KR0121688Y1 - 반도체 레이저장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 히트싱크 재료로서 다이아몬드를 사용하는 반도체 레이저장치에 있어서, 상기 다이아몬드 히트싱크기판위에 중간층을 증착한 후 후면에 접착층이 형성된 레이저다이오드칩을 상기 중간층에 접착시키는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저장치를 제공하여 반도체 레이저장치의 신뢰성 향상을 도모한다.

Description

반도체 레이저장치

제1도는 종래 기술에 의한 반도체 레이저장치의 히트싱크에 레이저 다이오드 칩을 부착시킨 상태를 도시한 단면도.

제2도는 본 고안에 의한 반도체 레이저장치의 히트싱크에 레이저 다이오드 칩을 부착시킨 상태를 도시한 단면도.

본 고안은 반도체 레이저장치에 있어서, 특히 레이저 다이오드의 전기적특성 및 방열효과개선을 위하여 히트싱크와 레이저다이오드칩 사이에 중간층을 형성하는 이들간에 부착력을 향상시키기 위한 것이다.

강한 방향성의 단색적 간섭성의 빛을 방출하는 레이저는 He-Ne레이저나 YAG레이저등과 같은 대형 고가의 레이저에서, 소형경량, 높은 효율 및 접합부전류의 제어에 의해 출력이 손쉽게 변조될 수 있는 반도체레이저로 발전하고 있다. 컴팩트 디스크 플레이어(CDP)나 비디오 디스크 플레이어(VDP) 또는 레이저 프린터나 복사기 및 광통신 시스템등에 널리 사용되고 있는 반도체레이저는 그의 사용영역이 더욱 넓어지고 있으며, 특히 고출력 반도체 레이저는 고속 광디스크메모리, 고속레이저 프린터등의 정보처리기기 및 고체레이저 여기용 광원으로 그 응용이 확대되고 이다. 이와 같이 반도체레이저의 고출력화를 도모하기 위해서는 활성층의 온도상승으로 파손되는 광출력레벌(COD;Catastropic Optical Damage)을 향상시키는 것이 필요하다. 따라서 효율적인 열발산이 요구되는데 히트싱크재료로 종래와 같이 구리(Cu)를 사용할 경우 고출력 레이저 다이오드에서 발생되는 열을 효율적으로 발산시키지 못하기 때문에 구리보다 열전도율이 훨씬 큰 다이아몬드를 히트싱크재료로 사용하므로써 온도상승에 의한 광출력감소와 연속적인 작동을 위한 최대출력을 감소시키는 제한점들을 제거시킬 수 있다.

그러나 제1도에 도시한 종래 방법에서와 같이 레이저 다이오드칩(1)을 히트싱크(4)에 부착시키기 위한 접착층(Bonding layer) (2)재료로서 기존의 인듐(In) 또는 금-주석(Au-Su)과 같은 금속을 사용하게 되면 다이아몬드와 접착층의 결합력이 좋지 않으며, 또한 다이아몬드와 금속접착층사이의 열팽창계수차이가 커서 이로 인해 내부적인 스트레스(Internal stress)가 야기되므로 신뢰성이 저하되는 문제가 있다(제1도에서 참조부호(5)는 반도체 레이저장치의 패키지를 나타낸다).

따라서 본 고안은 상술한 문제점을 해결하기 위해 히트싱크와 접착층사이에 중간층을 개재하여 부착력을 증가시키는 반도체 레이저장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해 본 고안은 히트싱크재료로서 다이아몬드를 사용하는 반도체 레이저장치에 있어서, 상기 다이아몬드 히트싱크기판위에 중간층을 증착한 후 후면에 접착층이 형성된 레이저다이오드칩을 상기 중간층 위에 접착시키는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저장치르 제공한다.

본 고안의 하나의 실시예에 의하면, 상기 중간층은 상기 다이아몬드히트싱크와 상기 접착층 재료의 각각의 열팽창계수의 중간정도의 열팽창계수를 가지는 재료로서 실리콘을 증착하여 형성한다.

이와같이 중간층을 다이아몬드 히트싱크와 접착층사이에 개재하여 형성하므로써 다이아몬드와 접착층간의 큰 열팽창계수차이를 줄여 내부적인 스트레스를 감소시키는 한편 부착력도 향상시킬 수 있다.

이하, 도면을 참조하여 본 고안을 더욱 상세히 설명한다.

제2도는 본 고안에 의한 반도체 레이저장치의 히트싱크에 레이저다이오드칩을 부착시킨 상태를 도시한 단면도이다.

반도체 레이저장치의 패키지(5)에 접속된 아이아몬드 히트싱크기판(4)을 100℃~300℃정도로 가열한 다음 그 기판위에 ECRCVD(Electron Cyclotron Reactive Chemical Vapor Deposition)법 또는 스퍼터(Sputter)법에 의해 실리콘을 50Å~500Å 증착하여 중간층(3)을 형성한다.

이어서 후면에 약1㎜두께의 인듐 또는 금-주석으로 된 금속접착층(2)이 형성된 레이저다이오드칩(1)을 통상의 접착방법에 의해 프리히팅(Preheating)하여 상기 Si중간층(3)이 증착된 다이아몬드 히트싱크기판(4)에 다이본딩(Die bonding)한다.

이와 같이 실리콘중간층(3)을 사용하여 다이아몬드 히트싱크(4)에 레이저다이오드칩(1)을 접착시키면 다이아몬드와 접착층(2)간의 열팽창계수차이가 완화되어 내부적인 스트레스(Interal stress)가 줄게 되고, 또한 중간층재료인 실리콘은 다이아몬드와의 부착력이 우수한데다가 인듐, 금-주석등의 금속재료로 된 접착층(2)과는 실리사이드(Silicide)를 형성하므로 히트싱크기판과 레이저다이오드칩의 부착력이 향상된다. 참고로 아래표에 다이아몬드와 실리콘 그리고 금속들중에서 대표적으로 구리의 열팽창계수 및 각각의 열전도율을 비교하여 나타내었다.

이상 상술한 바와 같이 본 고안에 의하면, 실리콘중간층을 사용하여 다이아몬드 히트싱크와 금속접착층사이의 열팽창계수차이를 줄여 내부적인 스트레를 제거시킬 수 있으며, 실리콘 중간층이 금속접착층과 실리사이드를 형성하므로써 부착력이 향상되므로 반도체 레이저장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

Claims (3)

1. 히트싱크재료로서 다이아몬드를 사용하는 반도체레이저장치에 있어서, 상기 다이아몬드 히트싱크기판위에 중간층을 증착한 후 후면에 접착층이 형성된 레이저다이오드칩을 상기 중간층에 접착시키는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 중간층을 실리콘층으로 형성함을 특징으로 하는 반도체 레이저장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 실리콘층의 두께 50Å~500Å임을 특징으로 하는 반도체 레이저장치.