JPWO2023008131A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2023008131A5 JPWO2023008131A5 JP2023538388A JP2023538388A JPWO2023008131A5 JP WO2023008131 A5 JPWO2023008131 A5 JP WO2023008131A5 JP 2023538388 A JP2023538388 A JP 2023538388A JP 2023538388 A JP2023538388 A JP 2023538388A JP WO2023008131 A5 JPWO2023008131 A5 JP WO2023008131A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- 2max
- coating layer
- plane
- coated tool
- positive pole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims 1
Claims (9)
- 基体と、該基体の上に位置する少なくとも1層の被覆層とを備え、
該被覆層は、周期表4a、5a、6a族元素、AlおよびSiの中から選ばれた少なくとも1種の元素と、CおよびNの中から選ばれた少なくとも1種の元素とからなる立方晶の結晶を含有し、
前記被覆層は、前記立方晶の結晶の(200)面に関する正極点図のα軸のX線強度分布におけるα軸の角度が0°以上90°以下の測定範囲において、X線強度の最大値(I2max)を有し、
前記I2maxを示すα軸の角度(θ2max)より高角度側の領域である第3領域におけるX線強度の最小値(I23min)と前記I2maxとの差(I2max-I23min)が、前記θ2maxより低角度側の領域である第4領域におけるX線強度の最小値(I24min)と前記I2maxとの差(I2max-I24min)より小さく、前記I23minが前記I2maxの95%以上である、被覆工具。 - 前記(200)面に関する正極点図において、前記被覆層は、前記I24minが前記I2maxの2%以上35%以下である、請求項1に記載の被覆工具。
- 前記(200)面に関する正極点図において、前記被覆層は、前記θ2maxが70°以上85°以下である、請求項1に記載の被覆工具。
- 前記被覆層は、前記立方晶の結晶の(111)面に関する正極点図のα軸のX線強度分布におけるα軸の角度が0°以上90°以下の測定範囲において、X線強度の最大値(I1max)を有し、且つ、前記I1maxの85%以上のX線強度となる角度領域(θ1F)が、30°以上90°以下の領域で90%以上を占める、請求項1~3のいずれか一つに記載の被覆工具。
- 前記(111)面に関する正極点図において、前記被覆層は、前記I1maxとなるα軸の角度(θ1max)より高角度側の領域である第1領域におけるX線強度の最小値(I11min)と前記I1maxとの差(I1max-I11min)が、前記θ1maxより低角度側の領域である第2領域におけるX線強度の最小値(I12min)と前記I1maxとの差(I1max-I12min)より小さく、前記I11minが前記I1maxの85%以上である、請求項4に記載の被覆工具。
- 前記(111)面に関する正極点図において、前記被覆層は、前記第1領域に少なくとも1つの変曲点を有する、請求項5に記載の被覆工具。
- 前記(111)面に関する正極点図において、前記被覆層は、前記I12minが前記I1maxの5%以上20%以下である、請求項5に記載の被覆工具。
- 前記(111)面に関する正極点図において、前記被覆層は、θ1maxが35°以上55°以下である、請求項4に記載の被覆工具。
- 端部にポケットを有する棒状のホルダと、
前記ポケット内に位置する、請求項1に記載の被覆工具と
を有する、切削工具。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021126009 | 2021-07-30 | ||
PCT/JP2022/026965 WO2023008131A1 (ja) | 2021-07-30 | 2022-07-07 | 被覆工具および切削工具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2023008131A1 JPWO2023008131A1 (ja) | 2023-02-02 |
JPWO2023008131A5 true JPWO2023008131A5 (ja) | 2024-03-25 |
Family
ID=85086752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023538388A Pending JPWO2023008131A1 (ja) | 2021-07-30 | 2022-07-07 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2023008131A1 (ja) |
CN (1) | CN117545573A (ja) |
DE (1) | DE112022003801T5 (ja) |
WO (1) | WO2023008131A1 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009203489A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Tungaloy Corp | 被覆部材 |
JP5056949B2 (ja) | 2008-07-14 | 2012-10-24 | 株式会社タンガロイ | 被覆部材 |
JP5403058B2 (ja) | 2009-08-04 | 2014-01-29 | 株式会社タンガロイ | 被覆部材 |
US11478859B2 (en) * | 2018-01-26 | 2022-10-25 | Kyocera Corporation | Coated tool, and cutting tool including same |
CN113631305B (zh) * | 2019-03-27 | 2024-01-19 | 京瓷株式会社 | 涂层刀具以及具备该涂层刀具的切削刀具 |
-
2022
- 2022-07-07 WO PCT/JP2022/026965 patent/WO2023008131A1/ja active Application Filing
- 2022-07-07 JP JP2023538388A patent/JPWO2023008131A1/ja active Pending
- 2022-07-07 CN CN202280043981.0A patent/CN117545573A/zh active Pending
- 2022-07-07 DE DE112022003801.2T patent/DE112022003801T5/de active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007528941A5 (ja) | ||
JP2015009358A5 (ja) | ||
TWI375837B (en) | Method for forming optical compensating films, optical compensating films formed thereby, structure of optical compensating films, and polarizing plates | |
Shao et al. | Evolutions of residual stress and microstructure in ZrO2 thin films deposited at different temperatures and rates | |
Dave et al. | Influence of sputtering pressure on the structural, optical and hydrophobic properties of sputtered deposited HfO2 coatings | |
RU2019130866A (ru) | Способ производства подложки на основе карбида кремния и подложка карбида кремния | |
JP2012098628A5 (ja) | ||
Lukaszkowicz et al. | Structure, mechanical properties and corrosion resistance of nanocomposite coatings deposited by PVD technology onto the X6CrNiMoTi17-12-2 and X40CrMoV5-1 steel substrates | |
RU2016122446A (ru) | Режущий инструмент с износостойким покрытием | |
Sobol’ et al. | On advantages of X-ray schemes with orthogonal diffraction vectors for studying the structural state of ion-plasma coatings | |
ATE500527T1 (de) | Doppelbrechender film und seine verwendung | |
JP2017124463A5 (ja) | ||
JP2016138040A5 (ja) | エピタキシャルウエハ | |
JPWO2023008131A5 (ja) | ||
WO2017011315A3 (en) | Coatings for glass shaping molds and molds comprising the same | |
TWI625559B (zh) | 偏光片、偏光片用基板及光配向裝置 | |
Phan et al. | Comparison of ZnO thin films grown on a polycrystalline 3C–SiC buffer layer by RF magnetron sputtering and a sol–gel method | |
JPWO2023008133A5 (ja) | ||
Singh et al. | Effect of substrate temperature on nanocrystalline CeO2 thin films deposited on Si substrate by RF magnetron sputtering | |
EP3915938A4 (en) | LIQUID DISPERSION WITH EXFOLIATED LAYERED COMPOUND AND TRANSPARENT SUBSTRATE WITH IT | |
CN105483618B (zh) | 镜片的镀膜方法 | |
TW200720792A (en) | Method for manufacturing liquid crystal panel, liquid crystal panel, and image display | |
Hoang et al. | Elucidation of the growth mechanism of sputtered 2D hexagonal boron nitride nanowalls | |
Xu et al. | Preparation of transparent anodic aluminum oxide films and their structural characteristics under thermal shock | |
Deng et al. | Annealing temperature dependence on the structural and optical properties of sputtering-grown high-k HfO 2 gate dielectrics |