JPWO2023190022A5 - - Google Patents

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JP6563750B2 (ja) 2014-12-26 2019-08-21 日東電工株式会社 塗料およびその製造方法
WO2017043496A1 (ja) * 2015-09-07 2017-03-16 日東電工株式会社 低屈折率層、積層フィルム、低屈折率層の製造方法、積層フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
JP2017057116A (ja) * 2015-09-16 2017-03-23 日東電工株式会社 ゾル液およびその製造方法、積層フィルムの製造方法、積層フイルム、光学部材、並びに画像表示装置
JP6504299B1 (ja) * 2017-12-07 2019-04-24 東洋インキScホールディングス株式会社 黒色低反射膜、および積層体の製造方法
WO2019216061A1 (ja) * 2018-05-11 2019-11-14 富士フイルム株式会社 コート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体
JP7229691B2 (ja) * 2018-07-26 2023-02-28 キヤノン株式会社 光学膜とその製造方法

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