WO2002083331A1 - Method and equipment for cleaning substrate - Google Patents

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Shigeru Mizukawa
Katsutoshi Nakata
Shunji Matsumoto
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Sumitomo Precision Products Co., Ltd.
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Abstract

A method and equipment for cleaning various kinds of substrate, e.g. a glass substrate of liquid crystal display or photomask, a printed wiring board or a semiconductor wafer. The cleaning equipment comprises a tank (3) storing cleaning water, means (6) for supporting a substrate W movably in the horizontal direction such that the rear surface thereof touches the cleaning water in the water storage tank (3), means (1) for supplying the cleaning water imparted with ultrasonic vibration to the surface of the substrate W, and means R and r for carrying the substrate W between the water storage tank (3) and the cleaning water supply means (1). Ultrasonic vibration imparted to the cleaning water being supplied onto the surface of the substrate W is transmitted through the substrate W to the rear surface thereof thus imparting ultrasonic vibration to the cleaning water touching the rear surface. The substrate W is cleaned effectively, both on the surface and rear surface thereof, by the cleaning water imparted with ultrasonic vibration.

Description

明 細 書 基板洗浄方法および洗浄装置 技術分野  Description Substrate cleaning method and cleaning equipment
この発明は、 液晶表示器, フォ トマスク等のガラス基板、 プリン ト配 線基板や、 半導体ウェハ等の各種基板を超音波洗浄する基板洗浄方法及 び洗浄装置に関する。 背景技術  The present invention relates to a substrate cleaning method and a cleaning apparatus for ultrasonically cleaning various substrates such as a liquid crystal display, a glass substrate such as a photomask, a printed wiring substrate, and a semiconductor wafer. Background art
従来より、 液晶表示器, フォ トマスク等のガラス基板、 プリン ト配線 基板や、 半導体ウェハ等の基板の製造工程においては、 基板の表面に所 定の処理液を供給して処理した後、 この処理液を基板から除去する洗浄 工程が実施されている。 そして、 この洗浄工程には、 単に純水をスプレ 一するだけのものや、 ブラシによって基板表面を洗浄するものなど、 さ まざまな洗浄装置が用いられている。 なかでも、 超音波振動を付与した 洗浄水中に基板を浸潰して洗浄する超音波洗浄では、 基板の表面に付着 した極微細な麈 (いわゆるパーティクル) を除去できる点で有効である しかしながら、 近年、 基板は大型化しており、 従来のように、 基板全 体を超音波洗浄用の貯水槽内に浸潰する方法では、 貯水槽を含む超音波 洗浄装置が大型化するため、 技術的にもコス ト的にも問題がある。 そこ で、 純水スプレーと同様に、 流水に超音波振動を付与して基板を洗浄す る方法が考えられるが、 この方法では、 基板の上下両面に超音波振動を 付与した洗浄水を供給する必要があり、 2つの超音波付与装置が必要と なるため、 装置の大型化や高コス ト化を抑制することができない。 一方、 片面だけの洗浄では、 洗浄されていない側の面に付着したパー ティクルが、 バックライ 卜の点灯などによって浮かび上がるといつた問 題がある。 Conventionally, in the manufacturing process of glass substrates such as liquid crystal displays and photomasks, printed wiring substrates, and substrates such as semiconductor wafers, a predetermined processing solution is supplied to the surface of the substrate and then processed. A cleaning process for removing the liquid from the substrate is being performed. In this cleaning process, various cleaning devices are used, such as one that simply sprays pure water and one that cleans the substrate surface with a brush. In particular, ultrasonic cleaning, in which a substrate is immersed in cleaning water to which ultrasonic vibrations are applied, is effective in that ultra-fine dust (so-called particles) attached to the surface of the substrate can be removed. Substrates are becoming larger, and the conventional method of immersing the entire substrate in a water tank for ultrasonic cleaning requires a large-scale ultrasonic cleaning device including the water tank. There is also a problem. Therefore, as in the case of pure water spray, a method of cleaning the substrate by applying ultrasonic vibration to running water is conceivable. In this method, cleaning water to which ultrasonic vibration is applied to both upper and lower surfaces of the substrate is supplied. It is necessary, and two ultrasonic wave applying devices are required, so that it is not possible to suppress an increase in size and cost of the device. On the other hand, when cleaning only one side, there is a problem that particles adhering to the side that has not been cleaned emerge when the backlight is turned on.
本発明は、 以上の実情に鑑みなされたものであって、 洗浄効果を損な うことなく、 装置の小型化や低コス ト化を実現することができる基板洗 浄方法及び洗浄装置の提供を目的とする。 発明の開示  The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a substrate cleaning method and a cleaning apparatus capable of realizing a reduction in size and cost of the apparatus without impairing the cleaning effect. Aim. Disclosure of the invention
本発明は、 基板裏面の少なく とも一部分に洗浄水を接触させ、 該接触 部分と反対側の基板表面に、 超音波振動を付与した洗浄水を供給して前 記基板を洗浄するようにしたことを特徴とする基板洗浄方法に係る。  According to the present invention, a cleaning water is brought into contact with at least a part of the back surface of the substrate, and the cleaning surface to which the ultrasonic vibration is applied is supplied to the surface of the substrate opposite to the contact portion to wash the substrate. The present invention relates to a substrate cleaning method characterized by the following.
この方法では、 基板裏面の少なく とも一部分に洗浄水を接触させた状 態で、 この接触部分と反対側の基板表面に、 超音波振動を付与した洗浄 水が供給される。 基板表面に供給される洗浄水に付与された超音波振動 は、 基板を介してその裏面に接触する洗浄水に伝播され、 当該基板裏面 に接触する洗浄水に超音波振動が付与される。 斯く して、 基板の表裏両 面が同様に超音波振動の付与された洗浄水によって洗浄され、 表裏両面 が効果的に浄化される。 したがって、 超音波振動を付与する装置は、 そ の一台があれば足リ、 これにより、 装置全体が大型したリ、 高コス トと なるのを抑制することができる。  In this method, at least a part of the back surface of the substrate is brought into contact with the cleaning water, and the cleaning water to which ultrasonic vibration is applied is supplied to the surface of the substrate opposite to the contact part. The ultrasonic vibration applied to the cleaning water supplied to the front surface of the substrate is transmitted to the cleaning water contacting the rear surface of the substrate via the substrate, and the ultrasonic vibration is applied to the cleaning water contacting the rear surface of the substrate. Thus, both the front and back surfaces of the substrate are similarly washed with the cleaning water to which the ultrasonic vibration is applied, and both the front and back surfaces are effectively purified. Therefore, if there is only one device for applying ultrasonic vibration, it is possible to reduce the size of the device and the cost of the device as a whole.
また、 前記基板を水平移動させて、 前記基板裏面の全面が前記洗浄水 と接触するようにしても良い。  Further, the substrate may be moved horizontally so that the entire back surface of the substrate comes into contact with the cleaning water.
このよ うにすれば、 基板を水平移動させることによって、 基板裏面の 全面が洗浄水と接触し、 これによリ基板の表裏両面の全面が洗浄される 。 このため、 基板裏面の全面に洗浄水を接触させるような巨大な装置が 必要なく、 洗浄装置の小型化、 低コス ト化を図ることができる。 また、 上述の方法発明は、 以下の装置発明によってこれを好適に実施 することができる。 即ち、 この装置発明は、 上部に開口部を備え、 内部 に洗浄水を貯留した貯水槽と、 水平移動可能に、 且つ裏面が前記貯水槽 に貯留された洗浄水と接触するように基板を支持する支持手段と、 前記 貯水槽の上方に配設され、 前記洗浄水との接触部分と反対側の基板表面 に、 超音波振動を付与した洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、 前記貯 水槽と前記洗浄水供給手段との間に前記基板を搬送する搬送手段とを設 けて構成したことを特徴とする基板洗浄装置に係る。 In this way, by moving the substrate horizontally, the entire back surface of the substrate comes into contact with the cleaning water, thereby cleaning the entire front and back surfaces of the substrate. For this reason, there is no need for a huge device for bringing the cleaning water into contact with the entire back surface of the substrate, and the cleaning device can be reduced in size and cost. The above-described method invention can be suitably implemented by the following device invention. That is, this device invention has a water reservoir having an opening at the top and storing cleaning water therein, and supports the substrate so as to be horizontally movable and the back surface thereof is in contact with the cleaning water stored in the water reservoir. Cleaning water supply means disposed above the water storage tank, for supplying cleaning water to which ultrasonic vibration has been applied to a substrate surface opposite to a portion in contact with the cleaning water; and the water storage tank. And a transporting means for transporting the substrate between the cleaning water supply means and the cleaning water supply means.
尚、 前記洗浄水供給手段は、 これが、 前記基板の搬送方向と直交する 方向に配置された長尺のノズルを有し、 前記貯水槽の開口部が、 前記基 板の搬送方向と直交する方向において、 前記基板の同直交方向の幅寸法 よりも長い寸法を有すように構成されていても良い。  The cleaning water supply means has a long nozzle arranged in a direction perpendicular to the direction of transport of the substrate, and the opening of the water storage tank has a direction perpendicular to the direction of transport of the substrate. In the above, the substrate may be configured to have a dimension longer than a width dimension in the orthogonal direction.
また、 前記支持手段は、 前記貯水槽内に配置され、 且つその上端が前 記貯水槽内の洗浄水面と一致するように配置された支持ローラを含むよ うに構成されていても良い。  Further, the support means may be configured to include a support roller disposed in the water storage tank and having an upper end arranged so as to coincide with the flush water level in the water storage tank.
このように構成することで、 基板の裏面が貯水槽内の洗浄水と確実に 接触するようにこれを支持することができ、 しかも、 洗浄水供給手段か ら基板表面に供給される洗浄水の圧力により基板が湾曲して、 水面下に 没するといつた現象が生じるのを防止することができる。 尚、 この支持 ローラは、 超音波振動を受けるため、 これによつて損傷を受けない金属 などの材料から構成するのが好ましい。 また、 基板と接触する外周部分 は、 緩やかな曲面に形成されていることが好ましい。  With this configuration, it is possible to support the back surface of the substrate so as to reliably contact the cleaning water in the water storage tank. The substrate can be prevented from being bent by the pressure and immersed below the surface of the water. Since the support roller receives ultrasonic vibrations, it is preferable that the support roller be made of a material such as a metal which is not damaged by the vibration. Further, it is preferable that the outer peripheral portion in contact with the substrate is formed in a gentle curved surface.
また、 前記貯水槽を構成する側壁であって、 前記基板の搬送方向と直 交する一対の側壁を上下動可能に設けて、 その上端部の高さ位置を調整 可能になし、 前記側壁の上端部によって決定される前記洗浄水面の高さ 位置を調整可能 することもできる。 このようにすれば、 側壁を上下方向に移動させて、 その上端部の高さ 位置を調整することで、 側壁の上端部によって決定される洗浄水面の高 さ位置を調整することができ、 このようにすることで、 基板裏面に対し 、 より良好な状態で洗浄水を接触させることが可能となり、 基板裏面の 洗浄効果を良好なものとすることが可能となる。 図面の簡単な説明 In addition, a pair of side walls, which are perpendicular to the substrate transport direction, are provided so as to be movable up and down, and a height position of an upper end portion thereof is adjustable, and an upper end of the side wall is provided. It is also possible to adjust the height position of the washing water surface determined by the part. With this configuration, the height position of the washing water surface determined by the upper end portion of the side wall can be adjusted by moving the side wall in the vertical direction and adjusting the height position of the upper end portion. By doing so, the cleaning water can be brought into contact with the back surface of the substrate in a better condition, and the cleaning effect on the back surface of the substrate can be improved. BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
第 1 図は、 この発明にかかる好ましい基板洗浄装置の概略構成を示し た模式的正面図であり、 第 2図は、 第 1 図の側断面図である。 発明を実施するための最良の形態  FIG. 1 is a schematic front view showing a schematic configuration of a preferred substrate cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a side sectional view of FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
以下、 本発明をより詳細に説明するために、 添付図面に基づいてこれ を説明する。 尚、 基板 Wの搬送方向は、 第 1 図では左右方向であり、 第 2図では、 紙面と直交する方向である。  Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The transport direction of the substrate W is the left-right direction in FIG. 1 and the direction perpendicular to the plane of FIG.
第 1 図に示すように、 本発明にかかる基板洗浄装置は、 超音波振動の 付与された洗浄水を供給する洗浄水供給手段 1 や、 内部に洗浄水を貯留 した貯水槽 3などを備えたものと して構成されている。 尚、 基板 Wは、 搬送手段たる搬送ローラ R及び補助ローラ rによって、 矢示 A方向に搬 送される。  As shown in FIG. 1, the substrate cleaning apparatus according to the present invention includes a cleaning water supply unit 1 for supplying cleaning water to which ultrasonic vibration is applied, a water storage tank 3 for storing cleaning water therein, and the like. It is configured as such. The substrate W is transported in the direction of arrow A by a transport roller R and an auxiliary roller r as transport means.
洗浄水供給手段 1 は、 給水源 2 0から供給される洗浄水を膜状に形成 して吐出するスリ ッ ト 2 aが形成された超音波ノズル 2と、 スリツ ト 2 a内を通過する洗浄水に超音波振動を付与する圧電素子 (図示せず) と を備えており、 処理槽内の基板搬送経路の上方に取り付けられ、 コン ト ローラ 1 0によってその作動が制御される。 超音波ノズル 2の長手方向 は、 基板 Wの搬送方向 (矢示 A方向) と直交しており、 基板 Wの幅方向 (前記直交方向) の全幅を覆い得る長さを有している。 尚、 1 つの超音 波ノズル 2で、 基板 Wの全幅をカバ一することができない場合には、 2 つ以上の超音波ノズル 2を搬送方向で前後するように平行に設け、 結果 として、 搬送される基板の全幅を、 複数の超音波ノズル 2でカバーする ように構成してもよい。 The cleaning water supply means 1 includes an ultrasonic nozzle 2 having a slit 2 a formed therein for forming and discharging the cleaning water supplied from a water supply source 20 in a film form, and a cleaning liquid passing through the slit 2 a. And a piezoelectric element (not shown) for applying ultrasonic vibration to water. The piezoelectric element is mounted above the substrate transfer path in the processing tank, and its operation is controlled by the controller 10. The longitudinal direction of the ultrasonic nozzle 2 is orthogonal to the transport direction of the substrate W (the direction indicated by the arrow A), and has a length that can cover the entire width of the substrate W in the width direction (the orthogonal direction). In addition, one super sound If the entire width of the substrate W cannot be covered by the wave nozzle 2, two or more ultrasonic nozzles 2 are provided in parallel so as to be forward and backward in the transport direction, and as a result, the overall width of the substrate to be transported is reduced. Alternatively, a configuration may be employed in which a plurality of ultrasonic nozzles 2 are used to cover.
貯水槽 3は、 超音波ノズル 2の長手方向に沿って細長く形成され、 上 部が開口 した箱状の外槽 5に、 一対のプレート 4と、 給水ノズル 3 1 と を設けたものである。 給水ノズル 3 1 は、 外槽 5の底板に取り付けられ ており、 給水源 3 0に連結される。 外槽 5の外側で、 搬送方向 (矢示 A 方向) の前後には、 補助ローラ rが取り付けられている。 一対のプレー ト 4は、 外糟 5の 2組の側壁 5 0 , 5 2のうち、 前記搬送方向 (矢示 A 方向) と直交する側壁 5 0に設けられている。 他方の側壁 5 2は、 その 間を基板 Wが搬送されるため、 それらの間隔は、 基板 Wの幅方向 (前記 搬送方向と直交する方向) の幅よりも大きい。 また、 側壁 5 2の高さは 、 側壁 5 0のそれよりも高くなつている。 側壁 5 0の高さは、 基板搬送 経路の高さ (搬送ローラ R及び補助ローラ rの上端の位置) よりも低く なっており、 その上下方向のほぼ中央には、 上下方向に長い長孔 5 1 が 形成されている。 また、 長孔 5 1 は、 第 2図に示されるように、 長手方 向に、 適宜な間隔をあけて複数個設けられている。  The water storage tank 3 has a pair of plates 4 and a water supply nozzle 31 provided in a box-shaped outer tank 5 which is formed to be elongated along the longitudinal direction of the ultrasonic nozzle 2 and has an open top. The water supply nozzle 31 is attached to the bottom plate of the outer tank 5 and is connected to the water supply source 30. Outside the outer tub 5, auxiliary rollers r are attached before and after in the transport direction (the direction of arrow A). The pair of plates 4 are provided on the side wall 50 orthogonal to the transport direction (the direction of arrow A) among the two sets of side walls 50 and 52 of the outer shell 5. Since the substrate W is transported between the other side walls 52, the distance between them is larger than the width of the substrate W in the width direction (the direction orthogonal to the transport direction). The height of the side wall 52 is higher than that of the side wall 50. The height of the side wall 50 is lower than the height of the substrate transfer path (the position of the upper end of the transfer roller R and the auxiliary roller r). 1 is formed. As shown in FIG. 2, a plurality of long holes 51 are provided at appropriate intervals in the longitudinal direction.
プレー ト 4は、 第 1 図に示されるように、 側壁 5 0の内側に設けられ ている。 また、 側壁 5 0の外側には、 長孔 5 1 を覆うように平板状のシ ール板 4 4が設けられており、 長 ¾ 5 1 を貫通するねじ 4 2によって、 側壁 5 0を挟持した状態で、 プレー ト 4とシール板 4 4は側壁 5 0に固 定され、 かつ、 長孔 5 1 は液密にシールされる。 また、 ねじ 4 2は、 長 孔 5 1 内を上下方向に移動可能であるので、 プレート 4は、 上下方向の 固定位置を変更可能である。  The plate 4 is provided inside the side wall 50 as shown in FIG. Further, a flat plate-shaped seal plate 44 is provided outside the side wall 50 so as to cover the long hole 51, and the side wall 50 is sandwiched by screws 42 penetrating the long hole 51. In this state, the plate 4 and the sealing plate 44 are fixed to the side wall 50, and the long hole 51 is sealed in a liquid-tight manner. Further, since the screw 42 can move up and down in the long hole 51, the plate 4 can change the fixed position in the up and down direction.
プレー ト 4の長手方向の両端は、 第 2図に示されるように、 他方の側 壁 5 2の内面に液密に密着し、 プレー ト 4と側壁 5 2とで実質上、 貯水 槽 3の 4側面を形成し、 高さの低い、 プレート 4の上端が貯水槽 3内に 貯留された洗浄水の水面 Hとなる。 The longitudinal ends of plate 4 are connected to the other side as shown in FIG. Liquid tightly adheres to the inner surface of the wall 52, and the plate 4 and the side wall 52 substantially form the four sides of the water tank 3, and the low height, the upper end of the plate 4, is stored in the water tank 3. The level of the washed water becomes H.
また、 第 2図に示されるように、 外槽 5の外縁には、 処理槽の壁に向 かって搬送方向と直交する方向に水平に延びるつば部 5 3が設けられて 、 このつば部 5 3によって外槽 5は、 処理槽内に固定されている。 一方 、 このつば部 5 3の上方には、 つば部 5 3 と平行に上下動可能なブラケ ッ 卜 4 3が設けられており、 ブラケッ ト 4 3は、 ねじ 4 1 によって、 そ の上下方向の位置が調整され、 固定される。 このブラケッ ト 4 3にはプ レート 4の両端が連結されておリ、 結果と して、 プレート 4は、 ねじ 4 1 によってその上下方向の位置を調整可能である。  As shown in FIG. 2, a flange portion 53 is provided at the outer edge of the outer tub 5 so as to extend horizontally in a direction orthogonal to the transport direction toward the wall of the processing tub. Thus, the outer tank 5 is fixed in the processing tank. On the other hand, a bracket 43 that can move up and down in parallel with the brim portion 53 is provided above the brim portion 53, and the bracket 43 is vertically moved by a screw 41. The position is adjusted and fixed. Both ends of the plate 4 are connected to the bracket 43, and as a result, the position of the plate 4 in the vertical direction can be adjusted by screws 41.
このように、 つば部 5 3 とブラケッ ト 4 3との間に介入されたねじ 4 1 によって、 外糟 5とプレート 4との上下方向の相対的な位置関係を調 整できる。 その後、 側壁 5 0の長手方向に沿って、 適宜な間隔で複数設 けられている長孔 5 1 に揷入されているねじを締結することによって、 プレー ト 4の位置を固定できる。  As described above, the vertical positional relationship between the outer casing 5 and the plate 4 can be adjusted by the screw 41 interposed between the flange 53 and the bracket 43. Thereafter, the position of the plate 4 can be fixed by fastening screws inserted into a plurality of elongated holes 51 provided at appropriate intervals along the longitudinal direction of the side wall 50.
また、 貯水槽 3内には、 基板支持手段たる支持ローラ 6が設けられて いる。 この支持ローラ 6は、 第 1 図に示されるように、 超音波ノズル 2 のスリッ ト 2 aの直下に、 その最上端が位置するように、 シャフ ト 7に 取り付けられている。 また、 その最上端は、 前記貯水槽 3内に貯留され た洗浄水の水面 Hと同じ高さに設定されており、 言い換えれば、 前記プ レート 4の高さ位置は、 支持ローラ 6の最上端と同じ高さとなるように 調整されており、 支持ローラ 6上に支持される基板 Wの裏面が洗浄水と 接触するようになっている。  Further, in the water storage tank 3, a support roller 6 as a substrate support means is provided. As shown in FIG. 1, the support roller 6 is attached to the shaft 7 so that its uppermost end is located immediately below the slit 2 a of the ultrasonic nozzle 2. Further, the top end thereof is set at the same height as the water surface H of the washing water stored in the water storage tank 3, in other words, the height position of the plate 4 is the top end of the support roller 6. The height of the substrate W is adjusted so that the back surface of the substrate W supported on the support roller 6 comes into contact with the cleaning water.
また、 支持ローラ 6は、 第 2図に示されるように、 シャフ ト 7の軸方 向に適宜な間隔をあけて複数個設けられている。 シャフ ト 7は、 貯水槽 3の長手方向に沿って設けられており、 その両端は、 第 2図に示すよう に、 外糟 5の側壁 5 2に回転自在に支持される。 支持ローラ 6は金属製 であり、 基板 Wと接する部分は丸く面取りされている。 この面取りと基 板の浮力とによって、 基板 Wの裏面に傷がつかないようになつている。 なお、 搬送ローラ R及び補助ローラ rは、 樹脂などの柔軟性を有する材 料で形成されていることが好ましい。 2, a plurality of support rollers 6 are provided at appropriate intervals in the axial direction of the shaft 7, as shown in FIG. Shaft 7 is a cistern 3 are provided along the longitudinal direction, and both ends thereof are rotatably supported by the side walls 52 of the outer casing 5 as shown in FIG. The support roller 6 is made of metal, and a portion in contact with the substrate W is rounded off. The chamfer and the buoyancy of the substrate prevent the back surface of the substrate W from being damaged. The transport roller R and the auxiliary roller r are preferably formed of a flexible material such as a resin.
以上の構成を備えた本例の基板洗浄装置によると、 まず、 搬送ローラ R及び補助ローラ rによって基板 Wが矢示 A方向に搬送され、 貯水槽 3 と洗浄水供給手段 1 との間に導かれる。 基板 Wは支持ローラ 6によって 支持され、 その裏面に貯水槽 3内の洗浄水が接触する。 一方、 これと反 対側の基板 Wの表面には、 超音波振動が付与された洗浄水が洗浄水供給 手段 1 から供給される。 基板 Wの表面に供給される洗浄水に付与された 超音波振動は、 基板 Wを介してその裏面に接触する洗浄水に伝播され、 当該基板 Wの裏面に接触する洗浄水に超音波振動が付与される。 斯く し て、 基板 Wの表裏両面が同様に超音波振動の付与された洗浄水によって 洗浄され、 表裏両面が効果的に浄化される。 このように、 本例の基板洗 浄装置によれば、 超音波振動を付与する装置は、 その一台があれば足り 、 これにより、 装置全体が大型化したり、 高コス トとなるのを抑制する ことができる。  According to the substrate cleaning apparatus of the present example having the above configuration, first, the substrate W is transported in the direction of arrow A by the transport roller R and the auxiliary roller r, and is guided between the water storage tank 3 and the cleaning water supply means 1. I will The substrate W is supported by the support roller 6, and the back surface of the substrate W comes into contact with the cleaning water in the water storage tank 3. On the other hand, cleaning water to which ultrasonic vibration has been applied is supplied from the cleaning water supply means 1 to the surface of the substrate W on the opposite side. The ultrasonic vibration applied to the cleaning water supplied to the front surface of the substrate W is propagated through the substrate W to the cleaning water that contacts the rear surface of the substrate W, and the ultrasonic vibration is applied to the cleaning water that contacts the rear surface of the substrate W. Granted. Thus, the front and back surfaces of the substrate W are similarly washed with the cleaning water to which the ultrasonic vibration is applied, and the front and back surfaces are effectively purified. As described above, according to the substrate cleaning apparatus of the present example, only one apparatus for applying ultrasonic vibration is required, which suppresses an increase in the size of the entire apparatus and an increase in cost. can do.
そして、 搬送ローラ R及び補助ローラ r によって継続的に矢示 A方向 に搬送される基板 Wは、 貯水槽 3内の洗浄水が裏面に接触する位置及び 洗浄水供給手段 1 から表面に供給される洗浄水の位置が徐々にずれ、 最 終的には基板 Wの表裏全面が洗浄水と接触して、 当該表裏全面が洗浄さ れる。 このため、 基板 Wの裏面全面に洗浄水を接触させるような巨大な 装置が必要なく、 洗浄装置の小型化、 低コス ト化を図ることができる。 また、 貯水槽 3内に設けた支持ローラ 6によって基板 Wを支持するよ うにしているので、 基板 Wの裏面が確実に貯水槽 3内の洗浄水と接触す るようにこれを支持することができ、 しかも、 洗浄水供給手段 1 から基 板 Wの表面に供給される洗浄水の圧力により基板 Wが湾曲して、 これが 水面下に没するといつた現象が生じるのを防止することができる。 また、 プレー ト 4の高さ位置を調整することによって、 貯水槽 3内に 貯留された洗浄水の水面位置を調整するようにしているので、 基板 Wの 裏面に対し、 よリ良好な状態で洗浄水を接触させることが可能となリ、 その洗浄効果を良好なものとすることが可能となる。 産業上の利用可能性 The substrate W continuously transported in the direction of arrow A by the transport roller R and the auxiliary roller r is supplied to the front surface from the position where the cleaning water in the water storage tank 3 comes into contact with the back surface and the cleaning water supply means 1. The position of the cleaning water gradually shifts, and eventually the entire front and back surfaces of the substrate W come into contact with the cleaning water, and the entire front and back surfaces are cleaned. For this reason, there is no need for a huge device for bringing the cleaning water into contact with the entire rear surface of the substrate W, and the cleaning device can be reduced in size and cost. In addition, the substrate W is supported by a support roller 6 provided in the water storage tank 3. As a result, the back surface of the substrate W can be supported so as to be surely brought into contact with the cleaning water in the water storage tank 3, and is supplied to the front surface of the substrate W from the cleaning water supply means 1. It is possible to prevent the substrate W from being bent by the pressure of the cleaning water, and the phenomenon occurring when the substrate W sinks below the water surface. In addition, the height position of the plate 4 is adjusted to adjust the water surface position of the washing water stored in the water storage tank 3, so that the surface of the substrate W can be maintained in a better condition. The cleaning water can be brought into contact, and the cleaning effect can be improved. Industrial applicability
以上のように、 本発明にかかる基板洗浄方法及び洗浄装置は、 液晶表 示器, フォ トマスク等のガラス基板、 プリン ト配線基板や、 半導体ゥェ ハといった各種基板の洗浄に、 好適に適用することができる。  As described above, the substrate cleaning method and the cleaning apparatus according to the present invention are suitably applied to cleaning of various substrates such as a liquid crystal display, a glass substrate such as a photomask, a printed wiring substrate, and a semiconductor wafer. be able to.

Claims

請 求 の 範 囲 . 基板裏面の少なく とも一部分に洗浄水を接触させ、 該接触部分と反 対側の基板表面に、 超音波振動を付与した洗浄水を供給して前記基板を 洗浄するようにしたことを特徴とする基板洗浄方法。 Scope of the request The cleaning water is brought into contact with at least a part of the back surface of the substrate, and the cleaning water to which ultrasonic vibration is applied is supplied to the surface of the substrate opposite to the contacted portion to clean the substrate. A method for cleaning a substrate, comprising:
2 . 前記基板を水平移動させて、 前記基板裏面の全面が前記洗浄水と接 触するようにしたことを特徴とする請求の範囲第 1 項記載の基板洗浄方 法。  2. The substrate cleaning method according to claim 1, wherein the substrate is horizontally moved so that the entire back surface of the substrate comes into contact with the cleaning water.
3 . 上部に開口部を備え、 内部に洗浄水を貯留した貯水槽と、  3. A water tank with an opening at the top and containing washing water inside,
水平移動可能に、 且つ裏面が前記貯水槽に貯留された洗浄水と接触す るように基板を支持する支持手段と、  Supporting means for supporting the substrate so as to be horizontally movable, and the back surface of which is in contact with the washing water stored in the water storage tank;
前記貯水槽の上方に配設され、 前記洗浄水との接触部分と反対側の基 板表面に、 超音波振動を付与した洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、 前記貯水槽と前記洗浄水供給手段との間に前記基板を搬送する搬送手 段とを設けて構成したことを特徴とする基板洗浄装置。  Cleaning water supply means disposed above the water storage tank and supplying cleaning water to which ultrasonic vibration has been applied to a surface of the substrate opposite to the contact portion with the cleaning water; and the water storage tank and the cleaning water. A substrate cleaning apparatus, comprising: a conveyance means for conveying the substrate between the supply means and the supply means.
4 . 前記洗浄水供給手段が、 前記基板の搬送方向と直交する方向に配置 された長尺のノズルを有し、  4. The cleaning water supply unit has a long nozzle arranged in a direction orthogonal to the substrate transfer direction,
前記貯水槽の開口部が、 前記基板の搬送方向と直交する方向において 、 前記基板の同直交方向の幅寸法よりも長い寸法を有してなる請求の範 囲第 3項記載の基板洗浄装置。  4. The substrate cleaning apparatus according to claim 3, wherein the opening of the water storage tank has a dimension longer than a width dimension of the substrate in a direction perpendicular to a direction in which the substrate is transported.
5 . 前記支持手段が、 前記貯水槽内に配置され、 且つその上端が前記貯 水槽内の洗浄水面と一致するように配置された支持ローラを含んでなる 請求の範囲第 3項又は第 4項記載の基板洗浄装置。  5. The support means according to claim 3 or 4, wherein the support means includes a support roller disposed in the water storage tank, and an upper end thereof is disposed so as to coincide with a flush water level in the water storage tank. A substrate cleaning apparatus as described in the above.
6 . 前記貯水槽を構成する側壁であって、 前記基板の搬送方向と直交す る一対の側壁を上下動可能に設けて、 その上端部の高さ位置を調整可能 になし、 前記側壁の上端部によって決定される前記洗浄水面の高さ位置 を調整可能としたことを特徴とする請求の範囲第 3項乃至第 5項記載の いずれかの基板洗浄装置。 6. A pair of side walls constituting the water storage tank, the pair of side walls being orthogonal to the transport direction of the substrate are provided so as to be vertically movable, and a height position of an upper end thereof is adjustable, and an upper end of the side wall is provided. Height position of the washing water surface determined by the part The substrate cleaning apparatus according to any one of claims 3 to 5, wherein the substrate cleaning apparatus is capable of adjusting the number of the substrates.
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