KR0156994B1

KR0156994B1 - 피부 결함 및/또는 노화 방지용 조성물 및 이의 용도

Info

Publication number: KR0156994B1
Application number: KR1019950004638A
Authority: KR
Inventors: 갼느비엥 꺄반느 프랑스와즈
Original assignee: 쟝-마리 까제; 로레알
Priority date: 1994-03-08
Filing date: 1995-03-07
Publication date: 1998-11-16
Also published as: US5547678A; CA2144127A1; KR950026505A; CN1114559A; HU215176B; ES2120140T3; PL307556A1; PL179674B1; FR2717077B1; CA2144127C; RU95103428A; JPH0826926A; ATE167053T1; BR9500903A; AU664145B2; JP2716393B2; EP0671164A1; AU1234295A; EP0671164B1; ZA951782B

Abstract

본 발명은 화장품학적으로 및/또는 피부 병리학적으로 허용 가능한 매질에 코지산(kojic acid), 및 벤질리덴캄파와 이의 유도체로 구성된군으로부터 선택된 자외선 차단제를 함유하는 피부 결함 및/또는 노화 치료용 조성물에 관한 것이다.

Description

피부 결함 및/또는 노화 방지용 조성물 및 이의 용도

본 발명은 피부 결함 방지 및/또는 억제용, 및/또는 피부 노화 억제용 화장품 및/또는 피부 병리학적 조성물에 관한 것이다. 이 조성물은 사람의 얼굴, 신체 및/또는 다리와 특히 손에 사용하는 부드러운 백색 크림 형태로 제조된다. 본 발명은 또한 피부에 대한 화장품학적 처리용 이 조성물의 용도, 피부에 대한 병리학적 억제를 위한 크림 제조용 이 조성물의 용도 및 이 조성물을 피부에 사용하는 화장품학적 처리 방법에 관한 것이다.

노화 과정중 이 노화의 뚜렷한 특징인 각종 표시가 피부상에 나타나며, 이것은 특히 피부 구조 및 작용의 변화를 반영하는 것이다. 이 노화는 자연적 생리 현상이지만 또한 광 유도성일 수 있다. 다시 말해서 피부를 태양 광에 반복 노출시킴에 기인하는 것이다. 피부의 구성 요소 및 피부에서 배출되는 피지에 대한 이 태양 광의 작용은 특히 산화 자유 라디칼 형성을 유발한다. 이 라디칼은 특히 세포막(막의 투과성), 세포핵(RNA 또는 DNA상의 작용에 의한 돌연변이) 및 조직(괴사 및 변성)에 상당한 손상을 유발한다. 따라서 이 자유 라디칼에 대하여 피부 보호가 필요하다.

피부 노화의 주된 임상적 표시는 특히 연령에 따라 증가하는 깊은 주픔 및 미세한 선의 출현이다. 특히 피부결의 붕괴가 관찰되며, 이것은 미소한 교체 작용(microrelief)이 덜 균일하고 자연적으로 비등방성(anisotropic)임을 말하는 것이다.

더욱이 피부 안색이 일반적으로 변하여 보다 창백하고 노랗게 보이는데, 이는 특히 미소 순환의 붕괴(피부 모세 혈관내 헤모글로빈의 감소)에 기인하는 것이다. 게다가 많은 착색 및/또는 거무스름한 결함이 피부 표면에 특히 손에 나타나 피부에 이질성을 부여한다. 일반적으로 이 결함은 피부 표피 및/또는 진피내 상당한 멜라닌(melanin) 형성에 기인한다. 때때로 이 결함은 암이 될 수 있다. 따라서 이 결함을 감소시키거나 제거시키는 것을 집중적으로 추구한다. 더욱이 널리 퍼진 이상 과민(irritation) 및 때때로 모세 혈관 확장증이 피부의 어떤 부위에 나타날 수 있다.

노화의 또다른 임상적 표시는 피부의 건조 및 거칠은 외형으로서, 특히 아주 상당한 박리(desquamation)에 기인한다 ; 이 인설(squama)은 또한 광선을 분산시킴으로써 안색을 다소 어둡게 보이도록 한다. 결국 피부의 안정성 및 탄력성의 상실이 관찰되는 것은 주름 및 미세한 선에 있어서 진피 및 표피의 위축 및 표피 형성의 평평화에 의해 적어도 부분적으로 설명된다 ; 이때 피부는 얇아지고 더 늘어지며, 표피의 두께가 감소한다.

따라서 피부 노화의 임상적 표시는 특히 피부에 발생하는 주된 생물학적 메카니즘의 기능 장애에 의한다.

따라서 본 발명에 따른 조성물은, 노화 개시 및 주름과 미세한 선 같은 노화 존재 표시의 방지 및/또는 억제, 원인에 관계없이 피부 색소 형성 결함의 방지 및/또는 억제, 및 특히 산화 자유 라디칼 형성 억제에 의한 피부 보호가 가능한 조성물이다.

문헌 JO2-200,622에 의하면, 피부 색소 형성 및 자외선으로 유도된 홍반화를 방지하기 위하여 파라 아미노벤조산, 살리실산 또는 메톡시시남산의 유도체 및 벤조페논 유도체에서 선택된 화합물과 코지산(kojic acid)을 결합시키는 것이 공지되어 있다.

더욱이 문헌 FR-A-2,680,466에 의하면, 자외선 차단제로 작용하는 플라보노이드, 코지산, 부틸메톡시디벤조일메탄 및 메톡시시남산을 함유하는 조성물의 표백이 공지되어 있다. 부틸메톡시디벤조일메탄은 광 불안정성(즉, 광 존재하의 탈 안정화를 말하는 것으로, 특히 차단제에 불리하다)이라는 결점을 지닌다. 따라서 안정성 고양을 위하여 이것을 또다른 차단제인 시남에이트 유형과 결합시키는 것이 필요하다. 이로서 이 조성물 제조가 복잡해진다.

부가적으로 노화 현상 억제용의 많은 조성물들이 시장에 존재한다. 불행하게도 공지된 조성물의 효과는 종종 아주 불충분하다. 따라서 본 발명의 주제는 피부 노화 및/또는 피부 결함의 방지 및/또는 억제에 관한 선행 기술의 효과보다 훨씬 뛰어난 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 주요특징에 따르면, 이 조성물은 화장품 및/또는 피부 병리학적으로 허용 가능한 매질에, 코지산 및 벤질리덴캄파와 이의 유도체로 구성된 그룹에서 선택한 자외선 차단제를 함유한다.

따라서 출원인은 놀랍게도 코지산 및 벤질리덴캄파 및/또는 이 유도체중 하나의 동시 사용이, 주름 및 미세한 선을 경감시키고, 피부 안색 변화로 더욱 붉게 보이게 하며, 색소 형성 결함을 제거하고, 인설을 제거하며, 피부에 더욱 탄력성 유지를 유발함을 발견하였다. 특히 본 발명의 조성물은 이를 손에 사용한 여성의 50%에 대하여 결함을 경감 또는 완화시킬 수 있다. 사실 이것은 코지산 또는 현재 시판되는 다른 어떠한 탈색소 활성화제를 함유하는 산물에 있어서 도달하지 못한 기대외의 억제 효과이다.

코지산이 상대적으로 낮은 효능을 지니는 반면, 벤질리덴캄파 및/또는 이의 유도체가 코지산의 결함 방지 효능을 매우 상당한 정도로 증가시킨다는 것은 아주 놀라운 것이다.

본 발명에 사용될 수 있는 벤질리덴캄파 유도체는 특히 술포(sulpho) 및/또는 술포네이토(sulphonato) 유도체이다. 특히 본 발명에 사용할 수 있는 벤질리덴캄파 유도체는 하기 일반식 (a)를 갖는다.

[식중, B는 -H 또는 -SO₃H를 표시하고,

0≤P≤1에서 P=0일때 B=-SO₃H이며,

0≤n≤4이고,

D는 n≥2일때 동일 또는 상이할 수 있고, 약 1∼18 탄소수, 할로라디칼 또는 히드록시 라디칼을 함유하는 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알콕시 라디칼을 표시하며, A는 메타 또는 파라 위치에서 하기 사항을 나타낸다.

-SO₃H 라디칼, 또는 기(식중, y가 -H 또는 -SO₃H를 나타낸다).

또는 기(식중, R₁₁은 수소 원자, 약 1∼6 탄소수 또는 -SO₃H 라디칼을 함유하는 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알콕시 라디칼을 표시하고, B=-H일때 R₁₁은 -SO₃H이다. R₁₂는 수소 원자, 또는 약 1∼6 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알콕시 라디칼을 표시하고, X는 산소 또는 황 원자, 또는 -NR-기이며, R은 수소 원자, 또는 약 1∼6 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼로서, 적어도 하나의 -SO₃H 작용은 임의로 중화된다.)]

하나 이상 작용의 중화는 수산화 나트륨, 트리에탄올아민 또는 수산화 칼륨같은 화장품 분야에 일반적으로 사용되는 염기를 사용하여 달성될 수 있다.

(a)식 화합물 중에 언급될 수 있는 특이한 예로는 하기식 (Ⅰ), (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 유도체가 있다.

[식중, - Z은 바람직하게는 파라 또는 메타 위치에서 기(식중, y는 임의로 중화되는 -H 또는 -SO₃H를 표시한다)를 표시한다.

- n은 0 또는 1∼4에 이르는 수 (0≤n≤4)이다.

- R₁은 동일 또는 상이할 수 있고, 약 1∼4 탄소수의 하나 이상의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알콕시 라디칼이다.]

특히 바람직한 (Ⅰ) 식의 화합물은 n=0, 파라 위치의 Z 및 Y = -SO₃H : 또한 테레프탈일리덴디캄파술폰산(CTFA 명명법 - 제5판)으로 언급되는 벤젠-1,4-[디(3-메틸리덴-10-캄파술폰)]산에 해당하는 것이다.

(식중, -R₂는 수소 원자 또는 -SO₃H 라디칼을 표시하고,

-R₃, R₄, R₅및 R₆는 동일 또는 상이할 수 있고, 수산화기, 약 1∼4 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼, 약 2∼4 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알케닐 라디칼, 1∼4 탄소수의 직쇄 또는 알콕시 라디칼, 2∼4 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알케닐옥시 라디칼, 또는 할로 라디칼이며 ;

더욱이 R₃∼R₆의 단 하나의 라디칼만이 -SO₃H 라디칼일 수 있고, R₃∼R₆라디칼 중의 적어도 하나는 R₂가 수소 원자일때 -SO₃H 라디칼을 표시한다. 하나 이상의 -SO₃H 작용은 또한 중화될 수 있다.)

언급할 수 있는 특이한 예로는 (Ⅱ)식의 하기 화합물들이다.

식중에서 :

·R₄는 벤질리덴캄파의 파라 위치에서 -SO₃H 라디칼, 각각의 R₂, R₃, R₅및 R₆는 수소 원자를 표시하면, 3-벤질리덴캄파-4'-술폰산을 나타내게 된다.

·각각의 R₃, R₄, R₅및 R₆는 수소 원자, R₂는 -SO₃H 라디칼을 표시하면, 3-벤딜리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₄는 벤질리덴캄파의 파라 위치에서 메틸 라디칼, R₅는 -SO₃H 라디칼, R₂, R₃및 R₆가 수소 원자를 표시하면, 3-벤질리덴캄파-4'-메틸-3'-술폰산을 나타내게 된다.

·R₄는 벤질리덴캄파의 파라 위치에서 염소 원자, R₅는 -SO₃H 라디칼, R₂, R₃및 R₆가 수소 원자를 표시하면, 3-벤질리덴캄파-4'-클로로-3'-술폰산을 나타내게 된다.

·R₄는 벤질리덴캄파의 파라 위치에서 메틸 라디칼, R₃, R₅및 R₆는 수소 원자, R₂는 -SO₃H 라디칼을 표시하면, 4'-메틸-3-벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, R₃는 메틸 라디칼, R₄는 수소 원자, R₅는 t-부틸 라디칼, R₆는 수산화 라디칼이면, 3-(3-t-부틸-2-히드록시-5-메틸)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, R₃는 메톡시 라디칼, R₄는 수소 원자, R₅는 t-부틸 라디칼, R₆는 수산화 라디칼이면, 3-(3-t-부틸-2-히드록시-5-메톡시)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, 각각의 R₃및 R₅는 t-부틸 라디칼, R₄는 수산화 라디칼, R₆는 수소 원자를 표시하면, 3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₄는 파라 메톡시 라디칼, R₅는 -SO₃H, R₂, R₃및 R₆라디칼은 H를 표시하면, 3-벤질리덴캄파-4'-메톡시-3'-술폰산 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, R₃및 R₆는 H, R₄및 R₆는 메틸렌디옥시 라디칼을 표시하면, 3-(4,5-메틸렌디옥시)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, R₄는 메톡시 라디칼, R₃, R₅및 R₆라디칼은 H를 표시하면, 3-(4-메톡시)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, R₄및 R₅모두는 메톡시 라디칼, R₃및 R₆라디칼은 H를 표시하면, 3-(4,5-디메톡시)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, R₄는 n-부톡시 라디칼, R₃, R₅및 R₆라디칼은 수소 원자를 표시하면, 3-(4-n-부톡시)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

·R₂는 -SO₃H 라디칼, R₄는 n-부톡시 라디칼, R₅는 메톡시 라디칼, R₃및 R₆모두는 수소원자를 표시하면, 3-(4-n-부톡시-5-메톡시)벤질리덴-10-캄파술폰산을 나타내게 된다.

(식중 :

- R₁₁은 수소 원자, 약 1∼6 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알콕시 라디칼, 또는 -SO₃H 라디칼을 표시하고,

- R₁₂는 수소 원자, 또는 약 1∼6 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알콕시 라디칼을 표시하며,

- R₁₃은 수소 원자 또는 -SO₃H 라디칼을 표시하고,

- R₁₁및 R₁₃라디칼 중의 적어도 하나는 -SO₃H 라디칼을 표시하고,

- X는 산소 또는 황 원자, 또는 -NR-기이고, R은 수소 원자, 또는 1∼6 탄소수의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 라디칼이다.)

언급할 수 있는 (Ⅲ)식의 화합물의 특이한 예로는 :

X가 -NH- 라디칼, R₁₁은 -SO₃H 라디칼, R₁₂및 R₁₃모두가 수소 원자를 표시하면, 2-[4-(캄파메틸리덴)페닐]벤즈이미다졸-5-술폰산을 나타내는 화합물이 있다.

(Ⅰ), (Ⅱ) 및 (Ⅲ) 구조식의 화합물은 미 합중국 특허 4,585,597 및 특허 FR 2,236,515, 2,282,426, 2,645,148, 2,430,938 및 2,592,380에 개시되어 있다.

본 발명에 사용될 수 있는 벤질리덴캄파 유도체의 또다른 예로 하기 일반식 (b)의 화합물을 들 수 있다.

(식중 :

- R₉은 2가 라디칼 : -(CH₂)- 또는 -CH₂-CHOH-CH₂-를 표시하고, m은 1∼10 범위의 정수(1≤m≤10)이다.

- R₁₀은 수소 원자, 약 1∼4 탄소수의 알콕시 라디칼, 또는 R₉라디칼도 2가일 때 이에 부착된 2가 라디칼 -O-이다.

- Y 및 Y'는 수소 원자 또는 -SO₃H 라디칼을 표시하고, 이 Y 또는 Y' 라디칼 중의 적어도 하나는 수소 이외의 것이다. 또한 이 경우 -SO₃H 작용은 중화될 수 있다.)

언급할 수 있는 구체예로는 하기 (b)식의 화합물들이 있으며, 여기에서 Y는 -SO₃H, Y'는 -H, R₁₀은 H, R₉은 -CH₂-CH₂-를 표시하면, 에틸리덴비스[3-(4'-옥시벤질리덴)-10-캄파술폰]산을 나타내게 된다.

본 발명에 따른 코지산의 양은 화장품 또는 피부 병리학 분야에서 통상 사용되는 양이다. 예를 들면, 이 조성물은 총중량에 대하여 0.05∼10중량%, 바람직하게는 0.5∼2중량%를 사용할 수 있다.

유사하게 본 발명에 사용할 수 있는 벤질리덴캄파 유도체의 양은 관련 분야에 통상 사용되는 양이다. 실제로 이 조성물 총중량에 대하여 0.1∼10중량%, 바람직하게는 0.1∼5중량%가 사용된다.

본 발명의 조성물은 용액, 수성 또는 수-알코올성 겔, 수중 유(oil) 또는 유중 수(water)의 유액, 및 특히 수상내의 소구체에 의해 분산되는 소적 유같은 국부적 사용에 통상 사용되는 모든 약학적 형태들을 취할 수 있다. 이러한 소구체는 나노 소구체(nanosphere) 및 나노 캡슐(nanocapsule)같은 중합 나노 입자(nanoparticle)나, 바람직하게는 지질 소낭(vesicle)일 수 있다.

본 발명에 사용될 수 있는 유는 일반적으로 관련 분야에 사용되는 것이다. 이것은 식물, 광물 또는 합성 유이거나, 임의적으로 실리콘 함유 및/또는 플루오르화 유일 수 있다.

본 발명은 코지산 이외의 친수성 또는 친지방성 활성화제, 벤질리덴캄파 및 이 유도체 중의 하나 외에도 겔화제, 보존제, 불투명화제, 유화제, 보조 유화제, 중화제, 향료 및 이의 용해제, 펩티드화제, 염료, 색소 및 충진제같은 친수성 또는 친지방성 보조제를 또한 함유할 수 있다.

유 및 수의 양은 일반적으로 관련 분야에 사용되는 양이고, 조성물의 약학적 형태에 의존한다. 지질 소구체에 의한 수중 유 유액 또는 수중 유 분산액을 위하여, 유는 조성물 총중량에 대해 2∼40중량%일 수 있다.

유사하게 보조제는 일반적 양으로 사용되고, 총 0.1∼20중량%일 수 있다. 보조제의 양은 그 특성에 의한다.

비록 본 발명의 조성물이 신체 및 얼굴의 모든 부위에 국부적으로 사용될 수 있지만, 특히 손에 사용하는 것이 유리하다. 따라서 본 발명은 손에 대한 화장품학적 처리를 위한 상기 조성물의 용도에 더욱 관련된다.

본 발명의 또다른 주제는, 피부의 정상 상태 조절, 보습 및/또는 안정화를 위한 이 조성물의 용도뿐만 아니라, 피부의 주름 및/또는 미세한 선에 대한 화장품학적 처리에 대한 상기 정의된 조성물의 용도에 관한 것이다.

본 발명의 또다른 주제는 병리학적 기원의 피부 흠결 치료용 크림 제조뿐만 아니라, 노화에서 비롯된 손 및 머리 부위를 포함한 신체 및/또는 얼굴에 나타나는 피부 결함에 대한 화장품학적 처리를 위한 상기 정의된 조성물의 용도에 관한 것이다.

본 발명의 또다른 주제는 피부에 상기 정의된 조성물을 사용하는 피부용 화장품학적 처리 방법이다.

하기 시험들은 본 발명의 잇점들을 증명한다. 이 시험의 목적은 본 발명의 조성물이 색소 형성 및 UV에 의한 피부상 홍반 현상을 상쇄시키는 작용을 보여주는 것이다.

이 시험은 3개의 조성물을 지닌 9개의 실험 대상물을 수행하였는데, 본 발명에 의한 첫번째는 코지산 및 테레프탈일리덴디캄파술폰산의 조합을 함유하고, 두번째는 코지산 및 옥시벤조페논의 조합을 함유하는 선행 기술을 보여주며, 세번째는 코지산 및 차단제가 없는 매질(가약 : placebo)을 함유하였다.

실험 대상물은 24일간 아침 및 저녁으로 하루에 두번 이 조성물을 사용하고, 광 조사 날에는 광 조사 2시간 전에 부가적 도포를 수행하였다.

광 조사는 IR 광선을 차단하는 수(water) 필터와 함께, UVB 광선의 많은 부분을 차단하는 1㎜ 두께의 WG 320 스코트(Schott) 필터로 이루어진 오스람(Osram) 2500 W 크세논(Xenon) 램프를 사용하여 수행하였다. 이 계는 UVA가 풍부한 태양 스펙트럼을 재현한다.

광 조사는 9일에 걸쳐 수행하였다. 먼저 실험 대상물의 MED(최소 홍반성 용량)를 (1978. 4. 25의 FDA 추천에 따라) 결정하였는데 ; 2일째의 광 조사는 0.75MED였고, 3일째는 1MED였다. 4일 및 5일째에는 아무런 광 조사도 없었다 ; 6일째의 광 조사는 1.25MED였고 ; 이어서 연속 3일간의 광 조사는 1.5MED였다. 9일째 이후로는 아무런 광 조사도 없었으나, 이 조성물의 사용을 계속하였고 기록은 24일째까지 수행하였다.

한편으로는 SPF_S(광 보호 인자)의 결정을 위해 통상 사용되는 시각적 평가로 첫번째 및 두번째의 조성물을 가약(placebo)과 비교하여 홍반 현상 억제의 백분율을 결정하였고, 다른 한편으로는 미놀타 랩(Minolta Lab) 색도 측정기를 사용한 피부 암화(darkening) 측정으로 첫번째 및 두번째의 조성물을 가약(placebo)과 비교하여 색소 형성 억제의 백분율을 결정하였다. 억제의 백분을은 하기 식에 따른 가약과 비교하여 계산하였다.

이 실험들은 옥시벤조페논 보다 테레프탈일리덴디캄파술폰산이 코지산 효능에 아주 우수한 강화 작용을 갖음을 보여준다; 본 발명의 조성물에 의한 홍반 현상 및 색소 형성 억제는, 선행 기술의 조성물에 의해 수득된 억제보다 매우 우수하다.(20% 상위)

본 발명의 다른 특징 및 잇점은 어떠한 제한없이 하기에서 예시로서 주어지는 설명에 의해 명백해질 것이다. 본 발명에 따른 화장품 및/또는 피부 병리학적 조성물의 하기 실시예에서, 조성물은 중량%로 주어진다.

[실시예 1]

결함 방지 수중 유 크림

[조성]

[A₁+A₂상의 제조]

A₁성분을 80℃에서 용해한다. 혼합물이 투명할때, 온도를 65℃로 저하시키고 A₂를 첨가한다. 혼합물은 투명하고 균일해야 한다. 65℃를 유지한다.

[제조]

B 성분을 제조 비커중 85℃∼90℃에서 용해된다. 투명성의 검사후 온도를 65℃로 저하시킨다. 유액은 교반으로 (A₁+A₂)를 B에 쏟아부어 생성한다. 교반과 함께 냉기를 유지한다. 40℃에서 C상을 첨가하고 교반을 지속한다. 마지막으로 향료를 첨가하고 혼합물을 교반과 함께 20℃로 냉각한다.

[실시예 2]

수중 유 크림

[조성]

[제조]

A₁성분을 100℃에서 용융시킨다. 용융물은 1시간 30분 동안 교반으로 팽창시킨다. 혼합물이 균일할때 A₂를 첨가하고 ; 80℃로 온도를 안정시킨다. 혼합물은 소포 형성을 위해 고압 균질화제를 2회 통과시킨다.

B는 70℃에서 제조하는데 ; 혼합물은 투명해야 한다. 50℃로 냉각하여 50℃에서 A에 B를 첨가한다.

이어서 지질상 B를 분산시키기 위하여 고압 균질화제에 이것을 2회 통과시킨다. 혼합물을 30℃로 냉각시키고, C를 첨가한다. (겔은 미리 카르복시비닐 중합체를 살포하여 80℃에서 물내에 제조되며 ; 중합체가 팽창된 후, 혼합물은 교반으로 트리에탄올아민을 사용하여 중화시키면 ; 겔은 상당히 부드럽다.) D에 이어 E를 첨가한다. 5분간 계속된 교반으로 제조가 종결된다.

[실시예 3]

겔

[조성]

[제조]

겔(카르복시비닐 중합체)은 실시예 2와 같이 80℃에서 물내에 제조된다. B성분을 80℃에서 용해시킨후, B를 A에 첨가한다. 혼합물은 부드럽게 되고, 느린 패들(paddle) 교반으로 냉각 방치한다. 35℃에서 C를 첨가하여 혼합물은 25℃로 냉각하면 겔의 제조가 종료된다.

[실시예 4]

로숀

[조성]

[제조]

A성분을 40℃에서 함께 혼합한다. 완전히 용해될때 B성분을 실온에서 연속하여 첨가한다. 교반을 지속하면 성분의 완전한 용해가 확인된다. C를 첨가한다 ; 혼합물은 투명해야 하며, 이로써 제조가 종결된다.

Claims

화장품학적으로, 피부 병리학적으로 또는 화장품학적 및 피부병리학적으로 허용가능한 매질에, 코지산(kojic acid), 및 벤질리덴캄파와 이의 유도체로 구성된 군으로부터 선택된 자외선 차단제를 함유하는 것을 특징으로 하는, 피부 결함 방지 또는 억제용, 피부 노화 억제용, 또는 피부 결함 방지 또는 억제 및 피부 노화 억제용 조성물.
제1항에 있어서, 차단제가 벤질리덴캄파의 술포 또는 술포네이토 유도체임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 벤질리덴캄파 유도체가 하기식 (Ⅰ)을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물 :

[식중, - Z은 기(식중, Y는 임의로 중화되는 -H 또는 -SO₃H를 나타낸다)를 나타내고, - n은 0 또는 1∼4 범위의 수 (0≤n≤4)이며, - R₁은 동일 또는 상이할 수 있는, 탄소 원자수 1∼4의 하나 이상의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 또는 알콕시 라디칼을 나타낸다.]
제3항에 있어서, 벤질리덴캄파 유도체가 벤젠-1,4[디(3-메틸리덴-10-캄파술폰)]산 임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 조성물이 수중유 유액 형태 또는 소구체 분산액 형태로 제공됨을 특징으로 하는 조성물.
제5항에 있어서, 소구체가 지질 소구체임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 코지산이 조성물 총 중량에 대해 0.05∼10중량%임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 자외선 차단제가 조성물의 총 중량에 대해 0.1∼10중량%임을 특징으로 하는 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 조성물이 또한 친수성 또는 친지방성 보조제를 함유함을 특징으로 하는 조성물.
제1항 또는 제2항에 있어서, 보조제가 겔화제, 보존제, 향료, 충진제, 염료, 코지산 이외의 활성제 및 자외선 차단제로부터 선택됨으로 특징으로 하는 조성물.
노화에 의한 피부 결함 처리용의 제1항에 따른 조성물.
손의 화장품학적 처리용의 제1항에 따른 조성물.
피부의 주름, 미세한 선 또는 양자 모두의 처리용의 제1항에 따른 조성물
피부의 정상 상태 조절, 보습 또는 안정화로부터 선택된 하나 이상의 효과를 갖기 위해 사용되는 제1항에 따른 조성물.
피부 결함을 야기하는 피부 질환 치료를 위한 크림 제조용의 제1항에 따른 조성물.