JPWO2024190309A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2024190309A5
JPWO2024190309A5 JP2024510710A JP2024510710A JPWO2024190309A5 JP WO2024190309 A5 JPWO2024190309 A5 JP WO2024190309A5 JP 2024510710 A JP2024510710 A JP 2024510710A JP 2024510710 A JP2024510710 A JP 2024510710A JP WO2024190309 A5 JPWO2024190309 A5 JP WO2024190309A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive composition
ions
group
composition according
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2024510710A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7681249B2 (ja
JPWO2024190309A1 (https=
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2024/005920 external-priority patent/WO2024190309A1/ja
Publication of JPWO2024190309A1 publication Critical patent/JPWO2024190309A1/ja
Publication of JPWO2024190309A5 publication Critical patent/JPWO2024190309A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7681249B2 publication Critical patent/JP7681249B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2024510710A 2023-03-13 2024-02-20 感光性組成物、硬化物、表示装置、及び硬化物の製造方法 Active JP7681249B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023038371 2023-03-13
JP2023038371 2023-03-13
PCT/JP2024/005920 WO2024190309A1 (ja) 2023-03-13 2024-02-20 感光性組成物、硬化物、表示装置、及び硬化物の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2024190309A1 JPWO2024190309A1 (https=) 2024-09-19
JPWO2024190309A5 true JPWO2024190309A5 (https=) 2025-02-19
JP7681249B2 JP7681249B2 (ja) 2025-05-22

Family

ID=92755517

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024510710A Active JP7681249B2 (ja) 2023-03-13 2024-02-20 感光性組成物、硬化物、表示装置、及び硬化物の製造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7681249B2 (https=)
KR (1) KR20250162490A (https=)
CN (1) CN120883136A (https=)
TW (1) TW202503409A (https=)
WO (1) WO2024190309A1 (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025243704A1 (ja) * 2024-05-21 2025-11-27 Jsr株式会社 感放射線性組成物、パターン形成方法、及び化合物

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4982927B2 (ja) 2000-06-28 2012-07-25 東レ株式会社 表示装置
JP2005221726A (ja) * 2004-02-05 2005-08-18 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料、液晶配向制御用突起及びその形成方法、並びに、液晶表示装置
JP4784283B2 (ja) 2004-11-26 2011-10-05 東レ株式会社 ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP6022254B2 (ja) * 2012-08-06 2016-11-09 東京応化工業株式会社 スクリーン印刷用インク組成物およびパターン形成方法
JP7071049B2 (ja) * 2016-03-31 2022-05-18 株式会社Dnpファインケミカル インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法
JPWO2020145218A1 (ja) * 2019-01-10 2021-11-04 富士フイルム株式会社 構造体、固体撮像素子および画像表示装置
JP7212832B2 (ja) * 2020-02-26 2023-01-26 株式会社レゾナック 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物の選別方法、パターン硬化膜の製造方法、及び半導体装置の製造方法
WO2022039028A1 (ja) * 2020-08-17 2022-02-24 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物、表示装置、半導体装置及び硬化物の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5457003A (en) Negative working resist material, method for the production of the same and process of forming resist patterns using the same
JP2009098673A5 (https=)
US5278029A (en) Method for forming a resist pattern
TWI458779B (zh) 矽氧烷聚合物組成物及其使用方法
JP2009258722A5 (https=)
JP2009258723A5 (https=)
JP2014085643A5 (https=)
JP5392269B2 (ja) シリコン含有膜、樹脂組成物およびパターン形成方法
JP7095405B2 (ja) 感光性樹脂組成物用のノボラック型フェノール樹脂
JPWO2024190309A5 (https=)
WO2013054771A1 (ja) シラン系組成物およびその硬化膜、並びにそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法
KR20120044366A (ko) 리버스 패터닝 방법 및 재료
JP6511927B2 (ja) シリコン含有膜形成用組成物、パターン形成方法及びポリシロキサン化合物
CN109422237A (zh) 三维结构、制作三维结构的方法、及流体喷射装置
DE69130966T2 (de) Resistmaterial, Methode zu seiner Herstellung und Verfahren zum Herstellen von Resistbildern mit diesem Material
JP4646439B2 (ja) 光重合性樹脂組成物、その硬化物および製造方法
JP2024141756A (ja) 感光性組成物、および、半導体集積回路の製造方法
CN107844028B (zh) 一种光刻胶、制备方法及其光刻工艺
JP6537061B2 (ja) 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板
JP2009109541A5 (https=)
JP2008260839A5 (https=)
JP6999408B2 (ja) 樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、膜形成方法及び硬化物
JP2009185255A5 (https=)
JP6332590B2 (ja) 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板
TWI666264B (zh) 含矽膜形成用組成物、圖型形成方法及聚矽氧烷化合物