JPWO2019159973A1 - Phase difference film manufacturing method and retardation film manufacturing equipment - Google Patents

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Abstract

連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第1の塗膜を形成する工程と、表面の正面反射率の面内偏差が1パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第1の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第2の塗膜を形成する工程と、第2の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、を有する位相差フィルムの製造方法及び位相差フィルムの製造装置である。A step of applying a material for forming an alignment layer to a continuous film support that is continuously conveyed and drying it to form a first coating film, and a backup roll in which the in-plane deviation of the front reflectance of the surface is 1 percentage point or less. A step of irradiating the first coating film with polarized ultraviolet rays while the continuous film support is wound around the liquid crystal to form an alignment layer having an orientation regulating force on the liquid crystal compound, and a liquid crystal compound on the alignment layer. A step of applying and drying the material for forming a liquid crystal layer containing the liquid crystal layer to form a second coating film, and a step of orienting the liquid crystal compound in the second coating film and fixing the orientation to form a liquid crystal layer. It is a method for producing a retardation film and an apparatus for producing a retardation film.

Description

本開示は、位相差フィルムの製造方法及び位相差フィルムの製造装置に関する。 The present disclosure relates to a method for producing a retardation film and an apparatus for producing a retardation film.

液晶ディスプレイ等に用いられる位相差フィルムとして、支持体上に配向層及び液晶層が設けられたものが知られている。
配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力を備える層である。
As a retardation film used for a liquid crystal display or the like, one in which an alignment layer and a liquid crystal layer are provided on a support is known.
The alignment layer is a layer having an orientation regulating force for arranging the liquid crystal compounds of the liquid crystal layer in a certain direction.

位相差フィルムは、生産性向上のため、連続フィルム支持体を用い、ロールトゥロール(roll to roll)方式での連続プロセスによって製造される。
ロールトゥロール方式にて位相差フィルムを製造する際、液晶の配向に対する規制力を付与する手段として、近年、従来のラビング処理に代わり光配向方式が採用される傾向にある。光配向方式において、配向層を塗布した後に偏光紫外線を照射することで配向制御し、次の工程で液晶層を塗布した際、液晶が所望の方向に配列される。
In order to improve productivity, the retardation film is produced by a continuous process in a roll-to-roll method using a continuous film support.
When producing a retardation film by the roll-to-roll method, in recent years, the photo-alignment method has tended to be adopted instead of the conventional rubbing process as a means for imparting a restrictive force to the orientation of the liquid crystal. In the photo-alignment method, orientation is controlled by irradiating polarized ultraviolet rays after applying the alignment layer, and when the liquid crystal layer is applied in the next step, the liquid crystals are arranged in a desired direction.

光配向方式で偏光紫外線を照射する態様として、バックアップロール上で配向層形成用材料の塗膜に対し偏光紫外線を照射する態様が挙げられる。この態様は、バックアップロールの形状に沿って張架した状態の連続フィルム支持体上で塗膜に対し偏光が照射できる点、及び、バックアップロールに連続フィルム支持体が接していることから連続フィルム支持体及び塗膜の温調がし易い点、において有効である。 As an embodiment of irradiating the polarized ultraviolet rays by the photoalignment method, there is an embodiment of irradiating the coating film of the alignment layer forming material with the polarized ultraviolet rays on the backup roll. In this aspect, the coating film can be irradiated with polarized light on the continuous film support stretched along the shape of the backup roll, and the continuous film support is in contact with the backup roll, so that the continuous film support is provided. It is effective in that the temperature of the body and the coating film can be easily controlled.

光配向方式を用いた例として特開2002−98969号公報には、支持体上に光配向層を塗布した後、光配向層に偏光紫外線を照射する工程を有する光配向層の製造方法において、支持体上の偏光紫外線の照射面積内で支持体の搬送方向又は幅手方向における、支持体の振幅が10mm以内である光配向層の製造方法が開示されている。 As an example of using the photo-alignment method, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-99869 describes a method for producing a photo-alignment layer, which comprises a step of applying a photo-alignment layer on a support and then irradiating the photo-alignment layer with polarized ultraviolet rays. A method for producing a photo-aligned layer in which the amplitude of the support is within 10 mm in the transport direction or the width direction of the support within the irradiation area of polarized ultraviolet rays on the support is disclosed.

バックアップロール上で配向層に対し偏光紫外線を照射する例として、特開2014−170238号公報には、露光工程に含まれる第1露光処理および第2露光処理の少なくとも一方が、搬送用ロール(バックアップロール)上で配向層に偏光紫外線をパターン照射し、搬送用ロールの表面が偏光紫外線を反射しない色であるパターン配向膜を製造する方法が開示されている。 As an example of irradiating the oriented layer with polarized ultraviolet rays on the backup roll, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-170238 states that at least one of the first exposure process and the second exposure process included in the exposure step is a transport roll (backup). A method of irradiating an alignment layer with a pattern of polarized ultraviolet rays on a roll) to produce a pattern alignment film having a color that does not reflect polarized ultraviolet rays on the surface of a transport roll is disclosed.

ここで、配向層上に形成された液晶層中の液晶化合物が配向層の配向に従って規則正しく配列されるには、配向層が配向軸の均一性に優れていることが重要であると考えられている。光配向方式において、偏光された紫外線(本明細書中、偏光紫外線ともいう。)を配向層へ照射するが、配向軸の良好な均一性を実現するためには、偏光紫外線の照射量が一定の値以上であることと、入射角度分布が均一であることが求められる。 Here, in order for the liquid crystal compounds in the liquid crystal layer formed on the alignment layer to be regularly arranged according to the orientation of the alignment layer, it is considered important that the alignment layer has excellent uniformity of the orientation axis. There is. In the photo-alignment method, polarized ultraviolet rays (also referred to as polarized ultraviolet rays in the present specification) are irradiated to the alignment layer, but in order to realize good uniformity of the orientation axis, the irradiation amount of polarized ultraviolet rays is constant. It is required that the value is equal to or more than the value of and that the incident angle distribution is uniform.

このうち照射量については、配向層形成用材料の種類や硬化状態によって変化する値を満たしていれば、均一性は保たれると考えられる。一方の入射角度分布については、僅かな照射条件(照射量、照射角度等)の変化でも均一性は乱れやすく、配向軸が均一化された配向層を形成することは困難となる。
例えば、配向層へ照射された偏光紫外線は、連続フィルム支持体を通過しバックアップロールの表面で反射するところ、バックアップロールの表面で反射した光(本明細書中、反射光ということがある。)は結果として配向層に照射され、配向軸の均一性を乱す原因となることがある。
また、バックアップロールの継続使用によって生じる、バックアップロール表面の錆又は汚れ等による表面状態の変化もまた、反射光に影響を及ぼし、入射角度の分布が配向層の場所により異なる状態が生じる結果、配向軸の均一性を損なう原因となることがある。
Of these, the irradiation amount is considered to maintain uniformity as long as it satisfies a value that changes depending on the type of the material for forming the alignment layer and the cured state. On the other hand, with respect to the incident angle distribution, even a slight change in irradiation conditions (irradiation amount, irradiation angle, etc.) tends to disturb the uniformity, and it becomes difficult to form an orientation layer having a uniform orientation axis.
For example, the polarized ultraviolet light applied to the alignment layer passes through the continuous film support and is reflected on the surface of the backup roll, and is reflected on the surface of the backup roll (in the present specification, it may be referred to as reflected light). As a result, the alignment layer is irradiated, which may disturb the uniformity of the alignment axis.
In addition, changes in the surface condition due to rust or dirt on the surface of the backup roll caused by continuous use of the backup roll also affect the reflected light, resulting in a state in which the distribution of the incident angle differs depending on the location of the orientation layer. It may cause a loss of shaft uniformity.

上記特開2002−98969号公報においては、配向軸のばらつきを抑えるため、支持体の搬送時の振幅を10mm以内に調整することで、照射方向又は照射角度のばらつきを5°以内とする旨の記載があるが、照射角度のばらつき以外の照射条件は検討されておらず、良好な配向軸の均一性が実現できていないと考えられる。
また、上記特開2014−170238号公報において、バックアップロールの表面が偏光紫外線を反射しない色であるとの記載があるが、反射光が配向軸に及ぼす影響については一切の検討がされていない。
さらに、特開2002−98969号公報及び特開2014−170238号公報において、バックアップロールを継続使用した場合に発生する錆又は汚れ等による表面状態の変化が反射光に及ぼす影響についてまで考慮されておらず、上記のような配向軸の不均一化の課題は経時で生じることが考えられる。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-99869, in order to suppress the variation in the orientation axis, the variation in the irradiation direction or the irradiation angle is set to within 5 ° by adjusting the amplitude of the support during transportation within 10 mm. Although there is a description, the irradiation conditions other than the variation in the irradiation angle have not been examined, and it is considered that good uniformity of the orientation axis has not been realized.
Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-170238, it is described that the surface of the backup roll is a color that does not reflect polarized ultraviolet rays, but the influence of the reflected light on the orientation axis has not been examined at all.
Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-99869 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-170238, the influence of changes in the surface state due to rust or dirt generated when the backup roll is continuously used on the reflected light is considered. However, it is considered that the problem of non-uniformity of the orientation axis as described above occurs over time.

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造方法を提供することである。
また、本開示の他の一実施形態が解決しようとする課題は、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造装置を提供することである。
An object to be solved by one embodiment of the present disclosure is to provide a method for producing a retardation film for producing a retardation film having excellent uniformity of orientation axes.
Another object to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a retardation film manufacturing apparatus for manufacturing a retardation film having excellent uniformity of orientation axes.

上記課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第1の塗膜を形成する工程と、表面の正面反射率の面内偏差(以下、表面反射率偏差ともいう。)が1パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第1の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第2の塗膜を形成する工程と、第2の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、を有する位相差フィルムの製造方法である。
<2> バックアップロールの表面が鏡面である<1>に記載の位相差フィルムの製造方法。
<3> バックアップロールの、波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率が60%〜99.95%である<1>又は<2>に記載の位相差フィルムの製造方法。
<4> バックアップロールの材質がステンレスである、又はバックアップロールの表面が黒色である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の位相差フィルムの製造方法。
<5> バックアップロールの表面の付着物を除去する工程を含む<1>〜<4>のいずれか1つに記載の位相差フィルムの製造方法である。
<6> 除去は、付着物除去装置を用いて行う<5>に記載の位相差フィルムの製造方法である。
<7> 付着物除去装置は、付着物除去ロール、送風器、拭き取り器又は浸漬洗浄器である<6>に記載の位相差フィルムの製造方法である。
<8> 連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する第1の塗布手段と、塗布後の配向層形成用材料を乾燥して第1の塗膜を形成する第1の乾燥手段と、表面反射率偏差が1パーセントポイント以下であるバックアップロールと、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第1の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する第2の塗布手段と、塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第2の塗膜を形成する第2の乾燥手段と、乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成手段と、を備えた位相差フィルムの製造装置である。
Specific means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A step of applying and drying a material for forming an orientation layer on a continuous film support that is continuously conveyed to form a first coating film, and an in-plane deviation of the front reflectance of the surface (hereinafter, surface reflectance). A continuous film support is wound around a backup roll having a deviation of 1 percentage point or less, and the first coating film is irradiated with polarized ultraviolet rays to provide orientation with an orientation regulating force for the liquid crystal compound. A step of forming a layer, a step of applying a liquid crystal layer forming material containing a liquid crystal compound on the alignment layer and drying to form a second coating film, and a step of orienting the liquid crystal compound in the second coating film are performed. This is a method for producing a retardation film having a step of fixing the orientation and forming a liquid crystal layer.
<2> The method for producing a retardation film according to <1>, wherein the surface of the backup roll is a mirror surface.
<3> The method for producing a retardation film according to <1> or <2>, wherein the backup roll has an absorption rate of 60% to 99.95% for ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm.
<4> The method for producing a retardation film according to any one of <1> to <3>, wherein the material of the backup roll is stainless steel or the surface of the backup roll is black.
<5> The method for producing a retardation film according to any one of <1> to <4>, which includes a step of removing deposits on the surface of the backup roll.
<6> The removal is the method for producing a retardation film according to <5>, which is performed using a deposit removing device.
<7> The deposit removing device is the method for manufacturing a retardation film according to <6>, which is a deposit removing roll, a blower, a wiper, or a dipping washer.
<8> A first coating means for applying a material for forming an alignment layer to a continuous film support that is continuously conveyed, and a first coating method for forming a first coating film by drying the material for forming an alignment layer after coating. The drying means, the backup roll having a surface reflectance deviation of 1 percentage point or less, and the first coating film being irradiated with ultraviolet rays with the continuous film support wrapped around the backup roll to regulate the orientation of the liquid crystal compound. The alignment layer forming means for forming the alignment layer having force, the second coating means for applying the liquid crystal layer forming material containing the liquid crystal compound on the alignment layer, and the liquid crystal layer forming material after coating are dried. A device for producing a retardation film, comprising a second drying means for forming a second coating film, and a liquid crystal layer forming means for orienting a dried liquid crystal compound and fixing the orientation to form a liquid crystal layer. Is.

本開示の一実施形態によれば、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造方法を提供することができる。
また、本開示の他の一実施形態によれば、配向軸の均一性に優れる位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造装置を提供することができる。
According to one embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a method for producing a retardation film for producing a retardation film having excellent uniformity of orientation axes.
Further, according to another embodiment of the present disclosure, it is possible to provide a retardation film manufacturing apparatus for manufacturing a retardation film having excellent uniformity of orientation axes.

図1は、本開示の一実施形態の位相差フィルムの製造方法の各工程を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing each step of the method for manufacturing a retardation film according to an embodiment of the present disclosure. 図2は、本開示の一実施形態の位相差フィルムの製造方法における偏光紫外線を照射する際の要部拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a main part when irradiating polarized ultraviolet rays in the method for producing a retardation film according to the embodiment of the present disclosure. 図3は、ワイヤーグリッド偏光子のワイヤーグリッドの配置を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the arrangement of the wire grid of the wire grid polarizer. 図4は、偏光紫外線を照射する際の照射角度を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an irradiation angle when irradiating polarized ultraviolet rays.

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ下限値及び上限値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、「工程」の語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
In the present specification, the numerical range indicated by using "~" means a range including the numerical values before and after "~" as the lower limit value and the upper limit value, respectively. In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
In the present disclosure, the term "process" is included in the term not only in an independent process but also in the case where the intended purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes.

≪位相差フィルムの製造方法≫
本開示の位相差フィルムの製造方法は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第1の塗膜を形成する工程(以下、第1塗膜形成工程という。)と、表面反射率偏差が1パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第1の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程(以下、配向層形成工程という。)と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第2の塗膜を形成する工程(以下、第2塗膜形成工程という。)と、第2の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程(以下、液晶層形成工程という。)と、を有する位相差フィルムの製造方法である。
≪Manufacturing method of retardation film≫
The method for producing a retardation film of the present disclosure is a step of applying and drying a material for forming an alignment layer on a continuous film support that is continuously conveyed to form a first coating film (hereinafter, a first coating film forming step). The first coating film is irradiated with polarized ultraviolet rays in a state where the continuous film support is wound around a backup roll having a surface reflectance deviation of 1 percentage point or less, and the orientation regulating force for the liquid crystal compound is applied. A step of forming an alignment layer provided with (hereinafter referred to as an alignment layer forming step) and a step of applying a liquid crystal layer forming material containing a liquid crystal compound on the alignment layer and drying to form a second coating film (hereinafter referred to as an alignment layer forming step). Hereinafter, a second coating film forming step) and a step of orienting the liquid crystal compound in the second coating film and fixing the orientation to form a liquid crystal layer (hereinafter referred to as a liquid crystal layer forming step). It is a manufacturing method of a retardation film having.

位相差フィルムは、生産性向上のため、連続フィルム支持体を用い、ロールトゥロール方式での連続プロセスによって製造される。
上記の従来技術のうち、特開2002−98969号公報は、バックアップロール上で配向層形成用材料の塗膜に対し偏光紫外線を照射する際に、照射角度を特定の範囲内とすることが検討されているが、配向軸の均一性に劣ると考えられる。特開2014−170238号公報は、反射光の均一な照射量を実現させる観点からは一切の検討がなされていないため、配向軸の均一性は期待できない。
また、従来の技術では、製造開始後に経時で劣化するロール表面状態に起因する配向軸の乱れまで解決することはできない。
The retardation film is manufactured by a roll-to-roll continuous process using a continuous film support in order to improve productivity.
Among the above-mentioned prior arts, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-99869 considers that when the coating film of the material for forming an alignment layer is irradiated with polarized ultraviolet rays on a backup roll, the irradiation angle is within a specific range. However, it is considered that the uniformity of the orientation axis is inferior. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-170238 has not been examined at all from the viewpoint of realizing a uniform irradiation amount of reflected light, so that the uniformity of the orientation axis cannot be expected.
Further, with the conventional technique, it is not possible to solve the disorder of the orientation axis due to the roll surface state that deteriorates with time after the start of production.

そこで、本発明者らは、バックアップロールの表面反射率偏差を1パーセントポイント以下にすることで、バックアップロールの表面で反射する光による、配向軸への影響を排除し得ることを見出した。即ち、バックアップロールの表面反射率偏差が1パーセントポイント以上であると、配向層へ照射される反射光の照射量が一定とはならず、配向軸の均一性を損なう要因となると考えられる。そこで、バックアップロールの表面反射率偏差を1パーセントポイント以下とすることで、配向層に照射される、バックアップロールの表面で反射する光の照射量のばらつきを抑えることができ、入射角度分布を均一にする結果、配向層における液晶化合物の配向軸の均一性を顕著に向上させることができる。 Therefore, the present inventors have found that the influence of the light reflected on the surface of the backup roll on the orientation axis can be eliminated by setting the surface reflectance deviation of the backup roll to 1 percentage point or less. That is, if the surface reflectance deviation of the backup roll is 1 percentage point or more, the irradiation amount of the reflected light applied to the alignment layer is not constant, which is considered to be a factor that impairs the uniformity of the alignment axis. Therefore, by setting the surface reflectance deviation of the backup roll to 1 percentage point or less, it is possible to suppress the variation in the irradiation amount of the light reflected on the surface of the backup roll, which is applied to the alignment layer, and the incident angle distribution is uniform. As a result, the uniformity of the orientation axis of the liquid crystal compound in the alignment layer can be remarkably improved.

バックアップロールの表面反射率をロール面内において均一化することで、配向層に照射される反射光の照射量が均一化されるため、配向軸のばらつきを抑制することができ、均一な配向軸を有する位相差フィルムの製造方法を提供することができる。 By making the surface reflectance of the backup roll uniform in the roll surface, the irradiation amount of the reflected light applied to the alignment layer is made uniform, so that the variation of the alignment axis can be suppressed and the uniform alignment axis can be suppressed. A method for producing a retardation film having the above can be provided.

まず、位相差フィルムの製造方法について説明する。
〔第1塗膜形成工程〕
位相差フィルムの製造方法は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第1の塗膜を形成する第1塗膜形成工程を有する。
第1塗膜形成工程の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、巻回された連続フィルム支持体50は、その先端が送り出されると、まず、配向層形成用材料の塗布手段1により配向層形成用材料の塗布が行われ、その後、配向層形成用材料の乾燥手段2による乾燥領域にて乾燥される。これにより、連続フィルム支持体上には第1の塗膜が形成される。
First, a method for manufacturing a retardation film will be described.
[First coating film forming step]
The method for producing a retardation film includes a first coating film forming step of applying and drying a material for forming an alignment layer on a continuous film support that is continuously conveyed to form a first coating film.
An example of the first coating film forming step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, when the tip of the wound continuous film support 50 is sent out, the alignment layer forming material is first applied by the alignment layer forming material coating means 1, and then the alignment layer forming material is applied. The material for forming the alignment layer is dried in the drying region by the drying means 2. As a result, a first coating film is formed on the continuous film support.

−連続フィルム支持体−
連続フィルム支持体としては、バックアップロールに巻き掛けることが可能である長尺状のポリマーフィルムを用いることが好ましい。ここで「連続」とは、枝葉状のシートとは異なり、長尺形状を有することを示す。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート(例えば、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース、屈折率1.48)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート)、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ(メタ)アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー(例えば、ノルボルネン系樹脂(商品名「アートン(登録商標)」、JSR社)、非晶質ポリオレフィン(例えば、商品名「ゼオネックス(登録商標)」、日本ゼオン株式会社製))などが挙げられる。
このうち、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
-Continuous film support-
As the continuous film support, it is preferable to use a long polymer film that can be wrapped around a backup roll. Here, "continuous" means having a long shape unlike a foliage-shaped sheet.
Examples of polymer film materials used as continuous film supports include cellulose acylates (eg, cellulose triacetate (triacetyl cellulose, refractive index 1.48), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate. ), Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acrylic resins such as polyether sulfone and polymethyl methacrylate, polyurethane, polycarbonate, polysulfone, polyether, polymethylpentene, polyether ketone, poly ( Meta) Acrylic nitrile, polymer having an alicyclic structure (for example, norbornene resin (trade name "Arton (registered trademark)", JSR), amorphous polyolefin (for example, trade name "Zeonex (registered trademark)", (Made by Nippon Zeon Co., Ltd.))).
Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate (PET), and a polymer having an alicyclic structure are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable.

連続フィルム支持体の厚みとしては、10μm〜250μmの範囲のものが好ましく、厚みが薄い連続フィルム支持体は搬送安定性に不利であるところ、搬送安定性の観点から、15μm以上がより好ましく、材料コストの点から、150μm以下がより好ましい。
特に、本開示の位相差フィルムの製造方法は、連続フィルム支持体の伸び量の面内バラツキが生じ易い、厚み30μm〜120μmの範囲の連続フィルム支持体であっても、好ましく用いることができる。
The thickness of the continuous film support is preferably in the range of 10 μm to 250 μm, and the thin continuous film support is disadvantageous in transport stability. Therefore, from the viewpoint of transport stability, 15 μm or more is more preferable. From the viewpoint of cost, 150 μm or less is more preferable.
In particular, the method for producing a retardation film of the present disclosure can preferably use a continuous film support having a thickness in the range of 30 μm to 120 μm, which tends to cause in-plane variation in the elongation amount of the continuous film support.

−配向層形成用材料−
配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、例えば、特開2006−285197号公報、特開2007−76839号公報、特開2007−138138号公報、特開2007−94071号公報、特開2007−121721号公報、特開2007−140465号公報、特開2007−156439号公報、特開2007−133184号公報、特開2009−109831号公報、特許第3883848号公報、特許第4151746号公報に記載のアゾ化合物、特開2002−229039号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開2002−265541号公報に記載の光配向性を示す構成単位を有する多官能マレイミド誘導体とアルケニル置換ナジイミド化合物、特開2002−317013号公報に記載の光配向性基と重合性マレイミド基とを有する重合性単量体、特許第4205195号公報、特許第4205198号公報に記載の光架橋性シラン誘導体、特表2003−520878号公報、特表2004−529220号公報、特許第4162850号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド酸、又はこれらのエステル、特開平9−118717号公報、特表平10−506420号公報、特表2003−505561号公報、国際公開第2010/150748号公報、特開2013−177561号公報、特開2014−12823号公報に記載の光二量化可能な化合物(特に、シンナメート化合物、カルコン化合物、又はクマリン化合物)等が挙げられる。
これらの中でも特に好ましい例としては、上記公報に記載のアゾ化合物、上記公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はこれらエステル、上記公報に記載のシンナメート化合物、又はカルコン化合物等が挙げられる。
-Material for forming an orientation layer-
Examples of the material for forming the alignment layer used for forming the alignment layer include JP-A-2006-285197, JP-A-2007-76839, JP-A-2007-138138, JP-A-2007-94071, and special publications. Kai 2007-121721, JP-A-2007-140465, JP-A-2007-156439, JP-A-2007-133184, JP-A-2009-109831, Patent No. 3883848, Patent No. 4151746 The azo compound described in JP-A-2002-229039, the aromatic ester compound described in JP-A-2002-265541, a polyfunctional maleimide derivative having a structural unit exhibiting photoorientity and an alkenyl-substituted nadiimide compound described in JP-A-2002-265541. A polymerizable monomer having a photo-oriented group and a polymerizable maleimide group described in JP-A-2002-317713, a photocrosslinkable silane derivative described in Japanese Patent No. 4205195 and Japanese Patent No. 4205198. Photocrossable polyimides, polyamic acids, or esters thereof described in JP-A-2003-520878, JP-A-2004-522220, and Patent No. 4162850, JP-A-9-118717, JP-A-10-506420. Photodimerizable compounds (particularly, synnamate compounds and chalcone compounds) described in JP-A-2003-505561, International Publication No. 2010/150748, JP-A-2013-177561, and JP-A-2014-12823. , Or a coumarin compound) and the like.
Among these, particularly preferable examples include the azo compound described in the above publication, the photocrosslinkable polyimide, polyamide, or an ester thereof described in the above publication, the synnamate compound described in the above publication, the chalcone compound and the like.

−塗布−
配向層形成用材料の塗布手段1には、公知の塗布装置を適用することができる。
塗布装置として、具体的には、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した塗布装置が挙げられる。
-Applying-
A known coating device can be applied to the coating means 1 of the material for forming an oriented layer.
Specific examples of the coating device include curtain coating method, dip coating method, spin coating method, printing coating method, spray coating method, slot coating method, roll coating method, slide coating method, blade coating method, gravure coating method, and wire. An example is a coating device using the bar method or the like.

−乾燥−
配向層形成用材料の乾燥手段2には、公知の乾燥装置を適用することができる。
乾燥装置として、具体的には、オーブン、送風機、赤外線(IR)ヒーター等が挙げられる。
送風機による場合、連続フィルム支持体の配向層形成用材料が塗布された面とは反対の面から温風を当てて温風乾燥する態様でもよく、塗布された配向層形成用材料の表面が温風にて流動しないよう、拡散板を設置して温風を拡散させながら塗布面にあてて乾燥する態様としてもよい。
乾燥条件は、用いた配向層形成用材料の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、30℃〜140℃の範囲で、10秒〜10分間行うことが好ましい。
− Drying −
A known drying device can be applied to the drying means 2 of the material for forming an oriented layer.
Specific examples of the drying device include an oven, a blower, an infrared (IR) heater, and the like.
In the case of using a blower, warm air may be blown from the surface of the continuous film support opposite to the surface on which the material for forming the alignment layer is applied to dry the film, and the surface of the material for forming the oriented layer is warm. A diffusion plate may be installed so as not to flow by the wind, and the warm air may be diffused and dried by applying it to the coated surface.
The drying conditions may be determined according to the type of the material for forming the alignment layer used, the coating amount, the transport speed, and the like. For example, the drying conditions are preferably carried out in the range of 30 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 10 minutes.

以上のようにして、第1の塗膜が形成される。
形成された第1の塗膜の乾燥膜厚は、0.1μm〜5μmが好ましく、0.2μm〜1μmがより好ましい。
As described above, the first coating film is formed.
The dry film thickness of the formed first coating film is preferably 0.1 μm to 5 μm, more preferably 0.2 μm to 1 μm.

〔配向層形成工程〕
位相差フィルムの製造方法では、第1塗膜形成工程の後、表面反射率偏差が1パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第1の塗膜に偏光紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成工程を有する。
配向層形成工程の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、連続フィルム支持体50上に第1の塗膜が形成された後は、連続フィルム支持体50をバックアップロール40に巻き掛け、巻き掛けられた連続フィルム支持体50上の第1の塗膜に、光配向装置60により偏光紫外線が照射される。
配向層形成工程では、第1塗膜形成工程にて連続フィルム支持体の第1の塗膜が形成された面とは反対の面を、バックアップロールに接触させている。
[Orientation layer forming step]
In the method for producing a retardation film, after the first coating film forming step, polarized ultraviolet rays are applied to the first coating film in a state where a continuous film support is wound around a backup roll having a surface reflectance deviation of 1 percentage point or less. It has an alignment layer forming step of irradiating to form an alignment layer having an orientation regulating force for a liquid crystal compound.
An example of the alignment layer forming step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, after the first coating film is formed on the continuous film support 50, the continuous film support 50 is wound around the backup roll 40, and the wound continuous film support 50 is wound. The first coating film is irradiated with polarized ultraviolet rays by the photoaligning device 60.
In the alignment layer forming step, the surface of the continuous film support opposite to the surface on which the first coating film is formed in the first coating film forming step is brought into contact with the backup roll.

配向層形成工程における偏光紫外線の照射について、図2〜図4を参照して、説明する。
図2に示すように、バックアップロール40に対向させて光配向装置60が配置されており、Y方向に搬送される連続フィルム支持体50の、バックアップロール40に巻き掛けられた領域に配置された第1の塗膜に、光配向装置60により偏光紫外線が照射される。
The irradiation of polarized ultraviolet rays in the alignment layer forming step will be described with reference to FIGS. 2 to 4.
As shown in FIG. 2, the optical alignment device 60 is arranged so as to face the backup roll 40, and is arranged in the region of the continuous film support 50 conveyed in the Y direction, which is wound around the backup roll 40. The first coating film is irradiated with polarized ultraviolet rays by the photoaligning device 60.

−バックアップロール−
本開示におけるバックアップロールは、表面の正面反射率(本明細書中、表面反射率ということがある。)の偏差が1パーセントポイント以下である。表面反射率偏差が1パーセントポイント以下であると、反射光の均一性が良好であるため、反射光の配向層への照射量のばらつきが低減され、配向軸の均一性を向上できる。
バックアップロールの表面反射率偏差は、0.5パーセントポイント以下が好ましい。
-Backup roll-
The backup roll in the present disclosure has a surface reflectance deviation (sometimes referred to as surface reflectance in the present specification) of 1 percentage point or less. When the surface reflectance deviation is 1 percentage point or less, the uniformity of the reflected light is good, so that the variation in the irradiation amount of the reflected light to the alignment layer is reduced, and the uniformity of the alignment axis can be improved.
The surface reflectance deviation of the backup roll is preferably 0.5 percentage point or less.

バックアップロールの表面反射率は、バックアップロールを円周方向に12分割した12箇所について、バックアップロールのロール幅方向に10mmピッチで測定点をとり、各測定点における波長365nmの光に対する正面反射率(%)を測定する。
なお、バックアップロールの表面反射率の測定には、分光光度計(MV−3100、日本分光株式会社製)を使用する。
バックアップロールの表面反射率の面内偏差は、上記のようにして測定された表面反射率の最大値と最小値との差分(パーセントポイント)で表す。この差分が大きいほど、ロールの面内におけるバックアップロールの表面反射率のバラツキが大きいこととなる。
For the surface reflectance of the backup roll, measurement points are taken at a pitch of 10 mm in the roll width direction of the backup roll at 12 points where the backup roll is divided into 12 in the circumferential direction, and the front reflectance (front reflectance) for light having a wavelength of 365 nm at each measurement point. %) Is measured.
A spectrophotometer (MV-3100, manufactured by JASCO Corporation) is used to measure the surface reflectance of the backup roll.
The in-plane deviation of the surface reflectance of the backup roll is represented by the difference (percent point) between the maximum value and the minimum value of the surface reflectance measured as described above. The larger this difference is, the larger the variation in the surface reflectance of the backup roll in the surface of the roll is.

バックアップロールの表面反射率偏差は、ロール表面を研磨することで調整できる。 The surface reflectance deviation of the backup roll can be adjusted by polishing the roll surface.

バックアップロールの波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率は、60%〜99.95%が好ましい。上記吸収率が99.95%以下であることで、配向層の配向に反射光を有効活用できる点で有利である。上記吸収率が60%以上であることで、塗膜に照射される反射光の照射量自体を抑えることができ、照射量のばらつきによる配向軸への影響を軽減することができる。
バックアップロールの波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率は、99.5%〜99.95%がより好ましく、99.9%〜99.95%がさらに好ましい。
The absorption rate of the backup roll for ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm is preferably 60% to 99.95%. When the absorption rate is 99.95% or less, it is advantageous in that the reflected light can be effectively used for the orientation of the alignment layer. When the absorption rate is 60% or more, the irradiation amount of the reflected light applied to the coating film itself can be suppressed, and the influence on the orientation axis due to the variation in the irradiation amount can be reduced.
The absorption rate of the backup roll for ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm is more preferably 99.5% to 99.95%, further preferably 99.9% to 99.95%.

バックアップロールの波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率は、まずバックアップロールを円周方向に12分割した12箇所について、バックアップロールのロール幅方向に10mmピッチで測定点をとり、各測定点における波長300nm〜380nmの紫外線に対する反射率を、分光光度計(例えば、日本分光株式会社製のMV−3100)により測定し、各測定値を平均して平均値を算出し、算出した反射率の平均値を1から引くことで得られる値である。 For the reflectance of the backup roll to ultraviolet rays with a wavelength of 300 nm to 380 nm, first, measurement points are taken at a pitch of 10 mm in the roll width direction of the backup roll at 12 points where the backup roll is divided into 12 in the circumferential direction, and the wavelength at each measurement point is 300 nm. The reflectance to ultraviolet rays of ~ 380 nm was measured with a spectrophotometer (for example, MV-3100 manufactured by JASCO Corporation), and the average value was calculated by averaging each measured value, and the calculated average value of the reflectance was calculated. It is a value obtained by subtracting from 1.

バックアップロールの波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率は、ロール表面を覆う皮膜の材質、またはロール本体の母材の種類を選択することで調整できる。 The absorption rate of the backup roll for ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm can be adjusted by selecting the material of the film covering the roll surface or the type of the base material of the roll body.

本開示におけるバックアップロールは、表面反射率偏差が1パーセントポイント以下であれば特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロールとしては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚さは、導電性と強度とを確保する観点から40μm〜60μmが好ましい。
As the backup roll in the present disclosure, any known backup roll can be used without particular limitation as long as the surface reflectance deviation is 1 percentage point or less.
As the backup roll, for example, one having a hard chrome-plated surface can be preferably used.
The thickness of the plating is preferably 40 μm to 60 μm from the viewpoint of ensuring conductivity and strength.

バックアップロールの材質は、特に制限はないが、例えば上記波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率の観点から、ステンレスが挙げられる。 The material of the backup roll is not particularly limited, and examples thereof include stainless steel from the viewpoint of the absorption rate for ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm.

ステンレスの種類としては、具体的には、SUS304を用いることができる。
SUS(Steel Special Use Stainless)とは、ステンレス鋼材であり、鉄にクロム、ニッケル等の物質を添加して錆びにくくした特殊鋼である。
Specifically, SUS304 can be used as the type of stainless steel.
SUS (Steel Special Use Stainless) is a stainless steel material, which is a special steel made by adding substances such as chromium and nickel to iron to prevent rusting.

バックアップロールとしては、表面処理又はメッキがされたステンレスを用いてもよい。例えば、黒色アルマイト、黒色クロム等により表面処理されたステンレスが挙げられる。中でも、波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率の点から、黒色アルマイトにより表面処理されたステンレスが好ましい。 As the backup roll, surface-treated or plated stainless steel may be used. For example, stainless steel surface-treated with black alumite, black chrome, or the like can be mentioned. Of these, stainless steel surface-treated with black alumite is preferable from the viewpoint of absorption rate against ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm.

バックアップロールの表面は、バックアップロール表面の紫外線の反射率を均一化できる点から、鏡面であることが好ましい。
その際、バックアップロールの表面粗さは、連続フィルム支持体とバックアップロールとの摩擦力のバラツキを低減させる点、及びバックアップロールの表面反射率偏差の点から、表面粗さ(Ra)にて0.05μm以下が好ましい。
表面粗さ(Ra)は、表面粗さ測定器(SJ−310、株式会社ミツトヨ製)を用い、JIS B0601(2001年)に準拠した方法により測定される値である。
The surface of the backup roll is preferably a mirror surface from the viewpoint that the reflectance of ultraviolet rays on the surface of the backup roll can be made uniform.
At that time, the surface roughness of the backup roll is 0 in terms of surface roughness (Ra) from the viewpoint of reducing the variation in the frictional force between the continuous film support and the backup roll and the surface reflectance deviation of the backup roll. It is preferably 0.05 μm or less.
The surface roughness (Ra) is a value measured by a method conforming to JIS B0601 (2001) using a surface roughness measuring instrument (SJ-310, manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.).

バックアップロールの表面の色は、波長300nm〜380nmの紫外線に対するバックアップロール表面の吸収率の点から、黒色、灰色が好ましく、黒色がより好ましい。 The surface color of the backup roll is preferably black or gray, and more preferably black, from the viewpoint of the absorption rate of the surface of the backup roll with respect to ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm.

バックアップロールの温度は、25℃〜100℃に維持されることが好ましく、25℃〜50℃がより好ましい。
バックアップロールを上記の温度に維持することで、巻き掛けられる連続フィルム支持体の温度制御を行うことができる。
The temperature of the backup roll is preferably maintained at 25 ° C to 100 ° C, more preferably 25 ° C to 50 ° C.
By maintaining the backup roll at the above temperature, the temperature of the continuous film support to be wound can be controlled.

バックアップロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロールの温度制御手段としては、加熱手段であれば、誘導加熱、水加熱、油加熱等を用いた手段、冷却手段であれば、冷却水を用いる手段等が挙げられる。
It is preferable that the backup roll detects the surface temperature and the surface temperature of the backup roll is maintained by the temperature control means based on the temperature.
Examples of the temperature control means for the backup roll include means using induction heating, water heating, oil heating and the like for heating means, and means using cooling water for cooling means.

バックアップロールの直径としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い点、偏光紫外線の照射が容易な点、及び、バックアップロールの製造コストの点から、100mm〜1000mmが好ましく、100mm〜800mmがより好ましく、200mm〜700mmがより好ましい。 The diameter of the backup roll is preferably 100 mm to 1000 mm, more preferably 100 mm to 800 mm, from the viewpoints of easy winding of the continuous film support, easy irradiation of polarized ultraviolet rays, and manufacturing cost of the backup roll. More preferably, it is 200 mm to 700 mm.

配向層形成工程では、偏光紫外線の照射を張架した状態の連続フィルム支持体に対して行うため、バックアップロールが巻き掛けられた連続フィルム支持体に対して搬送方向にテンションが掛けられている。
テンションが掛かっている場合の連続フィルム支持体の幅(Fw2)は、テンションが掛かっていない場合の幅(Fw1)に比べて小さくなる。
バックアップロール上での連続フィルム支持体の幅の縮み率は、以下の式(1)から求められ、連続フィルム支持体の蛇行をより抑制するため、また、連続フィルム支持体の変形を抑制するため、0.06%〜1.20%であることが好ましく、0.08%〜0.35%であることがより好ましい。
式(1) 縮み率(%)=(Fw1−Fw2)/Fw1×100
(Fw1は、テンションが掛かっていない場合の連続フィルム支持体の幅を示し、Fw2は、バックアップロール上でテンションが掛かっている場合の連続フィルム支持体の幅を示す。)
上記のような縮み率になるよう、バックアップロール上では連続フィルム支持体に対しテンションを掛ければよい。具体的には、上記の縮み率を達成するため、バックアップロール上で連続フィルム支持体に掛けるテンションとしては、120N/m〜720N/mが好ましい。
In the alignment layer forming step, since the continuous film support in a stretched state is irradiated with polarized ultraviolet rays, tension is applied to the continuous film support around which the backup roll is wound in the transport direction.
The width (Fw2) of the continuous film support when tension is applied is smaller than the width (Fw1) when tension is not applied.
The shrinkage ratio of the width of the continuous film support on the backup roll is obtained from the following equation (1), in order to further suppress the meandering of the continuous film support and to suppress the deformation of the continuous film support. , 0.06% to 1.20%, more preferably 0.08% to 0.35%.
Equation (1) Shrinkage rate (%) = (Fw1-Fw2) / Fw1 × 100
(Fw1 indicates the width of the continuous film support when tension is not applied, and Fw2 indicates the width of the continuous film support when tension is applied on the backup roll.)
Tension may be applied to the continuous film support on the backup roll so that the shrinkage ratio is as described above. Specifically, in order to achieve the above shrinkage ratio, the tension applied to the continuous film support on the backup roll is preferably 120 N / m to 720 N / m.

バックアップロール上での連続フィルム支持体の搬送速度は、生産性の確保の点、及び、偏光紫外線の照射の正確性を高める点から、10m/min以上100m/min以下であることが好ましく、20m/min以上60m/min以下であることが好ましい。 The transport speed of the continuous film support on the backup roll is preferably 10 m / min or more and 100 m / min or less, preferably 20 m, from the viewpoint of ensuring productivity and improving the accuracy of irradiation with polarized ultraviolet rays. It is preferably / min or more and 60 m / min or less.

また、バックアップロールに対する連続フィルム支持体のラップ角は、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体がバックアップロールに接触する場合の連続フィルム支持体の搬送方向と、バックアップロールから連続フィルム支持体が離間する場合の連続フィルム支持体の搬送方向と、からなる角度をいう。
The wrap angle of the continuous film support with respect to the backup roll is preferably 60 ° or more, more preferably 90 ° or more.
The lap angle is defined as the transport direction of the continuous film support when the continuous film support comes into contact with the backup roll and the transport direction of the continuous film support when the continuous film support is separated from the backup roll. The angle that becomes.

−光配向装置−
光配向装置60は、棒状光源10と、棒状光源10からの光を垂直方向に効率良くワイヤーグリッド偏光子30側へ反射させる凹面反射鏡11と、棒状光源10の長手方向に配列された複数の平行板21からなるルーバー20と、ルーバー20によって平行光化された光を直線偏光するワイヤーグリッド偏光子30と、から構成される。
そして、ワイヤーグリッド偏光子30から発せられる偏光紫外線が第1の塗膜に照射される。
-Light alignment device-
The optical alignment device 60 includes a rod-shaped light source 10, a concave reflector 11 that efficiently reflects the light from the rod-shaped light source 10 in the vertical direction toward the wire grid polarizer 30, and a plurality of rod-shaped light sources 10 arranged in the longitudinal direction. It is composed of a louver 20 made of a parallel plate 21 and a wire grid polarizer 30 that linearly polarizes the light parallelized by the louver 20.
Then, the polarized ultraviolet rays emitted from the wire grid polarizer 30 are applied to the first coating film.

・棒状光源
棒状光源10としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
棒状光源10から発せられる紫外線のピーク波長は、200nm〜400nmが好ましい。
波長としては、配向層形成用材料の吸収スペクトルに応じて適宜選択可能である。また、例えば波長が313nmの場合には、使用する光源は313nmのスペクトルが相対的に大きい高圧水銀ランプを用いることができる。
-Bar-shaped light source As the bar-shaped light source 10, for example, a tungsten lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a xenon flash lamp, a mercury lamp, a mercury xenon lamp, a carbon arc lamp or the like, and various lasers (eg, a semiconductor laser, a helium neon laser) , Argon ion laser, helium cadmium laser, YAG (Ytrium Aluminum Garnet) laser), light emitting diode, cathode wire tube and the like.
The peak wavelength of ultraviolet rays emitted from the rod-shaped light source 10 is preferably 200 nm to 400 nm.
The wavelength can be appropriately selected according to the absorption spectrum of the material for forming the alignment layer. Further, for example, when the wavelength is 313 nm, a high-pressure mercury lamp having a relatively large spectrum of 313 nm can be used as the light source.

・ルーバー
ルーバー20は、図2に示すように、平行板21はバックアップロール40の軸方向Xに、等間隔で配列されており、棒状光源10とワイヤーグリッド偏光子30との間に配置される。ルーバー20を配置することによって、棒状光源10からの光を平行光化して、ワイヤーグリッド偏光子30に入射する光の広がりを抑え、バックアップロールに対して真正面からの光にすることができる。
また、平行板21は、図2では、バックアップロールの軸方向Xに直交する角度で配置されているが、直交に限らず斜め方向に平行して配置されていてもよい。平行板21は、不図示の連動機構によって、ピッチと角度を調整することができる。
-Lovers As shown in FIG. 2, the parallel plates 21 are arranged at equal intervals in the axial direction X of the backup roll 40, and are arranged between the rod-shaped light source 10 and the wire grid polarizer 30. .. By arranging the louver 20, the light from the rod-shaped light source 10 can be made parallel, the spread of the light incident on the wire grid polarizer 30 can be suppressed, and the light can be made directly in front of the backup roll.
Further, in FIG. 2, the parallel plates 21 are arranged at an angle orthogonal to the axial direction X of the backup roll, but the parallel plates 21 may be arranged not only orthogonally but also in parallel in an oblique direction. The pitch and angle of the parallel plate 21 can be adjusted by an interlocking mechanism (not shown).

なお、図2では、ルーバー20が、バックアップロール40の軸方向に配列された平行板からなる場合を示したが、ルーバー20の構成はこれに限られない。断面が多角形または円形である複数の筒部から構成され、筒の中心軸がバックアップロールの中心軸に垂直な方向に配置したものでもよく、筒を構成する面に無反射膜を有していてもよい。 Note that FIG. 2 shows a case where the louver 20 is composed of parallel plates arranged in the axial direction of the backup roll 40, but the configuration of the louver 20 is not limited to this. It may be composed of a plurality of tubular parts having a polygonal or circular cross section, and the central axis of the cylinder may be arranged in a direction perpendicular to the central axis of the backup roll, and the surface constituting the cylinder has an antireflection film. You may.

また、ルーバー20は棒状光源10とできるだけ近接させて、ルーバーからの光漏れがないように配置するのが好ましい。光漏れを抑止するには、ルーバーと棒状光源10を接触させてもよいし、隙間を他の部材で遮蔽してもよい。
また、ルーバー20とワイヤーグリッド偏光子30との隙間についても同様である。
Further, it is preferable that the louver 20 is arranged as close as possible to the rod-shaped light source 10 so as not to leak light from the louver. In order to suppress light leakage, the louver and the rod-shaped light source 10 may be brought into contact with each other, or the gap may be shielded by another member.
The same applies to the gap between the louver 20 and the wire grid polarizer 30.

ルーバー20の材質は、ステンレス又はアルミニウムのような耐熱性のある材料を用いることができる。
ルーバー20の表面は、照射光の照射効率を高めるために、平滑化して反射率を向上させたものであってもよい。また、ルーバー20は、照射光の直進性を高めるために、表面に凹凸を付与する、又は無反射膜で覆って反射率を低減させてもよい。ルーバー20の表面の反射率を低減させる場合は、ルーバー20の平行板21の表面には、光吸収部材が設けられていることが好ましい。
As the material of the louver 20, a heat-resistant material such as stainless steel or aluminum can be used.
The surface of the louver 20 may be smoothed to improve the reflectance in order to increase the irradiation efficiency of the irradiation light. Further, the louver 20 may be provided with irregularities on the surface or covered with a non-reflective film to reduce the reflectance in order to enhance the straightness of the irradiation light. When reducing the reflectance of the surface of the louver 20, it is preferable that a light absorbing member is provided on the surface of the parallel plate 21 of the louver 20.

・ワイヤーグリッド偏光子
図2及び図3に示すように、ワイヤーグリッド偏光子30は、複数のワイヤーグリッド偏光素子32が枠31に保持されてなる。
そして、各ワイヤーグリッド偏光素子32は、基板33上に複数の直線状の電気導体からなるワイヤーグリッド34が配列されている。ワイヤーグリッド34の配列角度θは、図3に示すように、バックアップロールの軸方向Xに対して0°<θ<90°を満たすことが好ましい。
ワイヤーグリッド偏光素子32は、ワイヤーグリッド34の長手方向と平行な偏波(偏光)成分は反射し、直交する偏波(偏光)成分は通過する。直交する偏波成分を通過する方向を透過軸という。
電気導体としては、クロム、アルミニウム等の金属線が挙げられる。
-Wire Grid Polarizer As shown in FIGS. 2 and 3, the wire grid polarizing element 30 includes a plurality of wire grid polarizing elements 32 held in a frame 31.
In each wire grid polarizing element 32, a wire grid 34 composed of a plurality of linear electric conductors is arranged on the substrate 33. As shown in FIG. 3, the arrangement angle θ of the wire grid 34 preferably satisfies 0 ° <θ <90 ° with respect to the axial direction X of the backup roll.
The wire grid polarizing element 32 reflects the polarized (polarized) component parallel to the longitudinal direction of the wire grid 34, and passes the polarized (polarized) component orthogonal to the wire grid 34. The direction of passing through the orthogonal polarization components is called the transmission axis.
Examples of the electric conductor include metal wires such as chromium and aluminum.

・光配向装置による偏光紫外線の照射角度
次に、バックアップロール上での偏光紫外線の照射角度について図4を用いて説明する。
図4に示すように、バックアップロール40の軸中心Oに垂直な面内において、バックアップロール40の軸中心Oを通りワイヤーグリッド偏光子30の基板面38に垂直な線を基準線L1とし、基準線L1と、バックアップロール40の軸中心Oと連続フィルム支持体50上における偏光紫外線の照射領域Aの搬送方向上流端Mとを結ぶ線L2とがなす角度をθ1とし、基準線L1と、バックアップロール40の軸中心Oと連続フィルム支持体50上における偏光紫外線の照射領域Aの搬送方向下流端Nとを結ぶ線L3とがなす角度をθ2とした場合に、|θ1−θ2|<10°を満たすことが好ましい。
より好ましくは、|θ1−θ2|<7°であり、更に好ましくは、|θ1−θ2|=0°である。
|θ1−θ2|<10°とすることにより、バックアップロール40の照射曲面に対し、真正面から偏光紫外線を照射することができ、液晶化合物の配向軸のバラツキを低減させることができる。
-Irradiation angle of polarized ultraviolet rays by the photoaligner Next, the irradiation angle of polarized ultraviolet rays on the backup roll will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4, in the plane perpendicular to the axis center O of the backup roll 40, the line passing through the axis center O of the backup roll 40 and perpendicular to the substrate surface 38 of the wire grid polarizer 30 is defined as the reference line L1. The angle formed by the line L1 and the line L2 connecting the axial center O of the backup roll 40 and the upstream end M in the transport direction of the polarized light irradiation region A on the continuous film support 50 is θ1, and the reference line L1 and the backup When the angle formed by the line L3 connecting the axial center O of the roll 40 and the downstream end N of the polarization ultraviolet irradiation region A in the transport direction on the continuous film support 50 is θ2, | θ1-θ2 | <10 ° It is preferable to satisfy.
More preferably, | θ1-θ2 | <7 °, and even more preferably, | θ1-θ2 | = 0 °.
By setting | θ1-θ2 | <10 °, it is possible to irradiate the irradiation curved surface of the backup roll 40 with polarized ultraviolet rays from the front, and it is possible to reduce the variation in the orientation axis of the liquid crystal compound.

以上のようにして、第1の塗膜に偏光紫外線を照射することで、配向層形成用材料に光反応を生じさせ、その結果、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層が形成される。 By irradiating the first coating film with polarized ultraviolet rays as described above, a photoreaction is generated in the material for forming the alignment layer, and as a result, an alignment layer having an orientation regulating force for the liquid crystal compound is formed. ..

〔第2塗膜形成工程〕
位相差フィルムの製造方法は、配向層形成工程の後、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第2の塗膜を形成する第2塗膜形成工程を有する。
具体的な態様としては、例えば、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第2の塗膜を形成してもよい。
第2塗膜形成工程の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、バックアップロール上での第1の塗膜に対する偏光紫外線の照射が終了すると、続いて、液晶層形成用材料の塗布手段3にて液晶化合物を含む液晶層形成用材料の塗布が行われ、その後、液晶層形成用材料の乾燥手段4による乾燥領域にて乾燥される。こうして、連続フィルム支持体の配向層上には第2の塗膜が形成される。
[Second coating film forming step]
The method for producing a retardation film includes a second coating film forming step of applying a liquid crystal layer forming material containing a liquid crystal compound on the alignment layer and drying to form a second coating film after the alignment layer forming step. ..
As a specific embodiment, for example, a liquid crystal layer forming material containing a liquid crystal compound may be applied and dried on the alignment layer to form a second coating film.
An example of the second coating film forming step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, when the irradiation of the first coating film on the backup roll with polarized ultraviolet rays is completed, the liquid crystal layer forming material containing the liquid crystal compound is subsequently applied by the coating means 3 of the liquid crystal layer forming material. The coating is performed, and then the material for forming the liquid crystal layer is dried in the drying region by the drying means 4. In this way, a second coating film is formed on the alignment layer of the continuous film support.

−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、更に、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。
-Material for forming a liquid crystal layer-
The liquid crystal layer forming material contains a rod-shaped liquid crystal compound or a disk-shaped liquid crystal compound, and may further contain other known components such as a chiral agent, an orientation control agent, a polymerization initiator, and an orientation auxiliary.

・棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
-Stick-shaped liquid crystal compounds Examples of rod-shaped liquid crystal compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, and alkoxy-substituted products. Phenylpyrimidines, phenyldioxans, trans and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used.
Not only low molecular weight liquid crystal molecules as described above, but also high molecular weight liquid crystal molecules can be used.

棒状液晶化合物は、重合によって配向を固定することがより好ましく、そのため、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性を有する棒状液晶化合物としては、Makromol. Chem., 190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許4683327号公報、同5622648号公報、同5770107号公報、国際公開第95/22586号、同95/24455号、同97/00600号、同98/23580号、同98/52905号、特開平1−272551号公報、同6−16616号公報、同7−110469号公報、同11−80081号公報、及び特願2001−64627号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11−513019号公報、特開2007−279688号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。
It is more preferable to fix the orientation of the rod-shaped liquid crystal compound by polymerization, and therefore it is preferable to use a rod-shaped liquid crystal compound having a polymerizable group.
Examples of the polymerizable rod-shaped liquid crystal compound include Makromol. Chem. , 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), US Pat. No. 4,683,327, 5,622,648, 5770107, International Publication 95/22586, 95 / No. 24455, No. 97/00600, No. 98/23580, No. 98/52905, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-272551, No. 6-16616, No. 7-110469, No. 11-8801, And the compounds described in Japanese Patent Application No. 2001-64627.
Further, as the rod-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A No. 11-513019, JP-A-2007-279688, etc. can be preferably used.

・円盤状液晶化合物
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007−108732号公報、特開2010−244038号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。
-Disc-shaped liquid crystal compound As the disk-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A-2007-108732, JP-A-2010-2404038 and the like can be preferably used.

−塗布及び乾燥−
液晶層形成用材料の塗布及び乾燥には、第1塗膜形成工程における塗布及び乾燥と同様の方法を用いることができるため、ここでは、詳細な説明は省略する。
-Applying and drying-
Since the same method as the coating and drying in the first coating film forming step can be used for the coating and drying of the liquid crystal layer forming material, detailed description thereof will be omitted here.

〔液晶層形成工程〕
位相差フィルムの製造方法は、第2塗膜形成工程の後、第2の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成工程を有する。
液晶層形成工程の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、連続フィルム支持体50の配向層上に第2の塗膜が形成された後、この第2の塗膜に対し、紫外線照射手段5にて紫外線の照射を行う。この紫外線の照射により、第2の塗膜中の液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成する。
[Liquid crystal layer forming process]
The method for producing a retardation film includes, after the second coating film forming step, a liquid crystal layer forming step of aligning the liquid crystal compound in the second coating film and fixing the orientation to form the liquid crystal layer.
An example of the liquid crystal layer forming step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, after a second coating film is formed on the alignment layer of the continuous film support 50, the second coating film is irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation means 5. By irradiating with this ultraviolet ray, the orientation of the liquid crystal compound in the second coating film is fixed to form a liquid crystal layer.

−液晶化合物の配向−
液晶化合物の配向を固定する前には、第2の塗膜中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させ、続いて加熱により温度制御することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
-Orientation of liquid crystal compounds-
Before fixing the orientation of the liquid crystal compound, it is preferable to perform the orientation treatment of the liquid crystal compound in the second coating film.
The orientation treatment can be carried out by drying at room temperature or the like and then controlling the temperature by heating.
In the case of a liquid crystal compound having thermotropic properties, the liquid crystal formed by the orientation treatment can generally be transferred by a change in temperature or pressure. Further, in the case of a liquid crystal compound having a lyotropic property, it can be transferred by a composition ratio such as a solvent amount.

棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法でスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶が得られる。 When the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, the temperature range in which the nematic phase is expressed is usually higher than the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. Therefore, the rod-shaped liquid crystal compound is heated to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, and then the heating temperature is lowered to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, whereby the rod-shaped liquid crystal compound is brought into the nematic phase. Can be transferred to the smectic phase. By forming the smectic phase in this way, a liquid crystal in which the liquid crystal compounds are oriented with high order can be obtained.

棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間〜5分間が好ましく、10秒間〜3分間が更に好ましく、10秒間〜2分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間〜5分間が好ましく、10秒間〜3分間が更に好ましく、10秒間〜2分間が最も好ましい。
In the temperature range where the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, it is necessary to heat for a certain period of time until the rod-shaped liquid crystal compound forms a monodomain. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.
In the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, it is necessary to heat for a certain period of time until the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.

液晶化合物の配向は、前述した第2塗膜形成工程における乾燥にて行われてもよい。つまり、第2塗膜形成工程における乾燥にて、配向層上に塗布された液晶層形成用材料の乾燥と液晶化合物の配向との両方を行ってもよい。
勿論、液晶化合物の配向を、前述した第2塗膜形成工程における乾燥とは別に行ってもよい。
The orientation of the liquid crystal compound may be performed by drying in the second coating film forming step described above. That is, in the drying in the second coating film forming step, both the drying of the liquid crystal layer forming material coated on the alignment layer and the orientation of the liquid crystal compound may be performed.
Of course, the orientation of the liquid crystal compound may be performed separately from the drying in the second coating film forming step described above.

−液晶化合物の配向の固定−
第2の塗膜中の液晶化合物の配向を固定する。
液晶化合物の配向の固定は、熱重合又は活性エネルギー線による重合で行うことができ、その重合に適した、液晶化合物が有する重合性基又は重合開始剤を適宜選択することで行うことができる。
製造適性等を考慮すると、図1に示すような、紫外線照射手段5から照射された紫外線による重合反応を好ましく用いることができる。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、紫外線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が5質量%以下になるように照射条件を決めることが好ましい。
照射条件としては、液晶層形成用材料の処方、及び第2の塗膜の厚さにもよるが、紫外線照射量は、50mJ/cm〜1000mJ/cmが好ましく、100mJ/cm〜500mJ/cmがより好ましい。
-Fixing the orientation of liquid crystal compounds-
The orientation of the liquid crystal compound in the second coating film is fixed.
The orientation of the liquid crystal compound can be fixed by thermal polymerization or polymerization by active energy rays, and can be carried out by appropriately selecting a polymerizable group or a polymerization initiator of the liquid crystal compound suitable for the polymerization.
Considering the production suitability and the like, the polymerization reaction by the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiation means 5 as shown in FIG. 1 can be preferably used.
When a polymerizable liquid crystal compound is used, if the irradiation amount of ultraviolet rays is small, the unpolymerized liquid crystal compound remains, which causes temperature change of optical characteristics, deterioration with time, and the like. Therefore, it is preferable to determine the irradiation conditions so that the proportion of the remaining unpolymerized liquid crystal compound is 5% by mass or less.
The irradiation conditions, the formulation of the liquid crystal layer forming material, and depending on the thickness of the second coating film, the amount of ultraviolet irradiation is preferably 50mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 , 100mJ / cm 2 ~500mJ / Cm 2 is more preferable.

紫外線照射手段5に用いる光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。 Examples of the light source used for the ultraviolet irradiation means 5 include lamps such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, and carbon arc lamps, and various lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon). Examples thereof include a laser, an argon ion laser, a helium cadmium laser, a YAG (Ytrium Aluminum Garnet) laser), a light emitting diode, and a cathode wire tube.

その他、液晶層の詳細は、特開2008−225281号公報及び特開2008−026730号公報の記載を参酌できる。 In addition, for details of the liquid crystal layer, the description of JP-A-2008-225281 and JP-A-2008-026730 can be referred to.

〔付着物除去工程〕
位相差フィルムの製造方法は、バックアップロールの表面の付着物を除去する工程(本明細書中、付着物除去工程ということがある。)を含むことができる。
付着物除去工程を含むことで、バックアップロールの継続使用によって生じるバックアップロール表面の錆及び汚れ等を除去することができ、継続的に反射光の配向層への照射量のばらつきを低く抑えることができる。結果、配向軸の均一性を長期間に亘り保つことができる。
[Adhesion removal process]
The method for producing the retardation film can include a step of removing deposits on the surface of the backup roll (in the present specification, it may be referred to as a deposit removing step).
By including the deposit removing step, it is possible to remove rust and dirt on the surface of the backup roll caused by continuous use of the backup roll, and it is possible to continuously suppress the variation in the irradiation amount of the reflected light to the alignment layer to a low level. it can. As a result, the uniformity of the orientation axis can be maintained for a long period of time.

以下に、付着物除去工程について詳細に説明する。
付着物除去工程は、バックアップロール表面の錆及び汚れ等を除去することができれば特に制限はないが、例えば、付着物除去装置を用いて行うことができる。
The deposit removing step will be described in detail below.
The deposit removing step is not particularly limited as long as it can remove rust and dirt on the surface of the backup roll, but it can be performed by using, for example, a deposit removing device.

付着物除去装置としては、例えば、付着物除去ロール、送風器、拭き取り器又は浸漬洗浄器等が挙げられる。中でも、付着物除去ロール及び拭き取り器が好ましい。 Examples of the deposit removing device include a deposit removing roll, a blower, a wiper, a dipping washer, and the like. Of these, a deposit removing roll and a wiper are preferable.

付着物除去工程は、バックアップロール表面の錆及び汚れ等を除去することができれば特に制限はないが、例えば、バックアップロール表面の付着物を除去するための物質を表面に塗布したロール(本明細書中、付着物除去ロールという。)を、バックアップロール表面と接触させるように配置し、バックアップロールの回転とは逆方向に同じ速度で回転させることで、バックアップロール表面の付着物を除去する方法が挙げられる。
付着物除去ロールとしては、ミモザロール(宮川ローラー社製)等が挙げられる。
付着物除去ロールの表面に塗布する物質としては、バックアップロールの表面の付着物を除去できるものであれば特に制限はなく、例えば、シリコンゴム等の粘着性物質、 フッ素ゴム及びウレタンゴム等が挙げられる。中でも、ウレタンゴムが好ましい。
The deposit removing step is not particularly limited as long as it can remove rust and dirt on the surface of the backup roll. For example, a roll coated with a substance for removing deposits on the surface of the backup roll (the present specification). A method of removing deposits on the surface of the backup roll by arranging the deposit removal roll (referred to as) in contact with the surface of the backup roll and rotating it at the same speed in the direction opposite to the rotation of the backup roll. Can be mentioned.
Examples of the deposit removing roll include mimosa roll (manufactured by Miyagawa Roller Co., Ltd.).
The substance to be applied to the surface of the deposit removing roll is not particularly limited as long as it can remove the deposits on the surface of the backup roll, and examples thereof include adhesive substances such as silicon rubber, fluororubber and urethane rubber. Be done. Of these, urethane rubber is preferable.

送風器としては、ロール表面の塵及びゴミを吹き飛ばす程の送風を行える機器であればよく、例えば、SJF−300L−3(株式会社スイデン製)等が挙げられる。 The blower may be any device that can blow air to the extent that dust and dirt on the roll surface are blown off, and examples thereof include SJF-300L-3 (manufactured by Suiden Co., Ltd.).

拭き取り器としては、布などをロール表面に接触させて塵及びゴミを拭き取る機器が挙げられ、例えば、クリーナーコット(株式会社メイテック製)、ベンコットスーパーNT(旭化成株式会社製)等が挙げられる。 Examples of the wiping device include a device that wipes dust and dirt by bringing a cloth or the like into contact with the roll surface, and examples thereof include a cleaner cot (manufactured by Meitec Corporation) and Bencot Super NT (manufactured by Asahi Kasei Corporation).

浸漬洗浄器としては、容器内に洗浄液を収容したものを使用でき、回転するロールを洗浄液に接触又は浸漬させることにより付着物を除去できる機器が挙げられ、例えば、ディップウォッシャーDW(日伸精機株式会社製)等が挙げられる。 Examples of the immersion washer include a device in which a cleaning solution is contained in a container and a rotating roll can be brought into contact with or immersed in the cleaning solution to remove deposits. For example, Dip Washer DW (Nisshin Seiki Co., Ltd.) (Made by company), etc.

〔位相差フィルムの製造装置〕
本開示における位相差フィルムの製造装置は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する第1の塗布手段と、塗布後の配向層形成用材料を乾燥して第1の塗膜を形成する第1の乾燥手段と、表面反射率偏差が1パーセントポイント以下であるバックアップロールと、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第1の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する第2の塗布手段と、塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第2の塗膜を形成する第2の乾燥手段と、乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成手段と、を備える。
[Phase difference film manufacturing equipment]
In the retardation film manufacturing apparatus of the present disclosure, the first coating means for applying the alignment layer forming material to the continuously conveyed continuous film support and the first coating means for drying the alignment layer forming material after coating are dried. The first drying means for forming the coating film, the backup roll having a surface reflectance deviation of 1 percentage point or less, and the first coating film being irradiated with ultraviolet rays with the continuous film support wrapped around the backup roll. Then, an alignment layer forming means for forming an alignment layer having an orientation regulating force on the liquid crystal compound, a second coating means for applying a liquid crystal layer forming material containing the liquid crystal compound on the alignment layer, and a post-coating method. A second drying means for drying the liquid crystal layer forming material to form a second coating film, and a liquid crystal layer forming means for orienting the dried liquid crystal compound and fixing the orientation to form the liquid crystal layer. Be prepared.

〔第1の塗布手段〕
第1の塗布手段は、連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する手段である。
連続フィルム支持体及び配向層形成用材料は、上述の第1塗膜形成工程と同様であり、好ましい範囲等も同様である。塗布手段としては、既述の塗布装置を使用することができる。
[First coating means]
The first coating means is a means for coating a material for forming an alignment layer on a continuous film support that is continuously conveyed.
The continuous film support and the material for forming the alignment layer are the same as those in the first coating film forming step described above, and the preferable range and the like are also the same. As the coating means, the above-mentioned coating device can be used.

〔第1の乾燥手段〕
第1の乾燥手段は、塗布後の配向層形成用材料を乾燥して第1の塗膜を形成する手段である。乾燥手段としては、既述の乾燥装置を使用することができる。
[First drying means]
The first drying means is a means for forming a first coating film by drying the material for forming an alignment layer after coating. As the drying means, the above-mentioned drying device can be used.

〔配向層形成手段〕
配向層形成手段は、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で第1の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する手段である。
[Orientation layer forming means]
The alignment layer forming means is a means for forming an alignment layer having an orientation regulating force for a liquid crystal compound by irradiating the first coating film with ultraviolet rays in a state where a continuous film support is wound around a backup roll.

紫外線(UV)の照射は、UV照射可能な光源を用いて行うことができる。
光源としては、既述の棒状光源と同様の光源を使用することができる。具体的な例として、既述の光配向装置を用いることができる。これにより、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成することができる。
Irradiation of ultraviolet rays (UV) can be performed using a light source capable of irradiating ultraviolet rays.
As the light source, a light source similar to the rod-shaped light source described above can be used. As a specific example, the above-mentioned photoalignment apparatus can be used. As a result, it is possible to form an alignment layer having an orientation regulating force for the liquid crystal compound.

〔第2の塗布手段〕
第2の塗布手段は、配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する。
液晶層形成用材料、棒状液晶化合物及び円盤状液晶化合物は、上述の第2塗膜形成工程と同様であり、好ましい範囲も同様である。塗布手段としては、既述の塗布装置を使用することができる。
[Second coating means]
The second coating means coats a liquid crystal layer forming material containing a liquid crystal compound on the alignment layer.
The liquid crystal layer forming material, the rod-shaped liquid crystal compound, and the disk-shaped liquid crystal compound are the same as those in the above-mentioned second coating film forming step, and the preferable range is also the same. As the coating means, the above-mentioned coating device can be used.

〔第2の乾燥手段〕
第2の乾燥手段は、塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第2の塗膜を形成する。乾燥手段としては、既述の乾燥装置を使用することができる手段である。
[Second drying means]
The second drying means dries the liquid crystal layer forming material after coating to form a second coating film. As the drying means, the above-mentioned drying device can be used.

〔液晶層形成手段〕
液晶層形成手段は、乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する手段である。
[Liquid crystal layer forming means]
The liquid crystal layer forming means is a means for orienting a liquid crystal compound after drying and fixing the orientation to form a liquid crystal layer.

液晶層形成手段は、室温等により液晶化合物を乾燥又は加熱する手段を含むことができる。これにより、液晶化合物の配向処理を行うことができる。乾燥又は加熱する手段としては、既述の塗布装置又は既述の乾燥装置を使用することができる。 The liquid crystal layer forming means can include means for drying or heating the liquid crystal compound at room temperature or the like. Thereby, the orientation treatment of the liquid crystal compound can be performed. As the means for drying or heating, the above-mentioned coating device or the above-mentioned drying device can be used.

液晶層形成手段は、紫外線照射手段を含むことができる。これにより、液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成することができる。
紫外線照射手段における光源としては、既述の液晶層形成工程における紫外線照射手段5に用いる光源を使用することができる。
The liquid crystal layer forming means can include an ultraviolet irradiation means. As a result, the orientation of the liquid crystal compound can be fixed to form the liquid crystal layer.
As the light source in the ultraviolet irradiation means, the light source used in the ultraviolet irradiation means 5 in the liquid crystal layer forming step described above can be used.

以下、本開示を実施例により更に具体的に説明するが、本開示はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。 Hereinafter, the present disclosure will be described in more detail with reference to Examples, but the present disclosure is not limited to the following Examples as long as the gist of the present disclosure is not exceeded. Unless otherwise specified, "parts" are based on mass.

[実施例1]
まず、図1と同様に構成された装置を準備し、この装置を用いて以下に示すようにして位相差フィルム1を製造した。
(第1の塗膜の形成)
連続フィルム支持体(セルローストリアセテートフィルムTJ40、富士フイルム株式会社製、全幅:1.3m、長さ2000m、厚み40μm)に、下記の組成の配向層形成用材料をワイヤーバーで塗布した。その後、60℃の温風で60秒、更に100℃の温風で120秒乾燥し、乾燥膜厚0.5μmの第1の塗膜を形成した(第1塗膜形成工程)。
[Example 1]
First, an apparatus having the same configuration as in FIG. 1 was prepared, and the retardation film 1 was manufactured using this apparatus as shown below.
(Formation of first coating film)
A material for forming an orientation layer having the following composition was applied to a continuous film support (cellulose triacetate film TJ40, manufactured by Fujifilm Corporation, total width: 1.3 m, length 2000 m, thickness 40 μm) with a wire bar. Then, it was dried with warm air at 60 ° C. for 60 seconds and further with warm air at 100 ° C. for 120 seconds to form a first coating film having a dry film thickness of 0.5 μm (first coating film forming step).

−配向層形成用材料の組成−
光配向用素材P−1 1.0部
ブトキシエタノール 33部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 33部
水 33部
-Composition of materials for forming an orientation layer-
Material for photoalignment P-1 1.0 part Butoxyethanol 33 parts Propylene glycol monomethyl ether 33 parts Water 33 parts


(偏光紫外線の照射)
次に、第1の塗膜が形成された連続フィルム支持体を、配向層形成材料を塗布した面とは反対の面を接触させて、バックアップロール1(直径600mm、材質=ステンレス(SUS304)の表面を黒色アルマイト処理したもの、Ra=0.1μm、表面の色:金属光沢、表面反射率偏差:0.5パーセントポイント、紫外線吸収率:99%)に巻き掛け(図2参照)、大気下にて空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株))を用いて紫外線(波長313nm)を照射した。この際、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製、ProFlux UVT―300A)におけるワイヤーグリッドの配列角度θを45°にし、また、|θ1−θ2|=0°として、偏光紫外線の照射を行い、配向層を形成した(配向層形成工程)。
この際、紫外線の照度は、UV(ultra−violet)−A領域(波長320nm〜380nmの積算)において10mW/cm、照射量はUV−A領域において10mJ/cmとした。
(Irradiation of polarized ultraviolet rays)
Next, the continuous film support on which the first coating film was formed was brought into contact with the surface opposite to the surface coated with the alignment layer forming material, and the backup roll 1 (diameter 600 mm, material = stainless steel (SUS304)) was formed. The surface is treated with black alumite, Ra = 0.1 μm, surface color: metallic luster, surface reflectance deviation: 0.5 percentage points, ultraviolet absorption rate: 99%) wrapped around (see Fig. 2), under the atmosphere. Ultraviolet rays (wavelength 313 nm) were irradiated using an air-cooled metal halide lamp (Igraphics Co., Ltd.). At this time, the arrangement angle θ of the wire grid in the wire grid polarizer (ProFlux UVT-300A manufactured by Moxtek) is set to 45 °, and the orientation layer is irradiated with polarized ultraviolet rays with | θ1-θ2 | = 0 °. Was formed (alignment layer forming step).
At this time, the illuminance of ultraviolet rays was 10 mW / cm 2 in the UV (ultra-violet) -A region (integration of wavelengths of 320 nm to 380 nm), and the irradiation amount was 10 mJ / cm 2 in the UV-A region.

(第2の塗膜の形成及び液晶層の形成)
続いて、下記の組成の液晶層形成用材料を調製した。
(Formation of a second coating film and formation of a liquid crystal layer)
Subsequently, a material for forming a liquid crystal layer having the following composition was prepared.

−液晶層形成用材料の組成−
逆波長分散液晶性化合物 R−3 100部
光重合開始剤 3.0部
(イルガキュア819、BASF社)
含フッ素化合物A 0.8部
架橋性ポリマー O−2 0.3部
クロロホルム 588部
-Composition of material for forming liquid crystal layer-
Reverse wavelength dispersion liquid crystal compound R-3 100 parts Photopolymerization initiator 3.0 parts (Irgacure 819, BASF)
Fluorine-containing compound A 0.8 part Crosslinkable polymer O-2 0.3 part Chloroform 588 part




配向層上に液晶層形成用材料を、バーコーターを用いて塗布した。
膜面温度100℃で60秒間加熱して乾燥させることで、乾燥膜厚が200nmの第2の塗膜を形成し(第2塗膜形成工程)、70℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株))を用いて1000mJ/cmの紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、液晶層を形成した(液晶層形成工程)。
以上のようにして、位相差フィルム1が得られた。
A liquid crystal layer forming material was applied onto the alignment layer using a bar coater.
By heating and drying at a film surface temperature of 100 ° C. for 60 seconds, a second coating film having a dry film thickness of 200 nm is formed (second coating film forming step), cooled to 70 ° C., and then in air. An air-cooled metal halide lamp (Igraphics Co., Ltd.) was used to irradiate ultraviolet rays of 1000 mJ / cm 2 to fix the orientation state and form a liquid crystal layer (liquid crystal layer forming step).
As described above, the retardation film 1 was obtained.

(付着物除去工程)
以下の方法で、バックアップロール表面に付着した付着物を除去した。
(Adhesion removal process)
The deposits adhering to the surface of the backup roll were removed by the following method.

−送風器による付着物の除去−
まず、送風器(SJF−300L−3(株式会社スイデン製))を用いて、バックアップロール表面に送風を行うことで、塵及びゴミを吹き飛ばしてバックアップロール表面の付着物を除去した。
−拭き取り器による付着物の除去−
次に、位相差フィルムを1ロール作製するごとに、1回の拭き取り器による付着物の除去を行った。
具体的には、溶剤であるメチルエチルケトン(富士フイルム和光純薬株式会社製)をバックアップロール表面にスプレーにより塗布した後、バックアップロールの回転方向における連続フィルム支持体の巻き掛け領域下流に設置された拭き取り器(セルロース製の布(ベンコットスーパーNT,旭化成株式会社製))を用いて付着物及び溶剤を拭き取ることで行った。
-Remove of deposits with a blower-
First, a blower (SJF-300L-3 (manufactured by Suiden Co., Ltd.)) was used to blow air onto the surface of the backup roll to blow off dust and dirt and remove deposits on the surface of the backup roll.
-Remove of deposits with a wiper-
Next, every time one roll of the retardation film was produced, the deposits were removed by a wiping device once.
Specifically, after applying the solvent methyl ethyl ketone (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to the surface of the backup roll by spraying, the wiping is installed downstream of the winding region of the continuous film support in the rotation direction of the backup roll. This was done by wiping off deposits and solvents using a vessel (cellulose cloth (Bencot Super NT, manufactured by Asahi Kasei Corporation)).

−浸漬洗浄器による付着物の除去−
そして、浸漬洗浄器として、ディップウォッシャーDW(日伸精機株式会社製)を使用して、バックアップロールを洗浄液に浸漬させることで、バックアップロール表面の付着物を除去した。
-Remove of deposits with a dipping washer-
Then, as a dipping washer, a dip washer DW (manufactured by Nissin Seiki Co., Ltd.) was used to immerse the backup roll in the cleaning liquid to remove deposits on the surface of the backup roll.

−付着物除去ロールによる付着物の除去−
最後に、図2に示すように、バックアップロール40に接触するように粘着性の付着物除去ロール(ミモザロール、宮川ローラー株式会社製)41を設置し、バックアップロール40が回転する方向とは逆の方向に付着物除去ロール41を回転させることでバックアップロール表面の付着物を除去した。
-Removal of deposits with a deposit removal roll-
Finally, as shown in FIG. 2, an adhesive deposit removing roll (Mimosa roll, manufactured by Miyagawa Roller Co., Ltd.) 41 is installed so as to come into contact with the backup roll 40, and the direction in which the backup roll 40 rotates is opposite to that of the rotation. The deposits on the surface of the backup roll were removed by rotating the deposit removing roll 41 in the direction of.

[実施例2]
拭き取り器、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして、位相差フィルム2を得た。
[Example 2]
A retardation film 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the deposits were not removed by the wiper, the deposit removing roll, the blower, and the immersion washer.

[実施例3]
バックアップロール1を、バックアップロール2(直径600mm、材質ステンレス、表面:鏡面、Ra=0.05μm,表面反射率偏差:1パーセントポイント、紫外線吸収率:60%)とした以外は、実施例1と同様にして、位相差フィルム3を得た。
[Example 3]
The backup roll 1 is the same as that of the first embodiment except that the backup roll 2 (diameter 600 mm, material stainless steel, surface: mirror surface, Ra = 0.05 μm, surface reflectance deviation: 1 percentage point, ultraviolet absorption rate: 60%). In the same manner, a retardation film 3 was obtained.

[実施例4]
拭き取り器、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例3と同様にして、位相差フィルム4を得た。
[Example 4]
A retardation film 4 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the deposits were not removed by the wiper, the deposit removing roll, the blower, and the immersion washer.

[実施例5]
付着物除去工程として浸漬洗浄器による付着物の除去のみを行い、拭き取り器、付着物除去ロール及び送風器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例3と同様にして、位相差フィルム5を得た。
[Example 5]
Phase difference in the same manner as in Example 3 except that the deposit removal step was performed only by removing the deposits by the immersion washer and not by the wiper, the deposit removal roll and the blower. Film 5 was obtained.

[実施例6]
付着物除去工程として付着物除去ロールによる付着物の除去のみを行い、拭き取り器、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例3と同様にして、位相差フィルム6を得た。
[Example 6]
In the same manner as in Example 3, the phase difference is the same as in Example 3, except that as the deposit removing step, only the deposits are removed by the deposit removing roll, and the deposits are not removed by the wiper, the blower, and the immersion washer. Film 6 was obtained.

[実施例7]
付着物除去工程として送風器による付着物の除去のみを行い、付着物除去ロール、拭き取り器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例3と同様にして、位相差フィルム11を得た。
[Example 7]
In the same manner as in Example 3, the phase difference is the same as in Example 3 except that the deposit removal step is performed only by removing the deposits by the blower and not by the deposit removing roll, the wiper and the immersion washer. Film 11 was obtained.

[実施例8]
付着物除去工程として拭き取り器による付着物の除去のみを行い、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例3と同様にして、位相差フィルム12を得た。
[Example 8]
In the same manner as in Example 3, the phase difference was the same as in Example 3 except that the deposit removal step was performed only by removing the deposits with a wiper and not removing the deposits with a deposit removing roll, a blower, and a dipping washer. Film 12 was obtained.

[比較例1]
バックアップロール1を、バックアップロール3(直径600mm、材質ステンレス、表面の色:金属色(銀色)、表面反射率偏差:2パーセントポイント、紫外線吸収率:60%)に変更し、拭き取り器、付着物除去ロール、送風器及び浸漬洗浄器による付着物の除去を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして、位相差フィルム7を得た。
[Comparative Example 1]
Change the backup roll 1 to the backup roll 3 (diameter 600 mm, material stainless steel, surface color: metal color (silver), surface reflectance deviation: 2 percentage points, ultraviolet absorption rate: 60%), wiper, deposits A retardation film 7 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the deposits were not removed by the removing roll, the blower, and the immersion washer.

<評価>
(配向軸の均一性の評価)
シャーカステン(クロスニコル:2枚の偏光板の透過軸が直交する配置)にフィルムをはさみ、フィルムを面内で回転させて消光位を探した。配向軸が均一である場合、ある角度で面内すべてが消光する。一方、配向軸がずれていると、消光する角度が面内で異なる。
上記の配向軸の均一性の評価を、製造開始直後(製造した位相差フィルムの製造開始端から1mの範囲)の配向層、及び、製造終了直前(製造した位相差フィルムの製造終了端から1mの範囲)の配向層について行った。評価基準は以下の通りである。
なお、製造終了直前とは、1000mのロールを用いて30本連続して位相差フィルムを製造した製造工程の終了直前である。
<評価基準>
A :消光する角度が面内で1つのみである。
B :消光する角度が面内で2つ〜3つである。
C :消光する角度が面内で4つ〜5つである。
D :消光する角度が面内で6つ以上である。
<Evaluation>
(Evaluation of uniformity of orientation axis)
A film was sandwiched between Shakasten (cross Nicol: an arrangement in which the transmission axes of the two polarizing plates are orthogonal to each other), and the film was rotated in the plane to search for the quenching position. If the axis of orientation is uniform, the entire in-plane quenches at an angle. On the other hand, if the orientation axis is deviated, the quenching angle is different in the plane.
The uniformity of the alignment axis is evaluated immediately after the start of production (within a range of 1 m from the end of production of the manufactured retardation film) and immediately before the end of production (1 m from the end of production of the manufactured retardation film). Orientation layer). The evaluation criteria are as follows.
Immediately before the end of production is immediately before the end of the production process in which 30 consecutive retardation films are produced using a 1000 m roll.
<Evaluation criteria>
A: There is only one quenching angle in the plane.
B: The quenching angle is 2 to 3 in the plane.
C: The quenching angle is 4 to 5 in the plane.
D: The quenching angle is 6 or more in the plane.

(バックアップロールの表面反射率偏差の測定方法)
バックアップロールの表面反射率は、バックアップロールを円周方向に12分割した12箇所について、バックアップロールのロール幅方向に10mmピッチで測定点をとり、各測定点における波長365nmの光に対する正面反射率を測定した。
なお、バックアップロールの表面反射率の測定には、分光光度計(MV−3100、日本分光株式会社製)を用いた。
ここで、波長については、配向層形成用材料の吸収スペクトルに応じて適宜選択可能であり、例えば313nmの場合もある。この際、使用する光源は313nmのスペクトルが相対的に大きい高圧水銀ランプを用いる。
バックアップロールの表面反射率偏差は、上記のようにして測定された表面反射率の最大値と最小値との差分(パーセントポイント)で表した。この差分が大きいほど、幅方向におけるバックアップロールの表面反射率のバラツキが大きいこととなる。
なお、差分が3パーセントポイント以上になると、実用上好ましくない。
(Measurement method of surface reflectance deviation of backup roll)
For the surface reflectance of the backup roll, measurement points are taken at a pitch of 10 mm in the roll width direction of the backup roll at 12 points where the backup roll is divided into 12 in the circumferential direction, and the front reflectance for light having a wavelength of 365 nm at each measurement point is determined. It was measured.
A spectrophotometer (MV-3100, manufactured by JASCO Corporation) was used to measure the surface reflectance of the backup roll.
Here, the wavelength can be appropriately selected according to the absorption spectrum of the material for forming the alignment layer, and may be, for example, 313 nm. At this time, the light source used is a high-pressure mercury lamp having a relatively large spectrum of 313 nm.
The surface reflectance deviation of the backup roll is expressed as the difference (percent point) between the maximum value and the minimum value of the surface reflectance measured as described above. The larger this difference is, the larger the variation in the surface reflectance of the backup roll in the width direction is.
If the difference is 3 percentage points or more, it is not practically preferable.

(バックアップロールの波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率の測定方法)
バックアップロールの波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率は、まずバックアップロールを円周方向に12分割した12箇所について、バックアップロールのロール幅方向に10mmピッチで測定点をとり、各測定点における波長300nm〜380nmの紫外線に対する反射率を、分光光度計(日本分光株式会社製のMV−3100)により測定し、各測定値を平均して平均値を算出し、算出した反射率の平均値を1から引くことで得た値である。
(Measuring method of absorption rate of backup roll for ultraviolet rays with wavelength of 300 nm to 380 nm)
For the reflectance of the backup roll to ultraviolet rays with a wavelength of 300 nm to 380 nm, first, measurement points are taken at a pitch of 10 mm in the roll width direction of the backup roll at 12 points where the backup roll is divided into 12 in the circumferential direction, and the wavelength at each measurement point is 300 nm. The reflectance to ultraviolet rays of ~ 380 nm was measured with a spectrophotometer (MV-3100 manufactured by JASCO Corporation), the average value was calculated by averaging each measured value, and the average value of the calculated reflectance was calculated from 1. It is the value obtained by subtracting.

(バックアップロールの表面粗さ(Ra)の測定方法)
表面粗さ(Ra)は、表面粗さ測定器(SJ−310、株式会社ミツトヨ製)を用い、日本工業規格(JIS)B0601(2001年)に準拠した方法により測定した。
(Measurement method of surface roughness (Ra) of backup roll)
The surface roughness (Ra) was measured using a surface roughness measuring instrument (SJ-310, manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.) by a method conforming to Japanese Industrial Standards (JIS) B0601 (2001).


表1に示すように、バックアップロールの表面反射率偏差が1.0パーセントポイント以下の実施例1〜実施例6において、製造開始直後及び製造終了直前の配向軸の均一性が良好であった。
中でも、バックアップロールの表面反射率偏差が0.5パーセントポイント以下の実施例1及び実施例2において、製造開始直後及び製造終了直前の配向軸の均一性が特に良好であった。
As shown in Table 1, in Examples 1 to 6 in which the surface reflectance deviation of the backup roll was 1.0 percentage point or less, the uniformity of the orientation axis immediately after the start of production and immediately before the end of production was good.
Among them, in Examples 1 and 2 in which the surface reflectance deviation of the backup roll was 0.5 percentage point or less, the uniformity of the orientation axis immediately after the start of production and immediately before the end of production was particularly good.

2018年2月14日に出願された日本国特許出願2018−024447号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。
The disclosure of Japanese Patent Application No. 2018-024447 filed on February 14, 2018 is incorporated herein by reference in its entirety.
All documents, patent applications, and technical standards described herein are to the same extent as if the individual documents, patent applications, and technical standards were specifically and individually stated to be incorporated by reference. Incorporated herein by reference.

Claims (8)

連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して第1の塗膜を形成する工程と、
表面の正面反射率の面内偏差が1パーセントポイント以下であるバックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で前記第1の塗膜に偏光された紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する工程と、
前記配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して第2の塗膜を形成する工程と、
前記第2の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、
を有する位相差フィルムの製造方法。
A step of applying a material for forming an alignment layer to a continuous film support that is continuously conveyed and drying it to form a first coating film.
A continuous film support is wound around a backup roll having an in-plane deviation of the front reflectance of the surface of 1 percentage point or less, and the first coating film is irradiated with polarized ultraviolet rays to regulate the orientation of the liquid crystal compound. The process of forming an oriented layer with force and
A step of applying a liquid crystal layer forming material containing a liquid crystal compound on the alignment layer and drying it to form a second coating film.
A step of orienting the liquid crystal compound in the second coating film and fixing the orientation to form a liquid crystal layer.
A method for producing a retardation film having.
前記バックアップロールの表面が鏡面である請求項1に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 1, wherein the surface of the backup roll is a mirror surface. 前記バックアップロールの表面の付着物を除去する工程を含む請求項1又は請求項2に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 1 or 2, which comprises a step of removing deposits on the surface of the backup roll. 前記除去は、付着物除去装置を用いて行う請求項3に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 3, wherein the removal is performed using a deposit removing device. 前記付着物除去装置は、付着物除去ロール、送風器、拭き取り器又は浸漬洗浄器である請求項4に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 4, wherein the deposit removing device is a deposit removing roll, a blower, a wiper, or a dipping washer. 前記バックアップロールの、波長300nm〜380nmの紫外線に対する吸収率が60%〜99.95%である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to any one of claims 1 to 5, wherein the backup roll has an absorption rate of 60% to 99.95% for ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm to 380 nm. 前記バックアップロールの材質がステンレスである、又は前記バックアップロールの表面が黒色である請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to any one of claims 1 to 6, wherein the material of the backup roll is stainless steel, or the surface of the backup roll is black. 連続搬送される連続フィルム支持体に、配向層形成用材料を塗布する第1の塗布手段と、
塗布後の前記配向層形成用材料を乾燥して第1の塗膜を形成する第1の乾燥手段と、
表面の正面反射率の面内偏差が1パーセントポイント以下であるバックアップロールと、
前記バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた状態で前記第1の塗膜に紫外線を照射して、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、
前記配向層の上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する第2の塗布手段と、
塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して第2の塗膜を形成する第2の乾燥手段と、
乾燥後の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する液晶層形成手段と、
を備えた位相差フィルムの製造装置。
A first coating means for coating a material for forming an alignment layer on a continuous film support that is continuously conveyed, and
A first drying means for forming a first coating film by drying the material for forming an alignment layer after coating, and
A backup roll with an in-plane deviation of surface front reflectance of 1 percentage point or less,
An alignment layer forming means for forming an alignment layer having an orientation regulating force for a liquid crystal compound by irradiating the first coating film with ultraviolet rays in a state where a continuous film support is wound around the backup roll.
A second coating means for coating a liquid crystal layer forming material containing a liquid crystal compound on the alignment layer,
A second drying means for forming a second coating film by drying the material for forming a liquid crystal layer after coating, and
A liquid crystal layer forming means for orienting a dried liquid crystal compound and fixing the orientation to form a liquid crystal layer.
A device for producing a retardation film.
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