JPWO2020111206A1 - Stirrer and stirrer - Google Patents
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Abstract
本開示に係る撹拌棒1は、軸心に直交する断面が軸方向に沿って一定の形状を有する撹拌部を備えた、セラミックスの一体成形品からなり、前記断面において、複数の凸部4が周方向に配置されている撹拌部2を有する。複数の凸部4は、前記断面において先端に向かって幅が細くなる先細形状を有する。The stirring rod 1 according to the present disclosure is made of an integrally molded ceramic product provided with a stirring portion having a cross section orthogonal to the axial center having a constant shape along the axial direction, and a plurality of convex portions 4 are formed in the cross section. It has a stirring unit 2 arranged in the circumferential direction. The plurality of convex portions 4 have a tapered shape whose width narrows toward the tip in the cross section.
Description
本開示は、液体を撹拌するための撹拌棒およびこの撹拌棒を備えた撹拌装置に関する。 The present disclosure relates to a stirring rod for stirring a liquid and a stirring device provided with the stirring rod.
従来、主として医療目的で、血液、尿、その他の生化学的試料を分析する分析装置には、試料溶液を撹拌する撹拌装置が搭載されている。この撹拌装置には試料溶液を撹拌するための撹拌棒が備えられている。撹拌棒には試料溶液や試薬等に対して耐薬品性が求められる。そのために、撹拌棒は、例えばフッ素系樹脂を用いて表面加工したステンレス等の金属材料や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの樹脂材料から形成されている。中でも、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエチレン,クロロトリフルオロエチレン、FEP(テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの共重合体)等のフッ素系樹脂で表面を被覆したステンレス製の撹拌棒が、耐久性とコストの面から好適に使用されている(例えば、特許文献1、2)。
Conventionally, an analyzer that analyzes blood, urine, and other biochemical samples, mainly for medical purposes, is equipped with a stirrer that agitates the sample solution. This stirring device is provided with a stirring rod for stirring the sample solution. The stirring rod is required to have chemical resistance to sample solutions and reagents. Therefore, the stirring rod is formed of, for example, a metal material such as stainless steel whose surface is processed using a fluorine-based resin, or a resin material such as polyethylene or polypropylene. Among them, a stainless steel stirring rod whose surface is coated with a fluorine-based resin such as tetrafluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, and FEP (copolymer of tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene) is durable and costly. (For example,
本開示の撹拌棒は、軸心に直交する断面が軸方向に沿って一定の形状を有する撹拌部を備えた、セラミックスの一体成形品からなり、上記断面において、複数の凸部が周方向に配置されている。 The stirring rod of the present disclosure is made of an integrally molded ceramic product having a stirring portion having a cross section orthogonal to the axial center having a constant shape along the axial direction, and in the above cross section, a plurality of convex portions are formed in the circumferential direction. Have been placed.
本開示の撹拌装置は、上記の撹拌棒を備える。 The stirring device of the present disclosure includes the above-mentioned stirring rod.
以下、本開示の一実施形態に係る撹拌棒を図面に基づいて説明する。図1(a)に示すように、本実施形態に係る撹拌棒1は、撹拌部2と、この撹拌部2の軸方向の一端面に撹拌部2と同一軸心Aを有するように撹拌部2と一体に形成された軸部3とを備えている。
Hereinafter, the stirring rod according to the embodiment of the present disclosure will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1A, the
撹拌部2は、軸心Aに直交する断面が軸方向に沿った撹拌部2の全長にわたって一定の形状を有する。すなわち、図1(b)に示すように、撹拌部2の断面は、複数の凸部4が周方向に配置された形状を有する。本実施形態に係る撹拌棒1は、複数の凸部4を備えていることにより軸方向に流れを発生させて撹拌することができる。
The stirring
撹拌棒1は、耐薬品性に優れたセラミックスの一体成形品からなる。すなわち、複数の凸部4が周方向に配置された断面形状を全長にわたって有する撹拌部2は、例えば、押出成形により得ることができる。
The stirring
押出成形は以下の手順で行う。まず、原料(粉末状)に水およびバインダー(粘結剤)を添加・混合してシリンダ内に連続供給して加熱溶融させる。次に、この溶融した材料を、シリンダ内のスクリューの回転によってシリンダ前部のダイスを通して押し出し、冷却して成形する。図2に示す押し出された成形品11は、全長にわたって図1(b)に示す断面形状を有する。この成形品11を焼成後、研削・研磨工程にて成形品11を回転させながら一端部を研削・研磨して軸部3を形成する。このとき、軸部3と撹拌部2とは軸心Aを共通にする。
Extrusion molding is performed according to the following procedure. First, water and a binder (binder) are added to and mixed with the raw material (powder), and continuously supplied into the cylinder to be heated and melted. Next, the molten material is extruded through a die at the front of the cylinder by rotation of a screw in the cylinder, cooled and molded. The extruded molded
なお、軸部3の断面形状は特に限定されず、例えば円形、四角形、楕円形状等が挙げられる。
The cross-sectional shape of the
また、研削・研磨工程では、焼成された撹拌棒1のバリや傷を除去し、平滑にする。このとき、撹拌部2の周面、とくに凸部4は全面を曲面状にするのが好ましい。これにより、撹拌棒1に部分的な応力集中が発生せず、ヒビや破損が減少し、耐久性が向上する。
Further, in the grinding / polishing step, burrs and scratches on the fired stirring
このようなセラミックスの原材料としては、耐薬品性に優れたものであれば特に限定されず、例えば高純度アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、アルミナジルコニア複合材料などが挙げられる。 The raw material for such ceramics is not particularly limited as long as it has excellent chemical resistance, and examples thereof include high-purity alumina, zirconia, silicon nitride, silicon carbide, and alumina zirconia composite materials.
図1(b)に戻って、撹拌部2の周方向に配置された複数の凸部4は、軸心Aから半径方向に放射状に延びており、各凸部4は等間隔で配置されている。
Returning to FIG. 1B, the plurality of
また、凸部4は先端に向かって幅が細くなる先細形状を有している。このような先細形状であれば、凸部4の先端部が受ける抵抗(応力)が軽減され、耐久性が向上する。
Further, the
前記したように、凸部4は全面が曲面状に形成されている。そのため、隣接する凸部4,4の間、すなわち谷部も曲面状である。
As described above, the entire surface of the
本実施形態では、隣接する凸部4間の角度が360°を凸部4の個数で除した角度よりも大きい。すなわち、各凸部4は、付け根部よりも、軸心Aから離れた位置において細くなっている。そのため、試薬などが凸部4同士の間隙にたまりにくくなるという効果がある。また、製造時にも研磨しやすいという効果がある。
In the present embodiment, the angle between the adjacent
隣接する凸部4,4間の角度θは、360°を凸部4の個数で除した角度をαとしたときに、角度αよりも1/4α以上大きくてもよい。これにより、凸部4の付け根部に加わる応力を緩和できる。また、コーナー部にRを付けることにより、凸部4の付け根部に加わる応力をさらに緩和することができる。
The angle θ between the adjacent
また、本実施形態では、隣接する凸部4,4の角度θは90°以上の鈍角を形成してもよい。具体的には、角度θは90°≦θ≦180°の範囲であってもよい。角度θが鈍角に形成されると、試薬などが凸部4同士の間隙によりたまりにくくなるという効果がある。また、製造時にもより研磨しやすいという効果がある。
Further, in the present embodiment, the angles θ of the adjacent
ここで、角度θとは、隣接する凸部4,4において、最も谷部に近い部位の接線同士のなす角度をいう。図1(b)に示すような形状の凸部4の場合は、一方の凸部4の外面側接線と他方の凸部4の内面側接線との角度をいう。
Here, the angle θ means the angle formed by the tangents of the portions closest to the valley portion in the adjacent
図3に示すように、撹拌棒1は、軸心Aが弓形に反った形状を有していてもよい。図3では、便宜上、撹拌部2が反った状態を示しているが、軸部3の軸心Aも同様に反っている。反りの程度は、撹拌部2の長さを40mmとしたとき、図3に示すx(撹拌部2において鉛直線から最も離隔した距離)が0.2mm以下であるのが好ましい。図3に示すxは、例えば隙間ゲージ等によって測定可能である。撹拌部2の長さが40mm以外の場合は、これに比例する関係の距離xを選択すればよい。
As shown in FIG. 3, the
このように、撹拌部2が反りを有することにより撹拌効率が向上する。撹拌部2に反りを付与するには、例えば成形品11の焼成時の温度および焼成時間を制御すればよい。
In this way, the
図4に示すように、撹拌棒1は、撹拌装置の撹拌槽9内に撹拌部2を下にして挿入される。軸部3は、上部が試料溶液8の液面から突出している。液面から突出した軸部3には、撹拌棒1を回転させるモーターなどを備える駆動部(図示せず)が接続され、撹拌棒1を回転させる。
As shown in FIG. 4, the
本実施形態における撹拌棒1は、撹拌部2が撹拌槽9の少なくとも底部近くに位置しているので、試料溶液8の粘度に拘らず効率よく撹拌することができる。特に撹拌部2が軸方向に長く形成されていると、高粘度の試料溶液8を撹拌するのに好適である。撹拌部2は試料溶液8の深さ(撹拌槽9の底面から液面までの高さ)に対して半分以下であればよい。
Since the stirring
本開示の撹拌棒は図1の実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、図5(a)に示すように撹拌部2が下部にあるものであってもよく、図5(b)に示すように、複数の撹拌部2a、2b、2cを軸部3に沿って配列したものであってもよい。
The stirring rod of the present disclosure is not limited to the embodiment shown in FIG. 1, and various modifications can be made. For example, as shown in FIG. 5A, the stirring
軸部3に設けられる凸部4の数は、図示した4つに限定されず、2〜5の範囲で適宜選択可能である。
The number of the
さらに、以上の実施形態では、軸部3は撹拌部2と押出成形等によって一体に成形されているが、軸部3を撹拌部2と別に作製し、撹拌部2の端面に設けた凹部に軸部3を装着して固定したものであってもよい。このとき、軸部3は断面が円形や楕円形であってもよく、空回り防止のために四角形状であってもよい。
Further, in the above embodiment, the
また、上記セラミックスは、閉気孔を有し、隣り合う閉気孔の重心間距離から閉気孔の円相当径の平均値を差し引いた値(A)が20μm〜85μmであってもよい。値(A)が20μm以上であると、空隙部分が密集することなく分散して配置されているので、高い機械的特性を有する。値(A)が85μm以下であると、撹拌部2の外周面から軸心方向に、または、撹拌部2の端面もしくは軸部3の端面から内部に向かって研磨等の加工をする場合、良好な加工性が得られる。さらに、隣り合う閉気孔間の間隔が狭くなるので、熱衝撃によって生じるマイクロクラックの伸展を抑制することができる。
Further, the ceramic has closed pores, and the value (A) obtained by subtracting the average value of the equivalent circle diameters of the closed pores from the distance between the centers of gravity of the adjacent closed pores may be 20 μm to 85 μm. When the value (A) is 20 μm or more, the void portions are dispersed and arranged without being densely arranged, so that the value (A) has high mechanical properties. When the value (A) is 85 μm or less, it is good when polishing or the like is performed from the outer peripheral surface of the stirring
閉気孔の重心間距離は、以下の方法で求めることができる。 The distance between the centers of gravity of the closed pores can be obtained by the following method.
まず、例えば、撹拌部2の端面から内部に向かって、平均粒径D50が3μmのダイヤモンド砥粒を用いて銅盤にて研磨する。その後、平均粒径D50が0.5μmのダイヤモンド砥粒を用いて錫盤にて研磨することにより研磨面を得る。これらの研磨により、研磨面の算術平均粗さRaは、0.01μm〜0.2μmとすることができる。研磨面の算術平均粗さRaは、JIS B 0601:1994に準拠して求めることができ、触針の半径を5μm、触針の材質をダイヤモンド、測定長さを1.25mm、カットオフ値を0.25mmとすればよい。First, for example, from the end face of the stirring
研磨面を200倍の倍率で観察し、平均的な範囲を選択して、例えば、面積が0.105mm2(横方向の長さが374μm、縦方向の長さが280μm)となる範囲をCCDカメラで撮影して、観察像を得る。この観察像を対象として、画像解析ソフト「A像くん(ver2.52)」(登録商標、旭化成エンジニアリング(株)製)を用いて分散度計測の重心間距離法という手法で閉気孔の重心間距離を求めればよい。以下、画像解析ソフト「A像くん」と記載した場合、旭化成エンジニアリング(株)製の画像解析ソフトを示す。Observe the polished surface at a magnification of 200 times and select an average range. For example, a range with an area of 0.105 mm 2 (horizontal length 374 μm, vertical length 280 μm) is CCD. Take a picture with a camera and get an observation image. Using the image analysis software "A image-kun (ver2.52)" (registered trademark, manufactured by Asahi Kasei Engineering Co., Ltd.) for this observation image, the distance between the centers of gravity of the closed pores is measured by the distance between the centers of gravity. Just find the distance. Hereinafter, when the image analysis software "A image-kun" is described, the image analysis software manufactured by Asahi Kasei Engineering Co., Ltd. is shown.
この手法の設定条件としては、例えば、画像の明暗を示す指標であるしきい値を86、明度を暗、小図形除去面積を1μm2、雑音除去フィルタを有とすればよい。観察像の明るさに応じて、しきい値を調整してもよい。明度を暗とし、2値化の方法を手動とし、小図形除去面積を1μm2および雑音除去フィルタを有とした上で、観察像に現れるマーカーが閉気孔の形状と一致するように、しきい値を調整すればよい。As the setting conditions of this method, for example, a threshold value indicating the brightness of the image may be 86, the brightness may be dark, the small figure removal area may be 1 μm 2 , and a noise removal filter may be provided. The threshold value may be adjusted according to the brightness of the observed image. The brightness is dark, the binarization method is manual, the small figure removal area is 1 μm 2, and the noise removal filter is provided, and the threshold is set so that the marker appearing in the observation image matches the shape of the closed pores. You can adjust the value.
凸部4の接液面を含む断面において、接液面上における珪素の濃度は、接液面と平行な内部の仮想面上における珪素の濃度よりも高いのがよい。
In the cross section including the wetted surface of the
純水に対する珪素の接触角は小さいため、このような構成であると、水溶性の洗剤を用いて洗浄した場合、汚れの除去効率を高くすることができる。 Since the contact angle of silicon with respect to pure water is small, it is possible to increase the efficiency of removing stains when cleaning with a water-soluble detergent with such a configuration.
珪素の濃度は、接液面を含む研磨した断面を対象に、電子線マイクロアナライザ(EPMA)を用いた珪素のカラーマッピング像(横方向の長さが120μm、縦方向の長さが:90μm)を観察すればよい。 The concentration of silicon is a color mapping image of silicon using an electron probe microanalyzer (EPMA) for a polished cross section including the wetted surface (horizontal length: 120 μm, vertical length: 90 μm). Should be observed.
また、凸部4の接液面におけるセラミックスは、複数の結晶粒子と、粒界相とを有し、隣り合う結晶粒子の間に位置する粒界相の幅(w)は、0.7μm〜2.6μmであって、粒界相の幅(w)に対する粒界相の深さ(d)の比(d/w)は、0.06〜0.18であってもよい。粒界相の幅(w)が上記範囲であって、粒界相の深さ(d)の比(d/w)が0.06以上であると、純水に対する接触角が小さくなるので、水溶性の洗剤を用いて洗浄した場合、汚れの除去効率を高くすることができる。粒界相の幅(w)が上記範囲であって、粒界相の深さ(d)の比(d/w)が0.18以下であると、粒界相による結晶粒子同士の結合力が十分維持されているので、水溶性の洗剤を用いて高圧洗浄しても、脱粒のおそれが減少する。
Further, the ceramics on the wetted surface of the
粒界相の幅(w)および深さ(d)は、原子間力顕微鏡(キーサイトテクノロジー製、7500AFM/SPM)を用い、測定モードをACAFMモード、測定に用いるプローブのスキャン速度を0.15lines/sec、測定領域を20μm×20μm、測定対象の長さを7μm〜20μm、解像度を512ピクセル×512ピクセルとして、接液面の断面プロファイルを求め、その比(d/w)は、粒界相の幅(w)および深さ(d)の各測定値を用いて算出すればよい。 For the width (w) and depth (d) of the grain boundary phase, an atomic force microscope (7500AFM / SPM manufactured by Keysight Technology) was used, the measurement mode was ACAFM mode, and the scanning speed of the probe used for measurement was 0.15 lines. With / sec, the measurement area being 20 μm × 20 μm, the length of the measurement target being 7 μm to 20 μm, and the resolution being 512 pixels × 512 pixels, the cross-sectional profile of the wetted surface was obtained, and the ratio (d / w) was the grain boundary phase. It may be calculated using each measured value of the width (w) and the depth (d) of.
また、凸部4の接液面における前記セラミックスの結晶粒子の平均径は、2μm〜8μmであってもよい。結晶粒子の平均径が上記範囲であると、純水に対する接触角がさらに小さくなるので、水溶性の洗剤を用いて洗浄した場合、汚れの除去効率を高くすることができる。
Further, the average diameter of the crystal particles of the ceramics on the wetted surface of the
ここで、セラミックスの結晶粒子の平均径は、以下のようにして求めることができる。 Here, the average diameter of the crystal particles of the ceramics can be obtained as follows.
上記研磨面を、温度を、例えば、1480℃で結晶粒子と粒界層とが識別可能になるまでエッチングして観察面を得る。 The polished surface is etched at a temperature of, for example, 1480 ° C. until the crystal grains and the grain boundary layer can be distinguished from each other to obtain an observation surface.
走査型電子顕微鏡を用いて、観察面の反射電子像を2000倍に拡大した60μm×44μmの範囲で、任意の点を中心にして放射状に同じ長さ、例えば、30μmの直線を6本引き、直線の合計長さを、直線上に存在する結晶の個数の合計で除すことによって平均径を求めることができる。 Using a scanning electron microscope, draw six straight lines of the same length, for example, 30 μm, radially around an arbitrary point in a range of 60 μm × 44 μm, which is a 2000-fold magnification of the reflected electron image on the observation surface. The average diameter can be obtained by dividing the total length of the straight line by the total number of crystals existing on the straight line.
特に、凸部4の接液面の純水に対する接触角が37°以下であって、その変動係数が0.02以下であってもよい。これにより、水溶性の洗剤を用いて洗浄した場合、汚れの除去効率を高くすることができるとともに、局部的な汚れの取り残しを抑制することができる。
In particular, the contact angle of the wetted surface of the
また、凸部4は、側面および端面の少なくともいずれかがフッ素化したポリシロキサンを含む化合物からなる膜によって被覆されていてもよい。水溶性の洗剤を用いて洗浄した後、上記膜によって被覆された表面に付着した水滴が汚れを吸着するロータス効果が得られるので、汚れの除去効率を高くすることができる。
Further, the
膜の接液面の純水に対する接触角が104°以上であって、その変動係数が0.01以下であってもよい。水溶性の洗剤を用いて洗浄した場合、汚れの除去効率を高くすることができるとともに、局部的な汚れの取り残しを抑制することができる。 The contact angle of the wetted surface of the membrane with pure water may be 104 ° or more, and the coefficient of variation may be 0.01 or less. When washed with a water-soluble detergent, the efficiency of removing stains can be increased, and local stains can be suppressed from being left behind.
接液面の接触角は、JIS R 3257:1999に準拠して求めることができ、例えば、接触角計(協和界面科学(株)製、型式CA−X)を用い、5カ所以上測定すればよい。 The contact angle of the wetted surface can be determined in accordance with JIS R 3257: 1999. For example, if a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., model CA-X) is used and 5 or more points are measured. good.
次に、本開示の撹拌棒の製造方法を、撹拌棒が高純度アルミナのセラミックスからなる場合について説明する。 Next, the method for manufacturing the stirring rod of the present disclosure will be described when the stirring rod is made of high-purity alumina ceramics.
主成分である酸化アルミニウム粉末(純度が99.9質量%以上)と、水酸化マグネシウム、酸化珪素および炭酸カルシウムの各粉末に、有機結合剤、可塑剤、潤滑剤およびイオン交換水とを添加し、万能撹拌機、回転ミルまたはV型撹拌機等を使って撹拌した後、さらに三本ロールミルや混練機等を用いて混練することにより可塑化した坏土を得る。 An organic binder, a plasticizer, a lubricant, and ion-exchanged water are added to each of the main components, aluminum oxide powder (purity of 99.9% by mass or more) and magnesium hydroxide, silicon oxide, and calcium carbonate powder. , A universal stirrer, a rotary mill, a V-type stirrer or the like is used for stirring, and then a three-roll mill, a kneader or the like is used for kneading to obtain a plasticized clay.
ここで、上記粉末の合計100質量%における水酸化マグネシウム粉末の含有量は0.43〜0.53質量%、酸化珪素粉末の含有量は0.02〜0.04質量%、炭酸カルシウム粉末の含有量は0.020〜0.071質量%であり、残部が酸化アルミニウム粉末および不可避不純物である。また、有機結合剤は、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の水溶性バインダである。 Here, the content of magnesium hydroxide powder in a total of 100% by mass of the powder is 0.43 to 0.53% by mass, the content of silicon oxide powder is 0.02 to 0.04% by mass, and that of calcium carbonate powder. The content is 0.020 to 0.071% by mass, and the balance is aluminum oxide powder and unavoidable impurities. The organic binder is a water-soluble binder such as methyl cellulose and hydroxypropyl methyl cellulose.
次に、坏土を押出成形機で成形し、複数の凸部を有する撹拌部の前駆体と、この前駆体の軸方向の一端面にこの前駆体と同一軸心を有する軸部の前駆体とを備えた成形体を得る。そして、成形体を、焼成温度を1500℃〜1700℃、保持時間を4時間〜6時間として焼成することによって本開示の撹拌棒を得ることができる。 Next, the clay is molded by an extrusion molding machine, and a precursor of a stirring portion having a plurality of convex portions and a precursor of a shaft portion having the same axial center as the precursor on one end surface in the axial direction of the precursor. Obtain a molded body with and. Then, the stirring rod of the present disclosure can be obtained by firing the molded product at a firing temperature of 1500 ° C. to 1700 ° C. and a holding time of 4 hours to 6 hours.
焼成した後、凸部の側面および端面の少なくともいずれかを研磨した後、温度を1600℃〜1700℃として、1時間〜4時間保持して熱処理してもよく、研磨および熱処理することにより、凸部の接液面の純水に対する接触角が37°以下であって、その変動係数が0.02以下である撹拌棒を得ることができる。研磨は、例えば、研磨の対象となる側面または端面にかかる面圧を0.03MPa〜0.05MPaとし、平均粒径が1μm〜2μmのダイヤモンド砥粒、銅からなるラップ盤を用いればよい。 After firing, at least one of the side surface and the end surface of the convex portion may be polished, and then the temperature may be set to 1600 ° C. to 1700 ° C. and held for 1 hour to 4 hours for heat treatment. It is possible to obtain a stirring rod having a contact angle of the wetted surface of the portion with pure water of 37 ° or less and a coefficient of variation of 0.02 or less. For polishing, for example, a lapping machine made of diamond abrasive grains and copper having an average particle size of 1 μm to 2 μm may be used, in which the surface pressure applied to the side surface or end surface to be polished is 0.03 MPa to 0.05 MPa.
ここで、凸部は、側面および端面の少なくともいずれかがフッ素化したポリシロキサンを含む化合物またはシリコーンオリゴマーを含む組成物からなる膜によって被覆された撹拌棒を得るには、少なくとも被覆の対象とする凸部の表面に対して、フローコートやディッピング、スプレー法等の方法を用いて被覆した後、例えば、130℃〜150℃で乾燥すればよい。 Here, the convex portion is at least subject to coating in order to obtain a stirring rod coated with a film composed of a compound containing a polysiloxane having fluorinated at least one of a side surface and an end surface or a composition containing a silicone oligomer. The surface of the convex portion may be coated by a method such as flow coating, dipping, or spraying, and then dried at, for example, 130 ° C. to 150 ° C.
膜の接液面の純水に対する接触角が104°以上であって、その変動係数が0.01以下である撹拌棒を得るには、例えば、上記温度で20分〜40分乾燥すればよい。 In order to obtain a stirring rod having a contact angle of the wetted surface of the membrane with pure water of 104 ° or more and a coefficient of variation of 0.01 or less, for example, it may be dried at the above temperature for 20 to 40 minutes. ..
本開示は、上述の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載の範囲内で種々の変更や改良が可能である。 The present disclosure is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made within the scope of the claims.
1 撹拌棒
2、2a,2b,2c 撹拌部
3 軸部
4 凸部
8 試料溶液
9 撹拌槽
A 軸心
1 Stirring
Claims (13)
A stirring device including the stirring rod according to any one of claims 1 to 9, claim 11 or 12.
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