JPWO2025041231A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. 生成部で生成したラジカル種を反応室に導入し、該反応室において試料由来のイオンにラジカル種を接触させて該イオンを解離させるイオン分析装置であって、前記生成部は、
   原料ガスがその内部に導入される生成室と、
   前記生成室の内部にプラズマを生じさせるための高周波電力を供給する電力供給部と、
   前記生成室に供給する高周波電力を調整するべく前記電力供給部を制御する制御部であって、プラズマの点灯開始時には高周波電力を間欠的に供給する間欠モードでの制御を行い、該間欠モード中であって高周波電力が供給されているタイミングで、該間欠モードにおける高周波電力供給時に比べて出力電力が低い高周波電力を連続的に供給する連続モードに制御モードを切り替える制御部と、
   を備え、前記間欠モードと前記連続モードとで所定時間における平均電力を揃えるイオン分析装置。
2. プラズマが点灯しているか否かを検出する検出部、をさらに備え、
   前記制御部は、前記間欠モードから前記連続モードに制御モードを切り替えたあとに、前記検出部によりプラズマが点灯しているか否かを確認し、点灯していない場合には前記間欠モードに戻って点灯動作を再試行する、請求項１に記載のイオン分析装置。
3. 生成部で生成したラジカル種を反応室に導入し、該反応室において試料由来のイオンにラジカル種を接触させて該イオンを解離させるイオン分析方法であって、
   前記生成部に含まれる生成室の内部に原料ガスを導入する原料ガス導入ステップと、
   前記生成室の内部にプラズマを生じさせるために、プラズマ点灯開始時に高周波電力を間欠的に供給する第１電力供給ステップと、
   前記第１電力供給ステップにおいて高周波電力が供給されているタイミングで、間欠的な高周波電力に代えて、該第１電力供給ステップにおける高周波電力供給時に比べて出力電力が低い高周波電力を連続的に供給する第２電力供給ステップと、
   前記第２電力供給ステップにおいて連続的な高周波電力が前記生成室に供給されている状態で、前記反応室において解離されたイオンに対する分析を実施する測定ステップと、
   を有し、前記第１電力供給ステップと前記第２電力供給ステップとで所定時間における平均電力を揃えるイオン分析方法。
4. 前記第２電力供給ステップにおいてプラズマが点灯しているか否かを確認し、点灯していない場合には前記第１電力供給ステップに戻って点灯動作を再試行する、請求項３に記載のイオン分析方法。