KR0146272B1

KR0146272B1 - Method for cleaning board using megasonic

Info

Publication number: KR0146272B1
Application number: KR1019940032225A
Authority: KR
Inventors: 유성재
Original assignee: 엄길용; 오리온전기주식회사
Priority date: 1994-11-30
Filing date: 1994-11-30
Publication date: 1998-11-02
Also published as: KR960019557A

Abstract

본 발명은 메가소닉 장치를 이용한 기판세정방법에 관한 것으로 1-1.5㎒의 진동을 갖는 물을 유리기판(1)에 분사하여 기판에 잔존하는 먼지입자를 떨어뜨리는 기판 세정방법이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning method using a megasonic apparatus, and is a substrate cleaning method in which water having a vibration of 1-1.5 MHz is sprayed onto the glass substrate 1 to drop dust particles remaining on the substrate.

본 발명은 종래의 브러시를 이용한 기판세정법이나 초음파를 이용한 방법보다 기판세정의 신뢰성이 뛰어난 액정디스플레이 제조공정의 수율을 보장할 수 있어 생산성을 증대시킬 수 있다.The present invention can ensure the yield of the liquid crystal display manufacturing process that is superior in the reliability of substrate cleaning than the substrate cleaning method using a conventional brush or the ultrasonic method can increase the productivity.

Description

Substrate Cleaning Method Using Megasonic

제1도는 종래의 기술에 따른 브러시를 이용한 기판세정방법을 나타낸 개략도.1 is a schematic view showing a substrate cleaning method using a brush according to the prior art.

제2도는 종래의 기술에 따른 초음파장치를 이용한 기판세정방법을 나타낸 개략도.2 is a schematic view showing a substrate cleaning method using an ultrasonic apparatus according to the prior art.

제3도는 본 발명 따른 메가소닉 장치를 이용한 기판세정방법을 나타낸 개략도.3 is a schematic view showing a substrate cleaning method using a megasonic device according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 기판 20 : 메가소닉장치1 substrate 20 megasonic device

본 발명은 기판세정방법에 관한 것으로 특히 메가소닉을 이용하여 기판에 잔존하는 미세한 입자를 세정하는 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning method, and more particularly, to a method for cleaning fine particles remaining on a substrate using megasonic.

일반적으로 액정디스플레이 제조시 각 공정단계를 전,후 하여 기판에 잔류하는 오염물질을 제거하기 위한 세정공정이 다수회에 걸쳐 수행된다. 기판상에 어떤 물질층을 형성할 때 하층 기판이 오염된 상태로 그 위에 물질층을 형성하면 기판과 증착되는 물질층과의 점착성이 불량하여 후속공정의 실패를 유발한다.In general, a cleaning process for removing contaminants remaining on a substrate is performed a plurality of times before and after each process step in manufacturing a liquid crystal display. When forming a material layer on the substrate, forming a material layer thereon while the underlying substrate is contaminated causes poor adhesion between the substrate and the deposited material layer, causing failure of subsequent processes.

세정공정은 액정디스플레이 제조공정 단계에 따라 차례로 수행되며 먼저 시작물질이 되는 유리기판 세정부터 시작된다.The cleaning process is sequentially performed according to the liquid crystal display manufacturing process steps, and starts with the cleaning of the glass substrate, which is a starting material.

액정디스플레이 장치의 상,부 패널로서 이용되는 유리기판은 그 위에 여러가지 물질층을 차례로 형성하게 되므로 초기세척이 제품의 불량을 방지하는데 있어 매우 중요하며 유리기판에 묻어있는 오염물질을 완전히 제거하지 않고 후속공정을 진행하였을 경우 후속공정수행 이후에 이를 바로잡는 것이 불가능하므로 세정의 신뢰성이 보장되어야 한다.The glass substrate used as the upper and second panels of the liquid crystal display device forms various material layers thereon, so that the initial cleaning is very important to prevent product defects, and does not completely remove the contaminants on the glass substrate. If the process is carried out, it is impossible to correct it after the subsequent process, so the reliability of cleaning should be ensured.

예로서 유리기판상에 전극패턴을 형성하기전 유리기판과 전극으로서 형성되는 금속물질의 점착성이 좋지 못하므로 이러한 문제점을 보완하기 위하여 유리기판상에 버퍼층(buffer layer)을 형성한다.For example, before the electrode pattern is formed on the glass substrate, adhesion between the glass substrate and the metal material formed as the electrode is not good. Thus, a buffer layer is formed on the glass substrate to compensate for this problem.

이러한 버퍼층 형성전 유리기판상에 잔류하는 오염물질 예컨대 미세한 먼지입자를 완전히 제거하여야만 증착되는 버퍼층과 기판간의 점착성을 좋게할 수 있다.The contaminants remaining on the glass substrate, for example, fine dust particles, must be completely removed before the buffer layer is formed to improve the adhesion between the deposited buffer layer and the substrate.

유리기판을 세정하지 않은 상태에서는 그 표면에 여러가지의 금속이온 및 미세한 먼지입자 등이 잔존하게 되므로 먼저 화학용액을 이용하여 금속이온을 제거한후 기판 표면에 묻어있는 화학용액 및 잔류 먼지입자를 제거하기 위해 물속에 포함되어 있는 이온을 제거한 탈 이온수를 이용하여 기판을 세정한다.When the glass substrate is not cleaned, various metal ions and fine dust particles remain on the surface of the glass substrate. Therefore, first, remove the metal ions using a chemical solution, and then remove the chemical solution and residual dust particles on the surface of the substrate. The substrate is cleaned using deionized water from which ions contained in the water have been removed.

이후 후속공정에서도 어떤 물질층을 형성하기전 증착되는 물질층의 하층물질에 미세한 먼지입자가 존재할 경우 공정의 신뢰성을 보장하기 위해서는 이를 반드시 제거하여야만 한다.Subsequently, in the subsequent process, if fine dust particles exist in the underlying material of the deposited material layer before forming any material layer, it must be removed to ensure the reliability of the process.

유리기판 또는 어떤 물질층 상에 잔존하는 오염물질을 제거하기 위한 종래의 기술로서는 일반적으로 초음파장치의 수조내에 피세척기판을 담가 초음파에 의한 물의 진동으로 먼지입자를 제거하는 방법과 기판상에 물을 제공하면서 회전하는 브러시가 그 표면상에 잔존하는 먼지를 제거하는 방법이 널리 이용되었다.Conventional techniques for removing contaminants remaining on a glass substrate or a layer of a material generally include a method of removing dust particles by soaking a substrate in a water tank of an ultrasonic apparatus and vibration of water by ultrasonic waves. The method of providing a rotating brush to remove dust remaining on its surface has been widely used.

그러나 상술한 종래의 기술에 의한 미세먼지입자 제거방법은 5μ 이하의 크기를 갖는 입자를 제거하는데 있어 불충분하였다.However, the above-mentioned fine dust particle removal method according to the related art is insufficient in removing particles having a size of 5 mu or less.

따라서 최근의 액정디스플레이장치가 대화면 고해상도를 요구하고 있는 추세에 부응하여 보다 정밀한 세정방법이 확립되어야 한다.Therefore, in response to the recent trend that the liquid crystal display device requires a large screen high resolution, a more precise cleaning method must be established.

제1도는 종래의 기술에 따른 브러시를 이용한 기판세정방법을 나타낸 개략도이다.1 is a schematic view showing a substrate cleaning method using a brush according to the prior art.

제1도를 참조하면, 브러시를 이용한 기판세정방법은 일측으로 이송되는 유리기판(1) 상측에 설치되는 브러시(2)와, 이 브러시의 상측에 설치되는 물공급장치(3)로 구성된 구조를 갖는다.Referring to FIG. 1, a substrate cleaning method using a brush includes a structure consisting of a brush 2 installed on an upper side of a glass substrate 1 transported to one side, and a water supply device 3 installed on an upper side of the brush. Have

이러한 구성을 갖는 브러시법에 의한 종래의 기판세정 동작은 유리기판(1)이 이송벨트에 실려 일측으로 이동할 때 브러시(2)의 상측에 위치하는 물공급장치(3)로부터 브러시(2) 위에 물이공급되고 이 브러시가 회전하면서 통과는 유리기판(1) 표면에 묻어있는 미세한 먼지입자를 떨어뜨려 물에 씻겨내려가게 하는 방법을 이용하였다.In the conventional substrate cleaning operation by the brush method having such a configuration, the water on the brush 2 from the water supply device 3 positioned above the brush 2 when the glass substrate 1 is moved to one side by being carried on the conveyance belt. As the brush is rotated and passed through, the method uses a method of dropping fine dust particles on the surface of the glass substrate 1 to be washed off with water.

제2도는 종래의 기술에 따른 초음파장치를 이용한 기판세정방법을 나타낸 개략도이다.2 is a schematic view showing a substrate cleaning method using an ultrasonic apparatus according to the prior art.

제2도를 참조하면, 유리기판(1)에 묻어있는 먼지입자를 제거하기 위해 이송벨트를 타고 일측으로 이동하는 유리기판(1)이 초음파장치(10)의 수조내부를 통과하도록 장치를 구성하여 먼지입자를 제거하는 방법을 이용하였다.Referring to FIG. 2, the apparatus is configured such that the glass substrate 1 moving to one side by a transport belt to remove dust particles from the glass substrate 1 passes through the inside of the water tank of the ultrasonic apparatus 10. A method of removing dust particles was used.

초음파장치를 이용한 상술한 종래의 방법은 초음파장치를 동작시켜 수조내의 물에 진동을 가한상태에서 유리기판(1)이 수조내의 지지롤러(15)에 실려 통과하게 함으로써 통과하는 유리기판(1)과 수조내부의 물과의 마찰력을 이용하여 묻어있는 먼지입자가 떨어져 나가도록 하는 방법을 이용하였다.The above-described conventional method using an ultrasonic apparatus includes a glass substrate 1 passing through the glass substrate 1 by being carried by the support roller 15 in the tank while the ultrasonic apparatus is operated to vibrate the water in the tank. The frictional force with the water inside the tank was used to remove the dust particles.

그러나 상술한 두가지의 방법은 5μ 이하의 크기를 갖는 먼지입자를 제거하는데 있어 그 신뢰성을 보장할 수 없었으며 유리기판으로부터 떨어진 먼지입자가 브러시 또는 수조내에 잔류하여 공정이 반복적으로 수행될 경우 이차 오염을 유발하고 초음파장치의 수조내에 채워진 물을 자주교체해주어야하는 문제점이 있었다.However, the two methods described above could not guarantee the reliability of removing dust particles having a size of 5 μ or less. Secondary contamination may occur when the process is repeatedly performed because dust particles away from the glass substrate remain in the brush or the water bath. There was a problem of causing frequent replacement of the water filled in the tank of the ultrasonic device.

본 발명의 목적은 유리기판상에 잔존하는 미세한 먼지입자를 제거할 수 있는 기판세정방법을 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a substrate cleaning method capable of removing fine dust particles remaining on a glass substrate.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 다수개의 메가소닉장치를 유리기판이 이송되는 이송밸트의 상측에 교호로 배치하고 유리기판이 이송밸트를 타고 일측으로 이동할 때 그 상측의 메가소닉 장치로부터 극초음파의 진동을 갖는 물을 유리기판에 분사하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is to alternately arrange a plurality of megasonic devices on the upper side of the transfer belt to which the glass substrate is transported and the ultrasonic wave from the upper side of the megasonic apparatus when the glass substrate is moved to one side by the transfer belt It is characterized by spraying water having a vibration on the glass substrate.

이하 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 제3도는 본 발명에 따른 메가소닉장치를 이용한 기판세정방법을 나타낸 개략도이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 3 is a schematic view showing a substrate cleaning method using a megasonic device according to the present invention.

제3도를 참조하면, 본 발명의 메가소닉 기판세정장치는 유리기판(1)이 통과하는 이송밸트의 상측에 가로방향으로 다수개의 메가소닉장치(20)를 교호로 배치한 구조를 갖는다.Referring to FIG. 3, the megasonic substrate cleaning apparatus of the present invention has a structure in which a plurality of megasonic apparatuses 20 are alternately arranged in the transverse direction on the upper side of the conveyance belt through which the glass substrate 1 passes.

상술한 구조로 형성되는 기판세정장치를 이용한 본 발명의 기판세정방법은 다음과 같다.The substrate cleaning method of the present invention using the substrate cleaning apparatus formed in the above-described structure is as follows.

이송밸트에 실려 메가소닉장치 측으로 이송되어오는 유리기판(1)에 메가소닉장치(20)를 가동하여 메가소닉장치의 수조내에 담겨진 물에 극초음파(1-1.5㎒)의 진동을 가한 상태에서 물을 유리기판상에 분사한다.The megasonic apparatus 20 is operated on the glass substrate 1 which is carried to the megasonic apparatus side by the transfer belt, and the water in the state in which the ultrasonic wave (1-1.5MHz) is vibrated to the water contained in the water tank of the megasonic apparatus. Is sprayed onto a glass substrate.

이때 분사되는 물은 극초음파의 진동을 갖으므로 이 물이 기판에 부딪치면서 기판에 묻어있는 미세한 먼지입자에 충격을 가하여 먼지입자를 떨어뜨리게 되며 떨어진 먼지입자는 기판밖으로 흘러 외부로 유출되므로 종래의 방법에서 문제시 되었던 2차 오염의 요인을 제거하게 된다.At this time, the sprayed water has an ultrasonic vibration so that the water hits the substrate and impacts the fine dust particles on the substrate to drop the dust particles, and the fallen dust particles flow out of the substrate and flow out to the outside. Eliminates the source of secondary pollution that was a problem.

따라서 상술한 본 발명은 종래기술의 브러시를 이용한 방법이나 초음파를 이용한 방법보다 확실히 개선된 기판세정의 신뢰성을 확보할 수 있어 액정디스플레이 제조공정 수율을 높여 생산성을 증대시킬 수 있다.Therefore, the present invention as described above can ensure the reliability of the substrate cleaning improved significantly compared to the method using the brush or the ultrasonic method of the prior art can increase the productivity of the liquid crystal display manufacturing process yield.

Claims

A plurality of megasonic devices 20 are alternately arranged on the upper side of the conveyance belt to which the glass substrate 1 is conveyed, and the ultrasonic waves from the megasonic apparatus 20 when the glass substrate 1 moves to the one side by the conveyance belt. Substrate cleaning method using a megasonic device, characterized in that for spraying water having a vibration of the glass substrate (1).