JPWO2020099334A5 - - Google Patents
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Claims (23)
- 顎骨の穴に挿入され、インプラントされるときに骨組織に少なくとも部分的に配置されるように構成される歯科インプラントであって、
前記歯科インプラントは、冠状インプラント領域を含み、前記冠状インプラント領域の表面は、
60nm~170nmの範囲の平均厚さを有する酸化物層で少なくとも部分的に覆われ、
0.1μm~1.0μmの範囲の平均算術平均高さSaを有する、
歯科インプラント。 - 前記冠状領域の前記表面は、平滑で、基本的に非多孔性で、ナノ構造であり、及び/または機械加工されたままの構造を示し、特に、前記機械加工プロセスからの旋削線の配置を含む、請求項1に記載の歯科インプラント。
- 前記冠状領域の前記表面は、0.2μmから、好ましくは0.4μmから、0.6μmまで、好ましくは0.8μmまでの範囲の平均算術平均高さSaを有し、任意選択的に、
前記酸化物層は、80nmから、130nmまで、好ましくは160nmまでの範囲の平均厚さを有する、請求項1~2のいずれか1項に記載の歯科インプラント。 - 前記冠状領域は、人間の目で見るとき、黄色またはピンク色を示す、請求項1~3のいずれか1項に記載の歯科インプラント。
- 前記歯科インプラントは、
移行インプラント領域と、
根尖インプラント領域と、
前記冠状インプラント領域から前記根尖インプラント領域まで延在する縦軸とをさらに含み、
前記歯科インプラントの冠状端を起点して前記縦軸に沿った前記歯科インプラントの根尖までの一連の領域は、冠状インプラント領域-移行インプラント領域-根尖インプラント領域の順番に並んでおり、
前記領域の表面特性に関して、
‐前記根尖インプラント領域の平均算術平均高さSa>前記移行インプラント領域のSa>前記冠状インプラント領域のSa、
‐前記根尖インプラント領域の平均展開界面面積比Sdr>前記移行インプラント領域のSdr>前記冠状インプラント領域のSdr、
‐前記根尖インプラント領域のインプラント表面の酸化物層の平均厚さdOX>前記移行インプラント領域のインプラント表面の酸化物層の平均厚さdOX>前記冠状インプラント領域のインプラント表面の酸化物層の平均厚さdOX、及び
‐前記根尖インプラント領域の前記酸化物層の平均リン含有量CP>前記移行インプラント領域の前記酸化物層の平均リン含有量CP>前記冠状インプラント領域の前記酸化物層の平均リン含有量CP、
の少なくとも1つが当てはまる、請求項1~4のいずれか1項に記載の歯科インプラント。 - 前記根尖インプラント領域、前記移行インプラント領域、及び前記冠状インプラント領域の前記表面特性は、前記歯科インプラントの前記縦軸に沿った異なる領域間で、段階的または連続的に、好ましくは勾配的に、またはそれらの組み合わせで変化する、請求項1~5のいずれか1項に記載の歯科インプラント。
- ‐前記根尖インプラント領域、前記移行インプラント領域、及び/または前記冠状インプラント領域では、前記酸化物層は、さらに、カルシウム、マグネシウム、及び/もしくはフッ化物を含み、ならびに/または
‐前記根尖インプラント領域及び前記移行インプラント領域の前記表面は微小孔表面であり、ならびに/または骨成長開始物質及び骨成長刺激物質の少なくとも1つを含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の歯科インプラント。 - 前記根尖インプラント領域の前記表面は、
‐平均Sa:1.50μm±0.4μm、
‐平均Sdr:187%±50%、
‐平均孔径:1.5μm±0.5μm、
‐平均酸化物層の厚さdOX:9000nm±3000nm,及び
‐平均リン含有量CP:4%から、好ましくは6%から、10%まで、好ましくは12%までの範囲内、
の少なくとも1つ、好ましくは全てを示し、
ならびに/または、
前記移行インプラント領域の前記表面は、
‐平均Sa:0.8μm±0.5μm、
‐平均Sdr:148%±40%、
‐平均孔径:1.0μm±0.5μm、
‐平均酸化物層の厚さdOX:7000nm±3000nm、及び
‐平均リン含有量CP:3%から、好ましくは5%から、9%まで、好ましくは11%までの範囲内、
の少なくとも1つ、好ましくは全てを示し、
ならびに/または、
前記冠状インプラント領域の前記表面は、
‐平均Sa:0.5μm±0.3μm、
‐平均Sdr:16.6%±15%、
‐平均ナノ構造サイズ:80nm±50nm、
‐平均酸化物層の厚さdOX:120nm±40nm、及び
‐平均リン含有量CP:2%から、好ましくは3%から、5%まで、好ましくは6%までの範囲内、
の少なくとも1つ、好ましくは全てを示す、請求項1~7のいずれか1項に記載の歯科インプラント。 - 前記根尖インプラント領域、前記移行インプラント領域、及び前記冠状インプラント領域の前記表面特性は、陽極酸化処理を行うことによって、少なくとも部分的に得られ、好ましくは、
前記根尖インプラント領域、前記移行インプラント領域、及び前記冠状インプラント領域の前記表面は、前記酸化物層を含む陽極酸化表面である、請求項1~8のいずれか1項に記載の歯科インプラント。 - 前記移行インプラント領域及び/または前記根尖インプラント領域の前記表面は、スパーク陽極酸化処理を行うことによって得られる、請求項1~9のいずれか1項に記載の歯科インプラント。
- 前記歯科インプラントの基材は、チタンまたはチタン合金を含み、好ましくはチタンまたはチタン合金から成り、任意選択的に、
前記根尖インプラント領域及び前記移行インプラント領域の前記表面の前記酸化物層は、好ましくは70~100%の範囲で、アナターゼ相の結晶酸化チタンを含み、残りはルチル酸化チタン及び/またはアモルファス酸化チタンを含み、任意選択的に、
前記冠状インプラント領域の前記表面の前記酸化物層は、主にアモルファス酸化チタンを含むか、またはアモルファス酸化チタンから成り、好ましくは、前記酸化物層は、実質的に非晶質及び/またはアナターゼフリーである、請求項1~10のいずれか1項に記載の歯科インプラント。 - a)前記冠状インプラント領域は、前記歯科インプラントの前記冠状端から、前記縦軸に沿って最大2mm±0.5mmまで前記歯科インプラントの根尖端に向かって延在し、
前記移行インプラント領域は、さらに前記縦軸に沿って前記歯科インプラントの前記根尖端に向かって前記2mm±0.5mmから最大4mm±0.5mmまで延在し、
前記根尖インプラント領域は、前記4mm±0.5mmから前記歯科インプラントの前記根尖端に至るまで延在し、
または、
b)前記冠状インプラント領域は、前記歯科インプラントの前記冠状端から前記縦軸に沿って前記歯科インプラントの前記根尖端に向かって測定して、0.5mから、好ましくは1.0mmから、より好ましくは1.5mmから、2.5mmまで、好ましくは4.0mmまで、より好ましくは6.0mmまでの長さを有する、請求項1~11のいずれか1項に記載の歯科インプラント。 - 歯科用構成要素、好ましくは歯科アバットメントであって、
前記構成要素の表面は、
60nm~170nmの範囲の平均厚さを有する酸化物層によって少なくとも部分的に覆われ、
0.05μm~0.5μmの範囲の平均算術平均高さSaを有する、
構成要素。 - 前記構成要素の前記表面は、陽極酸化処理を行うことによって少なくとも部分的に得られ、好ましくは、
前記構成要素の前記表面は、前記酸化物層を含む陽極酸化表面である、請求項13に記載の構成要素。 - 前記構成要素の前記表面は、平滑で、ナノ構造で、基本的に非多孔性であり、及び/または機械加工されたままの構造を示し、特に、前記機械加工プロセスからの旋削線の配置を含む、請求項13及び14のいずれか1項に記載の構成要素。
- 前記アバットメントの表面は、人間の目で見るとき、黄色またはピンク色を示す、請求項13~15のいずれか1項に記載の構成要素。
- 前記構成要素の前記表面は、0.08μmから、好ましくは0.13μmから、0.3μmまでの範囲の平均算術平均高さSaを有し、任意選択的に、
前記酸化物層は、80nmから、130nmまで、好ましくは160nmまでの範囲の平均厚さを有する、請求項13~16のいずれか1項に記載の構成要素。 - 前記構成要素の前記表面は、
‐平均Sa:0.2μm±0.1μm、
‐平均Sdr:5.0%±5%、
‐平均ナノ構造サイズ:80nm±50nm、
‐平均酸化物層の厚さdOX:120nm±40nm、及び
‐平均リン含有量CP:2%から、好ましくは3%から、5%まで、好ましくは6%までの範囲内、
の少なくとも1つ、好ましくは全てを示し、
Saは前記構成要素の前記表面の前記算術平均高さであり、Sdrは前記構成要素の前記表面の展開界面面積比であり、dOXは前記構成要素表面の前記酸化物層の前記厚さであり、CPは前記酸化物層のリン含有量である、請求項13~17のいずれか1項に記載の構成要素。 - 前記構成要素の基材は、チタンまたはチタン合金を含み、好ましくはチタンまたはチタン合金から成る、請求項13~18のいずれか1項に記載の構成要素。
- 歯科用インプラントシステムであって、
請求項1~12のいずれか1項に記載の歯科インプラントと、
請求項13~19のいずれか1項に記載の構成要素と、
を含み、
前記歯科インプラント及び前記構成要素は、互いに接続可能であるように構成される、歯科用インプラントシステム。 - 前記冠状インプラント領域及び前記構成要素の表面モルホロジー及び/または個々の表面特性の大きさは、互いに類似する、請求項20に記載のインプラントシステム。
- 前記冠状インプラント領域の個々の表面特性の前記大きさと前記構成要素の個々の表面特性の前記大きさの差は、前記根尖インプラント領域または前記移行インプラント領域の個々の表面特性の前記大きさと前記冠状インプラント領域の個々の表面特性の大きさの差よりも小さい、請求項20及び21のいずれか1項に記載のインプラントシステム。
- 前記インプラントシステムは、歯科修復要素をさらに含み、
前記インプラント、前記構成要素、及び前記歯科修復要素を組み合わせて接続し、アセンブリを形成するか、または歯科用パーツキットを形成する、請求項20~22のいずれか1項に記載のインプラントシステム。
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