JPWO2024029410A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7681153B1 (ja) * 2024-04-11 2025-05-21 テクセンドフォトマスク株式会社 反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク及び反射型フォトマスクの製造方法
WO2025239179A1 (ja) * 2024-05-13 2025-11-20 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5766393B2 (ja) 2009-07-23 2015-08-19 株式会社東芝 反射型露光用マスクおよび半導体装置の製造方法
TW202532958A (zh) * 2018-05-25 2025-08-16 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 反射型光罩基底、反射型光罩、以及反射型光罩與半導體裝置之製造方法
WO2021132111A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 Ａｇｃ株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク、ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスク、およびそれらの製造方法
JP6929983B1 (ja) * 2020-03-10 2021-09-01 Hoya株式会社 反射型マスクブランクおよび反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法
JP7318607B2 (ja) * 2020-07-28 2023-08-01 Ａｇｃ株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク、ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスク、およびそれらの製造方法
WO2022050156A1 (ja) * 2020-09-04 2022-03-10 Ａｇｃ株式会社 反射型マスク、反射型マスクブランク、および反射型マスクの製造方法
WO2022065144A1 (ja) * 2020-09-28 2022-03-31 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法

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