JPWO2023286764A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021116511 | 2021-07-14 | ||
| PCT/JP2022/027383 WO2023286764A1 (ja) | 2021-07-14 | 2022-07-12 | パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023286764A1 JPWO2023286764A1 (https=) | 2023-01-19 |
| JPWO2023286764A5 true JPWO2023286764A5 (https=) | 2024-04-10 |
Family
ID=84919502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023534813A Pending JPWO2023286764A1 (https=) | 2021-07-14 | 2022-07-12 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240176242A1 (https=) |
| EP (1) | EP4372466A4 (https=) |
| JP (1) | JPWO2023286764A1 (https=) |
| KR (1) | KR20240019274A (https=) |
| CN (1) | CN117616336A (https=) |
| IL (1) | IL309807A (https=) |
| TW (1) | TW202319837A (https=) |
| WO (1) | WO2023286764A1 (https=) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023182094A1 (ja) * | 2022-03-25 | 2023-09-28 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、レジストパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス |
| JPWO2023189586A1 (https=) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | ||
| KR20240170533A (ko) * | 2022-03-31 | 2024-12-03 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| JPWO2024203160A1 (https=) * | 2023-03-24 | 2024-10-03 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2472328B1 (en) * | 2010-12-31 | 2013-06-19 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Coating compositions for use with an overcoated photoresist |
| JP2013061648A (ja) | 2011-09-09 | 2013-04-04 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法 |
| KR102075960B1 (ko) | 2012-03-14 | 2020-02-11 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 포토레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 산 확산 제어제 및 화합물 |
| JP5836299B2 (ja) | 2012-08-20 | 2015-12-24 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法 |
| JP6002705B2 (ja) | 2013-03-01 | 2016-10-05 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、電子デバイスの製造方法 |
| WO2016017248A1 (ja) * | 2014-08-01 | 2016-02-04 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びマスクブランクス |
| JP6468139B2 (ja) * | 2014-12-18 | 2019-02-13 | 信越化学工業株式会社 | 単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| US9644056B2 (en) | 2015-02-18 | 2017-05-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Compound, resin and photoresist composition |
| JP6518475B2 (ja) | 2015-03-20 | 2019-05-22 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物 |
| JP6613615B2 (ja) * | 2015-05-19 | 2019-12-04 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物及び単量体並びにレジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP6650509B2 (ja) | 2016-03-07 | 2020-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| JPWO2018079449A1 (ja) * | 2016-10-27 | 2019-09-19 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| KR102395705B1 (ko) | 2017-04-21 | 2022-05-09 | 후지필름 가부시키가이샤 | Euv광용 감광성 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법 |
| JP6722145B2 (ja) * | 2017-07-04 | 2020-07-15 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP7069657B2 (ja) * | 2017-11-15 | 2022-05-18 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物及び半導体装置部材の製造方法 |
| JP7119592B2 (ja) | 2018-05-31 | 2022-08-17 | 日本ゼオン株式会社 | Euvリソグラフィ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| KR102537251B1 (ko) | 2018-06-28 | 2023-05-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 수지 |
| JP7076570B2 (ja) | 2018-09-25 | 2022-05-27 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| JP7574566B2 (ja) * | 2019-08-15 | 2024-10-29 | 日本ゼオン株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成キット |
-
2022
- 2022-07-12 IL IL309807A patent/IL309807A/en unknown
- 2022-07-12 CN CN202280046765.1A patent/CN117616336A/zh active Pending
- 2022-07-12 KR KR1020247000619A patent/KR20240019274A/ko active Pending
- 2022-07-12 WO PCT/JP2022/027383 patent/WO2023286764A1/ja not_active Ceased
- 2022-07-12 EP EP22842108.7A patent/EP4372466A4/en not_active Withdrawn
- 2022-07-12 JP JP2023534813A patent/JPWO2023286764A1/ja active Pending
- 2022-07-13 TW TW111126285A patent/TW202319837A/zh unknown
-
2024
- 2024-01-12 US US18/412,068 patent/US20240176242A1/en not_active Abandoned
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