JPWO2018101030A1 - Exhaust gas treatment apparatus, incineration equipment, and exhaust gas treatment method - Google Patents

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Abstract

排ガス処理装置は、煙道に設けられる集塵機と、煙道において燃焼室と集塵機との間に設けられ、排ガス中に水を噴霧する減温塔と、煙道において燃焼室と減温塔との間の位置にカルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給する第1薬剤供給部と、煙道において燃焼室と集塵機との間の補助供給位置にカルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給可能である第2薬剤供給部と、排ガス中のHCl濃度を測定するHCl濃度測定部と、HCl濃度が所定値以上となる場合に、HCl濃度が所定値未満である時よりも第1薬剤供給部または第2薬剤供給部による排ガス処理薬剤の供給量を増大させる制御部とを備える。これにより、脱塩処理を効率よく行うとともに、HCl濃度が所定値以上となる異常時に適切に対処することができる。The exhaust gas treatment apparatus includes a dust collector provided in the flue, a temperature reducing tower that is provided between the combustion chamber and the dust collector in the flue, and sprays water into the exhaust gas, and a combustion chamber and a temperature reducing tower in the flue. A first chemical supply unit that supplies an exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical to a position in between, and an exhaust gas treatment chemical containing a calcium chemical can be supplied to an auxiliary supply position between the combustion chamber and the dust collector in the flue A second chemical supply unit, an HCl concentration measurement unit that measures the HCl concentration in the exhaust gas, and the first chemical supply unit or the first chemical supply unit or the first chemical supply unit or the A control unit that increases the supply amount of the exhaust gas treatment chemicals by the two chemical supply units. As a result, the desalting process can be performed efficiently, and it is possible to appropriately cope with an abnormality in which the HCl concentration exceeds a predetermined value.

Description

本発明は、排ガスを処理する技術および焼却設備に関する。   The present invention relates to technology for treating exhaust gas and incineration equipment.

従来、都市ごみ等の一般廃棄物は、ごみ焼却設備により焼却処理される。焼却処理により発生する排ガスには、煤塵、塩化水素(HCl)、硫黄酸化物(SOx)、窒素酸化物(NOx)、重金属(Pb、Hg等)等の有害物質が含まれている。そこで、これらの有害物質を排ガスから除去する処理が排ガス処理装置により行われ、処理済みの排ガスが大気に排出される。例えば、特開平10−24213号公報(文献1)では、減温塔内に粉末状の消石灰を投入し、消石灰に水分を吸収させて排ガス中の酸性ガスと反応させることにより、脱塩率を向上する手法が開示されている。   Conventionally, municipal wastes and other general wastes are incinerated by waste incineration equipment. The exhaust gas generated by the incineration process contains harmful substances such as dust, hydrogen chloride (HCl), sulfur oxide (SOx), nitrogen oxide (NOx), heavy metals (Pb, Hg, etc.). Therefore, a treatment for removing these harmful substances from the exhaust gas is performed by the exhaust gas treatment device, and the treated exhaust gas is discharged to the atmosphere. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-24213 (Reference 1), powdered slaked lime is introduced into a temperature reducing tower, moisture is absorbed into the slaked lime and reacted with the acid gas in the exhaust gas, thereby reducing the desalination rate. Techniques for improving are disclosed.

ところで、高塩素含有廃棄物が焼却される際に、排ガスのHCl濃度が一時的に過度に高くなる場合がある。文献1の装置では、このような場合に、HCl濃度の上昇を短時間に抑制することができない場合がある。したがって、脱塩処理を効率よく行うとともに、HCl濃度が所定値以上となる異常時に適切に対処することが可能な手法が求められている。   By the way, when high chlorine content waste is incinerated, the HCl concentration of exhaust gas may temporarily become excessively high. In such a case, the apparatus of Literature 1 may not be able to suppress the increase in HCl concentration in a short time. Therefore, there is a demand for a technique that can efficiently perform desalting and appropriately cope with an abnormality when the HCl concentration exceeds a predetermined value.

本発明は、排ガス処理装置に向けられており、脱塩処理を効率よく行うとともに、HCl濃度が所定値以上となる異常時に適切に対処することを目的としている。   The present invention is directed to an exhaust gas treatment apparatus, and an object of the present invention is to efficiently perform a desalting treatment and appropriately cope with an abnormal time when the HCl concentration becomes a predetermined value or more.

本発明に係る排ガス処理装置は、排ガスが流れる煙道に設けられる集塵機と、前記煙道において前記排ガスの発生源と前記集塵機との間に設けられ、前記排ガス中に水を噴霧する減温塔と、前記煙道における前記発生源と前記減温塔との間の位置、または、前記減温塔内の位置を薬剤供給位置として、前記薬剤供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給する第1薬剤供給部と、前記煙道において前記発生源と前記集塵機との間の補助供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給可能である第2薬剤供給部と、前記排ガス中のHCl濃度を測定するHCl濃度測定部と、前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第2薬剤供給部による前記補助供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる、または、前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記第2薬剤供給部により前記補助供給位置に前記排ガス処理薬剤を供給しつつ、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第1薬剤供給部による前記薬剤供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる制御部とを備える。   An exhaust gas treatment apparatus according to the present invention includes a dust collector provided in a flue through which exhaust gas flows, and a temperature reducing tower that is provided between the generation source of the exhaust gas and the dust collector in the flue and sprays water into the exhaust gas. And a position between the generation source in the flue and the temperature reducing tower, or a position in the temperature reducing tower as a chemical supply position, and an exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical at the chemical supply position. A first chemical supply unit to supply; a second chemical supply unit capable of supplying an exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical to an auxiliary supply position between the generation source and the dust collector in the flue; and the exhaust gas An HCl concentration measuring unit for measuring the concentration of HCl in the second chemical supply unit to the auxiliary supply position when the HCl concentration is less than the predetermined value when the HCl concentration exceeds a predetermined value. When the supply amount of the exhaust gas treatment chemical is increased, or when the HCl concentration is equal to or higher than a predetermined value, the HCl concentration is increased while the exhaust gas treatment chemical is supplied to the auxiliary supply position by the second chemical supply unit. A control unit that increases the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position by the first chemical supply unit more than when it is less than the predetermined value.

本発明によれば、脱塩処理を効率よく行うとともに、HCl濃度が所定値以上となる異常時に第1薬剤供給部または第2薬剤供給部を用いて適切に対処することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while performing a desalination process efficiently, it can respond appropriately using the 1st chemical | medical agent supply part or the 2nd chemical | medical agent supply part at the time of the abnormality where HCl concentration becomes more than predetermined value.

本発明の一の好ましい形態では、前記第1薬剤供給部および前記第2薬剤供給部が、カルシウム系薬剤を貯留する貯留部を共有する。   In one preferred embodiment of the present invention, the first drug supply unit and the second drug supply unit share a storage unit that stores a calcium-based drug.

本発明の他の好ましい形態では、前記第2薬剤供給部が、前記集塵機にて捕集された集塵灰を前記排ガス処理薬剤として供給する。   In another preferred embodiment of the present invention, the second chemical supply unit supplies the dust collection ash collected by the dust collector as the exhaust gas treatment chemical.

本発明は、焼却設備にも向けられている。本発明に係る焼却設備は、廃棄物を燃焼させる燃焼室と、前記燃焼室にて発生する排ガスを前記燃焼室から排出する煙道と、前記煙道に設けられる上記の排ガス処理装置とを備える。   The present invention is also directed to an incineration facility. An incineration facility according to the present invention includes a combustion chamber for burning waste, a flue for discharging exhaust gas generated in the combustion chamber from the combustion chamber, and the exhaust gas treatment device provided in the flue. .

本発明は、排ガス処理装置における排ガス処理方法にも向けられている。本発明に係る排ガス処理方法では、前記排ガス処理装置が、排ガスが流れる煙道に設けられる集塵機と、前記煙道において前記排ガスの発生源と前記集塵機との間に設けられ、前記排ガス中に水を噴霧する減温塔と、前記煙道における前記発生源と前記減温塔との間の位置、または、前記減温塔内の位置を薬剤供給位置として、前記薬剤供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給する第1薬剤供給部と、前記煙道において前記発生源と前記集塵機との間の補助供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給可能である第2薬剤供給部とを備え、前記排ガス処理方法が、a)前記煙道において前記発生源と前記減温塔との間の位置、または、前記減温塔内に、前記第1薬剤供給部により前記排ガス処理薬剤を供給する工程と、b)前記排ガス中のHCl濃度を測定する工程と、c)前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第2薬剤供給部による前記補助供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる、または、前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記第2薬剤供給部により前記補助供給位置に前記排ガス処理薬剤を供給しつつ、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第1薬剤供給部による前記薬剤供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる工程とを備える。   The present invention is also directed to an exhaust gas treatment method in an exhaust gas treatment apparatus. In the exhaust gas treatment method according to the present invention, the exhaust gas treatment device is provided between a dust collector provided in a flue through which the exhaust gas flows, and the exhaust gas generation source and the dust collector in the flue, and water is contained in the exhaust gas. A temperature-decreasing tower that sprays the water, a position between the generation source in the flue and the temperature-decreasing tower, or a position in the temperature-decreasing tower as a medicine supply position, A second chemical agent capable of supplying an exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical to a first chemical supply unit for supplying an exhaust gas treatment chemical containing a gas to an auxiliary supply position between the generation source and the dust collector in the flue The exhaust gas treatment method includes: a) a position between the generation source and the temperature-decreasing tower in the flue, or in the temperature-decreasing tower, the exhaust gas by the first chemical supply unit. Supply processing chemicals B) measuring the HCl concentration in the exhaust gas; and c) supplying the second chemical more than when the HCl concentration is less than the predetermined value when the HCl concentration is greater than or equal to the predetermined value. When the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position by the unit is increased, or when the HCl concentration is equal to or higher than a predetermined value, the second chemical supply unit supplies the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position. And a step of increasing the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position by the first chemical supply unit as compared to when the HCl concentration is less than the predetermined value.

上述の目的および他の目的、特徴、態様および利点は、添付した図面を参照して以下に行うこの発明の詳細な説明により明らかにされる。   The above object and other objects, features, aspects and advantages will become apparent from the following detailed description of the present invention with reference to the accompanying drawings.

第1実施形態に係る焼却設備の構成を示す図である。It is a figure showing composition of incineration equipment concerning a 1st embodiment. 排ガス処理装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an exhaust gas processing apparatus. 排ガス処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of waste gas treatment. 比較例の排ガス処理装置における脱塩率と当量比との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the desalination rate and equivalent ratio in the exhaust gas processing apparatus of a comparative example. 第2実施形態に係る排ガス処理装置を示す図である。It is a figure which shows the waste gas processing apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る排ガス処理装置を示す図である。It is a figure which shows the waste gas processing apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第4実施形態に係る排ガス処理装置を示す図である。It is a figure which shows the waste gas processing apparatus which concerns on 4th Embodiment. 第5実施形態に係る排ガス処理装置を示す図である。It is a figure which shows the waste gas processing apparatus which concerns on 5th Embodiment.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る焼却設備1の構成を示す図である。焼却設備1は、都市ごみ等の廃棄物を焼却処理する設備である。焼却設備1は、燃焼室2と、煙道3と、排ガス処理装置4と、誘引通風機51と、煙突52とを備える。燃焼室2では、ごみの燃焼と、ごみから発生した可燃性ガスの燃焼とが行われる。煙道3は、燃焼室2と煙突52とを接続する。排ガス処理装置4および誘引通風機51は、煙道3に設けられる。誘引通風機51は、燃焼室2にて発生する排ガス(燃焼ガス)を煙道3へと排出し、排ガス処理装置4を介して煙突52へと導く。すなわち、燃焼室2を発生源とする排ガスは、燃焼室2から煙突52に向かって煙道3内を流れつつ、排ガス処理装置4により排ガスに対して所定の処理が行われる。煙突52は、排ガスを大気に放出する。図1では、煙道3を太い実線にて示している。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an incineration facility 1 according to the first embodiment of the present invention. The incineration facility 1 is a facility for incinerating waste such as municipal waste. The incineration facility 1 includes a combustion chamber 2, a flue 3, an exhaust gas treatment device 4, an induction fan 51, and a chimney 52. In the combustion chamber 2, combustion of garbage and combustion of combustible gas generated from the garbage are performed. The flue 3 connects the combustion chamber 2 and the chimney 52. The exhaust gas treatment device 4 and the induction fan 51 are provided in the flue 3. The induction fan 51 discharges exhaust gas (combustion gas) generated in the combustion chamber 2 to the flue 3 and guides it to the chimney 52 through the exhaust gas treatment device 4. That is, the exhaust gas generated from the combustion chamber 2 flows through the flue 3 from the combustion chamber 2 toward the chimney 52, and the exhaust gas treatment device 4 performs a predetermined process on the exhaust gas. The chimney 52 releases exhaust gas to the atmosphere. In FIG. 1, the flue 3 is indicated by a thick solid line.

図2は、排ガス処理装置4の構成を示す図である。排ガス処理装置4は、減温塔41と、薬剤供給ユニット42と、集塵機43と、HCl濃度測定部401と、制御部40とを備える。煙道3において、燃焼室2から煙突52に向かって、すなわち、排ガスの流れ方向における上流側から下流側に向かって、減温塔41、集塵機43が順に設けられる。集塵機43と煙突52との間には、脱硝装置等が設けられてもよい。   FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the exhaust gas treatment device 4. The exhaust gas treatment device 4 includes a temperature reducing tower 41, a chemical supply unit 42, a dust collector 43, an HCl concentration measurement unit 401, and a control unit 40. In the flue 3, a temperature reducing tower 41 and a dust collector 43 are sequentially provided from the combustion chamber 2 toward the chimney 52, that is, from the upstream side to the downstream side in the flow direction of the exhaust gas. A denitration device or the like may be provided between the dust collector 43 and the chimney 52.

減温塔41は、燃焼室2から流入する排ガス中に水を噴霧して排ガスの温度を低下させる。減温塔41から排出される排ガスの温度は、例えば約170℃である。薬剤供給ユニット42は、消石灰貯留部421と、特殊助剤貯留部422と、第1薬剤圧送部423aと、第2薬剤圧送部423bと、第1薬剤供給ライン424aと、第2薬剤供給ライン424bと、定量供給部425,426とを備える。   The temperature reducing tower 41 sprays water into the exhaust gas flowing from the combustion chamber 2 to lower the temperature of the exhaust gas. The temperature of the exhaust gas discharged from the temperature reducing tower 41 is about 170 ° C., for example. The drug supply unit 42 includes a slaked lime storage unit 421, a special auxiliary agent storage unit 422, a first drug pumping unit 423a, a second drug pumping unit 423b, a first drug supply line 424a, and a second drug supply line 424b. And fixed quantity supply parts 425 and 426.

第1薬剤供給ライン424aの一端は、第1薬剤圧送部423aに接続され、他端は、煙道3における燃焼室2と減温塔41との間の位置P1(以下、「薬剤供給位置P1」という。)に接続される。第1薬剤圧送部423aは、送風機であり、第1薬剤供給ライン424a内において空気を煙道3に向かって送る。第2薬剤供給ライン424bの一端は、第2薬剤圧送部423bに接続され、他端は、煙道3における減温塔41と集塵機43との間の位置P2(以下、「補助供給位置P2」という。)に接続される。第2薬剤圧送部423bは、送風機であり、第2薬剤供給ライン424b内において空気を煙道3に向かって送る。   One end of the first drug supply line 424a is connected to the first drug pumping part 423a, and the other end is a position P1 between the combustion chamber 2 and the temperature reducing tower 41 in the flue 3 (hereinafter referred to as “drug supply position P1”). "). The 1st chemical | medical agent pumping part 423a is an air blower, and sends air toward the flue 3 in the 1st chemical | medical agent supply line 424a. One end of the second chemical supply line 424b is connected to the second chemical pumping unit 423b, and the other end is a position P2 between the temperature reducing tower 41 and the dust collector 43 in the flue 3 (hereinafter referred to as “auxiliary supply position P2”). Connected). The second medicine pumping unit 423b is a blower and sends air toward the flue 3 in the second medicine supply line 424b.

消石灰貯留部421は、粉状の消石灰(水酸化カルシウム(Ca(OH)))をカルシウム(Ca)系薬剤として貯留する。消石灰は、脱塩および脱硫用の薬剤である。消石灰貯留部421の下部には、定量供給部425が取り付けられる。定量供給部425は、例えば、2つの排出口を有するテーブルフィーダであり、当該2つの排出口は、第1薬剤供給ライン424aおよび第2薬剤供給ライン424bにそれぞれ接続される。定量供給部425の各排出口では、単位時間当たりに設定量の消石灰が消石灰貯留部421から取り出される(切り出される)。これにより、第1薬剤供給ライン424aおよび第2薬剤供給ライン424b内に消石灰が供給される。The slaked lime storage unit 421 stores powdered slaked lime (calcium hydroxide (Ca (OH) 2 )) as a calcium (Ca) -based drug. Slaked lime is a desalting and desulfurizing agent. A fixed amount supply unit 425 is attached to the lower part of the slaked lime storage unit 421. The fixed amount supply unit 425 is, for example, a table feeder having two discharge ports, and the two discharge ports are connected to the first drug supply line 424a and the second drug supply line 424b, respectively. At each discharge port of the fixed amount supply unit 425, a set amount of slaked lime is taken out (cut out) from the slaked lime storage unit 421 per unit time. Thereby, slaked lime is supplied into the 1st chemical | medical agent supply line 424a and the 2nd chemical | medical agent supply line 424b.

特殊助剤貯留部422は、粉状の薬剤(例えば、日立造船株式会社製のバグエース(登録商標)や活性炭であり、以下、「特殊助剤」という。)を貯留する。特殊助剤貯留部422の下部には、定量供給部426が取り付けられる。定量供給部426は、定量供給部425と同様に2つの排出口を有し、当該2つの排出口は、第1薬剤供給ライン424aおよび第2薬剤供給ライン424bにそれぞれ接続される。定量供給部426の各排出口では、単位時間当たりに設定量の特殊助剤が特殊助剤貯留部422から取り出され、第1薬剤供給ライン424aおよび第2薬剤供給ライン424b内に供給される。以上の構成の薬剤供給ユニット42により、消石灰および特殊助剤を含む排ガス処理薬剤を、薬剤供給位置P1および補助供給位置P2にて煙道3内に供給する(吹き込む)ことが可能である。排ガス処理薬剤は、消石灰に代えて、または、消石灰と共に、水酸化ドロマイト[Ca(OH)・Mg(OH)]等の他のカルシウム系薬剤(カルシウム含有薬剤)を含んでもよい(他の実施形態において同様)。The special auxiliary agent storage unit 422 stores a powdery drug (for example, Bag Ace (registered trademark) or activated carbon manufactured by Hitachi Zosen Corporation, hereinafter referred to as “special auxiliary agent”). A fixed amount supply unit 426 is attached to the lower part of the special auxiliary agent storage unit 422. The fixed amount supply unit 426 has two discharge ports like the fixed amount supply unit 425, and the two discharge ports are connected to the first drug supply line 424a and the second drug supply line 424b, respectively. At each discharge port of the quantitative supply unit 426, a set amount of special auxiliary agent is taken out from the special auxiliary agent storage unit 422 per unit time and supplied into the first drug supply line 424a and the second drug supply line 424b. With the chemical supply unit 42 configured as described above, it is possible to supply (blow) exhaust gas treatment chemicals including slaked lime and special auxiliary agents into the flue 3 at the chemical supply position P1 and the auxiliary supply position P2. The exhaust gas treatment chemical may include other calcium-based chemicals (calcium-containing chemicals) such as dolomite hydroxide [Ca (OH) 2 .Mg (OH) 2 ] instead of or together with slaked lime (others) The same applies to the embodiment).

薬剤供給位置P1に排ガス処理薬剤を供給する構成を「第1薬剤供給部42a」と呼ぶと、第1薬剤供給部42aは、消石灰貯留部421と、特殊助剤貯留部422と、第1薬剤圧送部423aと、第1薬剤供給ライン424aと、定量供給部425,426とを含む。同様に、補助供給位置P2に排ガス処理薬剤を供給する構成を「第2薬剤供給部42b」と呼ぶと、第2薬剤供給部42bは、消石灰貯留部421と、特殊助剤貯留部422と、第2薬剤圧送部423bと、第2薬剤供給ライン424bと、定量供給部425,426とを含む。第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bでは、消石灰を貯留する消石灰貯留部421が共有され、特殊助剤を貯留する特殊助剤貯留部422も共有される。   When the configuration for supplying the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 is called a “first chemical supply unit 42a”, the first chemical supply unit 42a includes the slaked lime storage unit 421, the special auxiliary agent storage unit 422, and the first chemical agent. It includes a pumping unit 423a, a first medicine supply line 424a, and a fixed amount supply unit 425,426. Similarly, when the configuration for supplying the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 is referred to as a “second chemical supply unit 42b”, the second chemical supply unit 42b includes a slaked lime storage unit 421, a special auxiliary agent storage unit 422, It includes a second drug pumping unit 423b, a second drug supply line 424b, and a quantitative supply unit 425,426. In the 1st chemical | medical agent supply part 42a and the 2nd chemical | medical agent supply part 42b, the slaked lime storage part 421 which stores slaked lime is shared, and the special adjuvant storage part 422 which stores a special adjuvant is also shared.

集塵機43は、例えば、ろ過式であり、排ガスに含まれる飛灰をろ布により除去する。集塵機43は、バグフィルタとも呼ばれる。薬剤供給ユニット42により供給される排ガス処理薬剤は、当該ろ布に堆積する。集塵機43の内部において、排ガスが当該ろ布を通過する際に、排ガスに含まれる有害物質と、排ガス処理薬剤との反応が生じ、当該有害物質が排ガスから除去される。排ガスと排ガス処理薬剤との反応は、集塵機43よりも上流側における煙道3内においても生じる。薬剤供給ユニット42では、消石灰に加えて活性炭等の他の種類の排ガス処理薬剤が供給されてもよい。排ガス処理薬剤により除去される有害物質は、例えば、塩化水素、硫黄酸化物、ダイオキシン類、水銀化合物等である。   The dust collector 43 is, for example, a filtration type, and removes fly ash contained in the exhaust gas with a filter cloth. The dust collector 43 is also called a bag filter. The exhaust gas treatment chemical supplied by the chemical supply unit 42 is deposited on the filter cloth. When the exhaust gas passes through the filter cloth inside the dust collector 43, a reaction between the harmful substance contained in the exhaust gas and the exhaust gas treatment chemical occurs, and the harmful substance is removed from the exhaust gas. The reaction between the exhaust gas and the exhaust gas treatment chemical also occurs in the flue 3 upstream of the dust collector 43. In the chemical supply unit 42, other types of exhaust gas treatment chemicals such as activated carbon may be supplied in addition to slaked lime. Examples of harmful substances removed by the exhaust gas treatment chemical include hydrogen chloride, sulfur oxides, dioxins, and mercury compounds.

集塵機43では、所定時間毎に、ろ布に堆積した飛灰および排ガス処理薬剤(有害物質との反応物を含む。)が圧縮空気を利用した逆洗により、払い落とされる。ろ布から払い落とされた飛灰および排ガス処理薬剤は、集塵灰処理部(図示省略)に搬送され、例えばキレート剤(重金属安定剤)により処理される。実際には、煙道3における燃焼室2と集塵機43との間に設けられる減温塔41においても、一部の飛灰および排ガス処理薬剤が回収され、飛灰処理部に搬送される。   In the dust collector 43, fly ash and exhaust gas treatment chemicals (including reactants with harmful substances) deposited on the filter cloth are wiped out by backwashing using compressed air every predetermined time. Fly ash and exhaust gas treatment chemicals that have been wiped off from the filter cloth are conveyed to a dust collection ash treatment unit (not shown) and treated with, for example, a chelating agent (heavy metal stabilizer). Actually, part of the fly ash and the exhaust gas treatment chemical is also collected in the temperature reducing tower 41 provided between the combustion chamber 2 and the dust collector 43 in the flue 3 and transported to the fly ash treatment unit.

HCl濃度測定部401は、煙道3において燃焼室2と減温塔41との間(例えば、減温塔41の入口近傍)に設けられ、レーザ光等を利用して排ガス中の塩化水素の濃度(以下、「HCl濃度」という。)を測定する。HCl濃度測定部401により取得されるHCl濃度は、制御部40に出力される。制御部40は、HCl濃度に基づいて薬剤供給ユニット42を制御する。制御部40は、排ガス処理装置4の全体制御も担う。   The HCl concentration measuring unit 401 is provided in the flue 3 between the combustion chamber 2 and the temperature reducing tower 41 (for example, in the vicinity of the inlet of the temperature reducing tower 41), and uses a laser beam or the like to measure hydrogen chloride in the exhaust gas. The concentration (hereinafter referred to as “HCl concentration”) is measured. The HCl concentration acquired by the HCl concentration measuring unit 401 is output to the control unit 40. The controller 40 controls the drug supply unit 42 based on the HCl concentration. The control unit 40 is also responsible for overall control of the exhaust gas treatment device 4.

図3は、排ガス処理装置4における排ガス処理の流れを示す図である。排ガス処理装置4における排ガス処理では、HCl濃度測定部401により、排ガス中のHCl濃度が測定される(ステップS11)。また、第1薬剤供給部42aにより薬剤供給位置P1に消石灰および特殊助剤を含む排ガス処理薬剤が供給される(ステップS12)。このとき、薬剤供給位置P1への排ガス処理薬剤の供給量(単位時間当たりの供給量)は、第1薬剤圧送部423aおよび定量供給部425,426の出力を調整することにより制御することが可能である。制御部40では、HCl濃度測定部401により取得されるHCl濃度が所定の設定値よりも高い場合に、薬剤供給位置P1への排ガス処理薬剤の供給量が増加され、HCl濃度が所定の設定値よりも低い場合に、薬剤供給位置P1への排ガス処理薬剤の供給量が減少されることが好ましい。   FIG. 3 is a diagram showing the flow of exhaust gas treatment in the exhaust gas treatment device 4. In the exhaust gas treatment in the exhaust gas treatment device 4, the HCl concentration measurement unit 401 measures the HCl concentration in the exhaust gas (step S11). Further, the exhaust gas treatment chemical containing slaked lime and special auxiliary agent is supplied to the chemical supply position P1 by the first chemical supply unit 42a (step S12). At this time, the supply amount (supply amount per unit time) of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 can be controlled by adjusting the outputs of the first chemical pumping unit 423a and the quantitative supply units 425 and 426. It is. In the control unit 40, when the HCl concentration acquired by the HCl concentration measuring unit 401 is higher than a predetermined set value, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 is increased, and the HCl concentration is set to the predetermined set value. If lower than that, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 is preferably reduced.

薬剤供給位置P1に供給される消石灰では、その表面において、消石灰と塩化水素との反応物(CaCl)が形成される。消石灰は、排ガスと共に減温塔41内に流入するため、消石灰表面の水分濃度が高くなる。さらには、水への溶解度が大きい表面の反応物が、減温塔41内に噴霧される水に溶解して流される、すなわち、消石灰の表面から除去され、未反応の消石灰が表面に表れる。これにより、消石灰表面における反応物による反応速度の低下が抑制される。したがって、煙道3において燃焼室2と減温塔41との間の薬剤供給位置P1に消石灰を供給する排ガス処理装置4では、脱塩反応の効率を向上する(少ない消石灰でHCl濃度を低下させる)ことが可能となる。排ガス処理薬剤が、水酸化ドロマイト等の他のカルシウム系薬剤を含む場合も同様に、当該他のカルシウム系薬剤の表面に形成される塩化水素との反応物は、減温塔41内に噴霧される水により除去され、当該他のカルシウム系薬剤における反応速度の低下が抑制される。In the slaked lime supplied to the chemical supply position P1, a reaction product (CaCl 2 ) of slaked lime and hydrogen chloride is formed on the surface. Since slaked lime flows into the temperature reducing tower 41 together with the exhaust gas, the moisture concentration on the surface of the slaked lime increases. Furthermore, the reactant on the surface having a high solubility in water is dissolved in the water sprayed into the temperature reducing tower 41, that is, is removed from the surface of the slaked lime, and unreacted slaked lime appears on the surface. Thereby, the fall of the reaction rate by the reaction material in the slaked lime surface is suppressed. Therefore, in the exhaust gas treatment device 4 that supplies slaked lime to the chemical supply position P1 between the combustion chamber 2 and the temperature reducing tower 41 in the flue 3, the efficiency of the desalting reaction is improved (the HCl concentration is reduced with less slaked lime). ) Is possible. Similarly, when the exhaust gas treatment chemical contains another calcium chemical such as dolomite hydroxide, the reaction product with hydrogen chloride formed on the surface of the other calcium chemical is sprayed into the temperature reducing tower 41. And the decrease in reaction rate in the other calcium-based drug is suppressed.

ステップS12に並行して、補助供給位置P2にも第2薬剤供給部42bにより消石灰および特殊助剤を含む排ガス処理薬剤が供給される(ステップS13)。このとき、補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給量は、第2薬剤圧送部423bおよび定量供給部425,426の出力を調整することにより制御することが可能である。制御部40では、補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給量が上記HCl濃度に基づいて増減される。すなわち、HCl濃度が所定値以上となる場合に、HCl濃度が所定値未満である時よりも第2薬剤供給部42bによる補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給量が増大される。特に、高塩素含有廃棄物が焼却された時に排ガス中の塩素濃度が急上昇し、第1薬剤供給部42aの制御のみでは対処ができなくなる場合に、制御部40により、第2薬剤供給部42bによる補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給量が増大される。ステップS13では、HCl濃度が所定値未満である時を通常時として、通常時に第2薬剤供給部42bによる補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給量が0であり、HCl濃度が所定値以上となる異常時に補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給が開始されてもよい。   In parallel with step S12, the second chemical supply unit 42b supplies the exhaust gas treatment chemical containing slaked lime and special auxiliary agent to the auxiliary supply position P2 (step S13). At this time, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 can be controlled by adjusting the outputs of the second chemical pumping unit 423b and the quantitative supply units 425 and 426. In the control unit 40, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 is increased or decreased based on the HCl concentration. That is, when the HCl concentration is equal to or higher than the predetermined value, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 by the second chemical supply unit 42b is increased more than when the HCl concentration is less than the predetermined value. In particular, when high chlorine content waste is incinerated, the chlorine concentration in the exhaust gas rapidly rises, and when the control by the first chemical supply unit 42a cannot be dealt with, the control unit 40 causes the second chemical supply unit 42b to The supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 is increased. In step S13, when the HCl concentration is less than a predetermined value, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 by the second chemical supply unit 42b is 0 and the HCl concentration is equal to or higher than the predetermined value. The supply of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 may be started when an abnormality occurs.

図2の排ガス処理装置4では、HCl濃度の測定(ステップS11)、第1薬剤供給部42aによる排ガス処理薬剤の供給(ステップS12)、および、第2薬剤供給部42bによる排ガス処理薬剤の供給(ステップS13)は、原則として、互いに並行して継続的に行われる。なお、薬剤供給位置P1または補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給は、一時的に停止されてもよい。   In the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 2, measurement of HCl concentration (step S11), supply of exhaust gas treatment chemical by the first chemical supply unit 42a (step S12), and supply of exhaust gas treatment chemical by the second chemical supply unit 42b (step S12). Step S13) is in principle performed continuously in parallel with each other. The supply of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 or the auxiliary supply position P2 may be temporarily stopped.

ここで、煙道3における燃焼室2と減温塔41との間の薬剤供給位置P1のみに排ガス処理薬剤を供給する第1比較例の排ガス処理装置、および、減温塔41と集塵機43との間の補助供給位置P2のみに排ガス処理薬剤を供給する第2比較例の排ガス処理装置を想定する。図4は、第1および第2比較例の排ガス処理装置における脱塩率と当量比との関係を示す図であり、ここでは、煙突52におけるHCl濃度が所定値になるように排ガス処理薬剤の供給量を制御した。図4では、破線L21が第1比較例の排ガス処理装置における脱塩率と当量比との関係を示し、実線L22が第2比較例の排ガス処理装置における脱塩率と当量比との関係を示す。なお、当量比は、実際に供給した消石灰の量と、排ガス中の塩化水素および硫黄酸化物を完全に除去するために理論上必要な消石灰の量との比の値であり、消石灰の供給量の過剰度合いを示す指標である。また、脱塩率は、排ガス処理装置により除去された塩化水素の量の、処理前の塩化水素の量に対する割合である。例えば、脱塩率は、(1−(脱塩後における塩化水素の量)/(脱塩前における塩化水素の量))により求められる。   Here, the exhaust gas treatment device of the first comparative example that supplies the exhaust gas treatment chemical only to the chemical supply position P 1 between the combustion chamber 2 and the temperature reduction tower 41 in the flue 3, the temperature reduction tower 41 and the dust collector 43, Assume an exhaust gas treatment apparatus of a second comparative example that supplies an exhaust gas treatment chemical only to the auxiliary supply position P2 between the two. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the desalination rate and the equivalence ratio in the exhaust gas treatment apparatuses of the first and second comparative examples. Here, the exhaust gas treatment chemicals are adjusted so that the HCl concentration in the chimney 52 becomes a predetermined value. The supply amount was controlled. In FIG. 4, the broken line L21 shows the relationship between the desalination rate and the equivalence ratio in the exhaust gas treatment device of the first comparative example, and the solid line L22 shows the relationship between the desalination rate and the equivalence ratio in the exhaust gas treatment device of the second comparative example. Show. The equivalence ratio is a value of a ratio between the amount of slaked lime actually supplied and the amount of slaked lime theoretically necessary to completely remove hydrogen chloride and sulfur oxide in the exhaust gas. It is an index indicating the degree of excess. The desalination rate is the ratio of the amount of hydrogen chloride removed by the exhaust gas treatment device to the amount of hydrogen chloride before treatment. For example, the desalting rate is obtained by (1- (amount of hydrogen chloride after desalting) / (amount of hydrogen chloride before desalting)).

第2比較例の排ガス処理装置では、粉末状の消石灰の表面において、消石灰と塩化水素との反応物が形成されるため、塩化水素との新たな反応が生じにくくなる。したがって、所定の脱塩率を得るには、煙道3中に供給する消石灰の量を増加する必要がある。これに対し、第1比較例の排ガス処理装置では、消石灰表面の水分濃度が高くなるため、さらには、消石灰の表面の反応物が、減温塔41内に噴霧される水により除去されるため、同じ当量比で比較した場合に、第2比較例の排ガス処理装置に比べて、高い脱塩率が得られる。このように、燃焼室2と減温塔41との間の薬剤供給位置P1に排ガス処理薬剤を供給することにより、脱塩処理を効率よく行うことが可能である。   In the exhaust gas treatment apparatus of the second comparative example, a reaction product of slaked lime and hydrogen chloride is formed on the surface of the powdered slaked lime, so that a new reaction with hydrogen chloride hardly occurs. Therefore, in order to obtain a predetermined desalination rate, it is necessary to increase the amount of slaked lime supplied into the flue 3. On the other hand, in the exhaust gas treatment apparatus of the first comparative example, the moisture concentration on the surface of the slaked lime becomes high, and further, the reactant on the surface of the slaked lime is removed by the water sprayed in the temperature reducing tower 41. When compared with the same equivalent ratio, a higher desalting rate is obtained as compared with the exhaust gas treatment apparatus of the second comparative example. In this way, by supplying the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 between the combustion chamber 2 and the temperature reducing tower 41, it is possible to efficiently perform the desalting treatment.

図2の排ガス処理装置4では、第1薬剤供給部42aにより、燃焼室2と減温塔41との間の薬剤供給位置P1に、消石灰を含む排ガス処理薬剤が供給される。これにより、通常時において、消石灰を効率よく用いて脱塩性能を向上させることができる。その結果、排ガス処理装置4を有する焼却設備1では、消石灰の効率的な使用(消石灰の使用量の削減)によりランニングコストを削減することができる。排ガス処理薬剤が、他のカルシウム系薬剤を含む場合も同様である。   In the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 2, the exhaust gas treatment chemical containing slaked lime is supplied to the chemical supply position P1 between the combustion chamber 2 and the temperature reducing tower 41 by the first chemical supply unit 42a. Thereby, in normal time, desalination performance can be improved by using slaked lime efficiently. As a result, in the incineration facility 1 having the exhaust gas treatment device 4, the running cost can be reduced by the efficient use of slaked lime (reduction in the amount of slaked lime used). The same applies when the exhaust gas treatment chemical contains other calcium-based chemicals.

ところで、都市ごみは不均一であり、例えば、高塩素含有のごみ(高塩素含有廃棄物)が燃焼室2内に投入されると、排ガスにおけるHCl濃度が急激に上昇する。このような場合でも、第1薬剤供給部42aに加えて、第2薬剤供給部42bを有する排ガス処理装置4では、HCl濃度測定部401により取得されるHCl濃度に基づいて、第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bの双方が制御され、薬剤供給位置P1および補助供給位置P2の双方に対する排ガス処理薬剤の供給量が増大される。換言すると、排ガス処理装置4では、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、第1薬剤供給部42aのみならず第2薬剤供給部42bによる排ガス処理薬剤の供給量が増大される。これにより、異常時に適切に対処する、すなわち、HCl濃度の急激な上昇を短時間で抑制することが可能となり、煙突52から排出される排ガス中のHCl濃度を安定させることができる。   By the way, municipal waste is uneven. For example, when high chlorine content waste (high chlorine content waste) is introduced into the combustion chamber 2, the HCl concentration in the exhaust gas rapidly increases. Even in such a case, in the exhaust gas treatment device 4 having the second drug supply unit 42b in addition to the first drug supply unit 42a, the first drug supply unit is based on the HCl concentration acquired by the HCl concentration measurement unit 401. Both the 42a and the second chemical supply unit 42b are controlled, and the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to both the chemical supply position P1 and the auxiliary supply position P2 is increased. In other words, in the exhaust gas treatment device 4, the supply amount of the exhaust gas treatment chemicals by the second chemical supply unit 42 b as well as the first chemical supply unit 42 a is increased at the time when the HCl concentration becomes a predetermined value or more. Accordingly, it is possible to appropriately cope with an abnormality, that is, it is possible to suppress a rapid increase in HCl concentration in a short time, and to stabilize the HCl concentration in the exhaust gas discharged from the chimney 52.

また、HCl濃度に基づく第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bの制御により、排ガス処理薬剤を効率よく使用して、排ガス処理装置4のランニングコストを削減することができる。排ガス処理装置4では、第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bが、消石灰を貯留する消石灰貯留部421を共有することにより、排ガス処理装置4の構造を簡素化することができる(特殊助剤貯留部422についても同様である。)。   In addition, by controlling the first chemical supply unit 42a and the second chemical supply unit 42b based on the HCl concentration, the exhaust gas treatment chemical can be used efficiently, and the running cost of the exhaust gas treatment device 4 can be reduced. In the exhaust gas treatment device 4, the first chemical supply unit 42a and the second chemical supply unit 42b share the slaked lime storage unit 421 that stores slaked lime, thereby simplifying the structure of the exhaust gas treatment device 4 (special The same applies to the auxiliary agent storage unit 422.)

(第2実施形態)
図5は、本発明の第2実施形態に係る排ガス処理装置4を示す図である。図5の排ガス処理装置4では、第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bにおいて、消石灰を貯留する消石灰貯留部421a,421bが個別に設けられ、特殊助剤を貯留する特殊助剤貯留部422a,422bも個別に設けられる。また、薬剤供給位置P1が、減温塔41内に設定され、第1薬剤供給部42aにより減温塔41内に排ガス処理薬剤が供給される。他の構成は、図2と同様であり、同じ構成に同じ符号を付す。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a view showing an exhaust gas treatment device 4 according to the second embodiment of the present invention. In the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 5, in the first chemical supply unit 42a and the second chemical supply unit 42b, slaked lime storage units 421a and 421b for storing slaked lime are individually provided, and special auxiliary agent storage for storing special auxiliary agents. The parts 422a and 422b are also provided individually. Further, the chemical supply position P1 is set in the temperature reduction tower 41, and the exhaust gas treatment chemical is supplied into the temperature reduction tower 41 by the first chemical supply unit 42a. Other configurations are the same as those in FIG. 2, and the same reference numerals are given to the same configurations.

排ガス処理装置4では、第1薬剤供給部42aが、消石灰貯留部421aと、特殊助剤貯留部422aと、第1薬剤圧送部423aと、第1薬剤供給ライン424aと、定量供給部425a,426aとを含む。第1薬剤供給ライン424aの一端は、第1薬剤圧送部423aに接続され、他端は、薬剤供給位置P1に接続される。消石灰貯留部421a内の消石灰は、定量供給部425aを介して第1薬剤供給ライン424a内に供給され、特殊助剤貯留部422a内の特殊助剤は、定量供給部426aを介して第1薬剤供給ライン424a内に供給される。これにより、消石灰および特殊助剤を含む排ガス処理薬剤が、減温塔41内の薬剤供給位置P1に供給される。   In the exhaust gas treatment device 4, the first chemical supply unit 42a includes a slaked lime storage unit 421a, a special auxiliary agent storage unit 422a, a first chemical pumping unit 423a, a first chemical supply line 424a, and quantitative supply units 425a and 426a. Including. One end of the first medicine supply line 424a is connected to the first medicine pumping unit 423a, and the other end is connected to the medicine supply position P1. The slaked lime in the slaked lime storage unit 421a is supplied into the first drug supply line 424a through the fixed amount supply unit 425a, and the special auxiliary agent in the special auxiliary agent storage unit 422a is the first drug through the fixed amount supply unit 426a. It is supplied into the supply line 424a. As a result, the exhaust gas treatment chemical containing slaked lime and special auxiliary agent is supplied to the chemical supply position P <b> 1 in the temperature reducing tower 41.

第2薬剤供給部42bは、消石灰貯留部421bと、特殊助剤貯留部422bと、第2薬剤圧送部423bと、第2薬剤供給ライン424bと、定量供給部425b,426bとを含む。第2薬剤供給ライン424bの一端は、第2薬剤圧送部423bに接続され、他端は、補助供給位置P2に接続される。消石灰貯留部421b内の消石灰は、定量供給部425bを介して第2薬剤供給ライン424b内に供給され、特殊助剤貯留部422b内の特殊助剤は、定量供給部426bを介して第2薬剤供給ライン424b内に供給される。これにより、消石灰および特殊助剤を含む排ガス処理薬剤が、煙道3内の補助供給位置P2に供給される。   The second drug supply unit 42b includes a slaked lime storage unit 421b, a special auxiliary agent storage unit 422b, a second drug pumping unit 423b, a second drug supply line 424b, and quantitative supply units 425b and 426b. One end of the second drug supply line 424b is connected to the second drug pumping unit 423b, and the other end is connected to the auxiliary supply position P2. The slaked lime in the slaked lime storage unit 421b is supplied into the second drug supply line 424b via the fixed amount supply unit 425b, and the special auxiliary agent in the special auxiliary agent storage unit 422b is supplied to the second drug through the fixed amount supply unit 426b. It is supplied into the supply line 424b. As a result, the exhaust gas treatment chemical containing slaked lime and special auxiliary agent is supplied to the auxiliary supply position P <b> 2 in the flue 3.

第1および第2薬剤供給部42a,42bにおいて、消石灰貯留部421a,421bが個別に設けられる排ガス処理装置4では、薬剤供給位置P1への消石灰の供給量と、補助供給位置P2への消石灰の供給量とを、図2の排ガス処理装置4に比べて、高い自由度で変更することができる(特殊助剤の供給量についても同様である。)。好ましい排ガス処理装置4では、通常時において第1薬剤供給部42aによる消石灰の供給量が、第2薬剤供給部42bによる消石灰の供給量よりも多い。なお、図2の排ガス処理装置4と同様に、図5の排ガス処理装置4において薬剤供給位置P1が、煙道3における減温塔41よりも上流側に設定されてもよい。また、図2の排ガス処理装置4において、薬剤供給位置P1が減温塔41内に設定されてもよい。   In the exhaust gas treatment device 4 in which the slaked lime reservoirs 421a and 421b are individually provided in the first and second drug supply units 42a and 42b, the supply amount of slaked lime to the drug supply position P1 and the slaked lime to the auxiliary supply position P2 The supply amount can be changed with a higher degree of freedom than the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 2 (the same applies to the supply amount of the special auxiliary agent). In the preferred exhaust gas treatment device 4, the supply amount of slaked lime by the first chemical supply unit 42a is larger than the supply amount of slaked lime by the second chemical supply unit 42b in normal times. 2, the chemical supply position P1 may be set upstream of the temperature reducing tower 41 in the flue 3 in the exhaust gas treatment device 4 of FIG. In the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 2, the chemical supply position P <b> 1 may be set in the temperature reducing tower 41.

図5の排ガス処理装置4においても、HCl濃度測定部401により取得されるHCl濃度に基づいて、第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bの双方が制御されることにより、HCl濃度が所定値以上となる異常時に適切に対処することができる。排ガス処理装置4では、第1薬剤供給部42aにより薬剤供給位置P1に一定量の排ガス処理薬剤が供給され、第2薬剤供給部42bによる補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給量のみがHCl濃度に基づいて制御されてもよい。この場合も、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、HCl濃度が所定値未満である時よりも第2薬剤供給部42bによる補助供給位置P2への排ガス処理薬剤の供給量を増大して、適切に対処することが可能となる。   Also in the exhaust gas treatment apparatus 4 of FIG. 5, the HCl concentration is reduced by controlling both the first chemical supply unit 42 a and the second chemical supply unit 42 b based on the HCl concentration acquired by the HCl concentration measurement unit 401. It is possible to appropriately cope with an abnormality that exceeds a predetermined value. In the exhaust gas treatment device 4, a certain amount of exhaust gas treatment chemical is supplied to the chemical supply position P1 by the first chemical supply unit 42a, and only the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 by the second chemical supply unit 42b is HCl. It may be controlled based on the concentration. Also in this case, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 by the second chemical supply unit 42b is increased more than when the HCl concentration is less than the predetermined value at an abnormal time when the HCl concentration is equal to or higher than the predetermined value, It becomes possible to deal appropriately.

また、第2薬剤供給部42bにより補助供給位置P2に一定量の排ガス処理薬剤が供給され、第1薬剤供給部42aによる薬剤供給位置P1への排ガス処理薬剤の供給量のみがHCl濃度に基づいて制御されてもよい。この場合も、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、第2薬剤供給部42bにより補助供給位置P2に排ガス処理薬剤を供給しつつ、HCl濃度が所定値未満である時よりも第1薬剤供給部42aによる薬剤供給位置P1への排ガス処理薬剤の供給量を増大して、適切に対処することが可能となる。第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bが薬剤の貯留部を含む排ガス処理装置4では、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bの双方による排ガス処理薬剤の供給を行いつつ、HCl濃度が所定値未満である通常時よりも、両者による排ガス処理薬剤の供給量の和が増大される。これにより、排ガス中のHCl濃度を安定させることが可能となる(図2の排ガス処理装置4において同様)。   Further, a certain amount of exhaust gas treatment chemical is supplied to the auxiliary supply position P2 by the second chemical supply unit 42b, and only the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 by the first chemical supply unit 42a is based on the HCl concentration. It may be controlled. Also in this case, the first chemical supply is performed when the HCl concentration is less than the predetermined value while supplying the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position P2 by the second chemical supply unit 42b at the time of an abnormality in which the HCl concentration becomes a predetermined value or more. The supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position P1 by the unit 42a can be increased to appropriately cope with it. In the exhaust gas treatment device 4 in which the first drug supply unit 42a and the second drug supply unit 42b include a drug storage unit, the first drug supply unit 42a and the second drug supply unit 42b are in an abnormal state when the HCl concentration becomes a predetermined value or more. While the exhaust gas treatment chemicals are supplied by both of them, the sum of the supply amounts of the exhaust gas treatment chemicals by both is increased as compared with the normal time when the HCl concentration is less than the predetermined value. This makes it possible to stabilize the HCl concentration in the exhaust gas (the same applies to the exhaust gas treatment device 4 in FIG. 2).

(第3実施形態)
図6は、本発明の第3実施形態に係る排ガス処理装置4を示す図である。図6の排ガス処理装置4では、図5の排ガス処理装置4における第2薬剤供給部42bに代えて、集塵灰搬送部44が設けられるとともに、薬剤供給位置P1が、煙道3における減温塔41よりも上流側に設定される。
(Third embodiment)
FIG. 6 is a view showing an exhaust gas treatment device 4 according to the third embodiment of the present invention. In the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 6, a dust collection ash transport unit 44 is provided instead of the second chemical supply unit 42 b in the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 5, and the temperature of the chemical supply position P <b> 1 is reduced in the flue 3. It is set upstream of the tower 41.

集塵灰搬送部44は、補助経路441と、集塵灰分配部45と、集塵灰貯留部442と、定量供給部443と、供給コンベア46と、シュート部444とを備える。補助経路441は、煙道3における減温塔41と集塵機43との間の位置(すなわち、補助供給位置P2)と、集塵機43の下部とを接続する。図6では、補助経路441を細い実線にて示している。補助経路441は、煙道3とは異なる経路である。補助経路441において、集塵機43から補助供給位置P2に向かって順に、集塵灰分配部45、集塵灰貯留部442、定量供給部443、供給コンベア46、シュート部444が設けられる。   The dust collection ash transport unit 44 includes an auxiliary path 441, a dust collection ash distribution unit 45, a dust collection ash storage unit 442, a quantitative supply unit 443, a supply conveyor 46, and a chute unit 444. The auxiliary path 441 connects the position between the temperature reducing tower 41 and the dust collector 43 in the flue 3 (that is, the auxiliary supply position P <b> 2) and the lower portion of the dust collector 43. In FIG. 6, the auxiliary path 441 is indicated by a thin solid line. The auxiliary path 441 is a path different from the flue 3. In the auxiliary path 441, a dust collection ash distribution unit 45, a dust collection ash storage unit 442, a fixed amount supply unit 443, a supply conveyor 46, and a chute unit 444 are provided in order from the dust collector 43 toward the auxiliary supply position P2.

集塵灰分配部45は、集塵機43において、ろ布から払い落とされた飛灰および排ガス処理薬剤(以下、「集塵灰」と総称する。)を、集塵灰貯留部442と、集塵灰処理部49とに分配供給する。詳細には、集塵灰分配部45は、コンベア451と、ゲート452とを有する。コンベア451は、例えばフライトコンベア(スクレーパコンベアとも呼ばれる。)である。ゲート452は、コンベア451による集塵灰の搬送経路に設けられる。集塵灰貯留部442におけるレベル計(図示省略)により取得される集塵灰の貯留量が所定量未満である場合に、ゲート452が開かれ、集塵灰貯留部442に集塵灰が供給される。集塵灰貯留部442における集塵灰の貯留量が所定量以上である場合に、ゲート452が閉じられ、集塵灰処理部49に集塵灰が供給される。このように、集塵灰分配部45では、集塵灰貯留部442における集塵灰の貯留量がおよそ一定となるように、集塵機43からの集塵灰が、ゲート452の開閉により集塵灰貯留部442と集塵灰処理部49とに分配される。   The dust collection ash distribution unit 45 collects the fly ash and exhaust gas treatment chemicals (hereinafter collectively referred to as “dust collection ash”) that have been removed from the filter cloth in the dust collector 43 and the dust collection ash storage unit 442 and the dust collection unit. Distribute and supply to the ash treatment unit 49. Specifically, the dust collection ash distribution unit 45 includes a conveyor 451 and a gate 452. The conveyor 451 is, for example, a flight conveyor (also called a scraper conveyor). The gate 452 is provided in the dust collection ash conveyance path by the conveyor 451. When the amount of dust collection ash stored by the level meter (not shown) in the dust collection ash storage unit 442 is less than a predetermined amount, the gate 452 is opened and the dust collection ash is supplied to the dust collection ash storage unit 442. Is done. When the amount of dust collection ash stored in the dust collection ash storage unit 442 is greater than or equal to a predetermined amount, the gate 452 is closed and the dust collection ash is supplied to the dust collection ash processing unit 49. Thus, in the dust collection ash distribution unit 45, the dust collection ash from the dust collector 43 is collected by opening and closing the gate 452 so that the amount of dust collection ash stored in the dust collection ash storage unit 442 is approximately constant. It is distributed to the storage unit 442 and the dust collection ash processing unit 49.

集塵灰貯留部442の下部には、定量供給部443が取り付けられる。定量供給部443は、例えばテーブルフィーダであり、単位時間当たりに設定量の集塵灰を集塵灰貯留部442から取り出す。定量供給部443は、供給コンベア46に接続され、集塵灰貯留部442から取り出された集塵灰は、供給コンベア46内に供給される。供給コンベア46は、例えばフライトコンベアであり、集塵灰貯留部442の下方から煙道3における補助供給位置P2の上方までのコンベア搬送経路に沿って集塵灰を搬送する。コンベア搬送経路は、既述の補助経路441の一部である。シュート部444は、補助供給位置P2の上方に設けられ、供給コンベア46により搬送された集塵灰が、シュート部444を介して補助供給位置P2に供給される。既述のように、集塵灰は排ガス処理薬剤を含む。したがって、集塵灰搬送部44は、補助供給位置P2に、消石灰を含む排ガス処理薬剤を供給可能な第2薬剤供給部であるといえる。   A fixed amount supply unit 443 is attached to the lower part of the dust collection ash storage unit 442. The fixed amount supply unit 443 is, for example, a table feeder, and takes out a set amount of dust collection ash from the dust collection ash storage unit 442 per unit time. The fixed amount supply unit 443 is connected to the supply conveyor 46, and the dust collection ash taken out from the dust collection ash storage unit 442 is supplied into the supply conveyor 46. The supply conveyor 46 is a flight conveyor, for example, and conveys the dust collection ash along a conveyor conveyance path from below the dust collection ash storage unit 442 to above the auxiliary supply position P <b> 2 in the flue 3. The conveyor conveyance path is a part of the auxiliary path 441 described above. The chute part 444 is provided above the auxiliary supply position P2, and the dust collection ash conveyed by the supply conveyor 46 is supplied to the auxiliary supply position P2 via the chute part 444. As described above, the dust collection ash contains the exhaust gas treatment chemical. Therefore, it can be said that the dust collection ash transport unit 44 is a second chemical supply unit capable of supplying an exhaust gas treatment chemical containing slaked lime to the auxiliary supply position P2.

制御部40による第1薬剤供給部42aおよび集塵灰搬送部44の制御は、図2および図5の排ガス処理装置4における第1薬剤供給部42aおよび第2薬剤供給部42bに対する制御と同様である。したがって、HCl濃度が所定値以上となる場合に、HCl濃度が所定値未満である時よりも集塵灰搬送部44による補助供給位置P2への集塵灰の供給量が増大される。または、HCl濃度が所定値以上となる場合に、集塵灰搬送部44により補助供給位置P2に集塵灰を供給しつつ、HCl濃度が所定値未満である時よりも第1薬剤供給部42aによる薬剤供給位置P1への排ガス処理薬剤の供給量が増大される。   The control of the first chemical supply unit 42a and the dust collection ash transport unit 44 by the control unit 40 is the same as the control for the first chemical supply unit 42a and the second chemical supply unit 42b in the exhaust gas treatment device 4 of FIGS. is there. Therefore, when the HCl concentration is equal to or higher than the predetermined value, the supply amount of the dust collection ash to the auxiliary supply position P2 by the dust collection ash transport unit 44 is increased more than when the HCl concentration is less than the predetermined value. Alternatively, when the HCl concentration is equal to or higher than the predetermined value, the first chemical supply unit 42a is supplied more than when the HCl concentration is less than the predetermined value while supplying the dust collection ash to the auxiliary supply position P2 by the dust collection ash transport unit 44. The amount of the exhaust gas treatment chemical supplied to the chemical supply position P1 is increased.

以上のように、図6の排ガス処理装置4では、第1薬剤供給部42aにより、燃焼室2と減温塔41との間の薬剤供給位置P1に、未使用の排ガス処理薬剤が供給される。これにより、通常時において、消石灰を効率よく用いて脱塩性能を向上させることができる。また、集塵灰搬送部44により、補助供給位置P2に、消石灰を含む集塵灰が供給される。このように、集塵機43にて捕集された集塵灰を排ガス処理薬剤として用いることにより、第1薬剤供給部42aにおける排ガス処理薬剤の使用量(すなわち、飛灰が混在していない排ガス処理薬剤の使用量)を低減することができる。さらに、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、第1薬剤供給部42aによる排ガス処理薬剤の供給、および、集塵灰搬送部44による集塵灰の供給を行いつつ、第1薬剤供給部42aによる排ガス処理薬剤の供給量、および、集塵灰搬送部44による集塵灰の供給量の双方または一方が、HCl濃度が所定値未満である通常時よりも増大される。これにより、異常時に適切に対処することができる。   As described above, in the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 6, the unused exhaust gas treatment chemical is supplied to the chemical supply position P1 between the combustion chamber 2 and the temperature reducing tower 41 by the first chemical supply unit 42a. . Thereby, in normal time, desalination performance can be improved by using slaked lime efficiently. Further, the dust collection ash transport unit 44 supplies dust collection ash containing slaked lime to the auxiliary supply position P2. Thus, by using the dust ash collected by the dust collector 43 as the exhaust gas treatment chemical, the amount of exhaust gas treatment chemical used in the first chemical supply unit 42a (that is, the exhaust gas treatment chemical in which fly ash is not mixed) Use amount) can be reduced. In addition, when the HCl concentration becomes a predetermined value or more, the first chemical supply unit 42a supplies the exhaust gas treatment chemical by the first chemical supply unit 42a and supplies the dust collection ash by the dust collection ash transport unit 44. Both or one of the supply amount of the exhaust gas treatment chemical by and the supply amount of dust collection ash by the dust collection ash transport unit 44 is increased from the normal time when the HCl concentration is less than a predetermined value. Thereby, it is possible to appropriately cope with an abnormality.

集塵灰搬送部44では、空気等のキャリアガスを利用して、集塵灰が補助供給位置P2に搬送されてもよい。また、図6の排ガス処理装置4において、薬剤供給位置P1が、減温塔41内に設定され、第1薬剤供給部42aにより減温塔41内に排ガス処理薬剤が供給されてもよい(後述の図7および図8の排ガス処理装置4において同様)。   In the dust collection ash transport unit 44, the dust collection ash may be transported to the auxiliary supply position P2 using a carrier gas such as air. Further, in the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 6, the chemical supply position P1 may be set in the temperature reduction tower 41, and the exhaust gas treatment chemical may be supplied into the temperature reduction tower 41 by the first chemical supply unit 42a (described later). The same applies to the exhaust gas treatment device 4 of FIGS. 7 and 8).

(第4実施形態)
図7は、本発明の第4実施形態に係る排ガス処理装置4を示す図である。図7の排ガス処理装置4では、図6の排ガス処理装置4における補助供給位置P2が、煙道3における減温塔41よりも上流側、すなわち、燃焼室2と減温塔41との間に設定される。他の構成は、図6の排ガス処理装置4と同様であり、同じ構成に同じ符号を付している。
(Fourth embodiment)
FIG. 7 is a view showing an exhaust gas treatment device 4 according to the fourth embodiment of the present invention. In the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 7, the auxiliary supply position P <b> 2 in the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 6 is upstream of the temperature reduction tower 41 in the flue 3, that is, between the combustion chamber 2 and the temperature reduction tower 41. Is set. Other configurations are the same as those of the exhaust gas treatment apparatus 4 of FIG. 6, and the same components are denoted by the same reference numerals.

図7の排ガス処理装置4においても、第1薬剤供給部42aにより、燃焼室2と減温塔41との間の薬剤供給位置P1に未使用の排ガス処理薬剤が供給されることにより、通常時において脱塩処理を効率よく行うことができる。また、集塵灰搬送部44が、第2薬剤供給部として、消石灰を含む集塵灰を煙道3に供給することにより、第1薬剤供給部42aにおける排ガス処理薬剤の使用量を低減することができる。さらに、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、第1薬剤供給部42aによる排ガス処理薬剤の供給量、および、集塵灰搬送部44による集塵灰の供給量の双方または一方を、HCl濃度が所定値未満である通常時よりも増大することにより、異常時に適切に対処することができる。図2、並びに、図5ないし図7を参照して説明したように、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、HCl濃度の急激な上昇を抑制するという観点では、補助供給位置P2は、煙道3において、排ガスの発生源である燃焼室2と集塵機43との間に設けられていればよい。   Also in the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 7, when the unused exhaust gas treatment chemical is supplied to the chemical supply position P1 between the combustion chamber 2 and the temperature reducing tower 41 by the first chemical supply unit 42a, In this case, desalting can be performed efficiently. Moreover, dust collection ash conveyance part 44 reduces the usage-amount of the waste gas processing chemical | medical agent in the 1st chemical | medical agent supply part 42a by supplying the dust collection ash containing slaked lime to the flue 3 as a 2nd chemical | medical agent supply part. Can do. Further, at the time of abnormality when the HCl concentration becomes a predetermined value or more, both or one of the supply amount of the exhaust gas treatment chemical by the first chemical supply unit 42a and the supply amount of the dust collection ash by the dust collection ash transport unit 44 are changed to the HCl concentration. Is increased from the normal time when it is less than the predetermined value, it is possible to appropriately cope with an abnormal time. As described with reference to FIG. 2 and FIG. 5 to FIG. 7, from the viewpoint of suppressing a rapid increase in the HCl concentration at an abnormal time when the HCl concentration exceeds a predetermined value, the auxiliary supply position P2 On the road 3, it is only necessary to be provided between the combustion chamber 2, which is a source of exhaust gas, and the dust collector 43.

(第5実施形態)
図8は、本発明の第5実施形態に係る排ガス処理装置4を示す図である。図8の排ガス処理装置では、集塵灰搬送部44において2つの補助供給位置P2が設定される。一方の補助供給位置P2は、煙道3における燃焼室2と減温塔41との間であり、他方の補助供給位置P2は、減温塔41と集塵機43との間である。
(Fifth embodiment)
FIG. 8 is a view showing an exhaust gas treatment device 4 according to the fifth embodiment of the present invention. In the exhaust gas treatment apparatus of FIG. 8, two auxiliary supply positions P <b> 2 are set in the dust collection ash transport unit 44. One auxiliary supply position P <b> 2 is between the combustion chamber 2 and the temperature reduction tower 41 in the flue 3, and the other auxiliary supply position P <b> 2 is between the temperature reduction tower 41 and the dust collector 43.

図8の集塵灰搬送部44では、図6の集塵灰搬送部44に対して、供給コンベア47およびシュート部445が追加される。供給コンベア47は、供給コンベア46の所定位置に接続され、当該位置から、上記一方の補助供給位置P2の上方へと連続する。これにより、上記一方の補助供給位置P2に、供給コンベア46の一部、供給コンベア47およびシュート部445を用いて集塵灰が供給可能である。上記他方の補助供給位置P2には、供給コンベア46およびシュート部444を用いて集塵灰が供給可能である。図8の排ガス処理装置4においても、集塵灰搬送部44が、第2薬剤供給部として、消石灰を含む集塵灰を煙道3に供給することにより、第1薬剤供給部42aにおける排ガス処理薬剤の使用量を低減することができる。また、HCl濃度が所定値以上となる異常時に、第1薬剤供給部42aによる排ガス処理薬剤の供給量、および、集塵灰搬送部44による集塵灰の供給量の双方または一方を増大することにより、適切に対処することができる。   In the dust collection ash transport unit 44 of FIG. 8, a supply conveyor 47 and a chute unit 445 are added to the dust collection ash transport unit 44 of FIG. The supply conveyor 47 is connected to a predetermined position of the supply conveyor 46, and continues from the position above the one auxiliary supply position P2. Thus, dust ash can be supplied to the one auxiliary supply position P <b> 2 using a part of the supply conveyor 46, the supply conveyor 47 and the chute 445. Dust ash can be supplied to the other auxiliary supply position P <b> 2 using the supply conveyor 46 and the chute 444. Also in the exhaust gas treatment device 4 of FIG. 8, the dust collection ash transport unit 44 supplies the dust collection ash containing slaked lime to the flue 3 as the second chemical supply unit, whereby the exhaust gas treatment in the first chemical supply unit 42a. The amount of medicine used can be reduced. Further, at the time of an abnormality in which the HCl concentration becomes a predetermined value or more, both or one of the supply amount of the exhaust gas treatment chemical by the first chemical supply unit 42a and the supply amount of the dust collection ash by the dust collection ash transport unit 44 are increased. Therefore, it is possible to cope with it appropriately.

(変形例)
上記排ガス処理装置の実施形態では様々な変形が可能である。
(Modification)
Various modifications are possible in the embodiment of the exhaust gas treatment apparatus.

HCl濃度測定部401は、煙道3において減温塔41と集塵機43との間(例えば、集塵機43の入口)に設けられてもよく、集塵機43と煙突52との間に設けられてもよい。煙突52には、通常、他のHCl濃度測定部が設けられるが、HCl濃度測定部401を煙突52よりも上流側に設けることにより、排ガスのHCl濃度の変動に迅速に対応することが可能となる。または、煙突52(煙道の一部と捉えられてもよい。)に設けられるHCl濃度測定部を用いて排ガス処理薬剤の供給量が制御されてもよい。   The HCl concentration measurement unit 401 may be provided in the flue 3 between the temperature reducing tower 41 and the dust collector 43 (for example, at the inlet of the dust collector 43), or may be provided between the dust collector 43 and the chimney 52. . The chimney 52 is usually provided with another HCl concentration measurement unit. However, by providing the HCl concentration measurement unit 401 on the upstream side of the chimney 52, it is possible to quickly cope with fluctuations in the HCl concentration of the exhaust gas. Become. Or supply_amount | feed_rate of waste gas processing chemical | medical agent may be controlled using the HCl concentration measurement part provided in the chimney 52 (it may be taken as a part of flue).

排ガス処理装置4は、焼却設備1以外の設備において用いられてもよい。   The exhaust gas treatment device 4 may be used in facilities other than the incineration facility 1.

上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。   The configurations in the above-described embodiments and modifications may be combined as appropriate as long as they do not contradict each other.

発明を詳細に描写して説明したが、既述の説明は例示的であって限定的なものではない。したがって、本発明の範囲を逸脱しない限り、多数の変形や態様が可能であるといえる。   Although the invention has been illustrated and described in detail, the foregoing description is illustrative and not restrictive. Therefore, it can be said that many modifications and embodiments are possible without departing from the scope of the present invention.

1 焼却設備
2 燃焼室
3 煙道
4 排ガス処理装置
40 制御部
41 減温塔
42a 第1薬剤供給部
42b 第2薬剤供給部
43 集塵機
44 集塵灰搬送部
401 HCl濃度測定部
421 消石灰貯留部
P1 薬剤供給位置
P2 補助供給位置
S11〜S13 ステップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Incinerator 2 Combustion chamber 3 Flue 4 Exhaust gas treatment apparatus 40 Control part 41 Temperature-reduction tower 42a 1st chemical | medical agent supply part 42b 2nd chemical | medical agent supply part 43 Dust collector 44 Dust collection ash conveyance part 401 HCl concentration measurement part 421 Slaked lime storage part P1 Drug supply position P2 Auxiliary supply position S11 to S13 Steps

Claims (5)

排ガス処理装置であって、
排ガスが流れる煙道に設けられる集塵機と、
前記煙道において前記排ガスの発生源と前記集塵機との間に設けられ、前記排ガス中に水を噴霧する減温塔と、
前記煙道における前記発生源と前記減温塔との間の位置、または、前記減温塔内の位置を薬剤供給位置として、前記薬剤供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給する第1薬剤供給部と、
前記煙道において前記発生源と前記集塵機との間の補助供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給可能である第2薬剤供給部と、
前記排ガス中のHCl濃度を測定するHCl濃度測定部と、
前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第2薬剤供給部による前記補助供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる、または、前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記第2薬剤供給部により前記補助供給位置に前記排ガス処理薬剤を供給しつつ、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第1薬剤供給部による前記薬剤供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる制御部と、
を備える。
An exhaust gas treatment device,
A dust collector installed in a flue through which exhaust gas flows;
A temperature reducing tower that is provided between the generation source of the exhaust gas and the dust collector in the flue, and sprays water into the exhaust gas;
An exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical is supplied to the chemical supply position with the position between the generation source and the temperature reduction tower in the flue or the position in the temperature reduction tower as a chemical supply position. A first drug supply unit;
A second chemical supply unit capable of supplying an exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical to an auxiliary supply position between the generation source and the dust collector in the flue;
An HCl concentration measuring unit for measuring the HCl concentration in the exhaust gas;
When the HCl concentration is equal to or higher than a predetermined value, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position by the second chemical supply unit is increased than when the HCl concentration is less than the predetermined value, or When the HCl concentration is equal to or higher than a predetermined value, the first chemical supply unit supplies the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position while the HCl concentration is lower than the predetermined value. A control unit for increasing the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position by the chemical supply unit;
Is provided.
請求項1に記載の排ガス処理装置であって、
前記第1薬剤供給部および前記第2薬剤供給部が、カルシウム系薬剤を貯留する貯留部を共有する。
The exhaust gas treatment apparatus according to claim 1,
The first drug supply unit and the second drug supply unit share a storage unit that stores a calcium-based drug.
請求項1または2に記載の排ガス処理装置であって、
前記第2薬剤供給部が、前記集塵機にて捕集された集塵灰を前記排ガス処理薬剤として供給する。
The exhaust gas treatment apparatus according to claim 1 or 2,
The second chemical supply unit supplies dust ash collected by the dust collector as the exhaust gas treatment chemical.
焼却設備であって、
廃棄物を燃焼させる燃焼室と、
前記燃焼室にて発生する排ガスを前記燃焼室から排出する煙道と、
前記煙道に設けられる請求項1ないし3のいずれかに記載の排ガス処理装置と、
を備える。
Incineration equipment,
A combustion chamber for burning waste,
A flue for discharging exhaust gas generated in the combustion chamber from the combustion chamber;
The exhaust gas treatment device according to any one of claims 1 to 3, provided in the flue,
Is provided.
排ガス処理装置における排ガス処理方法であって、
前記排ガス処理装置が、
排ガスが流れる煙道に設けられる集塵機と、
前記煙道において前記排ガスの発生源と前記集塵機との間に設けられ、前記排ガス中に水を噴霧する減温塔と、
前記煙道における前記発生源と前記減温塔との間の位置、または、前記減温塔内の位置を薬剤供給位置として、前記薬剤供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給する第1薬剤供給部と、
前記煙道において前記発生源と前記集塵機との間の補助供給位置に、カルシウム系薬剤を含む排ガス処理薬剤を供給可能である第2薬剤供給部と、
を備え、
前記排ガス処理方法が、
a)前記煙道において前記発生源と前記減温塔との間の位置、または、前記減温塔内に、前記第1薬剤供給部により前記排ガス処理薬剤を供給する工程と、
b)前記排ガス中のHCl濃度を測定する工程と、
c)前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第2薬剤供給部による前記補助供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる、または、前記HCl濃度が所定値以上となる場合に、前記第2薬剤供給部により前記補助供給位置に前記排ガス処理薬剤を供給しつつ、前記HCl濃度が前記所定値未満である時よりも前記第1薬剤供給部による前記薬剤供給位置への前記排ガス処理薬剤の供給量を増大させる工程と、
を備える。
An exhaust gas treatment method in an exhaust gas treatment device,
The exhaust gas treatment device is
A dust collector installed in a flue through which exhaust gas flows;
A temperature reducing tower that is provided between the generation source of the exhaust gas and the dust collector in the flue, and sprays water into the exhaust gas;
An exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical is supplied to the chemical supply position with the position between the generation source and the temperature reduction tower in the flue or the position in the temperature reduction tower as a chemical supply position. A first drug supply unit;
A second chemical supply unit capable of supplying an exhaust gas treatment chemical containing a calcium-based chemical to an auxiliary supply position between the generation source and the dust collector in the flue;
With
The exhaust gas treatment method comprises:
a) supplying the exhaust gas treatment chemical by the first chemical supply unit into the temperature reduction tower at a position between the generation source and the temperature reduction tower in the flue;
b) measuring the HCl concentration in the exhaust gas;
c) When the HCl concentration is equal to or higher than a predetermined value, the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position by the second chemical supply unit is increased more than when the HCl concentration is less than the predetermined value. Or, when the HCl concentration is equal to or higher than a predetermined value, the second chemical supply unit supplies the exhaust gas treatment chemical to the auxiliary supply position while the HCl concentration is lower than the predetermined value. Increasing the supply amount of the exhaust gas treatment chemical to the chemical supply position by the first chemical supply unit;
Is provided.
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