성 계면활성제 성분을 함유하여 우수한 모발 컨디셔닝을 제공한다.

본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 또 다른 수불용성 계면활성제 모발 컨디셔닝제는 1급, 2급 및 3급 지방 아민의 염이다. 이들 물질은 상기에 더욱 자세히 기술되어 있다. 바람직한 이들 물질은 스테아르아미도 프로필 디메틸 아민이다. 상업적으로 구입가능한 물질은 인올렉스 캄파니(Inolex Conpany)의 상표명 렉사민(Lexamine

)이다. 바람직하게, 이들 물질은 약 1%까지 사용되어 우수한 컨디셔닝을 제공한다.

또한, 가수분해된 동물성 단백질 모발 컨디셔닝제를 본 조성물에 포함시킬 수 있다. 이들 물질은 약 0.1% 내지 약 1.5% 양으로 본 조성물내에 존재한다. 예를 들어, 상업적으로 구입 가능한 물질은 크로다, 인코포레이티드(Croda, Inc.)에서 상표명 크로테인(Crotein)Q

하에 시판하고 있다.

지방 알콜은 모발 컨디셔닝제로 공지되어 있으며, 본 발명의 조성물내 포함될 수 있다. 그러나, 위에서 기술한 바와 같이, 이러한 물질은 모발에 부착되어 사용후 모발에 먼지같은 느낌을 주는 경향이 있다. 그러므로, 지방 알콜은 본 발명의 조성물에 있어서 약 1% 이상의 양으로 포함시키지 않는다.

위에서 기술한 컨디셔닝제의 혼합물 또는 본 조성물내에 사용될 수 있다.

본 발명의 비히클 계와 함께 사용되는 매우 바람직한 활성 모발 보호 물질은 고정/스타일링 중합체이다. 이런 물질의 매우 바람직한 예는 다음 특허 문헌에 기술된 실리콘 함유 공중합체이다: 토르젠슨(Torgenson), 볼리치(Bolich) 및 간브(Ganbe)의 미합중국 특허 제390,559호(출원일: 1989. 8. 7); 및 볼리치 및 토르젠슨의 미합중국 특허 제390,568호(출원일: 1989. 8. 7); 이 두 특허는 본 발명에서 참고문헌으로 인용된다. 이러한 중합체는 평균분자량이 약 10,000 내지 약 1,000,000이고, Tg는 바람직하게 적어도 -20℃이상이어야 한다. 본 발명에서 사용된 약어 Tg는 비실리콘 주쇄의 유리전이 온도를 언급하는 것이며, Tm은 주어진 중합체에 이러한 전이가 존재하는 경우, 비실리콘 주쇄의 결정 융점을 언급하는 것이다.

바람직한 중합체는 Tg 또는 Tm가 약 -20℃ 이상인 비닐 중합체성 주쇄 및 평균분자량이 약 1,000 내지 약 50,000, 바람직하게는 약 5,000 내지 약 40,000, 가장 바람직하게는 약 10,000 내지 약 20,000인 주쇄에 그래프팅된 폴리디메틸실록산 고분자를 함유한다. 중합체가 가공된 모발 보호 조성물 속으로 제형화되어, 건조되는 경우, 중합체 상은 폴리디메틸실록산 고분자를 함유하는 불연속 상과 주쇄를 함유하는 연속 상으로 분리된다. 이러한 상 분리 특성은 모발 위의 중합체를 특별하게 배향시켜 목적하는 모발 컨디셔닝 및 고정 이점을 갖게 된다.

넓은 의미에서, 본 발명의 적용에 사용되는 공중합체는 A 단량체, B 단량체 및 이들의 혼합물로부터 선택된 단량체와 함께 C 단량체를 함유한다. 이들 공중합체는 C 단량체와 함께, 적어도 A 또는 B를 함유하여, 바람직한 공중합체는 A, B 및 C 단량체를 함유한다.

유용한 공중합체의 예및 이들의 제조방법은 마주렉(Mazurek)의 미합중국 특허 제4,693,935호(허여일:1987. 9. 15) 및 클리멘스(Clemens) 등의 미합중국 특허 제4,728,571호(허여일: 1988. 3. 1)에 자세히 기술되어 있으며, 이러한 2개의 특허는 본 발명에서 참고문헌으로 인용된다. 이들 공중합체는 다음에 정의된 단량체 A, C 및 임의로 B를 함유한다. A는 사용되는 경우 하나 이상의 자유 라디칼적으로 중합가능한 비닐 단량체 또는 단량체이다. B는 사용되는 경우, A와 공중합 가능한 하나 이상의 강화 단량체를 함유하며, 극성 단량체 및 약 -20℃ 이상의 Tg 또는 Tm을 갖는 고분자 중에서 선택된다. B는, 사용되는 경우, 공중합체나 총 단량체의 약 98% 이하, 바람직하게는 약 80% 이하, 더욱 바람직하게는 약 20% 이하로 사용될 수 있다. 단량체 C는 공중합체내 총 단량체의 약 0.01% 내지 약 50.0%가 함유될 수 있다.

A 단량체의 대표적인 예는 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 2-메틸-1-부탄올, 1-메틸-1-부탄올, 3-메틸-1-부탄올, 1-메틸-1-펜탄올, 2-메틸-1-펜탄올, 3-메틸-1-펜탄올, t-부탄올, 사이클로헥산올, 2-메틸-1-부탄올, 2-헵탄올, 벤질 알콜, 2-옥탄올, 6-메틸-1-헵탄올, 2-에틸-1-헥산올, 3,5-디메틸-1-헥산올, 3,5.5-트리메틸-1-헥산올, 1-데칸올, 1-도데칸올, 1-헥사데칸올, 1-옥타데칸올 등과 같은 C₁-C₁₈알콜의 아크릴산 에스테르 또는 메트아크릴산 에스테르, 평균 탄소수가 약 4 내지 12인 약 1 내지 8개의 탄소원자를 갖는 알콜; 스티렌; 비닐 아세테이트; 비닐 클로라이드; 비닐리덴 클로라이드; 아크릴로니트릴; 알파-메틸스티렌; t-부틸 스티렌; 부타디엔; 사이클로헥사디엔; 에틸렌; 프로필렌; 비닐 톨루엔 및 이들의 혼합물이다. 바람직한 A 단량체는 n-부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, 2-에틸 헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트 및 이들의 혼합물이다.

B 단량체의 대표적인 예는 아크릴산, 메타크릴산, N,N-디메틸아크릴아미드, 디메틸아미노에틸 메타크릴산, 4급화 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 메타크릴로니트릴, 폴리스티렌 고분자, 메타크릴아미드, 말레산 무수물 및 이의 반 에스테르, 이타콘산, 아크릴아미드, 아크릴레이트 알콜, 하이드록시에틸 메타크릴레이트, 디알릴디메틸 암모늄 클로라이드, 비닐피롤리돈, 비닐 에테르(예: 메틸 비닐 에테르), 말레이미드, 아실락톤, 2-에틸-2-옥사졸린, 비닐 피리딘, 비닐 이미다졸, 기타의 극성 비닐 헤테로사이클릭, 스티렌 설포네이트 및 이들의 혼합물이다. 바람직한 B 단량체는 아크릴산, N,N-디메틸아크릴아미드, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 4급화 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 비닐 피롤리돈 및 이들의 혼합물이다.

C 단량체는 다음의 일반식을 갖는다:

X(Y)nSi(R)_3-mZm

상기식에서,

X는 A 및 B 단량체와 공중합될 수 있는 비닐 그룹이고;

Y는 2가 결합 그룹이고;

R가 수소, 저급 알킬, 아릴 또는 알콕시이며;

Z은 평균분자량의 500 이상이고, 공중합 조건하에서 필수적으로 비반응성이며, 위에서 언급한 비닐 중합성 주쇄로부터 펜던트된 1가 실록산 중합성 잔기이고;

n은 0 또는 1이며;

m은 1 내지 3의 정수이다.

C는 평균분자량이 약 1,000 내지 약 50,000, 바람직하게 약 5,000 내지 약 40,000, 가장 바람직하게 약 10,000 내지 약 20,000이다. 바람직하게는 C 단량체는 다음 중에서 선택되는 일반식을 갖는다.

이들 구조에 있어서,

m은 1, 2 또는 3(바람직하게는 m=1이다)이고;

p는 0 또는 1이며;

R는 알킬 또는 수소이고;

q는 2 내지 6의 정수이며;

s는 0 내지 2의 정수이고;

R¹은 수소 또는 -COOH(바람직하게는, R¹은 수소이다)이고;

R²는 수소, 메틸 또는 -CH₂COOH(바람직하게는 R²는 메틸이다)이며;

R⁴는 알킬, 알콕시, 알킬아미노, 아릴 또는 하이드록실(바람직하게는 R⁴는 알킬이다)이며;

r은 약 5 내지 약 700의 정수이다(바람직하게는, r은 약 250이다).

본 발명에 유용한 바람직한 중합체는 0% 내지 약 98%(바람직하게는 약 5% 내지 약 98%, 더욱 바람직하게는 약 50% 내지 약 90%)의 단량체, A, 0% 내지 약 98% (바람직하게는 약 7.5% 내지 약 80%)의 단량체 B 및 약 0.1% 내지 약 50% (바람직하게는 약 0.5% 내지 약 40%, 가장 바람직하게 약 2% 내지 약 25%)의 단량체 C을 함유한다. A 및 B 단량체의 혼합물은 바람직하게 약 50.0% 내지 약 99.9%(더욱 바람직하게 약 60% 내지 약 99%, 가장 바람직하게 약 75% 내지 약 95%)의 중합체를 함유한다. 임의의 특별한 공중합체의 조성물은 이 제제의 특성을 결정하는데 도움을 준다. 예를 들어, 수성 제제 내에서 가용성인 중합체는 다음과 같은 조서물을 갖는다: 0% 내지 약 70% (바람직하게는 약 5% 내지 약 70%)의 단량체 A, 약 30% 내지 약 98% (바람직하게는 약 3% 내지 약 80%)의 단량체 B 및 약 1% 내지 약 40%의 단량체 C. 분산성 중합체는 다음과 같은 바람직한 조성물을 함유한다. 0% 내지 약 70% (바람직하게는, 약 5% 내지 약 70%)의 단량체 A, 약 20% 내지 약 80% (더욱 바람직하게는, 약 20% 내지 약 60%)의 단량체 B 및 약 1% 내지 약 40%의 단량체 C.

본 발명에 사용되는 특허 바람직한 중합체는 다음 조성을 갖는다(이후에 나타낸 중량%는 중합 반응에서 첨가되는 반응물의 양이며, 필수적으로 최종 중합체내의 양은 아니다): 아크릴산/n 부틸메타크릴레이트/폴리디메틸실록산(PDMS) 고분자-20,000 분자량(10/70/20 w/w/w) (Ⅰ)

N,N-디메틸아크릴아미드/이소부틸 메타크릴레이트 PDMS 고분자-20,000 분자량 (20/60/20 w/w/w) (Ⅱ)

디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/이소부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실-메트아크릴레이트/PDMS 고분자-20,000 분자량 (25/40/15/20 w/w/w/w) (Ⅲ)

디메틸아크릴아미드/PDSM 고분자-20,000 분자량(80/20w/w) (Ⅳ)

t-부틸아크릴레이트/t-부틸메타크릴레이트/PDMS 고분자-10,000 분자량(56/24/20 w/w/w) (Ⅴ)

t-부틸아크릴레이트/PDMS 고분자-10,000 분자량(80/20w/w) (Ⅵ)

t-부틸아크릴레이트/N,N-디메틸아크릴아미드/PDMS-고분자-10,000 분자량(70/10/20 w/w/w) (Ⅶ)

t-부틸아크릴레이트/아크릴산/PDMS-고분자-10,000 분자량(75/5/20) w/w/w) (Ⅷ)

본 조성물의 공중합체 물질의 입자크기는 생성물 성능에 대해 얼마간의 효과를 가질 수 있다. 물론, 이는 공중합체에 따라, 생성물에 따라 변할 것이다.

공중합체는 본 발명의 비히클 계와 혼합되기 전에 공중합체를 위한 용매와 바람직하게 혼합된다.

선택된 용매는 사용될 특별한 실리콘 공중합체를 용해시키거나 분산시킬 수 있어야 한다. 공중합체내 B 단량체의 특성 및 비율은 이의 극성 및 용해 특성을 대부분 결정한다. 실리콘 공중합체는 단량체를 적절히 혼합하여 광범위한 용매를 갖는 제형으로 제조할 수 있다. 본 발명에 사용될 수 있는 적합한 용매는 (단, 이로써 제한되지는 않는다) 물, 저급 알콜(예를 들어, 에탄올, 이소프로판올), 하이드로알콜성 혼합물, 탄화수소(예를 들어, 이소부탄, 헥산, 데센, 아세톤), 할로겐화 탄화수소(예를 들어, 프레온), 린날로올, 탄화수소 에스테르(예를 들어, 에틸아세테이트, 디부틸 프탈레이트), 휘발성 실리콘 유도체, 특히 실록산(예를 들어, 페닐 펜타메틸 디실록산, 페네틸 펜타메틸 디실록산, 메톡시프로필 헵타메틸 사이클로테트라 실록산, 클로로프로필 펜타메틸 디실록산, 하이드록시프로필 펜타메틸 디실록산, 옥타메틸 사이클로테트라실록산, 데카메틸 사이클로펜타실록산), 및 이들의 혼합물이다. 바람직한 용매는 물, 에탄올, 휘발성 실리콘 유도체 및 이들의 혼합물이다.

본 발명의 바람직한 조성물은 위에서 언급한 실리콘 컨디셔닝제와 혼합된 실리콘 공중합체를 함유한다.

본 발명의 유일한 비히클 계는 모발 및 피부로는 활성 화장품 성분의 전달에 비교하여 우수한 성능을 제공한다. 이는 모발 보호 조성물의 경우에 특히 그러하다. 또 다른 증점계를 사용하여 제형화한 모발 보호 조성물에서 사용되는 것 보다 더 낮은 양의 활성 성분을 본 발명의 모발 보호 조성물에 사용할 수 있다. 이러한 우수한 부착은 실리콘 모발 컨디셔닝제의 경우에 특히 주목할만하다. 모발 위의 본 발명의 유일한 비히클계로 부터의 실리콘 부착물의 양 및 질은 모발의 컨디셔닝을 증가시킨다.

이들 활성 화장 보호 물질은 일반적으로 화장 조성물 중량에 대해 약 0% 내지 약 20%, 바람직하게 약 0.1% 내지 약 20% 양으로 존재한다. 0%의 양은 비히클 성분중 하나가 본 조성물에 대해 모발 보호 활성을 제공하는 경우를 나타낸다. 예를 들어, 비히클 계가 수불용성 4급 암모늄 화합물을 함유하는 경우, 이 물질은 또한 우수한 모발 컨디셔닝을 제공하게 된다. 활성 화장품 보호 물질은 선택되는 활성 물질, 함께 제형화되는 특별한 화장 조성물 및 목적하는 이익의 수준에 따라 변한다.

본 발명의 화장 조성물에 가해질 수 있는 기타 임의 성분은 어떠한 직접적인 화장 보호 이점을 제공하지 않으나, 그 대신 조성물을 일부 방법으로 향상시킨다. 이러한 물질의 예는 임의의 FD C 또는 D C 염료로 같은 착색제; 에틸렌 글리콜 디스테아레이트 또는 운모가 피복된 TiO₂와 같은 진주광택 보조제, 불투명제; 시트르산, 숙신산, 인산, 수산화나트륨 및 탄산나트륨과 같은 pH 조절제; 벤질 알콜, 에틸 파라벤, 프로필 피라벤 및 이미다졸리돈일 우레아와 같은 방부제; 및 산화 방지제이다. 일반적으로 이러한 제제는 모발 보호 조성물의 각각 약 0.001% 내지 약 10%, 바람직하게 약 0.01% 내지 약 5% 양으로 사용된다.

본 발명의 비히클 계 및 화장 조성물은 통상적인 제제 및 혼합기술을 사용하여 제조될 수 있다. 한가지 제조 과정에 있어서, 실리콘 컨디셔너, 4급 암모늄 계면활성제 및 적어도 일부의 용매 성분은 나머지 조성물을 첨가하기 전에 예비 혼합한다. 다양한 형태의 화장 조성물의 제조 방법은 하기 실시예에 더욱 구체적으로 기술되어 있다.

다음에 나타난 실시예들은 본 발명을 설명한다. 화장 조성물 제제 기술 분야내의 본 발명의 또다른 변형은 본 발명의 의의 및 범위에서 벗어나지 않는 한 실시된다.

본 발명에서 사용되는 모든 부, 퍼센트 및 비율은 다른 특별한 언급이 없는 한 중량에 대한 값이다.

[실시예 1]

다음은 본 발명의 대표적인 모발 스타일링 린스 조성물을 나타낸다.

¹20/60/20 N,N-디메틸아크릴아미드/이소부틸 메타크릴레이트/PDMS 고분자(20,000 MW), 중합체 분자량: 약 300,000.

²아모디메티콘, 다우 코닝에서 시판함.

³약 0.50중량% 내지 약 0.95중량%의 C₁₆알킬 치환체 및 약 2.3중량% 내지 3.3중량%의 하이드록시에틸 몰 치환체를 갖는 소수성으로 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈, 치환 전의 이 하이드록시에틸 셀룰로오즈의 평균분자량은 700,000이며, 아쿠알론 캄파니(Aqualon Company)에서 시판함.

⁴롬 앤드 하스(Rohm and Hoas)에서 시판함.

조성물은 다음과 같이 제조한다. 우선 DRO(이중 역삼투) 수를 190℉로 가열시킨다. DTDMAC, EDTA 및 D.C. 929를 물에 가하고, 약 5분간 혼합시킨다. 나트로졸을 혼합하면서 조성물에 가한다. 로커스트 빈 검을 혼합하면서 조성물에 가한다. 이어서, 조성물 분산기, 예를 들어 기포드-우드 밀(Gifford-Wood mill)에서 약 2분간 균질화시킨다. 이어서, 뱃치(batch)를 150℉로 냉각시킨다. 크산탄 검 예비혼합물, 스타일링제 예비혼합물, 방향제 및 카탄(Kathan) CG를 약 10분간 혼합하면서 조성물에 가한다. 뱃치를 실온으로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 Ⅱ]

¹40/40/20 4급화 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/이소부틸 메타크릴레이트/실리콘 고분자, 고분자는 클레멘스(Clemens)의 미합중국 특허 제4,728,571호(허여일: 1988. 3. 1)의 실시예 C-2c와 유사한 방법으로 제조되며 부자량은 약20,000, 중합체의 분자량은 약 500,000임

²40/40/20 아크릴산/메틸 메타크릴레이트/실리콘 고분자, 고분자는 분자량이 약 20,000이며 클레멘스의 미합중국 특허 제4,728,571호(허여일: 1988. 3. 1)의 실시예 C-2c와 유사한 방법으로 제조하며, 중합체 분자량은 약 400,000임

³아쿠알론 캄파니에서 시판하는 소수성으로 개질된 하이드록시 에틸 셀룰로오즈

조성물은 다음과 같이 제조한다. 우선 DRO 수를 190℉로 가열한다. 스테아르아미드 DEA 및 나트로졸을 가하고, 조성물을 약 5분간 혼합시킨다. 이어서, 조성물을 분산기, 예를 들어 기포드-우드 밀을 사용하여 약 2분간 균질화시킨다. 조성물을 120℉로 냉각시키고, 예비혼합물 A, 예비혼합물 B, 에탄올 및 방향제를 약 10분간 혼합하면서 가한다. 조성물을 실온으로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 Ⅲ]

다음의 본 발명의 대표적인 모발 스타일링 린스 조성물이다.

¹10/70/20 아크릴산/n-부틸 메타크릴레이트/실리콘 고분자, 고분자는 분자량이 약 20,000이고 클레멘스의 미합중국 특허 제4,728,571호(허여일: 1988.. 3. 1)의 실시예 C-2c와 유사한 방법으로 제조한다. 중합체 분자량은 약 300,000임

²제네랄 일렉트릭(General Elecfric)에서 시판함

⁴글리코(Glgco, Inc.)에서 시판함.

조성물은 다음과 같이 제조한다. 우선 DRO 수를 190℉로 가열한다. DTDMAC, EDTA 및 실리콘 검 예비 혼합물을 물에 가하고, 약 5분간 혼합시킨다. 나트로졸을 가하고 혼합시킨 후, 로커스트 빈 검을 가하여 혼합시킨다. 이어서, 조성물을 분산기, 예를 들어 기포드-우드 밀로 약 2분간 균질화시킨다. 뱃치를 150℉로 냉각시키고,스타일링제 예비혼합물, 방향제 및 글리단트를 약 10분간 혼합하면서 가한다. 뱃치를 실온으로 냉각시켜 저장한다.

[실시예 Ⅳ]

다음은 본 발명의 대표적인 모발 스타일링 린스 조성물이다.

¹아쿠알론코포레이션에서 시판하는 소수성으로 개질된 하이드록시 에틸 셀룰로오즈

²지.이.실리콘즈(G.E. Silicones)에서 시판하는 G.E. SE-76 검

조성물은 다음과 같이 제조한다. 크산탄 검을 먼저 완전히 수소활될 때까지 4% 크산탄 검으로 물 속에서 슬러리화 한다. 별도의 용기 속에서 공중합체를 펜에틸 펜타메틸 디실록산 및 D4 사이클로메티콘 속에 혼합한다.

나머지 물을 약 88℃로 예비 가열한다. DTDMAC, 시트로산, 시트로산나트륨 및 수소화 탤로우 베타인을 이 물에 가하고 용융될 때까지 혼합한다. 이후에, 이 혼합물을 약 65℃로 냉각시킨다. 나트로졸 플러스, 실리콘 검 예비혼합물, 카톤 및 방향제를 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 이후에, 이 혼합물을 야43℃로 냉각시킨다. 이후에, 크산탄 검 예비혼합물 및 공중합체 예비혼합물을 가하고 균질화될때까지 혼합물을 교반한다. 생성된 조성물을 주위 온도로 냉각시킨다.

[실시예 Ⅴ]

다음은 본 발명의 대표적인 핸드 크림 조성물이다.

¹아쿠알론에서 시판하는 소수성으로 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈

모든 성분은 90℃에서 약 1/2시간 동안 혼합한 다음 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 Ⅵ]

다음은 본 발명의 대표적인 비듬 방지 크림 린스 및 컨디셔닝 조성물이다.

¹아쿠알론에서 시판하는 소수성 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈.

본 조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 먼저 190℉로 가열한다. 스테아르아민 옥사이드 및 나트로졸을 혼합하면서 가한다. 이후에, 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 수분간 균질화시킨다. 뱃치를 150℉로 냉각시킨다. 방향제, 방부제 및 ZPT를 가하고 조성물을 10분간 혼합한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 Ⅶ]

다음은 본 발명의 대표적인 일광 차단 조성물이다.

¹아쿠알론에서 시판하는 소수성 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈

본 조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 190℉로 가열한다. 스테아르아미드 DEA 및 나트로졸을 혼합하면서 가한다. 이후에, 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 수분 동안 균질화시킨다. 뱃치를 150℉으로 냉각시킨다. 방향제, 방부제 및 PABA를 가하고 조성물을 10분동안 혼합한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 Ⅷ]

다음은 본 발명의 대표적인 모발 강장성 조성물이다.

본 조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 먼저 190℉로 가열한다. 스테아르아민 옥사이드를 가하고 5분간 혼합시킨다. 광유 및 나트로졸을 가하고 조성물을 분산기(예: Tekmar의 T-50 울트라-튜락스)를 사용하며 약 2분간 균질화시킨다. 뱃치를 150℉으로 냉각시킨다. 방향제, 방부제를 가하고 뱃치를 10분동안 혼합한다. 이후에, 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 Ⅸ]

다음은 본 발명의 대표저긴 모발 컨디셔닝 린스이다.

²제넥틱 일렉트릭(Genetic Electric)에서 시판하는 실리콘 검

조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 190℉로 가열한다. DTDMAC, 스테아르아미드 DEA, 나트로졸 및 실리콘 검 예비혼합물을 혼합하면서 가한다. 이후에, 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 약 2분 동안 균질화시킨다. 조성물을 150℉으로 냉각시키고 카톤 및 방향제를 약 10분간 혼합하면서 가한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 Ⅹ]

다음은 본 발명의 대표저긴 비듬 억제 강장 조성물이다.

²올린(Olin)에서 시판하는 비듬 방지 활성제

조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 먼저 190℉으로 가열한다. 세테르-2 및 나트로졸을 약 5분간 혼합하면서 가한다. 이후에, 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 수분 동안 균질화시킨다. 뱃치를 150℉으로 냉각시킨다. 아연 오마딘 및 방향제를 10분동안 혼합하면서 가한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 XI]

다음은 본 발명의 대표적인 모발 성장 강장 조성물이다.

¹업존(Upjohn)에서 시판하는 활성 모발 성장제

²아쿠알론(Aqualon)에서 시판하는 소수성 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈

본 조성물은 다음과 같이 제조한다. 모든 성분을 혼합하고 90℃에서 약 1/2시간 동안 혼합시킨 후 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 XII]

다음은 본 발명의 대표적인 모발 스타일링 컨디셔너 조성물이다.

²이소부틸메타크릴레이트/2-에틸헥실메타크릴레이트/N,N-디메틸아크릴아미드 공중합체 80/5/15

³제네랄 일렉트릭에서 시판하는 실리콘 검

조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 먼저 190℉로 가열한다. EDTA, 탤로우 디에탄올아미드, 모노- 및 이나트륨 포스페이트를 약 5분간 혼합하면서 가한다. 나트로졸을 혼합하면서 가한다. 뱃치를 150℉로 냉각시킨다. 실리콘 검 예비혼합물을 혼합하면서 가한다. 이후에, 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 약 2분 동안 균질화시킨다. 뱃치를 150℉으로 냉각시킨다. 방향제, 스타일링 중합체 예비 혼합물 및 글리단트를 가하고 조성물을 10분간 혼합한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 ⅩⅢ]

²제네랄 일렉트릭에서 시판하는 실리콘 검

³이소부틸메타크릴레이트/2-에틸헥실메타크릴레이트/N,N-디메틸아크릴아미드 공중합체 80/5/15

조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 190℉으로 가열한다. DTDMAC, 이나트륨 EDTA, 인산나트륨 및 이나트륨 포스페이트를 가하고 조성물을 약 5분간 혼합한다. 실리콘 검 예비혼합물, 로커스트 빈 검 및 나트로졸을 혼합하면서 가한다. 이후에, 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 약 2분간 균질화시킨다. 뱃치를 150℉으로 냉각시키고 크산탄 검 예비 혼합물, 스타일링 중합체 예비 혼합물, 방향제 및 글리단트를 가하고 약 10분간 혼합시킨다. 이후에, 조성물를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 ⅩⅣ]

다음은 본 발명의 대표적인 스타일링 린스 조성물이다.

¹80/20 t-부티 아크릴레이트/PDMS 고분자로서, 이 고분자는 문헌[1988년 3월 1일자로 허여된 클레멘의 미합중국 특허 제4,728,571호의 실시예 C-2b]과 유사한 방식으로 제조되며 분자량은 약10,000이다.

²제네랄 일렉트릭에서 시판함.

³아쿠알론 캄파니에서 시판하는 소수성 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈

⁴롬 앤드 하스에서 시판하는 방부제

조성물은 다음과 같이 제조한다. 스타일링제 및 예비 혼합물을 통상의 방법으로 별도로 배합한다. 주 혼합물은 모든 성분을 가하고 교반하면서 95℃로 1/2시간 가열함으로써 제조한다. 뱃치가 약 60℃로 냉각되면, 예비혼합물 및 스타일링제 혼합물을 교반하면서 주 혼합물을 가하고 뱃치를 주위 온도로 냉각시킨다.

[실시예 ⅩⅤ]

다음은 본 발명의 대표적인 헤어 스타일링 컨디셔너 조성물이다.

¹제네랄 일렉트릭에서 시판하는 폴리디메틸실록산 검

²카보트 코포레이션(Cabot Corp)에서 제조한 열분해법 실리카

³알쿠알론에서 시판하는 소수성 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈

⁴쉐렉스 케미칼 캄파니(Sherex Chemical Co)에서 제조한 이수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드

⁵글리콜 인코포레이티드(Glyco. Inc)에서 제조한 방부제

⁶에틸렌 디아민 테트라아세트산

조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 150℉으로 가열한다. EDTA, PEG, 포스페이트, DEA 및 아도겐을 약 10분간 혼합하면서 물에 가한다. 이후에, 나트로졸을 약 5분간 혼합하면서 가한다. 이후에, 실리콘 검을 혼합하면서 가한다. 이후에 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 약 2분 동안 균질화시킨다. 뱃치를 100℉으로 냉각시킨다. 글리단트 및 방향제를 약 10분간 혼합하면서 가한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 XVI]

다음은 본 발명의 대표적인 모발 스타일링 조성물이다.

¹제네랄 일렉트릭에서 공급하는 폴리디메틸실록산 검

²카보트 코포레이션에서 공급하는 열분해법 실리카

³아쿠알론에서 공급하는 소수성 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈

⁴쉐렉스 케미칼 캄파니(Sherex Chemical Co)에서 공급하는 이수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드

⁵글리콜 인코포레이티드에서 공급하는 방부제

⁶에틸렌 디아민 테트라아세트산

조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 190℉으로 가열한다. EDTA, 포스페이트, DEA 및 아도겐을 약 10분간 혼합하면서 물에 가한다. 나트로졸을 약 5분간 혼합하면서 가한다. 이후에, 실리콘 검을 혼합하면서 가한다. 이후에 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 약 2분 동안 균질화시킨다. 뱃치를 100℉으로 냉각시킨다. 글리단트 및 방향제를 혼합하면서 약 10분간 가한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 XVII]

다음은 본 발명의 대표적인 모발 컨디셔너이다.

¹제네랄 일렉트릭에서 공급하는 폴리디메틸실록산 검

²아쿠알론에서 공급하는 소수성 개질된 하이드록시에틸 셀룰로오즈

³쉐렉스 케미칼 캄파니에서 공급하는 이수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드

⁴글리콜 인코포레이티드에서 공급하는 방부제

⁶에틸렌 디아민 테트라아세트산

조성물은 다음과 같이 제조한다. DRO 수를 150℉으로 가열한다. EDTA, 포스페이트, DEA 및 아도겐을 약 10분간 혼합하면서 물에 가한다. 이후에, 나트로졸을 약 5분간 혼합하면서 가한다. 이후에, 실리콘 검 예비 혼합물을 혼합하면서 가한다. 이후에 조성물을 분산기(예: Gifford-Wood 밀)를 사용하여 약 2분 동안 균질화시킨다. 뱃치를 100℉으로 냉각시킨다. 글리단트 및 방향제를 약 10분간 혼합하면서 가한다. 뱃치를 주위 온도로 냉각시키고 저장한다.

[실시예 XVIII]

본 발명의 모발 컨디셔닝 린스는 다음과 같다.

조성물은 다음과 같이 제조한다. 아도겐 442를 먼저 소량의 물과 혼합하고 용해될때까지 혼합하면서 약 77℃로 가열한다. 이후에, 예비혼합물을 약60℃로 냉각시키고, 실록산 검 및 데카메틸 사이클로펜타실록산 (예비혼합)을 가한다. 예비 혼합물을 추가로 10분간 혼합한다.

나머지 물, 시트르산, 시트르산나트륨 및 EDTA를 별도로 배합하고 혼합하면서 약 65℃로 가열한다. 세틸알콜, 스테아릴 알콜 및 스테아르아미드 DEA를 혼합하면서 가한다. 이후에, 나트로졸 플러스를 조성물이 농후해질 때까지 혼합하면서 가한다. 이후에, 예비혼합물을 혼합하면서 가하고 조성물을 약 50℃로 냉각시킨다. 방향제 및 카톤을 가하고 조성물을 분쇄시키며 주위 온도로 냉각시킨다.

[실시예 XIX]

본 발명의 모발 컨디셔닝 린스는 다음과 같다.

조성물은 실시예 XVIII에 기술된 바와같이 제조한다.

[실시예 XX]

본 발명의 모발 컨디셔닝 린스는 다음과 같다:

조성물은 실시예 XVIII에 기술된 바와같이 제조한다.

[실시예 XXI]

²S0/20 t-부틸아크릴레이트/PDMS 고분자로서, 이는 1988년 3월 1일자로 허여된 클레멘의 미합중국 특허 제4,728,571호의 실시예 C-2b와 유사한 방식으로 제조되는 분자량이 약 10,000인 고분자이다.

³제네랄 일렉트릭에서 공급하는 SE-76 검

⁴용이하게 분산되는 크산탄 검

조성물은 다음과 같이 제조한다.

스타일링 중합체 예비혼합물은 스타일링 중합체, 페닐에틸 펜타메틸 디실록산 및 옥타메틸 사이클로테트라실록산을 혼합시켜 제조한다.

실리콘 검 예비혼합물을, 각각의 용기중에서 균질화될때까지 실리콘 검 및 데카메틸사이클로펜타실록산을 배합하고 혼합하여 제조한다.

약 1/2의 DRO 수를 먼저 약 66℃로 가열한다. 수소화 탤로우 베타인, 시트르산 및 시트르산나트륨을 가하고 균질화될때까지 혼합한다. 나트로졸 및 크산탄 검을 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 조성물을 약 38℃로 냉각시킨다. 스타일링 중합체 예비혼합물, 카톤 CG 및 방향제를 가한다. 조성물을 혼합하고 테크마(Tekmar) 균질화기와 같은 균질화기(바람직하게는, 인-라인)를 사용하여 균질화시킨다.

나머지 DRO 수를 약 88℃로 가열하고, DTDMAC를 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 이후에, 혼합물을 약 43℃로 냉각한다. 실리콘 검 예비혼합물을 가하고 조성물을 균질기를 사용하며 균질화시킨다(바람직하게는, 인-라인).

이후에, 두가지 예비혼합물을 혼합하고 균질화될 때까지 혼합하여 스타일링 린스 조성물을 형성시킨다.

[실시예 XXII]

다음은 본 발명의 모발 스타일링 린스 조성물이다.

²80/20 t-부틸아크릴레이트/PDMS 고분자로서, 이는 1988년 3월 1일자로 허여된 클레멘의 미합중국 특허 제4,728,571호의 실시예 C-2b와 유사한 방식으로 제조되는 분자량이 약 10,000인 고분자이다.

³제네랄 일렉트릭에서 공급하는 SE-76 검

⁴용이하게 분산되는 크산탄 검

조성물은 다음과 같이 제조한다.

실리콘 검 예비혼합물을, 각각의 용기 속에서 균질화될 때까지 실리콘 검 및 데카메틸사이클로펜타실록산을 배합하고 혼합하여 제조한다.

약 1/2의 DRO 수를 먼저 약 66℃로 가열한다. 수소화 탤로우 베타인, 시트르산 및 시트르산나트륨을 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 나트로졸 및 크산탄 검을 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 조성물을 약 38℃로 냉각시킨다. 스타일링 중합체 예비혼합물, 카톤 CG 및 방향제를 가한다. 조성물을 혼합하고 테크마(Tekmar) 균질화기와 같은 균질화기(바람직하게는, 인-라인)를 사용하여 균질화시킨다.

나머지 DRO 수를 약 88℃로 가열하고, DTDMAC스테아릴알콜 및 세틸 알콜을 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 이후에, 혼합물을 약 43℃로 냉각한다. 실리콘 검 예비혼합물을 가하고 조성물을 균질화기를 사용하여 균질화시킨다(바람직하게는, 인-라인).

이후에, 두개의 예비혼합물을 혼합하고 균질화될 때까지 혼합하여 스타일링 린스 조성물을 형성한다.

[실시예 XXIII]

다음은 본 발명의 모발 스타일링 린스 조성물이다.

³제네랄 일렉트릭에서 공급하는 SE-76 검

⁴용이하게 분산되는 크산탄 검

조성물은 다음과 같이 제조한다.

스타일링 중합체 예비혼합물은 스타일링 중합체, 페닐에틸펜타메틸 디실록산 및 옥타메틸 사이클로테트라실록산을 배합시켜 제조한다.

실리콘 검 예비혼합물을, 각각의 용기 속에서 균질화될 때까지 실리콘 검 및 실리콘 유체를 배합하고 혼합하여 제조한다.

나머지 DRO 수를 약 88℃로 가열하고, DTDMAC를 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 이후에, 혼합물을 약 43℃로 냉각한다. 실리콘 검/유체 예비혼합물을 가하고 조성물을 균질화기를 사용하여 균질화시킨다(바람직하게는, 인-라인).

이후에, 두가지 예비혼합물을 배합하고 균질화될 때까지 혼합하여 스타일링 린스 조성물을 형성시킨다.

[실시예 XXIV]

다음은 본 발명의 모발 스타일링 린스 조성물이다.

³제네랄 일렉트릭에서 공급하는 SE-76 검

⁴용이하게 분산되는 크산탄 검

조성물은 다음과 같이 제조한다.

스타일링 중합체 예비혼합물은 스타일링 중합체, 페닐에틸 펜타메틸 디실록산 및 옥타메틸 사이클로테트라실록산을 배합시켜 제조한다.

실리콘 검 예비혼합물은, 각각의 용기 속에서 균질화될 때까지 실리콘 검 및 데카메틸 사이클로펜타실록산을 배합하고 혼합하여 제조한다.

나머지 DRO 수를 약 88℃로 가열하고, DTDMAC를 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 이후에, 혼합물을 약 43℃로 냉각한다. 실리콘 검 예비혼합물을 가하고 조성물을 균질화기를 사용하며 균질화시킨다(바람직하게는, 인-라인).

이후에, 두 예비혼합물을 배합하고 균질화될 때까지 혼합하여 스타일링 린스 조성물을 형성시킨다.

[실시예 XXV]

다음은 본 발명의 모발 스타일링 린스 조성물이다.

³제네랄 일렉트릭에서 공급하는 SE-76 검

⁴용이하게 분산되는 크산탄 검

조성물은 다음과 같이 제조한다.

실리콘 검 예비혼합물은, 각각의 용기 속에서 균질화될 때까지 실리콘 검 및 데카메틸사이클로펜타실록산을 배합하고 혼합하여 제조한다.

나머지 DRO 수를 약 88℃로 가열하고, DTDMAC를 가하고 균질화될 때까지 혼합한다. 이후에, 혼합물을 약 43℃로 냉각한다. 실리콘 검 예비혼합물을 가하고 조성물을 균질화기를 사용하여 균질화시킨다(바람직하게는, 인-라인).

이후에, 두 예비혼합물을 배합하고 균질화될 때까지 혼합하여 스타일링 린스 조성물을 형성한다.

Claims

(a)(A) 화장 조성물[여기서, 화장 조성물은 약1.0% 이하의 수용성 계면활성제를 포함한다]의 중량을 기준으로하여 약 0.1 내지 약 10.0중량%의 C_S-C₂₂알킬, 아릴 알킬, 알킬 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 소수성 그룹 및 수용성 중합체 주쇄를 포함하는 소수성 개질된 비이온성 수용성 중합체(여기서, 중합체의 소수성 부분에 대한 친수성 부분의 비는 약 10:1 내지 약 1000:1이다), (B) 화장 조성물의 중량을 기준으로하여 약 0.02 내지 약 10.0중량%의 분자량 약 20,000 미만의 수불용성 계면활성제 및 (C) 화장 조성물의 중량을 기준으로하여 약 65 내지 약 99중량%의 혼화성 용매를 포함하는 비히클 계(vehicle system)약 80% 내지 약 100%와, (b) 활성 화장 성분 0 내지 약 20%를 포함하는 화장 조성물.
제1항에 있어서, 소수성 개질된 비이온성 수용성 중합체가, 수용성화하기에 충분한 양의, 메틸, 하이드록시에틸, 및 하이드록시프로필로 이루어진 그룹으로부터 선택된 비이온성 치환체를 함유하며, 추가로 약 0.2중량% 내지 셀룰로오즈 에테르를 물 속에 1% 미만으로 용해시키기 위한 양의 탄소수 10내지 24의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 치환된 비이온성 셀룰로오즈 에테르를 포함하는 조성물.
제2항에 있어서, 비히클 계가, 화장 조성물에 대해 전단응력이 약 0.04 내지 약 25sec^-1의 전단속도에서 0 내지 약 50파스칼임을 특징으로 하는 리올로지(rheology)를 제공하는 조성물.
제3항에 있어서, 약 0.2% 내지 약 5.0%의 비이온성 셀룰로오즈 에테르를 포함하는 조성물.
제4항에 있어서, 비이온성 셀룰로오즈 에테르가 에테르 결합을 통해 결합된 장쇄 알킬 라디칼을 포함하는 조성물.
제5항에 있어서, 비이온성 셀룰로오즈 에테르가 약 0.2중량% 내지 하이드록시프로필 셀룰로오즈 1중량% 미만을 물 속에 용해시키는 양의 탄소수 10 내지 24의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 치환된 수용성 하이드록시프로필 셀룰로오즈를 포함하는 조성물.
제6항에 있어서, 수용성 하이드록시에틸 셀룰로오즈가 약 0.2중량% 내지 하이드록시에틸 셀룰로오즈 1중량% 미만을 물 속에 용해시키는 양의 탄소수 10 내지 24의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 치환된 수용성 하이드록시 에틸 셀룰로오즈를 포함하는 조성물.
제7항에 있어서, 장쇄 알킬 그룹에 의해 치환되기 전의 하이드록시에틸 셀룰로오즈의 분자량의 약 50,000 내지 700,000인 조성물.
제8항에 있어서, 수용성 하이드록시에틸 셀룰로오즈가 약 0.40 내지 약 0.95중량%의 양으로 탄소수 약 16의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 치환되며, 하이드록시에틸 몰 치환도가 약 2.3 내지 약 3.7이고, 치환되지 않은 셀룰로오즈의 평균 분자량이 약 300,000 내지 약 700,000인 조성물.
제3항에 있어서, 약 0.05 내지 약 3.0%의 수불용성 계면활성제를 포함하는 조성물.
제10항에 있어서, 수불용성 계면활성제가 스테아르아미드 DEA, 코크아미드 MEA, 디메틸스테아르아민 옥사이드, 글리세릴 모노올레에이트, 수크로오즈 스테아레이트, PEG-2 스테아르아민, 세테트-2, 글리세롤 스테아레이트 시트레이트, 2 수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 폴록스아메르 181, 수소화 탤로우 디메틸 베타인, 수소화 탤로우 아미드 DEA 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제3항에 있어서, 분자량이 약 20,000 이상인 수용성 중합체 물질 약 0.3 내지 약 5.0%를 추가로 포함하는 조성물.
제12항에 있어서, 수용성 중합체 물질이 하이드록시에틸 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 메틸 셀룰로오즈, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴산, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 피롤리돈, 덱스트란, 카복시메틸셀룰로오즈, 아카시아 나무 추출물, 가티(ghatti) 추출물, 트라가칸트 추출물, 나트륨 알기네이트, 프로필렌 글리콜 알기네이트, 나트륨 카라기난, 천연 폴리삭카라이드 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제13항에 있어서, 수용성 중합체 물질이 천연 폴리삭카라이드를 포함하는 조성물.
제14항에 있엇서, 천연 폴리삭카라이드가 구아검, 로커스트 빈 검, 크산탄 검 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제3항에 있어서, 조성물의 중량을 기준으로하여 약 0.05 내지 약 1.0%의 킬레이트화제(chelating agent)를 추가로 포함하는 조성물.
제16항에 있어서, 킬레이트화제가 에틸렌 디아민 테트라아세트산 및 이의 염, 니트릴로 아세트산 및 이의 염, 하이드록시에틸렌 디아민 트리아세트산 및 이의 염, 디에틸렌 트리아민 펜탄-아세트산 및 이의 염, 디에탄올 글리신 및 이의 염, 에탄올 디글리신 및 이의 염, 시트르산 및 이의 염, 인산 및 이의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제12항에 있어서, 조성물의 중량을 기준으로 하여 약 0.05 내지 약 3%의 킬레이트화제를 추가로 포함하는 조성물.
제18항에 있어서, 킬레이트화제가 에틸렌 디아민 테트라아세트산 및 이의 염, 니트릴로 아세트산 및 이의 염, 하이드록시에틸렌 디아민 트리아세트산 및 이의 염, 디에틸렌 트리아민 펜타-아세트산 및 이의 염, 디에탄올 글리신 및 이의 염, 에탄올 디글리신 및 이의 염, 시트르산 및 이의 염, 인산 및 이의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제12항에 있어서, 약 0.02 내지 약 2.5%의 수용성 중합체가, 분자량이 약 1,000,000을 초과하는 수용성 중합체 물질 및 강이온성인 수용성 중합체 물질로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제16항에 있어서, 약 0.02 내지 약 2.5의 수용성 중합체가, 분자량이 약 1,000,000을 초과하는 수용성 중합체 물질 및 강이온성인 수용성 중합체 물질로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제18항에 있어서, 약 0.02 내지 약 2.5%의 수용성 중합체가, 분자량이 약 1,000,000을 초과하는 수용성 결합체 물질 및 강이온성인 수용성 중합체 물질로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제3항에 있어서, 활성 화장 성분이 활성 모발 보호 성분을 포함하는 모발 보호 조성물인 화장 조성물.
제23항에 있어서, 조성물이 약 1% 이하의 지방 알콜 물질을 포함하는 조성물.
제24항에 있어서, 활성 모발 보호 성분이 콘디셔닝제, 비듬 방지 보조제, 모발 성장 촉진제, 방향제, 염료, 안료, 모발 유지 중합체 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로 부터 선택되는 조성물.
제25항에 있어서, 활성 모발 보호 성분이, 점도가 약 10cP 미만인 휘발성 실리콘 유체, 점도가 약 100,000cP 미만인 비휘발성 실리콘 유체, 점도가 약 1,000,000cP 이상인 실리콘 검 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제26항에 있어서, 실리콘 검이 폴리디메틸실록산 검 및 폴리페닐메틸실록산 검으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제27항에 있어서, 활성 모발 보호 성분이 복소 점도가 2 x 10⁵P(poise) 이상인 약 0.01 내지 약 10%의 강성 실리콘 고분자를 포함하는 조성물.
제28항에 있어서, 강성 실리콘 중합체에 대한 휘발성 캐리어를 추가로 포함하는 조성물.
제29항에 있어서, 강성 실리콘 고분자가 유기 치환된 실록산 검, 실리콘 탄성중합체, 충전제 강화된 폴리디메틸 실록산 검, 수지 강화된 실록산 및 가교결합된 실록산 중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 모발 보호 조성물.
제30항에 있어서, 휘발성 캐리어가 약 3 내지 약 7개의 실리콘 원자를 포함하는 사이클릭 실리콘인 모발 보호 조성물.
제31항에 있어서, 강성 실리콘 고분자가 실리콘 탄성 중합체이고 단독 휘발성 캐리어가 물인 모발 보호 조성물.
제31항에 있어서, 강성 실리콘 고분자가 충전제 보강된 폴리디메틸실록산 검인 모발 보호 조성물.
제31항에 있어서, 강성 실리콘 고분자가 유기 치환된 실록산 검인 모발 보호 조성물.
제31항에 있어서, 강성 실리콘 중합체가 수지 강화된 실록산인 모발 보호 조성물.
제25항에 있어서, 활성 모발 보호 성분이 비닐 중합체 주쇄에 1가 실록산 중합체 잔기가 그래프팅된 공중합체 약 0.1 내지 약 10%를 함유하며, 이 공중합체는 C 단량체와 A 단량체, B 단량체 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 성분을 함유하고, 여기서, A는 사용되는 경우 공중합체 중의 단량체의 총 중량을 기준으로하여 약 98중량% 이하의 양인 하나 이상의 자유 라디칼 중합가능한 비닐 단량체이고, B은 사용되는 경우 공중합체 중의 단량체의 총 중량을 기준으로하여 약 98중량% 이하의 양인 A의 공중합가능한 하나 이상의 강화 단량체이며, B단량체는 극성 단량체 및 고분자로 이루어진 그룹으로 부터 선택되고, C은 공중합체의 약 0.01 내지 약 50%를 차지하며 분자량이 약 1000 내지 약 50,000인 다음 일반식의 중합체성 단량체인 조성물.

X(Y)_nSi(R)_3-m(Z)_m

상기식에서, X는 A 및 B 단량체와 공중합가능한 비닐 그룹이고, Y는 2가 결합 그룹이며, R은 수소, 저급 알킬, 아릴 또는 알콕시이고, Z은 수평균분자량이 약 500 이상인 1가 실록산 중합체 잔기이며, 공중합 조건하에서 필수적으로 비반응성이고 중합 후에 비닐중합체 주쇄에 펜던트(pendant)되며, n은 0 또는 1이고, m은 1 내지 3의 정수이다.
제36항에 있어서, 공중합체가 약 5 내지 98%의 A 단량체, 약 0.1 내지 약 50%의 C 단량체 및 0 내지 약 98%의 B 단량체를 포함하는 조성물.
제25항에 있어서, 활성 모발 처리 성분이 다음 일반식으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 폴리디메틸실록산을 기본으로하여 친유성 저극성 자유 라디칼적으로 중합가능한 비닐 단량체(A), A(B)와 공중합가능한 친수성 극성 단량체 및 중량평균 분자량이 약 1,000 내지 약 50,000인 실리콘 함유 고분자를 포함하는 조성물.

상기식에서, m은 1, 2 또는 3이고, P은 0 또는 1이며, R는 알킬 또는 수소이고, q는 2 내지 6의 정수이며, s는 0 내지 2의 정수이고,
R¹은 수소 또는 -COOH이고, R²는 수소, 메틸 또는 -CH₂COOH이며,
R⁴는 알킬, 알콕시, 알킬아미노, 아릴 또는 하이드록실이고, r은 약 5 내지 약 700의 정수이다.
제38항에 있어서, 단량체 A가 C₁-C₁₈알콜의 아크릴산 에스테르, C₁-C₁₈알콜의 메타크릴산 에스테르, 스티렌, 비닐 아세테이트, 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, 아크릴로니트릴, 알파-메틸스티렌, 3급-부틸스티렌, 부타디엔, 사이클로헥사디엔, 에틸렌, 프로필렌, 비닐 톨루엔, 폴리스티렌 고분자 및 이들의 혼합물을 이루어진 그룹으로부터 선택되는 모발 보호 조성물.
제39항에 있어서, 단량체 B가 아크릴산, 메타크릴산, N,N-디메틸아클리아미드, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 4급화 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 메타크릴로니트릴, 메타크릴로아미드, 말레산 무수물, 말레산 물수물의 반 에스테르, 이타콘산, 아크릴아미드, 아크릴레이트 알콜, 하이드록시에틸 메타크릴레이트, 디알릴디메틸 암모늄 클로라이드, 비닐 피롤리돈, 비닐 에테르, 말레이미드, 비닐 피리딘, 비닐 이미다졸, 스티렌 설포네이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 모발 보호 조성물.
제40항에 있어서, 단량체 A이 n-부틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 3급-부틸아크릴레이트, 3급-부틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 모발 보호 조성물.
제41항에 있어서, 단량체 B가 아크릴산, N,N-디메틸아크릴아미드, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 4급화 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 비닐 피롤리돈 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 모발 보호 조성물.
제42항에 있어서, 단량체 C이 일반식
의 화합물인 모발 보호 조성물.
제43항에 있어서, p가 0이고 q가 3인 모발 보호 조성물.
제44항에 있어서, m이 1이고, r이 약 250이며, R⁴가 알킬이고, R¹이 수소이며, R²가 메틸인 모발 보호 조성물.
제40항에 있어서, 실리콘 함유 공중합체가 아크릴산/n-부틸메타크릴레이트/폴리디메틸실록산 고분자-20,000mw(10/70/20); N,N-디메틸아크릴아미드/이소부틸 메타크릴레이트/PDMS 고분자-20,000mw(20/60/20); 디메틸아미노에틸 메타크릴 레이트/이소부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(25/40/15/20); 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/이소부틸 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(10/70/20); 4급화 디메틸 아미노에틸 메타크릴레이트/이소부틸 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(40/40/20); 아크릴산/메틸 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(40,40,20); 아크릴산/이소프로필 메타크릴레이트/PDMS-[20,000mw(25/65/10); N,N-디메틸아크릴아미드/메톡시에틸 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(60/25/15); 디메틸아크릴아미드/PDMS-고분자-20,000mw(80/20); 3급-부틸아크릴레이트/3급-부틸메타크릴레이트/PDMS-고분자-10,000mw(56/24/20); 3급-부틸아크릴레이트/PDMS-고분자-10,000mw(80/20); 3급-부틸아크릴레이트 N.N-디메틸아크릴아미도-PDMS-10,000mw(70/10/20), 3급-부틸아크릴레이트/아크릴산/PDMS-10,000mw(75/5/20) 및 이들의 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 모발 보호 조성물.
(a)(A) 하이드록시에틸 몰 치환율이 약 2.3 내지 약 3.7%이며 약0.40 내지 0.95중량%의 C₁₆알킬 그룹에 의해 추가로 치환되며 치환되지 않은 하이드록시에틸 셀룰로오즈의 평균 분자량이 약 300,000 내지 약700,000인 비이온성 셀룰로오즈 에테르 약 0.2 내지 약 5.0%(모발 보호 조성물의 중량을 기준); (B) 스테아르아미드 DEA, 코크아미드 MEA, 디메틸스테아르아민 옥사이드, 글리세릴 모노올레에이트, 수크로오즈 스테아레이트, PEG-2 스테아르아민, 세테르-2, 글리세롤 스테아레이트 시트레이트, 2 수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드, 폴록스아메르(Poloxamer) 181, 수소화 탤로우 디메틸 베타인, 수소화 탤로우 아미드 DEA 및 이들의 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 분자량 약 20,000 미만의 수불용성 계면활성제 약 0.05 내지 약 3.0%(모발 보호 조성물의 중량을 기준); (C) 에틸렌 디아민 테트라아세트산 및 이의 염, 시트르산 및 이의 염 및 포스포르산 및 이의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제 약 0.05 내지 약 0.3%; (D) 크산탄 검 및 분자량이 약 1,000,000을 초과하는 덱스트란으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 분배 보조제 약 0.05 내지 약 1.0% 및 (E) 혼화성 용액 약 65 내지 약 99%(모발 보호 조성물의 중량을 기준)를 포함하는 비히클계 약 80 내지 약 99.9%와 (b) 활성 모발 보호 성분 약 0.1 내지 약 20%를 함유하며, 약 0.5% 미만의 수용성 계면활성제 및 약 1% 미만의 지방 알콜 물질을 포함하고 약 0.04 내지 약 25sec^-1의 전단 속도에서 전단응력이 0 내지 약 50파스칼임을 특징으로 하는 리올로지를 갖는 모범 보호 조성물.
제44항에 있어서, 활성 모발 보호 성분이 아크릴산/n-부틸 메타크릴레이트/폴리디메틸실록산 고분자-20,000mw(10/70/20); N,N-디메틸아크릴아미드/이소부틸 메타크릴레이트/PDMS-고분자-20,000mw(20/60/20); 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/이소부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(25/40/15/20); 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/이소부틸 메타트릴레이트/PDMS-20,000mw(10/70/20); 4급화 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(40/40/20); 아크릴산/메틸 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(40/40/20) 아크릴산/이소프로필 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(25/65/10); N,N-디메틸아크릴아미드/메톡시에틸 메타크릴레이트/PDMS-20,000mw(60/25/15); 디메틸아크릴아미드/PDMS-고분자-20,000mw(80/20); 3급-부틸아크릴레이트/3급-부틸메타크릴레이트/PDMS-고분자-10,000mw(56/24/30); 3급-부틸아크릴레이트/PDMS-고분자-10,000mw(80/20); 3급-부틸아크릴레이트/N,N-디메틸아크릴아미드/PDMS 고분자-10,000mw(70/10/20); 3급-부틸아크릴레이트/아크릴산/PDMS 고분자-10,000mw(75/5/20)및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 실리콘 함유 공중합체를 포함하는 조성물.
제44항에 있어서, 활성 모발 보호 성분이 (a) 폴리디메틸실록산 검 약 0.1 내지 약 2.5%, (b) 열분해법 실리카 약 0.02 내지 약 0.7% 및 (c) 휘발성 실리콘 캐리어 약 0.4 내지 약 18%를 포함하는 컨디셔닝제; (a) 점도가 약 10cP 미만인 휘발성 실리콘 유체 및 (b) 점도가 약 1,000,000cP를 초과하는 실리콘 검 약 0.5내지 약 2.0%를 휘발성 유체:검의 비가 약 85:15 내지 약 50:50로 되도록 함유하는 턴디셔닝제 및 (a) 점도가 약 100,000cP 미만인 비휘발성 실리콘 유체, (b) 점도가 약 1,000,000cP를 초과하는 실리콘 검 약 0.5 내지 약 2.0%를 비휘발성 유체:검의 비가 약 60:40 내지 약 40:60로 되도록 함유하는 컨디셔닝제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 실리콘 컨디셔닝제를 포함하는 조성물.
(a)(A) 수용성화하기에 충분한 양의 메틸, 하이드록시에틸 및 하이드록시프로필로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 비이온성 치환체를 함유하여 약 0.2중량% 내지 셀룰로오즈 에테르를 물 속에 1중량% 미만으로 용해시키기 위한 양의 탄소수 10 내지 24의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 추가로 치환된 비이온성 셀룰로오즈 에테르 약 0.1 내지 약 10.%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준), (B) 분자량 약 20,000 미만의 수불용성 계면활성제 약 0.02 내지 약 10.0%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준) 및 (C) 혼화성 용매 약 65 내지 약 99%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준)를 포함하는 비히클 계 약 80 내지 약 99.9%와 (b)(A) 실리콘 컨디셔닝제 약 0.1 내지 약 18%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준) 및 (B) 지방 알콜 약 1% 이하(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준)를 포함하는 활성 모발 보호 성분 약 0.1 내지 약 20%를 포함하며, 컨디셔닝 조성물의 약 2.5% 이하의 양의 수불용성 계면활성제의 적어도 일부는 4급 암모늄 화합물이 차지하며, 약 1.0% 이하의 수용성 계면활성제를 함유하는 모발 컨디셔닝 조성물.
제50항에 있어서, 비이온성 셀룰로오즈 에테르가 약 0.50 내지 약 0.95%의 양으로 탄소수 약 16의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 치환된 하이드록시에틸 셀룰로오즈 약 0.2 내지 약 5.0%를 함유하며, 하이드록시에틸 몰 치환도가 약 2.3 내지 약 3.7이며, 치환되지 않은 셀룰로오즈의 평균 분자량이 약 300,000 내지 약 700,000인 조성물.
제50항에 있어서, 수불용성 계면활성제를 약 0.05 내지 약 3.0% 함유하는 조성물.
제52항에 있어서, 수불용성 계면활성제가 스테아르아미드 DEA, 코크아미드 MEA, 디메틸 스테아르아민 옥사이드, 글리세릴 모노올레에이트, 수크로오즈 스테아레이트, PEG-2 스테아르아민, 세테트-2, 글리세롤 스테아레이트 시트레이트, 폴록스아메르 181, 수소화 탤로우 디메틸 베타인, 수소화 탤로우 아미드 DEA 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제53항에 있어서, 수불용성 계면활성제가 수소화 탤로우 아미드 DEA를 함유하는 조성물.
제50항에 있어서, 4급 암모늄 화합물 모발 컨디셔닝제가 2 수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드를 약 0.5 내지 약 2% 함유하는 조성물.
제50항에 있어서, 지방 알콜이 스테아릴 알콜, 세틸 알콜, 미리스틸 알콜, 베헤닐 알콜, 라우릴 알콜, 올레일 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제56항에 있어서, 지방 알콜이 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제50항에 있어서, 에틸렌 디아민 테트라아세트산 및 이의 염, 니트릴로 트리아세트 산 및 이의 염, 하이드록시에틸렌 디아민 트리아세트산 및 이의 염, 디에탄올 글리신 및 이의 염, 에탄올 글리신 및 이의 염, 시트르산 및 이의 염, 인산 및 이의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제 약 0.05 내지 약 1.5%를 추가로 함유하는 조성물.
제50항에 있어서, 실리콘 컨디셔닝제가 점도 약 10cP 미만의 휘발성 실리콘 유체, 점도 약 100,000cP 미만의 비휘발성 실리콘 유체, 점도 약 1,000,000cP 이상의 실리콘 검 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제59항에 있어서, 실리콘 검이 폴리디메틸실록산 검 및 폴리페닐메틸실록산 검으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
제50항에 있어서, 실리콘 컨디셔닝제가, 점도 약 100,000cP 미만의 비휘발성 실리콘 유체와 점도가 약 1,000,000cP를 초과하는 실리콘 검 약 0.015 내지 약 9.0%의 혼합물을 비휘발성 유체:검의 비가 약 70:30 내지 약 30:70으로 되도록 함유하는 조성물.
제50항에 있어서, 실리콘 컨디셔닝제가, 점도가 약 10cP 미만인 휘발성 실리콘 유체와 점도가 약 1,000,000cP를 초과하는 실리콘 검 약 0.015 내지 약 9.0%의 혼합물을 휘발성 유체: 검의 비가 약 90:10 내지 약 10:90으로 되도록 하유하는 조성물.
제50항에 있어서, 적어도 일부의 실리콘 컨디셔닝제로서 약 1.0% 이하의 트리메틸실릴-아모디메티콘을 함유하는 조성물.
제50항에 있어서, 스테아르아미도프로필디메틸아민이 컨디셔닝 조성물의 약 1% 이하의 양의 적어도 일부의 수불용성 계면활성제 성분을 함유하는 조성물.
제50항에 있어서, 약 0.1 내지 약 1.5%의 가수 분해된 동물성 단백질을 추가로 함유하는 조성물.
(a)(A) 약 0.50 내지 약 0.95중량%의 양으로 탄소수 약 16의 장쇄 알킬 라디칼에 의해 치환되고 하이드록시에틸 몰 치환도가 약 2.3 내지 약 3.7이며 치환되지 않은 셀룰로오즈의 평균 분자량이 약 300,000 내지 약 700,000인 비이온성 셀룰로오즈 에테르 약 0.2 내지 약 5.0%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준), (B) 수소화 탤로우 아미드 DEA 약 0.05 내지 약 3.0%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준), (C) 에틸렌 디아민 테트라아세트산 및 이의 염, 시트르산 및 이의 염 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제 약 0.05 내지 약 0.3%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준) 및 (D) 물 약 65 내지 약 99%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준)를 함유하는 비히클 계 약 80 내지 약 99.9%와 (b)(A) 점도가 약 10cP 미만인 휘발성 실리콘 유체 및 점도가 약 1,000,000cP를 초과하는 실리콘 검 약 0.5 내지 약 2.0%를 휘발성 유체:검의 비가 약 85:15 내지 약 50:50으로 되도록 함유하는 혼합물 및 점도가 약 100,000cP 미만인 비휘발성 실리콘 유체 및 점도가 약1,000,000cP 이상인 실리콘 검 약 0.5 내지 약 2.0%를 비휘발성 유체:검의 비가 약 60:40 내지 약 40:60으로 되도록 함유하는 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 실리콘 컨디셔닝제 약 0.5 내지 약15%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준), (B) 2수소화 탤로우 디메틸 암모늄 클로라이드 약 0.5 내지 약 2.0%(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준) 및 (C) 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 지방 알콜 약 1% 이하(모발 컨디셔닝 조성물의 중량을 기준)를 함유하는 활성 모발 보호 성분 약 0.1 내지 약 20%를 포함하며, 약 0.5% 이하의 수용성 계면활성제를 포함하는 모발 컨디셔닝 조성물.
실리콘 컨디셔닝제, 4급 암모늄 화합물 및 적어도 일부의 용매를 나머지 성분을 혼합하기 전에 예비 혼합함을 포함하여, 제50항에 따르는 모발 컨디셔닝 조성물을 제조하는 방법.