JPWO2018100991A1 - UV transmission filter - Google Patents

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貴尋 坂上
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洋平 河合
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Abstract

紫外線、特に深紫外光の透過率が高く、かつ長期間の使用に際しても透過率の劣化が抑制された紫外線透過フィルタを提供する。ガラス板2と、ガラス板2の主面に備えられた保護膜3と、を有し、ガラス板2は、酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を55〜80%、B2O3を12〜27%、R2O(Rは、Li、Na、およびKからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ金属を示す。)を4〜20%、Al2O3を0〜5%、R´O(R´は、Mg、Ca、Sr、およびBaからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属を示す。)を0〜5%、ZnOを0〜5%、ZrO2を0〜20%、Ta2O5を0〜5%、含有し、ガラス板2は、その厚さ0.5mmにおける分光透過率において、波長254nmの透過率が70%以上であるガラスで形成されている紫外線透過フィルタ1。Provided is an ultraviolet transmission filter that has a high transmittance of ultraviolet rays, particularly deep ultraviolet light, and that suppresses deterioration of transmittance even when used for a long period of time. The glass plate 2 has a protective film 3 provided on the main surface of the glass plate 2, and the glass plate 2 is expressed in terms of oxide-based mole percentage, and SiO 2 is 55 to 80% and B 2 O 3 is 12 to 27. %, R2O (R represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, and K) 4-20%, Al2O3 0-5%, R'O (R 'is Represents at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, and Ba.) 0-5%, ZnO 0-5%, ZrO2 0-20%, Ta2O5 The ultraviolet transmissive filter 1 containing 0 to 5%, and the glass plate 2 is formed of glass having a transmittance of 70% or more at a wavelength of 254 nm in a spectral transmittance at a thickness of 0.5 mm.

Description

本発明は、紫外領域の波長の光の透過率が高い紫外線透過フィルタに関する。   The present invention relates to an ultraviolet transmission filter having a high transmittance for light having a wavelength in the ultraviolet region.

紫外線の発光光源として、低圧水銀ランプや高圧水銀ランプが従来から知られている。近年、小型で低コストの紫外線LED(紫外線発光ダイオード)が普及し、水殺菌装置、紫外線硬化型樹脂の硬化装置、紫外線センサー等の様々な用途の利用が増えている。   Conventionally known are low-pressure mercury lamps and high-pressure mercury lamps as ultraviolet light sources. In recent years, small-sized and low-cost ultraviolet LEDs (ultraviolet light-emitting diodes) have become widespread, and the use of various applications such as water sterilizers, ultraviolet curable resin curing devices, and ultraviolet sensors has increased.

このような紫外線光源を備える装置に用いられるガラスとして、従来、紫外線を効率よく透過させる石英ガラスがある。しかしながら、石英ガラスは、製造コストが高いという問題がある。他方、石英ガラス以外の紫外線を効率よく透過させるガラスとして、リン酸塩ガラスやホウケイ酸ガラスが知られている(例えば、特許文献1、2参照。)。   Conventionally, there is quartz glass that efficiently transmits ultraviolet rays as a glass used in an apparatus including such an ultraviolet light source. However, quartz glass has a problem of high manufacturing costs. On the other hand, phosphate glass and borosilicate glass are known as glasses that efficiently transmit ultraviolet rays other than quartz glass (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、これらのガラスは、波長400nm以下の光、特に波長200〜280nmの光(以下、深紫外光ということがある。)の透過率が低く、改善が望まれていた。   However, these glasses have low transmittance of light having a wavelength of 400 nm or less, particularly light having a wavelength of 200 to 280 nm (hereinafter sometimes referred to as deep ultraviolet light), and improvement has been desired.

また、例えば、上記水殺菌装置、紫外線硬化型樹脂の硬化装置、紫外線センサーなどは、長期間使用されたり、高温高湿な環境下に置かれる場合がある。そのため、ガラスの紫外線透過率は、長期間の使用や高温高湿な環境下においても、劣化が抑制されることが好ましい。   Further, for example, the water sterilizer, the ultraviolet curable resin curing device, the ultraviolet sensor, etc. may be used for a long period of time or placed in a high temperature and high humidity environment. Therefore, it is preferable that the ultraviolet transmittance of the glass is suppressed from being deteriorated even under long-term use or in a high-temperature and high-humidity environment.

特開昭62−027346号公報JP-A-62-027346 特開昭60−046946号公報JP 60-046946 A

本発明は、紫外線、特に深紫外光の透過率が高く、かつ長期間の使用に際しても透過率の劣化が抑制された紫外線透過フィルタの提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide an ultraviolet transmission filter that has high transmittance of ultraviolet rays, particularly deep ultraviolet light, and that suppresses deterioration of transmittance even when used for a long period of time.

本発明の紫外線透過フィルタは、ガラス板と、前記ガラス板の主面に備えられた保護膜と、を有し、前記ガラス板は、酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55〜80%、Bを12〜27%、RO(Rは、Li、Na、およびKからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ金属を示す。)を4〜20%、Alを0〜5%、R´O(R´は、Mg、Ca、Sr、およびBaからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属を示す。)を0〜5%、ZnOを0〜5%、ZrOを0〜20%、Taを0〜5%、含有し、前記ガラス板は、その厚さ0.5mmにおける分光透過率において、波長254nmの透過率が70%以上であるガラスで形成されている、ことを特徴とする。The ultraviolet transmissive filter of the present invention has a glass plate and a protective film provided on the main surface of the glass plate, and the glass plate is an oxide-based mole percentage display, and SiO 2 is 55-80. %, B 2 O 3 12 to 27%, R 2 O (R represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na and K) 4 to 20%, Al 2 0 to 5% of O 3 , 0 to 5% of R′O (R ′ represents at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, and Ba), ZnO 0 to 5%, ZrO 2 0 to 20%, Ta 2 O 5 0 to 5%, and the glass plate has a transmittance at a wavelength of 254 nm in a spectral transmittance at a thickness of 0.5 mm. It is formed of glass that is 70% or more.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記保護膜は、前記紫外線透過フィルタに、耐候性、耐アルカリ性、耐酸性、耐薬品性から選ばれる少なくとも1つ以上の機能を付与することをが好ましい。   In the ultraviolet transmission filter of the present invention, it is preferable that the protective film imparts at least one function selected from weather resistance, alkali resistance, acid resistance, and chemical resistance to the ultraviolet transmission filter.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記保護膜は、SiOを主成分とする膜であって、前記保護膜中に中空シリカ粒子を含有することが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the protective film is a film containing SiO 2 as a main component, and the protective film preferably contains hollow silica particles.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記保護膜は、SiO、Si、Si、Al、ZrO、TiO、Ta及びMgFからなる群から選ばれる少なくとも1種の単層膜からなることが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the protective film is selected from the group consisting of SiO 2 , Si 3 N 4 , Si 4 O 5 N 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2 , Ta 2 O 5 and MgF 2. It is preferable to consist of at least one selected monolayer film.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記保護膜は、誘電体多層膜からなることが好ましい。   In the ultraviolet transmissive filter of the present invention, the protective film is preferably made of a dielectric multilayer film.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記誘電体多層膜は、低屈折率膜と高屈折率膜が交互に積層されてなり、前記高屈折率膜は、酸化ハフニウム及び酸化タンタルから選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。   In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the dielectric multilayer film is formed by alternately laminating low refractive index films and high refractive index films, and the high refractive index film is at least one selected from hafnium oxide and tantalum oxide. It is preferable to contain.

本発明の紫外線透過フィルタは、波長200nm〜230nmの平均透過率が60%以下であることが好ましい。   In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the average transmittance at a wavelength of 200 nm to 230 nm is preferably 60% or less.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、Alを実質的に含有しないことが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, it is preferable that the glass does not substantially contain Al 2 O 3 .

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、Alを0.5〜5%含有することが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, it is preferable that the glass contains Al 2 O 3 in an amount of 0.5 to 5%.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、ZrOを1.5〜20%含有することが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the glass preferably contains 1.5 to 20% of ZrO 2 .

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、Taを0.01〜2%含有することが好ましい。In the ultraviolet transmissive filter of the present invention, the glass preferably contains 0.01 to 2 % of Ta 2 O 5 .

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、R´O(R´は、Mg、Ca、Sr、およびBaからなる群より選択されるアルカリ土類金属を示す。)を実質的に含有しないことが好ましい。   In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the glass does not substantially contain R′O (R ′ represents an alkaline earth metal selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, and Ba). Is preferred.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、Feを0.00005〜0.01%および/またはTiOを0.0001〜0.02%、さらに含有することが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the glass preferably further contains 0.00005 to 0.01% of Fe 2 O 3 and / or 0.0001 to 0.02% of TiO 2 .

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、Cr、NiO、CuO、CeO、V、WO、MoO、MnO、およびCoOのいずれも実質的に含有しないことが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the glass may contain substantially no Cr 2 O 3 , NiO, CuO, CeO 2 , V 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 , MnO 2 , and CoO. preferable.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、Clを実質的に含有しないことが好ましい。   In the ultraviolet transmission filter of the present invention, it is preferable that the glass does not substantially contain Cl.

本発明の紫外線透過フィルタは、耐候性試験において、以下の式で求められる、波長254nmの透過率の劣化度が3%以下であることが好ましい。
耐候性試験による劣化度(%)=[(T0−T2)/T0]×100
(式中、T0は、両面を光学研磨した厚さ0.5mmの前記ガラス板の一方の主面に保護膜を備えた紫外線透過フィルタの波長254nmにおける初期透過率であり、T2は、当該紫外線透過フィルタを85℃、相対湿度85%の雰囲気下に500時間保持した後の、波長254nmにおける透過率である。)
In the ultraviolet transmission filter of the present invention, it is preferable that the degree of deterioration of transmittance at a wavelength of 254 nm, which is obtained by the following formula in the weather resistance test, is 3% or less.
Degree of deterioration by weather resistance test (%) = [(T0−T2) / T0] × 100
(In the formula, T0 is an initial transmittance at a wavelength of 254 nm of an ultraviolet transmission filter having a protective film on one main surface of the glass plate having a thickness of 0.5 mm whose both surfaces are optically polished, and T2 is the ultraviolet ray. (The transmittance at a wavelength of 254 nm after holding the transmission filter in an atmosphere of 85 ° C. and 85% relative humidity for 500 hours.)

本発明の紫外線透過フィルタは、耐候性試験において、以下の式で求められる、波長254nmの透過率の劣化度が5%以下であることが好ましい。
耐候性試験による劣化度(%)=[(T0−T1)/T0]×100
(式中、T0は、両面を光学研磨した厚さ0.5mmの前記ガラス板の一方の主面に保護膜を備えた紫外線透過フィルタの波長254nmにおける初期透過率であり、T1は、当該紫外線透過フィルタを85℃、相対湿度85%の雰囲気下に1000時間保持した後の、波長254nmにおける透過率である。)
In the ultraviolet transmission filter of the present invention, it is preferable that the deterioration degree of the transmittance at a wavelength of 254 nm, which is obtained by the following formula in the weather resistance test, is 5% or less.
Degree of deterioration by weather resistance test (%) = [(T0−T1) / T0] × 100
(In the formula, T0 is an initial transmittance at a wavelength of 254 nm of an ultraviolet transmission filter having a protective film on one main surface of the glass plate having a thickness of 0.5 mm whose both surfaces are optically polished, and T1 is the ultraviolet ray. (The transmittance at a wavelength of 254 nm after holding the transmission filter in an atmosphere of 85 ° C. and 85% relative humidity for 1000 hours.)

本発明の紫外線透過フィルタは、紫外線照射試験において、以下の式で求められる、波長254nmの透過率の劣化度が5%以下であることが好ましい。
紫外線照射試験による劣化度(%)=[(T0−T3)/T0]×100
(式中、T0は、両面を光学研磨した厚さ0.5mmの前記ガラス板の一方の主面に保護膜を備えた紫外線透過フィルタの波長254nmにおける初期透過率であり、T3は、当該紫外線透過フィルタに、前記保護膜の備えられた主面側から波長254nmの紫外線を10mW/cmの強度で1000時間照射した後の波長254nmにおける透過率である。)
In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the degree of transmittance deterioration at a wavelength of 254 nm, which is obtained by the following formula in the ultraviolet irradiation test, is preferably 5% or less.
Degree of deterioration by ultraviolet irradiation test (%) = [(T0−T3) / T0] × 100
(In the formula, T0 is an initial transmittance at a wavelength of 254 nm of an ultraviolet transmission filter having a protective film on one main surface of the glass plate having a thickness of 0.5 mm whose both surfaces are optically polished, and T3 is the ultraviolet ray. (Transmittance at a wavelength of 254 nm after irradiating the transmission filter with ultraviolet light having a wavelength of 254 nm with an intensity of 10 mW / cm 2 from the main surface side provided with the protective film for 1000 hours.)

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラス板は、その厚さ0.5mmにおける分光透過率において、波長254nmの透過率が80%以上であることが好ましい。   In the ultraviolet transmission filter of the present invention, it is preferable that the glass plate has a transmittance at a wavelength of 254 nm of 80% or more in a spectral transmittance at a thickness of 0.5 mm.

本発明の紫外線透過フィルタにおいて、前記ガラスは、0〜300℃の温度範囲の平均熱膨張係数が、30×10−7〜90×10−7/℃であることが好ましい。In the ultraviolet transmission filter of the present invention, the glass preferably has an average coefficient of thermal expansion in a temperature range of 0 to 300 ° C. of 30 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C.

本発明によれば、紫外線、特に深紫外光の透過率が高く、かつ長期間の使用に際しても透過率の劣化が抑制された紫外線透過フィルタを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the ultraviolet-ray permeable filter with the high transmittance | permeability of an ultraviolet-ray, especially deep ultraviolet light, and the deterioration of the transmittance | permeability was suppressed at the time of long-term use can be provided.

実施形態の紫外線透過フィルタの概略構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing schematic structure of the ultraviolet-ray transmissive filter of embodiment.

以下、図1を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態である紫外線透過フィルタ1の概略構成を表す断面図である。図1に示す紫外線透過フィルタ1は、ガラス板2と、その一方の主面に保護膜3と、を備えてなる。以下、紫外線透過フィルタ1を構成するガラス板2と保護膜3についてそれぞれ詳細に説明する。
(ガラス板)
本実施形態に用いられるガラス板2は、紫外線透過フィルタ1を構成する本体であり、紫外線の透過特性が良好なものである。このような特性を満たすため、ガラス板2は次の組成及び特性を有するガラスから形成されていることを必須の要素とする。
このガラス板2は、酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55〜80%、Bを12〜27%、RO(Rは、Li、Na、およびKからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ金属を示す。)を4〜20%、Alを0〜5%、R´O(R´は、Mg、Ca、Sr、およびBaからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属を示す。)を0〜5%、ZnOを0〜5%、ZrOを0〜20%、Taを0〜5%含有するガラスから形成される。
また、ガラス板2は、その厚さ0.5mmにおける分光透過率において、波長254nmの透過率が70%以上のガラスから形成される。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an ultraviolet transmission filter 1 according to an embodiment of the present invention. An ultraviolet transmission filter 1 shown in FIG. 1 includes a glass plate 2 and a protective film 3 on one main surface thereof. Hereinafter, the glass plate 2 and the protective film 3 constituting the ultraviolet transmission filter 1 will be described in detail.
(Glass plate)
The glass plate 2 used in the present embodiment is a main body constituting the ultraviolet transmission filter 1 and has good ultraviolet transmission characteristics. In order to satisfy such characteristics, it is an essential element that the glass plate 2 is formed of glass having the following composition and characteristics.
This glass plate 2 is expressed in terms of a molar percentage on the basis of oxide, and SiO 2 is 55 to 80%, B 2 O 3 is 12 to 27%, R 2 O (R is a group consisting of Li, Na, and K). 4 to 20%, Al 2 O 3 0 to 5%, R′O (R ′ is selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr and Ba). At least one alkaline earth metal) is formed from glass containing 0-5%, ZnO 0-5%, ZrO 2 0-20%, Ta 2 O 5 0-5%. The
Moreover, the glass plate 2 is formed of glass having a transmittance of 70% or more at a wavelength of 254 nm in terms of spectral transmittance at a thickness of 0.5 mm.

ガラス板2は、上記組成を有するガラス製であることで、紫外線、特に深紫外線の透過率が高い。また、組成を調節することで、紫外線照射によるガラスの着色を抑制することができる。以下、本実施形態に用いられるガラスの各成分について説明する。   Since the glass plate 2 is made of glass having the above composition, it has a high transmittance of ultraviolet rays, particularly deep ultraviolet rays. Moreover, the coloring of the glass by ultraviolet irradiation can be suppressed by adjusting a composition. Hereinafter, each component of the glass used for this embodiment is demonstrated.

SiOは、ガラスの骨格を構成する成分であり必須である。SiOの含有量が55%未満では、ガラスとしての安定性が低下する、または耐候性が低下する。SiOの含有量は、好ましくは55.5%以上であり、より好ましくは56%以上である。SiOの含有量が80%超では、ガラスの融液の粘性が増大し、溶融性が著しく低下する。SiOの含有量は、好ましくは77%以下、より好ましくは75%以下である。SiO 2 is a component constituting the skeleton of the glass and is essential. When the content of SiO 2 is less than 55%, the stability as glass is lowered or the weather resistance is lowered. The content of SiO 2 is preferably 55.5% or more, more preferably 56% or more. If the content of SiO 2 exceeds 80%, the viscosity of the glass melt increases and the meltability is significantly reduced. The content of SiO 2 is preferably 77% or less, more preferably 75% or less.

Alは、ガラスの耐候性を向上させる成分である。Alを含有する場合、Alの含有量が5%超では、ガラスの融液の粘性が高くなり、均質な溶融が困難になる。ガラスの耐候性を向上させる効果を得る場合、Alの含有量は、好ましくは4.5%以下、より好ましくは4.3%以下、さらに好ましくは4%以下である。Al 2 O 3 is a component that improves the weather resistance of the glass. When Al 2 O 3 is contained, if the content of Al 2 O 3 is more than 5%, the viscosity of the glass melt becomes high and uniform melting becomes difficult. When obtaining the effect of improving the weather resistance of the glass, the content of Al 2 O 3 is preferably 4.5% or less, more preferably 4.3% or less, and even more preferably 4% or less.

本実施形態においては、Alを実質的に含有しないことが最も好ましく、その理由を以下に述べる。なお、本明細書においてAlを実質的に含有しないとは、Alの含有量が0.01%以下であることを意味する。In the present embodiment, it is most preferable that Al 2 O 3 is not substantially contained, and the reason will be described below. In this specification unless containing Al 2 O 3 substantially has the content of Al 2 O 3 means that 0.01% or less.

ガラスにおける深紫外線の透過率は、ガラスの非架橋酸素量に依存し、非架橋酸素量が多いと深紫外線の透過率が低くなると考えられる。そして、Alは、ガラスの非架橋酸素量を減らす成分であり、Alを含有することで深紫外線の透過率の高いガラスが得られると従来は考えられていた。しかしながら、本発明者らは、Alやその他のガラス組成条件を変えて試験をしたところ、従来の技術常識に反して、Alの含有量を極力少なくする、好ましくはAlを含有しないことで、深紫外線の透過率が高いガラスが得られるという、新たな知見を見出した。そのメカニズムは詳細にはわかっていないが、下記の理由だと考えられる。The transmittance of deep ultraviolet rays in glass depends on the amount of non-crosslinked oxygen in the glass, and it is considered that the transmittance of deep ultraviolet rays decreases when the amount of non-crosslinked oxygen is large. Then, Al 2 O 3 is a component to reduce the non-bridging oxygen of the glass, it has been conventionally believed that glass having high transmittance deep ultraviolet By containing Al 2 O 3 is obtained. However, when the present inventors tested by changing Al 2 O 3 and other glass composition conditions, contrary to conventional technical common sense, the content of Al 2 O 3 is reduced as much as possible, preferably Al 2 The inventors have found a new finding that, by not containing O 3 , a glass having a high deep ultraviolet transmittance can be obtained. The mechanism is not known in detail, but is considered to be the following reason.

Alは、ガラス中のアルカリ金属成分を伴ってガラスの網目構造を形成することで、結果的にガラス中の非架橋酸素を減らすと言われている。しかしながら、ガラスはアモルファス状態であるため、ガラス構造のゆらぎが生じると考えられる。すなわち、Alの含有量を増加させることで平均的にガラス中の非架橋酸素量は減少する傾向にあるが、一方でアモルファス状態特有の構造のゆらぎにより、網目構造を形成しないAl成分が修飾酸化物(構造欠陥)として存在する割合が増加する可能性も、否定できない。このような網目構造を形成しないAl成分に起因する構造欠陥が、紫外域の光の吸収帯を形成し、ガラスの紫外線透過能が低下すると考えられる。Al 2 O 3 is said to reduce uncrosslinked oxygen in the glass by forming a glass network structure with an alkali metal component in the glass. However, since glass is in an amorphous state, it is considered that the glass structure fluctuates. That is, by increasing the content of Al 2 O 3, the amount of non-bridging oxygen in the glass tends to decrease on the average, but on the other hand, an Al component that does not form a network structure due to fluctuations in the structure unique to the amorphous state It cannot be denied that there is a possibility that the ratio of the presence of a modified oxide (structural defect) increases. It is considered that such a structural defect caused by an Al component that does not form a network structure forms an absorption band of light in the ultraviolet region, and the ultraviolet transmittance of the glass is lowered.

なお、本実施形態において、特定の成分を実質的に含有しないとは、意図して添加しないという意味であり、原料等から不可避的に混入し、所期の特性に影響を与えない程度の含有を排除するものではない。   In the present embodiment, the fact that a specific component is substantially not included means that it is not intentionally added, and it is inevitably mixed from raw materials and the like, and does not affect the intended characteristics. Is not to be excluded.

一方、Alは、ガラスの紫外線による着色を抑制する成分である。Alの含有量が0.5%未満であると、その他の組成によっては、ガラスの紫外線による着色を抑制する効果が十分に得られないことがある。ガラスの紫外線による着色を抑制する効果を向上させる点では、Alの含有量は、好ましくは0.5%以上5%以下である。On the other hand, Al 2 O 3 is a component that suppresses coloring of glass by ultraviolet rays. If the content of Al 2 O 3 is less than 0.5%, the effect of suppressing the coloration of the glass by ultraviolet rays may not be sufficiently obtained depending on other compositions. The content of Al 2 O 3 is preferably 0.5% or more and 5% or less in terms of improving the effect of suppressing the coloring of the glass by ultraviolet rays.

は、深紫外線の透過率を向上させる成分、ガラスの紫外線による着色を抑制する成分であり、必須である。Bの含有量が12%未満では、深紫外線の透過率向上について有意な効果が得られない。Bの含有量は、好ましくは13%以上であり、より好ましくは14%以上である。Bの含有量が27%超では、揮散による脈理が発生し、歩留まりが低下する。Bの含有量は、好ましくは26%以下、より好ましくは25%以下である。B 2 O 3 is a component to improve the transmittance of deep ultraviolet, a component to suppress coloring due to ultraviolet rays of the glass and is essential. When the content of B 2 O 3 is less than 12%, a significant effect cannot be obtained with respect to the deep ultraviolet transmittance improvement. The content of B 2 O 3 is preferably 13% or more, more preferably 14% or more. If the content of B 2 O 3 exceeds 27%, striae due to volatilization occurs, and the yield decreases. The content of B 2 O 3 is preferably 26% or less, more preferably 25% or less.

O(Rは、Li、Na、およびKからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ金属を示す。)は、ガラスの溶融性を向上させる成分であり、必須である。ΣRO(ΣROは、LiO、NaOおよびKOの含有量の合計をいう。)が4%未満では、溶融性が悪い。ΣROは、好ましくは4.5%以上、より好ましくは5%以上である。ΣROが20%超では、耐候性が低下する。ΣROは、好ましくは18%以下、より好ましくは16%以下である。R 2 O (R represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, and K) is a component that improves the meltability of glass and is essential. When ΣR 2 O (ΣR 2 O is the total content of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O) is less than 4%, the meltability is poor. ΣR 2 O is preferably 4.5% or more, more preferably 5% or more. When ΣR 2 O exceeds 20%, the weather resistance decreases. ΣR 2 O is preferably 18% or less, more preferably 16% or less.

R´O(R´は、Mg、Ca、Sr、およびBaからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属を示す。)は、溶融性を向上させる成分であり、必須ではないが必要に応じて含有することができる。R´Oを含有する場合、ΣR´O(ΣR´Oは、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計をいう。)が5%超では、耐候性が低下する。ΣR´Oの含有量は、好ましくは4%以下、より好ましくは3%以下である。R´Oは、原料中に深紫外線の透過率低下の原因となるFeやTiOを比較的多く含有することから、実質的に含有しないことが好ましい。R′O (R ′ represents at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, and Ba) is a component that improves the meltability and is not essential. It can be contained if necessary. When R′O is contained, if ΣR′O (ΣR′O means the total content of MgO, CaO, SrO and BaO) exceeds 5%, the weather resistance is lowered. The content of ΣR′O is preferably 4% or less, more preferably 3% or less. Since R′O contains a relatively large amount of Fe 2 O 3 or TiO 2 that causes a decrease in the transmittance of deep ultraviolet rays in the raw material, it is preferably not substantially contained.

ZnOは、ガラスの耐候性を向上させ、紫外線照射試験における劣化度を低減させる成分であり、必要に応じて含有することができる。ZnOを含有する場合、ZnOが5%超では、ガラスの失透特性が悪化する。ZnOの含有量は、好ましくは4.5%以下、より好ましくは4%以下である。   ZnO is a component that improves the weather resistance of the glass and reduces the degree of deterioration in the ultraviolet irradiation test, and can be contained as necessary. When ZnO is contained, if the ZnO content exceeds 5%, the devitrification characteristics of the glass deteriorate. The content of ZnO is preferably 4.5% or less, more preferably 4% or less.

ZrOは、ガラスの耐候性を向上させ、紫外線照射試験における劣化度を低減させる成分、すなわちガラスの紫外線による着色を抑制する成分であり、必要に応じて含有することができる。ZrOを含有する場合、ZrOの含有量は、20%超では、ガラスの溶融性が悪化するおそれがある。ZrOの含有量は、好ましくは15%以下であり、より好ましくは10%以下である。また、ZrOの含有量は、ガラスの紫外線による着色を抑制する効果を向上する点で、好ましくは1.5%以上、より好ましくは1.7%以上であり、さらに好ましくは1.8%以上である。ZrO 2 is a component that improves the weather resistance of the glass and reduces the degree of deterioration in the ultraviolet irradiation test, that is, a component that suppresses the coloring of the glass by ultraviolet rays, and can be contained as necessary. When ZrO 2 is contained, if the ZrO 2 content exceeds 20%, the meltability of the glass may deteriorate. The content of ZrO 2 is preferably 15% or less, more preferably 10% or less. Further, the content of ZrO 2 is preferably 1.5% or more, more preferably 1.7% or more, and further preferably 1.8%, from the viewpoint of improving the effect of suppressing the coloring of the glass by ultraviolet rays. That's it.

Taは、ガラスの耐候性を向上させ、紫外線照射試験における劣化度を低減させる、すなわちガラスの紫外線による着色を抑制する成分であり、必須ではないが、必要に応じて含有することができる。Taを含有する場合、その含有量が5%超では、溶融性が悪化する。ガラスの紫外線による着色を抑制する効果を向上させる点で、Taの含有量は、好ましくは0.01%以上であり、より好ましくは0.02%以上であり、さらに好ましくは0.03%以上であり、特に好ましくは0.05%以上である。また、ガラスがTaを含有する場合、その含有量は、好ましくは3%以下であり、より好ましくは2%以下である。Ta 2 O 5 is a component that improves the weather resistance of the glass and reduces the degree of deterioration in the ultraviolet irradiation test, that is, suppresses coloring of the glass due to ultraviolet rays, and is not essential, but may be contained as necessary. it can. When containing ta 2 O 5, the content thereof exceeds 5%, the melting property deteriorates. The content of Ta 2 O 5 is preferably 0.01% or more, more preferably 0.02% or more, and further preferably 0.02% or more in terms of improving the effect of suppressing the coloring of the glass by ultraviolet rays. It is 03% or more, and particularly preferably 0.05% or more. Further, if the glass contains Ta 2 O 5, the content thereof is preferably 3% or less, more preferably 2% or less.

Feは、ガラス中に存在することで、深紫外線を吸収して透過率を低下させる成分である。しかしながら、ガラス原料や製造プロセスからのFeの混入を完全に回避することは非常に難しい。よって、Feの含有量が0.00005%未満であると、精製された高コストのガラス原料を用いるなど、ガラス製造のためのコストが高くなるため、好ましくない。Feの含有量は、好ましくは0.0001%以上である。Feの含有量が0.01%超であると、深紫外線の透過率が低くなりすぎて好ましくない。Feの含有量は、好ましくは0.0065%以下、より好ましくは0.005%以下である。Fe 2 O 3 is a component that absorbs deep ultraviolet rays and reduces the transmittance by being present in the glass. However, it is very difficult to completely avoid the incorporation of Fe 2 O 3 from the glass raw material or the manufacturing process. Therefore, if the content of Fe 2 O 3 is less than 0.00005%, the cost for glass production becomes high, such as using a refined high-cost glass raw material, which is not preferable. The content of Fe 2 O 3 is preferably 0.0001% or more. If the content of Fe 2 O 3 is more than 0.01%, the transmittance of deep ultraviolet rays is too low, which is not preferable. The content of Fe 2 O 3 is preferably 0.0065% or less, more preferably 0.005% or less.

TiOは、Fe同様に、ガラス中に存在することで、深紫外線を吸収して透過率を低下させる成分である。しかしながら、ガラス原料や製造プロセスからのTiOの混入を完全に回避することは非常に難しい。よって、TiOの含有量が0.0001%未満であると、精製された高コストのガラス原料を用いるなど、ガラス製造のためのコストが高くなるため、好ましくない。TiOの含有量は、好ましくは0.0003%以上である。TiOの含有量が0.02%超であると、深紫外線の透過率が低くなりすぎて好ましくない。TiOの含有量は、好ましくは0.015%以下、より好ましくは0.01%以下である。TiO 2 is, Fe 2 O 3 Similarly, the presence in the glass, which is a component that reduces the transmittance by absorbing deep UV. However, it is very difficult to completely avoid the mixing of TiO 2 from the glass raw material and the manufacturing process. Therefore, if the content of TiO 2 is less than 0.0001%, the cost for glass production becomes high, such as using a refined and high-cost glass raw material. The content of TiO 2 is preferably 0.0003% or more. When the content of TiO 2 is more than 0.02%, the transmittance of deep ultraviolet rays is too low, which is not preferable. The content of TiO 2 is preferably 0.015% or less, more preferably 0.01% or less.

Cr、NiO、CuO、CeO、V、WO、MoO、MnOおよびCoOは、いずれもガラス中に存在することで、深紫外線を吸収して透過率を低下させる成分である。よって、これらの成分は、実質的にガラス中に含有しないことが好ましい。
本明細書において、上記各成分を実質的に含有しないとは、Crは0.01%以下、NiOは0.01%以下、CuOは0.01%以下、CeOは0.01%以下、Vは0.01%以下、WOは0.01%以下、MoOは0.01%以下、MnOは0.01%以下、CoOは0.01%以下、を意味する。
Cr 2 O 3 , NiO, CuO, CeO 2 , V 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 , MnO 2, and CoO all exist in the glass, thereby absorbing deep ultraviolet rays and reducing the transmittance. It is an ingredient. Therefore, it is preferable that these components are not substantially contained in the glass.
In the present specification, substantially not containing the above components means that Cr 2 O 3 is 0.01% or less, NiO is 0.01% or less, CuO is 0.01% or less, and CeO 2 is 0.01%. %, V 2 O 5 is 0.01% or less, WO 3 is 0.01% or less, MoO 3 is 0.01% or less, MnO 2 is 0.01% or less, and CoO is 0.01% or less. means.

Clは、後述する紫外線照射試験において、波長254nmにおける劣化度を、特に増大させるおそれがあるため、実質的にガラス中に含有しないことが好ましい。本明細書において、Clを実質的に含有しないとは、0.01%以下を意味する。   Since Cl may particularly increase the degree of deterioration at a wavelength of 254 nm in an ultraviolet irradiation test described later, it is preferable that Cl is not substantially contained in the glass. In the present specification, “substantially not containing Cl” means 0.01% or less.

Fは、ガラスを溶融する際に揮発する成分であり、ガラス中に脈理が発生するおそれがあるため、実質的にガラス中に含有しないことが好ましい。本明細書において、Fを実質的に含有しないとは、0.01%以下を意味する。   F is a component that volatilizes when the glass is melted, and striations may occur in the glass. Therefore, it is preferable that F is not substantially contained in the glass. In the present specification, substantially not containing F means 0.01% or less.

本実施形態に用いられるガラスは、その他に、清澄を目的として、SOまたはSnOを含有してもよい。In addition, the glass used in this embodiment may contain SO 3 or SnO 2 for the purpose of fining.

本実施形態に用いられるガラスは、ガラス単体(保護膜がない状態)の板厚0.5mmにおける分光透過率において、波長254nmの透過率が70%以上である。このような光学特性を備える紫外線透過性のガラスを用いた紫外線透過フィルタ1を、深紫外線を活用する装置に用いることで、装置を効率良く運用することができる。ガラス板厚0.5mmにおける分光透過率において波長254nmの透過率が70%未満であると、装置を効率良く運用することができない。波長254nmの透過率は、好ましくは72%以上であり、より好ましくは75%以上であり、最も好ましくは80%以上である。   The glass used in the present embodiment has a transmittance of 70% or more at a wavelength of 254 nm in a spectral transmittance at a plate thickness of 0.5 mm of a single glass (without a protective film). By using the ultraviolet transmissive filter 1 using ultraviolet transmissive glass having such optical characteristics in an apparatus that utilizes deep ultraviolet rays, the apparatus can be operated efficiently. When the transmittance at a wavelength of 254 nm is less than 70% in the spectral transmittance at a glass plate thickness of 0.5 mm, the apparatus cannot be operated efficiently. The transmittance at a wavelength of 254 nm is preferably 72% or more, more preferably 75% or more, and most preferably 80% or more.

さらに、本実施形態に用いられるガラス(ガラス単体(保護膜がない状態))は、次のように、耐候性試験により測定される波長254nmの透過率の劣化度が30%以下であることが好ましい。   Furthermore, the glass used in the present embodiment (a single glass (without a protective film)) has a degree of deterioration of transmittance of 30% or less at a wavelength of 254 nm measured by a weather resistance test as follows. preferable.

耐候性試験では、ガラスを一辺30mm角の板状にカットし、厚さが0.5mmとなるよう両面を光学研磨加工したガラス板を製造する。このガラス板の波長254nmにおける初期透過率(Tx)を測定する。次いで、ガラス板を、高温高湿(温度85℃、相対湿度85%)雰囲気下に1000時間保持する。高温高湿雰囲気下に1000時間保持した後のガラス板の波長254nmにおける透過率(T4)を測定する。そして、耐候性試験前である初期透過率(Tx)からの劣化の割合として、以下の式(1)から、波長254nmの透過率の劣化度が求められる。   In the weather resistance test, glass is cut into a plate having a side of 30 mm square, and a glass plate having both surfaces optically polished so as to have a thickness of 0.5 mm is manufactured. The initial transmittance (Tx) at a wavelength of 254 nm of this glass plate is measured. Next, the glass plate is held in a high-temperature and high-humidity (temperature 85 ° C., relative humidity 85%) atmosphere for 1000 hours. The transmittance (T4) at a wavelength of 254 nm of the glass plate after being kept in a high temperature and high humidity atmosphere for 1000 hours is measured. And the deterioration degree of the transmittance | permeability of wavelength 254nm is calculated | required from the following formula | equation (1) as a ratio of deterioration from the initial transmittance (Tx) before a weather resistance test.

耐候性試験による劣化度(%)=[(Tx−T4)/Tx]×100・・・式(1)   Degree of degradation by weather resistance test (%) = [(Tx−T4) / Tx] × 100 (1)

さらに、本実施形態に用いられるガラス(ガラス単体(保護膜がない状態))は、次のように紫外線照射試験により測定される波長254nmの透過率の劣化度が15%以下であることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the glass used in the present embodiment (single glass (without a protective film)) has a deterioration degree of transmittance of 15% or less at a wavelength of 254 nm measured by an ultraviolet irradiation test as follows. .

紫外線照射試験においては、例えば、上記耐候性試験と同様に加工したガラス板を、理化学用高圧水銀ランプを用いて、波長254nmにおける紫外線照射強度が10mW/cmになるように、ガラス板表面からの距離が15cmの位置から紫外線をガラス試料に1000時間照射する。紫外線を1000時間照射した後のガラス板の波長254nmにおける透過率(T3)を測定する。そして、紫外線照射前である初期透過率(Tx)からの劣化の割合として、以下の式(2)から、波長254nmの透過率の劣化度が求められる。In the ultraviolet irradiation test, for example, a glass plate processed in the same manner as in the weather resistance test described above is used from the surface of the glass plate so that the ultraviolet irradiation intensity at a wavelength of 254 nm is 10 mW / cm 2 using a high-pressure mercury lamp for physics and chemistry. A glass sample is irradiated for 1000 hours from the position where the distance of 15 cm is 15 cm. The transmittance (T3) at a wavelength of 254 nm of the glass plate after being irradiated with ultraviolet rays for 1000 hours is measured. And the deterioration degree of the transmittance | permeability of wavelength 254nm is calculated | required from the following formula | equation (2) as a ratio of deterioration from the initial transmittance (Tx) before ultraviolet irradiation.

紫外線照射試験による劣化度(%)=[(Tx−T5)/Tx]×100・・・式(2)   Degree of degradation by ultraviolet irradiation test (%) = [(Tx−T5) / Tx] × 100 (2)

本実施形態に用いられるガラスは、0℃以上300℃以下の温度範囲の平均熱膨張係数が30×10−7/℃以上90×10−7/℃以下であることが好ましい。上記ガラス製のガラス板2を備えた紫外線透過フィルタ1を、例えば紫外線光源装置に用いる場合、光源を気密に封止するため、パッケージ材にガラス板2を貼り付けることがある。紫外線光源は発光に伴い温度が上昇するため、ガラス板2とパッケージ材との、熱膨張係数の差が大きいと、剥離や破損が生じ、光源の気密状態を維持できないおそれがある。パッケージ材は、耐熱性を考慮して、ガラス、結晶化ガラス、セラミックス、アルミナ等の材質からなるものが用いられている。そして、パッケージ材とガラス板2との熱膨張係数の差を小さくするため、本実施形態に用いられるガラスは、0℃以上300℃以下の温度範囲の平均熱膨張係数が30×10−7/℃以上90×10−7/℃以下であることが好ましい。このガラスの平均熱膨張係数が前述の温度範囲外である場合、パッケージ材とガラス板2との熱膨張係数の差が大きく、紫外線光源装置の使用に際して前述の懸念がある。The glass used in the present embodiment preferably has an average coefficient of thermal expansion of 30 × 10 −7 / ° C. or more and 90 × 10 −7 / ° C. or less in a temperature range of 0 ° C. or more and 300 ° C. or less. When the ultraviolet transmissive filter 1 including the glass plate 2 made of glass is used in, for example, an ultraviolet light source device, the glass plate 2 may be attached to a package material in order to hermetically seal the light source. Since the temperature of the ultraviolet light source increases with light emission, if the difference in the thermal expansion coefficient between the glass plate 2 and the package material is large, peeling or breakage may occur, and the airtight state of the light source may not be maintained. In consideration of heat resistance, the package material is made of a material such as glass, crystallized glass, ceramics, or alumina. And in order to make small the difference of the thermal expansion coefficient of a package material and the glass plate 2, the glass used for this embodiment has an average thermal expansion coefficient of 30 * 10 < -7 > / in the temperature range of 0 degreeC or more and 300 degrees C or less. It is preferable that it is not lower than 90 ° C. and not higher than 90 × 10 −7 / ° C. When the average thermal expansion coefficient of this glass is outside the above-mentioned temperature range, the difference in thermal expansion coefficient between the package material and the glass plate 2 is large, and there is the above-mentioned concern when using the ultraviolet light source device.

また、本実施形態に用いられるガラス板2と、当該ガラス板2と接合する部材との、0℃以上300℃以下の温度範囲の平均熱膨張係数の差は、20×10−7/℃以下であることが好ましく、10×10−7/℃以下であることがより好ましく、5×10−7/℃以下であることが最も好ましい。Moreover, the difference of the average thermal expansion coefficient of the temperature range of 0 degreeC or more and 300 degrees C or less of the glass plate 2 used for this embodiment and the member joined to the said glass plate 2 is 20x10 < -7 > / degrees C or less. Is preferably 10 × 10 −7 / ° C. or less, and most preferably 5 × 10 −7 / ° C. or less.

ガラス板2の厚さは、用途に応じて適宜設計することができ、例えば、0.1mm以上10mm以下である。ガラス板2の厚さが10mmを超えると、十分な紫外線透過率が得られない場合がある。ガラス板2の厚さが0.1mm未満では、用途によってはガラス板2の強度が十分でないことがある。   The thickness of the glass plate 2 can be appropriately designed according to the application, and is, for example, 0.1 mm or more and 10 mm or less. If the thickness of the glass plate 2 exceeds 10 mm, sufficient ultraviolet transmittance may not be obtained. If the thickness of the glass plate 2 is less than 0.1 mm, the strength of the glass plate 2 may not be sufficient depending on the application.

本実施形態に用いられるガラスは次のように製造される。まず、所望の組成の各成分を構成するためのガラス原料を準備する。本実施形態で利用するガラス原料は、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、フッ化物、塩化物等、いずれの形態の化合物も用いることができる。   The glass used in this embodiment is manufactured as follows. First, the glass raw material for comprising each component of a desired composition is prepared. As the glass raw material used in the present embodiment, any form of compounds such as oxides, hydroxides, carbonates, sulfates, nitrates, fluorides and chlorides can be used.

次いで、これらのガラス原料を、所望の組成を有するガラスとなるように調合し、溶融槽に投入する。溶融槽は、白金または白金合金製の耐火物から選択される材料の容器である。本実施形態において、白金または白金合金の容器とは、白金(Pt)、イリジウム(Ir)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)等の白金族元素、上記白金族元素に加え、金(Au)を含めた元素の合金からなる群から選択される金属または合金製の容器であり、高温溶融に耐用できるものである。   Next, these glass raw materials are prepared so as to be a glass having a desired composition, and are put into a melting tank. The melting tank is a container of material selected from platinum or platinum alloy refractories. In the present embodiment, the platinum or platinum alloy container is a platinum group element such as platinum (Pt), iridium (Ir), palladium (Pd), rhodium (Rh), or the like, and in addition to the platinum group element, gold (Au). It is a metal or alloy container selected from the group consisting of alloys including elements, and can withstand high temperature melting.

前記溶融槽で溶解されたガラスを、下流側に配置された脱泡槽や撹拌槽で泡と脈理の除去を行うことで、ガラス欠点の少ない、均質化された高品質のガラスを得ることができる。上述のガラスは、ノズル等を介して金型に流出させ、鋳込成型を行ったり、ロールアウトし、板状に引き出して、所定の形状に成形する。徐冷したガラスに、スライス加工、研磨加工等を施し、所定の形状のガラスが得られる。   By removing bubbles and striae in a defoaming tank or a stirring tank disposed on the downstream side of the glass melted in the melting tank, a homogenized high-quality glass with few glass defects is obtained. Can do. The glass described above is allowed to flow out into a mold through a nozzle or the like, cast into a mold, rolled out, drawn out into a plate shape, and formed into a predetermined shape. The slowly cooled glass is subjected to slicing, polishing, and the like to obtain a glass having a predetermined shape.

(保護膜)
本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、ガラス板2の少なくとも一方の主面に保護膜3を備える。保護膜3は、紫外線透過フィルタ1に、耐候性、耐アルカリ性、耐酸性、耐薬品性から選ばれる少なくとも1つ以上の機能を付与して、長期使用後の紫外線透過率の低下を抑制する機能を有する。保護膜3は、深紫外光、例えば、波長254nm付近の紫外線の反射を抑制してその透過率をガラス板2単独の透過率よりも向上させる紫外線透過性を有する。さらに、この保護膜3は紫外線透過フィルタ1に、耐候性を付与して、長期使用後の紫外線透過率の低下を抑制する機能を有することが好ましい。また、保護膜3は、紫外線透過フィルタ1に、耐紫外線性を付与して、長期使用後の紫外線透過率の低下を抑制する機能を有することが好ましい。紫外線透過フィルタ1において、保護膜3は、ガラス板2の一方の主面に備えられているが、ガラス板2の両方の主面に備えられていてもよい。
(Protective film)
The ultraviolet transmission filter 1 of the present embodiment includes a protective film 3 on at least one main surface of the glass plate 2. The protective film 3 provides the ultraviolet light transmitting filter 1 with at least one function selected from weather resistance, alkali resistance, acid resistance, and chemical resistance, and suppresses a decrease in ultraviolet light transmittance after long-term use. Have The protective film 3 has ultraviolet transparency that suppresses reflection of deep ultraviolet light, for example, ultraviolet light having a wavelength of about 254 nm, and improves its transmittance more than the transmittance of the glass plate 2 alone. Furthermore, it is preferable that the protective film 3 has a function of imparting weather resistance to the ultraviolet transmission filter 1 and suppressing a decrease in ultraviolet transmittance after long-term use. The protective film 3 preferably has a function of imparting ultraviolet resistance to the ultraviolet transmission filter 1 and suppressing a decrease in ultraviolet transmittance after long-term use. In the ultraviolet transmission filter 1, the protective film 3 is provided on one main surface of the glass plate 2, but may be provided on both main surfaces of the glass plate 2.

紫外線透過フィルタ1は、保護膜3を備えることで、高温高湿雰囲気下における耐候性が向上される。また、保護膜3は、波長200〜230nmの紫外線を選択的に反射することが好ましい。ガラス板2は、波長200〜230nmの紫外線によりガラス構造の変化が生じ、これに伴いガラスが着色し、紫外線透過率が劣化するおそれがある。ガラス板2に到達する光のうち、波長200〜230nmの紫外線を保護膜3により選択的に反射することにより、保護膜3を有する紫外線透過フィルタ1は、長期間紫外線を照射されることによる紫外線透過率の低下が抑制されると考えられる。   The ultraviolet transmission filter 1 includes the protective film 3 so that the weather resistance in a high temperature and high humidity atmosphere is improved. Moreover, it is preferable that the protective film 3 selectively reflects ultraviolet rays having a wavelength of 200 to 230 nm. The glass plate 2 may change its glass structure due to ultraviolet rays having a wavelength of 200 to 230 nm. As a result, the glass may be colored and the ultraviolet transmittance may be deteriorated. By selectively reflecting ultraviolet rays having a wavelength of 200 to 230 nm among the light reaching the glass plate 2 by the protective film 3, the ultraviolet transmissive filter 1 having the protective film 3 is irradiated with ultraviolet rays for a long time. It is considered that the decrease in transmittance is suppressed.

保護膜3の光学特性は、波長254nmの紫外線透過性とガラスの紫外線による着色を抑制させる点で、保護膜3の波長200nm〜230nmの平均透過率が75%以下であることが好ましい。保護膜3の波長200nm〜230nmの平均透過率は、例えば、以下の方法で測定することができる。まず、紫外線透過フィルタ1(保護膜3を備えるガラス板2)の分光透過率を紫外可視近赤外分光光度計を用いて測定する。次いで、ガラス板2のみの分光透過率を紫外可視近赤外分光光度計を用いて測定する。次いで、これらガラス板2のみの分光透過率と紫外線透過フィルタ1の分光透過率から保護膜3のみの分光透過率を算出する。そして、保護膜3のみの分光透過率から、波長200nm〜230nmの平均透過率を算出する。   The optical properties of the protective film 3 are preferably such that the average transmittance of the protective film 3 at a wavelength of 200 nm to 230 nm is 75% or less from the viewpoint of suppressing ultraviolet light transmission at a wavelength of 254 nm and coloring of the glass by ultraviolet light. The average transmittance of the protective film 3 with a wavelength of 200 nm to 230 nm can be measured, for example, by the following method. First, the spectral transmittance of the ultraviolet transmission filter 1 (the glass plate 2 provided with the protective film 3) is measured using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer. Next, the spectral transmittance of only the glass plate 2 is measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer. Next, the spectral transmittance of only the protective film 3 is calculated from the spectral transmittance of only the glass plate 2 and the spectral transmittance of the ultraviolet transmission filter 1. And the average transmittance | permeability of wavelength 200nm -230nm is computed from the spectral transmittance of only the protective film 3. FIG.

保護膜3としては、例えば、誘電体多層膜、単層膜、シリカ(SiO)を主成分とする膜等を用いることができる。保護膜は、単層の膜であってもよく、2層以上の膜が積層された複層構造の膜であってもよい。As the protective film 3, for example, a dielectric multilayer film, a single layer film, a film mainly composed of silica (SiO 2 ), or the like can be used. The protective film may be a single layer film or a multi-layered film in which two or more layers are laminated.

誘電体多層膜は、低屈折率の誘電体膜(低屈折率膜)と高屈折率の誘電体膜(高屈折率膜)を交互に積層することで得られる光学的機能を有する膜である。設計により、光の干渉を利用して特定の波長領域の光の透過や遮蔽を制御する機能を発現させた反射防止膜、反射膜、選択波長遮蔽膜等として使用できる。なお、低屈折率と高屈折率とは、隣接する層の屈折率に対して高い屈折率と低い屈折率を有することを意味する。   The dielectric multilayer film is a film having an optical function obtained by alternately laminating a low refractive index dielectric film (low refractive index film) and a high refractive index dielectric film (high refractive index film). . Depending on the design, it can be used as an antireflection film, a reflection film, a selective wavelength shielding film, or the like that expresses the function of controlling the transmission and shielding of light in a specific wavelength region by utilizing light interference. The low refractive index and the high refractive index mean that the refractive index has a high refractive index and a low refractive index with respect to the refractive index of the adjacent layer.

高屈折率膜を構成する高屈折率材料および低屈折率膜を構成する低屈折率材料については、屈折率が異なる2種の材料を準備し、屈折率が高い材料を高屈折率材料、屈折率が低い材料を低屈折率材料とすればよい。   For the high refractive index material constituting the high refractive index film and the low refractive index material constituting the low refractive index film, two types of materials having different refractive indexes are prepared, and the material having a high refractive index is changed to the high refractive index material and the refractive index. A material having a low refractive index may be a low refractive index material.

具体的には、屈折率が1.3以上1.6以下の材料を低屈折率材料として用い、屈折率が2.0以上2.3以下の材料を高屈折率材料として用いて誘電体多層膜を形成することが、設計のしやすさや製造の容易さから好ましい。   Specifically, a dielectric multilayer using a material having a refractive index of 1.3 to 1.6 as a low refractive index material and a material having a refractive index of 2.0 to 2.3 as a high refractive index material. Forming a film is preferable from the viewpoint of ease of design and ease of manufacture.

低屈折率材料として、より具体的には、SiO、SiO、MgFなどが挙げられる。これらのうちでも、本実施形態においては、上記の屈折率の範囲の低屈折率材料が好ましく、SiOが成膜性における再現性、安定性、経済性などの点で特に好ましい。More specifically, examples of the low refractive index material include SiO 2 , SiO x N y , and MgF 2 . Among these, in the present embodiment, a low refractive index material within the above refractive index range is preferable, and SiO 2 is particularly preferable in terms of reproducibility, stability, economy, and the like in film formability.

また、高屈折率材料として、より具体的には、HfO、Al、ZrO、YbFなどが挙げられる。また、高屈折率材料として、アルミニウムランタン酸化物(AlLa)、アルミニウムタンタル酸化物(AlTa)などの合金酸化物蒸着材を用いてもよい。これらのうちでも、本実施形態においては、上記の屈折率の範囲の高屈折率材料が好ましく、成膜性と屈折率等をその再現性、安定性を含め総合的に判断して、HfO、Al等が特に好ましく用いられる。More specific examples of the high refractive index material include HfO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , and YbF 3 . Further, as a high refractive index material, aluminum lanthanum oxide (Al x La y O z) , may be used aluminum tantalum oxide (Al x Ta y O z) alloy oxide evaporation material, such as. Among these, in the present embodiment, a high refractive index material within the above refractive index range is preferable, and the film forming property, the refractive index, and the like are comprehensively determined including their reproducibility and stability, and HfO 2 Al 2 O 3 and the like are particularly preferably used.

誘電体多層膜は、求められる光学特性に応じて、その具体的な層数や膜厚、および使用する高屈折率材料および低屈折率材料の屈折率を、従来の手法を用いて設計できる。さらに、誘電体多層膜は、該設計のとおりに製造できる。   The dielectric multilayer film can be designed using a conventional method in accordance with the required optical characteristics, and the specific number of layers and film thickness, and the refractive index of the high refractive index material and low refractive index material to be used. Furthermore, the dielectric multilayer can be manufactured as per the design.

誘電体多層膜の層数は、誘電体多層膜の有する光学特性によるが、低屈折率膜と高屈折率膜との合計積層数として2〜100が好ましく、2〜80がより好ましい。合計積層数が多い方が、200nm〜230nm、特に、200nm〜215nmの紫外線の透過率を小さくできるため、ガラスの紫外線による着色を抑制させることができる。合計積層数が多すぎると、製作時のタクトが長くなり、誘電体多層膜の反りなどが発生する、また、誘電体多層膜の膜厚が増加する傾向である。なお、求められる光学特性を有する限り層数は少ない方が好ましい。低屈折率膜と高屈折率膜の積層順は交互であれば、最初の層が低屈折率膜であっても高屈折率膜であってもよいが、高屈折率膜の方が好ましい。   The number of layers of the dielectric multilayer film depends on the optical properties of the dielectric multilayer film, but the total number of layers of the low refractive index film and the high refractive index film is preferably 2 to 100, more preferably 2 to 80. When the total number of stacked layers is larger, the transmittance of ultraviolet rays of 200 nm to 230 nm, particularly 200 nm to 215 nm, can be reduced, so that coloring of the glass by ultraviolet rays can be suppressed. If the total number of laminated layers is too large, the tact time during production becomes long, warping of the dielectric multilayer film occurs, and the film thickness of the dielectric multilayer film tends to increase. In addition, as long as it has the optical characteristic calculated | required, it is preferable that there are few layers. If the order of lamination of the low refractive index film and the high refractive index film is alternate, the first layer may be a low refractive index film or a high refractive index film, but a high refractive index film is preferred.

誘電体多層膜は、例えば、IAD(Ion Assisted Deposition)蒸着法、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法等の乾式成膜プロセス等によって製造することができる。   The dielectric multilayer film can be manufactured by, for example, a dry film forming process such as an IAD (Ion Assisted Deposition) vapor deposition method, a CVD method, a sputtering method, or a vacuum vapor deposition method.

保護膜3として、誘電体多層膜を形成する場合、紫外線透過フィルタ1に優れた耐久性を付与する点で、誘電体多層膜の膜厚は60nm以上300nm以下が好ましく、90nm以上150nm以下がより好ましい。誘電体多層膜の膜厚が60nm未満では十分な紫外線透過性及び耐久性が得られないことがあり、300nmを超えると、十分な紫外線透過性が得られないことがある。誘電体多層膜の膜厚は、触針式膜厚計によって測定することができる。誘電体膜に微細な穴があると、そこから水分等が侵入し、ガラス板2の表面が変質するおそれがある。それを抑制する点で、本実施形態では、保護膜3として、多層で構成された誘電体膜、すなわち誘電体多層膜が好ましい。   When a dielectric multilayer film is formed as the protective film 3, the thickness of the dielectric multilayer film is preferably 60 nm or more and 300 nm or less, more preferably 90 nm or more and 150 nm or less in terms of imparting excellent durability to the ultraviolet transmission filter 1. preferable. If the thickness of the dielectric multilayer film is less than 60 nm, sufficient ultraviolet light transmission and durability may not be obtained, and if it exceeds 300 nm, sufficient ultraviolet light transmission may not be obtained. The film thickness of the dielectric multilayer film can be measured with a stylus film thickness meter. If there are fine holes in the dielectric film, moisture or the like may enter from there, and the surface of the glass plate 2 may be altered. In this embodiment, the protective film 3 is preferably a dielectric film composed of multiple layers, that is, a dielectric multilayer film in terms of suppressing this.

保護膜3として、単層膜を用いる場合、保護膜3の材料としては、酸化ケイ素(SiO)、窒化ケイ素(Si)、酸窒化ケイ素(Si)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化タンタル(Ta)、フッ化マグネシウム(MgF)が使用可能である。単層膜の材料としては、上記した物質の1種でもよく、2種以上でもよい。前述した物質からなる単層膜を用いることで、紫外線透過フィルタ1に優れた耐侯性、耐アルカリ性を付与することができる。単層膜の膜厚は、5nm以上500nm以下が好ましく、25nm以上300nm以下がより好ましい。単層膜の膜厚が5nm未満では十分な耐侯性、耐アルカリ性が得られないことがあり、500nmを超えると、単層膜の形成に時間を要し、生産性が悪化することがある。単層膜の膜厚は、触針式膜厚計によって測定することができる。When a single layer film is used as the protective film 3, the material of the protective film 3 includes silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), silicon oxynitride (Si 4 O 5 N 3 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), and magnesium fluoride (MgF 2 ) can be used. The material of the single layer film may be one kind of the above-mentioned substances or two or more kinds. By using the single layer film made of the above-described substance, it is possible to impart excellent weather resistance and alkali resistance to the ultraviolet transmission filter 1. The film thickness of the single layer film is preferably 5 nm to 500 nm, and more preferably 25 nm to 300 nm. If the film thickness of the single layer film is less than 5 nm, sufficient weather resistance and alkali resistance may not be obtained. If it exceeds 500 nm, it takes time to form the single layer film, and productivity may be deteriorated. The film thickness of the single layer film can be measured with a stylus type film thickness meter.

この単層膜は、例えば、IAD(Ion Assisted Deposition)蒸着法、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法、ゾルゲル法、原子層堆積法(Atomic Layer Deposition法)等の公知のプロセスによって製造することができる。   This single-layer film can be manufactured by a known process such as, for example, an IAD (Ion Assisted Deposition) vapor deposition method, a CVD method, a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, a sol-gel method, an atomic layer deposition method (Atomic Layer Deposition method), or the like. it can.

保護膜3がSiOを主成分とする膜からなる場合、この保護膜3は、膜(100質量%)中にSiOを90質量%以上含有する。なお、SiOを主成分とする膜は、実質的にSiOからなる膜がより好ましく、ここで実質的にSiOからなる膜とは、不可避不純物を除いてSiOのみから構成されていることを意味する。When the protective film 3 is made of a film containing SiO 2 as a main component, the protective film 3 contains 90% by mass or more of SiO 2 in the film (100% by mass). Note that film composed mainly of SiO 2 is more preferably substantially consisting of SiO 2 film, and wherein substantially composed of SiO 2 film, it is composed of only SiO 2 except for incidental impurities Means that.

保護膜3がSiOを主成分とする膜からなる場合、保護膜3は、中空シリカ粒子を含有することが好ましい。この場合、保護膜3は、中空シリカ粒子を含有する膜のみから構成されていてもよく、中空シリカ粒子を含有しない膜(後述のシリカアンダーコート)と、中空シリカ粒子を含有する膜とが積層されて構成されていてもよい。また、中空シリカ粒子を含有する膜は、中空シリカ粒子を含有する2層以上の膜、例えば、異なる態様(中空シリカ粒子の含有量や平均一次粒子径等が異なる膜)で積層されて構成されていてもよい。保護膜3を、このような積層構造とすることで、設計により、保護膜3における所望の波長の紫外線の透過性を調整することができる。そのため、上記積層構造によって、保護膜3に、優れた紫外線透過性と耐候性を付与することができる。When the protective film 3 is made of a film containing SiO 2 as a main component, the protective film 3 preferably contains hollow silica particles. In this case, the protective film 3 may be composed only of a film containing hollow silica particles, and a film not containing hollow silica particles (silica undercoat described later) and a film containing hollow silica particles are laminated. And may be configured. The membrane containing hollow silica particles is formed by laminating two or more membranes containing hollow silica particles, for example, laminated in different modes (membranes having different contents of hollow silica particles, different average primary particle sizes, etc.). It may be. By making the protective film 3 have such a laminated structure, the transmittance of ultraviolet rays having a desired wavelength in the protective film 3 can be adjusted by design. For this reason, the laminated structure can impart excellent ultraviolet transparency and weather resistance to the protective film 3.

中空シリカ粒子を含有する膜は、マトリックス中に中空シリカ粒子が分散されて構成されることが好ましい。中空シリカ粒子は、SiO外殻の内部に空隙を有する微粒子である。中空シリカ粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。中空シリカ粒子の平均一次粒子径は5nm〜150nmが好ましく、50nm〜100nmがより好ましい。中空シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、保護膜3の紫外線透過性に優れる。The membrane containing hollow silica particles is preferably constituted by dispersing hollow silica particles in a matrix. The hollow silica particles are fine particles having voids inside the SiO 2 outer shell. In the hollow silica particles, each particle may exist in an independent state, each particle may be linked in a chain shape, or each particle may be aggregated. The average primary particle diameter of the hollow silica particles is preferably 5 nm to 150 nm, and more preferably 50 nm to 100 nm. When the average primary particle diameter of the hollow silica particles is within the above range, the ultraviolet ray transparency of the protective film 3 is excellent.

中空シリカ粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡写真から100個の微粒子を無作為に選び出し、各微粒子の粒子径を測定し、100個の微粒子の粒子径を平均して求める。   The average primary particle size of the hollow silica particles is obtained by randomly selecting 100 fine particles from an electron micrograph, measuring the particle size of each fine particle, and averaging the particle size of the 100 fine particles.

マトリックスとしては、アルコキシシランの加水分解物(ゾルゲルシリカ)の焼成物、シラザンの焼成物等が挙げられるが、アルコキシシランの加水分解物の焼成物がより好ましい。アルコキシシランの加水分解に用いる触媒としては、中空シリカ粒子の分散を妨げないものが好ましい。   Examples of the matrix include a calcined product of an alkoxysilane hydrolyzate (sol-gel silica) and a silazane calcined product, and a calcined product of an alkoxysilane hydrolyzate is more preferable. As a catalyst used for hydrolysis of alkoxysilane, a catalyst that does not hinder the dispersion of the hollow silica particles is preferable.

アルコキシシランとしては、テトラアルコキシシラン(例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等)、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン(例えば、パーフルオロポリエーテルトリエトキシシラン等)、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン(例えば、パーフルオロエチルトリエトキシシラン等)、ビニル基を有するアルコキシシラン(例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等)、エポキシ基を有するアルコキシシラン(例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等)、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン(例えば、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等)等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane include tetraalkoxysilane (for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, etc.), and an alkoxysilane having a perfluoropolyether group (for example, perfluoropolyethertriethoxysilane). , Alkoxysilane having a perfluoroalkyl group (for example, perfluoroethyltriethoxysilane), alkoxysilane having a vinyl group (for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc.), alkoxysilane having an epoxy group (for example, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glyci Trimethoxy silane, etc.), alkoxysilanes (e.g. having an acryloyloxy group, 3-acryloyloxy propyl trimethoxysilane), and the like.

アルコキシシランの加水分解は、テトラアルコキシシランの場合、アルコキシシランの4倍モル以上の水、および触媒として酸またはアルカリを用いて行う。酸としては、無機酸(例えば、HNO、HSO、HCl等)、有機酸(例えば、ギ酸、シュウ酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等)が挙げられる。アルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。触媒としては、アルコキシシランの加水分解物の長期保存性の点から、酸が好ましい。In the case of tetraalkoxysilane, hydrolysis of the alkoxysilane is carried out using 4 times or more moles of water of the alkoxysilane and an acid or alkali as a catalyst. Examples of the acid include inorganic acids (eg, HNO 3 , H 2 SO 4 , HCl, etc.) and organic acids (eg, formic acid, oxalic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, etc.). Examples of the alkali include ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like. The catalyst is preferably an acid from the viewpoint of long-term storage stability of the hydrolyzate of alkoxysilane.

中空シリカ粒子を含む膜は、例えば、ガラス板の上に、中空シリカ粒子を含む膜を形成するための塗布液を塗布、必要に応じて予熱し、最後に焼成することによって製造できる。本実施形態において、「焼成」とは、透明基材面上に塗布液を塗布することによって得られた塗布膜を加熱して硬化処理することも含めるものとする。   A film containing hollow silica particles can be produced, for example, by applying a coating solution for forming a film containing hollow silica particles on a glass plate, preheating as necessary, and finally baking. In the present embodiment, “baking” includes heating and curing a coating film obtained by coating a coating liquid on the transparent substrate surface.

塗布液としては、中空シリカ粒子の分散液とマトリックス前駆体の溶液(例えば、アルコキシシランの加水分解物の溶液、シラザンの溶液等)との混合物等が挙げられる。塗布液は、レベリング性向上のための界面活性剤、塗膜の耐候性向上のための金属化合物等を含んでいてもよい。   Examples of the coating liquid include a mixture of a dispersion of hollow silica particles and a solution of a matrix precursor (for example, a hydrolyzate solution of alkoxysilane, a solution of silazane, etc.). The coating solution may contain a surfactant for improving the leveling property, a metal compound for improving the weather resistance of the coating film, and the like.

中空シリカ粒子の分散液の分散媒としては、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。   Examples of the dispersion medium for the dispersion of the hollow silica particles include water, alcohols, ketones, ethers, cellosolves, esters, glycol ethers, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds and the like.

アルコキシシランの加水分解物の溶液の溶媒としては、水とアルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール等)との混合溶媒が好ましい。   As the solvent of the alkoxysilane hydrolyzate solution, a mixed solvent of water and alcohols (for example, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, diacetone alcohol, etc.) is preferable.

塗布方法としては、ウェットコート法(例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法等)等であり公知の方法が使用できる。塗布温度は、室温〜200℃が好ましく、室温〜150℃がより好ましい。   As a coating method, a wet coating method (for example, spin coating method, spray coating method, dip coating method, die coating method, curtain coating method, screen coating method, ink jet method, flow coating method, gravure coating method, bar coating method, flexographic method). Coating methods, slit coating methods, roll coating methods, etc.), and known methods can be used. The coating temperature is preferably room temperature to 200 ° C, more preferably room temperature to 150 ° C.

焼成温度は、30℃以上が好ましく、200℃以上ガラスの軟化点温度以下がより好ましい。焼成温度が200℃以上であれば、耐候性が向上する。焼成温度が、ガラスの軟化点温度以下(例えば、800℃以下)であれば、保護膜3中の空孔が消失することなく、紫外線の反射率が充分に低くなる。   The firing temperature is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher and the glass softening point temperature or lower. When the firing temperature is 200 ° C. or higher, the weather resistance is improved. If the baking temperature is not higher than the softening point temperature of glass (for example, not higher than 800 ° C.), the vacancies in the protective film 3 are not lost, and the reflectance of ultraviolet rays is sufficiently low.

保護膜3として、中空シリカ粒子を含有する膜を形成する場合、紫外線透過フィルタ1に優れた耐久性を付与する点で、中空シリカ粒子を含有する膜の膜厚は30nm〜150nmが好ましく、40nm〜100nmがより好ましい。   When forming a film containing hollow silica particles as the protective film 3, the film thickness of the film containing hollow silica particles is preferably 30 nm to 150 nm in terms of imparting excellent durability to the ultraviolet transmission filter 1, and 40 nm. ˜100 nm is more preferable.

保護膜3が、中空シリカ粒子を含有しない膜(シリカアンダーコート)を有する場合、シリカアンダーコートは、ガラス板2と中空シリカ粒子を含有する膜の間に形成されることが好ましい。   When the protective film 3 has a film (silica undercoat) that does not contain hollow silica particles, the silica undercoat is preferably formed between the glass plate 2 and the film containing hollow silica particles.

シリカアンダーコートは、中空シリカ粒子を含有しないマトリックスで構成されることが好ましい。シリカアンダーコートとしては、上記中空シリカ粒子を含有する膜のマトリックスと同様、アルコキシシランの加水分解物(ゾルゲルシリカ)の焼成物、シラザンの焼成物等が挙げられる。シリカアンダーコートは、マトリックス前駆体の溶液(例えば、アルコキシシランの加水分解物の溶液、シラザンの溶液等)との分散液をガラス板上に、上記と同様に、塗布後、焼成して形成することができる。   The silica undercoat is preferably composed of a matrix that does not contain hollow silica particles. Examples of the silica undercoat include a calcined product of a hydrolyzate of alkoxysilane (sol-gel silica), a calcined product of silazane, and the like, similar to the matrix of the membrane containing the hollow silica particles. The silica undercoat is formed by applying a dispersion of a matrix precursor solution (for example, an alkoxysilane hydrolyzate solution, silazane solution, etc.) on a glass plate in the same manner as described above, followed by baking. be able to.

シリカアンダーコートを形成する際の焼成温度は、30℃〜300℃が好ましい。また、シリカアンダーコート形成用の分散液を、ガラス板上に、塗布し、仮焼成(余熱)し、これにより得られる塗膜の上に、上記中空シリカ粒子を含有する膜形成用の分散液を塗布して、例えば200℃以上で焼成することで、シリカアンダーコートと、中空シリカ粒子を含有する膜とを同時焼成することもできる。これにより、シリカアンダーコートを緻密化して保護膜3の耐候性を向上させることができる。   The firing temperature for forming the silica undercoat is preferably 30 ° C to 300 ° C. Further, a dispersion for forming a silica undercoat is applied on a glass plate, pre-baked (remaining heat), and a dispersion for forming a film containing the hollow silica particles on the coating film obtained thereby. The silica undercoat and the film containing the hollow silica particles can be co-fired by applying and baking, for example, at 200 ° C. or higher. Thereby, a silica undercoat can be densified and the weather resistance of the protective film 3 can be improved.

シリカアンダーコートの膜厚は、保護膜3に優れた紫外線透過性と耐久性を付与する点で、30nm〜150nmが好ましく、40nm〜100nmがより好ましい。   The film thickness of the silica undercoat is preferably 30 nm to 150 nm, and more preferably 40 nm to 100 nm, from the viewpoint of imparting excellent ultraviolet transparency and durability to the protective film 3.

保護膜3が、SiOを主成分とする膜からなる場合、保護膜3の厚さは、優れた紫外線透過性と耐久性を得る点で、30nm〜200nmが好ましく、40nm〜150nmがより好ましい。SiOを主成分とする膜からなる保護膜3の厚さは、保護膜の断面を走査型電子顕微鏡にて観察して得られる像から計測することができる。中空シリカ粒子を含有する膜及びシリカアンダーコートの厚さも同様に測定することができる。When the protective film 3 is made of a film containing SiO 2 as a main component, the thickness of the protective film 3 is preferably 30 nm to 200 nm, and more preferably 40 nm to 150 nm, in order to obtain excellent ultraviolet light transmittance and durability. . The thickness of the protective film 3 made of a film containing SiO 2 as a main component can be measured from an image obtained by observing the cross section of the protective film with a scanning electron microscope. The thickness of the membrane containing the hollow silica particles and the thickness of the silica undercoat can be measured similarly.

なお、保護膜3を上記したSiOの単層膜として形成した場合、SiOの単層膜は、上記中空シリカ粒子を含有する膜及びシリカアンダーコートとは、独立した空孔を有さない点で構成が異なるため、これらを区別することができる。上記中空シリカ粒子を含有する膜及びシリカアンダーコートは、独立した空孔を有し、かつ保護膜3の表面からガラス板2にわたって連通した空孔を有しない。上記空孔の有無は、保護膜3の断面を走査型電子顕微鏡にて観察して得られる像より確認できる。When the protective film 3 is formed as a single-layer film of SiO 2 described above, the single-layer film of SiO 2 does not have pores independent of the film containing the hollow silica particles and the silica undercoat. Since the configuration is different in this respect, these can be distinguished. The membrane and the silica undercoat containing the hollow silica particles have independent pores and do not have pores communicating from the surface of the protective film 3 to the glass plate 2. The presence / absence of the holes can be confirmed from an image obtained by observing the cross section of the protective film 3 with a scanning electron microscope.

本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、分光透過率において、波長200〜230nmの平均透過率が60%以下であることが好ましい。深紫外線を活用する装置にこのような光学特性を備える紫外線透過フィルタ1を用いることで、装置を効率良く運用することができるとともに、長期使用後の紫外線透過率の劣化を抑えることができる。上記分光透過率において波長200〜230nmの平均透過率が60%を超えると、長期使用後の紫外線透過率の劣化が進行するおそれがある。波長200〜230nmの平均透過率は、より好ましくは58%以下であり、さらに好ましくは55%以下であり、特に好ましくは50%以下である。   The ultraviolet transmission filter 1 of this embodiment preferably has an average transmittance of a wavelength of 200 to 230 nm of 60% or less in terms of spectral transmittance. By using the ultraviolet transmissive filter 1 having such optical characteristics in an apparatus that utilizes deep ultraviolet rays, the apparatus can be operated efficiently and deterioration of ultraviolet transmittance after long-term use can be suppressed. If the average transmittance at a wavelength of 200 to 230 nm exceeds 60% in the above spectral transmittance, the ultraviolet transmittance may deteriorate after long-term use. The average transmittance at a wavelength of 200 to 230 nm is more preferably 58% or less, still more preferably 55% or less, and particularly preferably 50% or less.

本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、一方の主面に保護膜を備え、ガラス板厚を0.5mmとしたときの分光透過率において、波長254nmの透過率が80%以上であることが好ましい。深紫外線を活用する装置にこのような光学特性を備える紫外線透過フィルタ1を用いることで、装置を効率良く運用することができる。ガラス板厚を0.5mmとしたときに、分光透過率において波長254nmの透過率が80%未満であると、装置を効率良く運用することができないおそれがある。波長254nmの透過率は、好ましくは81%以上であり、より好ましくは83%以上であり、最も好ましくは85%以上である。   The ultraviolet transmission filter 1 of the present embodiment is preferably provided with a protective film on one main surface, and the transmittance at a wavelength of 254 nm is 80% or more in the spectral transmittance when the glass plate thickness is 0.5 mm. . By using the ultraviolet light transmitting filter 1 having such optical characteristics in a device that utilizes deep ultraviolet rays, the device can be operated efficiently. When the glass plate thickness is 0.5 mm, if the transmittance at a wavelength of 254 nm in spectral transmittance is less than 80%, the apparatus may not be operated efficiently. The transmittance at a wavelength of 254 nm is preferably 81% or more, more preferably 83% or more, and most preferably 85% or more.

なお、ガラス板2の両方の主面に保護膜3を備える場合には、ガラス板厚を0.5mmとしたときの分光透過率において、波長200〜230nmの平均透過率及び波長254nmの透過率が上記範囲であれば、ガラス板2の一方の主面に保護膜3を備える紫外線透過フィルタ1と同様に上記効果を得ることができる。   In addition, when providing the protective film 3 in both the main surfaces of the glass plate 2, in the spectral transmittance when a glass plate thickness is 0.5 mm, the average transmittance of wavelength 200-230 nm and the transmittance of wavelength 254 nm If it is the said range, the said effect can be acquired similarly to the ultraviolet-ray transmissive filter 1 provided with the protective film 3 on one main surface of the glass plate 2. FIG.

本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、次のように、耐候性試験(1000時間)で測定される波長254nmの透過率の劣化度が5%以下であることが好ましい。   As for the ultraviolet transmission filter 1 of this embodiment, it is preferable that the deterioration degree of the transmittance | permeability of wavelength 254nm measured by a weather resistance test (1000 hours) is 5% or less as follows.

耐候性試験では、例えば、両面を光学研磨加工した、厚さが0.5mmのガラス板2を用い、ガラス板2の一方の主面上に、保護膜3を形成して、紫外線透過フィルタを製造する。上記同様に製造した紫外線透過フィルタを、高温高湿(温度85℃、相対湿度85%)雰囲気下に1000時間保持する。高温高湿雰囲気下に1000時間保持した後の紫外線透過フィルタの波長254nmにおける透過率(T1)を測定する。そして、耐候性試験前である初期透過率(T0)からの劣化の率として、以下の式(3)から、波長254nmの透過率の劣化度が求められる。   In the weather resistance test, for example, a glass plate 2 having a thickness of 0.5 mm that is optically polished on both sides is used, a protective film 3 is formed on one main surface of the glass plate 2, and an ultraviolet transmission filter is formed. To manufacture. The ultraviolet transmissive filter produced in the same manner as described above is kept for 1000 hours in a high temperature and high humidity (temperature 85 ° C., relative humidity 85%) atmosphere. The transmittance (T1) at a wavelength of 254 nm of the ultraviolet transmission filter after being kept in a high temperature and high humidity atmosphere for 1000 hours is measured. And the deterioration degree of the transmittance | permeability of wavelength 254nm is calculated | required from the following formula | equation (3) as a deterioration rate from the initial transmittance (T0) before a weather resistance test.

耐候性試験による劣化度(%)=[(T0−T1)/T0]×100・・・式(3)   Degree of deterioration by weather resistance test (%) = [(T0−T1) / T0] × 100 (3)

本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、次のように、耐候性試験(500時間)で測定される波長254nmの透過率の劣化度が3%以下であることが好ましい。   As for the ultraviolet transmission filter 1 of this embodiment, it is preferable that the deterioration degree of the transmittance | permeability of wavelength 254nm measured by a weather resistance test (500 hours) is 3% or less as follows.

この耐候性試験では、例えば、両面を光学研磨加工した厚さが0.5mmのガラス板2を用い、ガラス板2の一方の主面上に、保護膜3を形成して、紫外線透過フィルタを製造する。上記同様に製造した紫外線透過フィルタを、高温高湿(温度85℃、相対湿度85%)雰囲気下に500時間保持する。高温高湿雰囲気下に500時間保持した後の紫外線透過フィルタの波長254nmにおける透過率(T2)を測定する。そして、耐候性試験前である初期透過率(T0)からの劣化の率として、前述の式(3)においてT1の値に代えてT2の値を用い、波長254nmの透過率の劣化度が求められる。   In this weather resistance test, for example, a glass plate 2 having a thickness of 0.5 mm with both surfaces optically polished is used, a protective film 3 is formed on one main surface of the glass plate 2, and an ultraviolet transmission filter is formed. To manufacture. The ultraviolet transmissive filter manufactured in the same manner as described above is held for 500 hours in a high temperature and high humidity (temperature 85 ° C., relative humidity 85%) atmosphere. The transmittance (T2) at a wavelength of 254 nm of the ultraviolet transmission filter after being held in a high temperature and high humidity atmosphere for 500 hours is measured. Then, as the rate of deterioration from the initial transmittance (T0) before the weather resistance test, the value of T2 is used instead of the value of T1 in the above equation (3), and the degree of deterioration of the transmittance at a wavelength of 254 nm is obtained. It is done.

本実施形態の紫外線透過フィルタは、保護膜3の備えられた主面側から紫外線照射試験を行うことで測定される波長254nmの透過率の劣化度が5%以下であることが好ましい。   In the ultraviolet transmission filter of the present embodiment, it is preferable that the degree of deterioration of transmittance at a wavelength of 254 nm measured by performing an ultraviolet irradiation test from the main surface side where the protective film 3 is provided is 5% or less.

紫外線照射試験においては、上記と同様にして製造された紫外線透過フィルタの波長254nmにおける初期透過率(T0)を測定する。続いて、理化学用高圧水銀ランプを用いて、波長254nmの紫外線を、紫外線照射強度が10mW/cmになるように、ガラス板表面からの距離が15cmの位置から、紫外線透過フィルタの保護膜3の備えられた方の主面側に1000時間照射する。紫外線を1000時間照射した後の紫外線透過フィルタの波長254nmにおける透過率(T3)を測定する。そして、紫外線照射前である初期透過率(T0)からの劣化の率として、以下の式(4)から、波長254nmの透過率の劣化度が求められる。In the ultraviolet irradiation test, the initial transmittance (T0) at a wavelength of 254 nm of an ultraviolet transmission filter manufactured in the same manner as described above is measured. Subsequently, using a high-pressure mercury lamp for physics and chemistry, the protective film 3 of the ultraviolet light transmitting filter is applied from the position where the distance from the glass plate surface is 15 cm so that the ultraviolet irradiation intensity is 10 mW / cm 2 with the ultraviolet ray having a wavelength of 254 nm. Irradiate the principal surface side of the one provided with 1000 hours. The transmittance (T3) at a wavelength of 254 nm of the ultraviolet transmission filter after irradiation with ultraviolet rays for 1000 hours is measured. Then, the degree of deterioration of the transmittance at a wavelength of 254 nm is obtained from the following equation (4) as the deterioration rate from the initial transmittance (T0) before the ultraviolet irradiation.

紫外線照射試験による劣化度(%)=[(T0−T3)/T0]×100・・・式(4)   Degree of deterioration by ultraviolet irradiation test (%) = [(T0−T3) / T0] × 100 (4)

なお、ガラス板2の両方の主面に保護膜3を備える場合には、いずれか一方の保護膜3側から測定された耐候性試験による劣化度が上記範囲であれば、ガラス板2の一方の主面に保護膜3を備える紫外線透過フィルタ1と同様に上記効果を得ることができる。また、紫外線照射試験による劣化度についても同様に、いずれか一方の保護膜3側から紫外線を1000時間照射して測定された劣化度が上記範囲であれば、ガラス板2の一方の主面に保護膜3を備える紫外線透過フィルタ1と同様に上記効果を得ることができる。   In addition, when providing the protective film 3 in both the main surfaces of the glass plate 2, if the deterioration degree by the weather resistance test measured from the any one protective film 3 side is the said range, one side of the glass plate 2 The above effect can be obtained in the same manner as the ultraviolet light transmitting filter 1 having the protective film 3 on the main surface. Similarly, with respect to the degree of deterioration in the ultraviolet irradiation test, if the degree of deterioration measured by irradiating ultraviolet rays from either one of the protective films 3 for 1000 hours is within the above range, it is applied to one main surface of the glass plate 2. The above effect can be obtained in the same manner as the ultraviolet transmission filter 1 including the protective film 3.

本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、紫外線光源を用いる装置(例えば、UV−LED、UVレーザー等)、UV剥離を前提とした半導体ウエハ製造用のサポート基板、および発光管等に好適に用いることができる。前記装置としては、例えば、紫外線硬化型樹脂組成物の硬化装置や紫外線センサーの光源カバーガラス、水殺菌装置などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、板状に限らず、管状や成形体など、用途に応じて適宜の形状で用いることができる。   The ultraviolet transmission filter 1 of the present embodiment is preferably used for an apparatus using an ultraviolet light source (for example, a UV-LED, a UV laser, etc.), a support substrate for manufacturing a semiconductor wafer on the premise of UV peeling, an arc tube, and the like. Can do. Examples of the device include, but are not limited to, a curing device for an ultraviolet curable resin composition, a light source cover glass for an ultraviolet sensor, and a water sterilization device. Moreover, the ultraviolet transmissive filter 1 of this embodiment is not limited to a plate shape, and can be used in an appropriate shape such as a tubular shape or a molded body depending on the application.

例えば、UV−LEDデバイスは、光源となるUV−LEDチップが、樹脂や金属、セラミックス等の基材で構成されたパッケージの、凹部あるいは平面上に設置され、電気的に接続されている。そして、光出射側窓材として、UV透過性のある透明材料が用いられ、光出射側窓材と基材とは、気密に封止された構造になっている。UV−LEDデバイスは、UV発光とともに発熱も同時に起こしている。そのため、透明材料が熱により劣化して、紫外線透過率が低下することがある。   For example, in a UV-LED device, a UV-LED chip serving as a light source is installed and electrically connected to a recess or a flat surface of a package made of a base material such as resin, metal, or ceramics. A transparent material having UV transparency is used as the light emission side window material, and the light emission side window material and the base material are hermetically sealed. The UV-LED device generates heat simultaneously with UV emission. Therefore, the transparent material may be deteriorated by heat, and the ultraviolet transmittance may be lowered.

しかし、透明材料として、本実施形態の紫外線透過フィルタ1を用いることで、長期間使用しても紫外線の透過率を低下させることがない。また、上記熱膨張係数の調節されたガラス板2を用いることで、パッケージ材とガラス板2との熱膨張係数の差を小さくすることができるので、製品の割れやクラック発生も少ないUV−LEDデバイスを提供することができる。   However, by using the ultraviolet transmission filter 1 of the present embodiment as a transparent material, the ultraviolet transmittance is not lowered even when used for a long time. Moreover, since the difference in the thermal expansion coefficient between the packaging material and the glass plate 2 can be reduced by using the glass plate 2 having the adjusted thermal expansion coefficient, the UV-LED is less susceptible to product cracking and cracking. A device can be provided.

例えば、UVレーザデバイスは、光源となるUVレーザが、金属やAlN等のセラミックスなどの基材で構成されたパッケージの、凹部あるいは平面上に設置され、電気的に接続されている。そして、光出射側窓材として、UV透過性のある透明材料が用いられ、光出射側窓材と基材とは、気密に封止された構造になっている。UVレーザデバイスでは、UV発光と同時に発熱も起きている。そのため、透明材料が熱により劣化して、紫外線透過率が低下することがある。また、基材と透明材料との熱膨張係数に大きな差異があると、基材と透明材料との接合部分で割れやクラックが発生してしまい、製品信頼性を著しく低下させてしまう。   For example, in a UV laser device, a UV laser serving as a light source is installed and electrically connected to a recess or a plane of a package made of a base material such as a metal or a ceramic such as AlN. A transparent material having UV transparency is used as the light emission side window material, and the light emission side window material and the base material are hermetically sealed. In the UV laser device, heat generation occurs simultaneously with UV emission. Therefore, the transparent material may be deteriorated by heat, and the ultraviolet transmittance may be lowered. Further, if there is a large difference in the thermal expansion coefficient between the base material and the transparent material, cracks and cracks occur at the joint between the base material and the transparent material, and the product reliability is significantly reduced.

しかし、透明材料として本実施形態の紫外線透過フィルタ1を用いることで、長期間使用しても紫外線の透過率を低下させることがない。また、本実施形態において、熱膨張係数が制御されたガラス板2を有する紫外線透過フィルタ1を用いることで、基材と透明材料との熱膨張係数の差異を改善することができ、製品の割れやクラック発生も少ないUVレーザデバイスを提供することができる。   However, by using the ultraviolet transmission filter 1 of the present embodiment as a transparent material, the ultraviolet transmittance is not lowered even when used for a long time. Moreover, in this embodiment, the difference of the thermal expansion coefficient of a base material and a transparent material can be improved by using the ultraviolet transmissive filter 1 which has the glass plate 2 by which the thermal expansion coefficient was controlled, and it is a crack of a product. Further, it is possible to provide a UV laser device with less occurrence of cracks.

例えば、水殺菌には、UV−LEDがライン状に配列された基板を、UV透過性があるガラス管の中に封入した光源が用いられる。ここで、ガラス管に代えて本実施形態の紫外線透過フィルタ1を管成形したものを用いることで、深紫外線の透過率が高く、殺菌性の高い管状UV−LED光源を提供することができる。   For example, for water sterilization, a light source is used in which a substrate on which UV-LEDs are arranged in a line is enclosed in a glass tube having UV transparency. Here, it is possible to provide a tubular UV-LED light source having a high deep ultraviolet light transmittance and a high bactericidal property by using a tube-molded ultraviolet transmissive filter 1 instead of the glass tube.

なお、水殺菌に使用される光源は、水中に浸漬された状態または水に触れる状態で使用されるため、耐湿性が求められる。本実施形態の紫外線透過フィルタ1によれば、このような環境で長期使用した際の紫外線透過率の低下が抑えられる。また、光源から発せられる熱によって加熱される管の内表面と、水に接する管の外表面との温度差が大きくなることがある。そのため、ヒートショックによる管の破損を防止する観点から、管を構成するガラスは熱膨張係数が低いことが望ましく、本実施形態の紫外線透過フィルタ1はこの点でも好適である。   In addition, since the light source used for water sterilization is used in the state immersed in water or the state which touches water, moisture resistance is calculated | required. According to the ultraviolet transmissive filter 1 of the present embodiment, a decrease in the ultraviolet transmittance when used for a long time in such an environment can be suppressed. In addition, the temperature difference between the inner surface of the tube heated by the heat generated from the light source and the outer surface of the tube in contact with water may increase. Therefore, from the viewpoint of preventing breakage of the tube due to heat shock, it is desirable that the glass constituting the tube has a low coefficient of thermal expansion, and the ultraviolet transmission filter 1 of this embodiment is also suitable in this respect.

本実施形態の紫外線透過フィルタ1をこの用途に用いる場合、ガラス板2は、0℃以上300℃以下の温度範囲の平均熱膨張係数が、70×10−7/℃以下であることが好ましく、60×10−7/℃以下であることがより好ましく、50×10−7/℃以下であることがさらに好ましい。When the ultraviolet transmissive filter 1 of the present embodiment is used for this application, the glass plate 2 preferably has an average coefficient of thermal expansion of 70 × 10 −7 / ° C. or lower in a temperature range of 0 ° C. or higher and 300 ° C. or lower. It is more preferably 60 × 10 −7 / ° C. or less, and further preferably 50 × 10 −7 / ° C. or less.

また、水殺菌には、UV−LEDがライン状に配列されたUV−LEDアレイを、複数のガラス板の間に取り付けた光源が用いられる。ここで、ガラス板に代えて本実施形態の紫外線透過フィルタ1を用いることで、深紫外線の透過率が高く、殺菌性の高い板状UV−LEDアレイを提供することができる。   Further, for water sterilization, a light source in which a UV-LED array in which UV-LEDs are arranged in a line is attached between a plurality of glass plates is used. Here, it can replace with a glass plate and can provide the plate-shaped UV-LED array with the high transmittance | permeability of deep ultraviolet rays, and a high bactericidal property by using the ultraviolet transmissive filter 1 of this embodiment.

例えば、紫外線の発光管には、ガラス管中に紫外線光源を取り付けたものが用いられる。ここで、ガラス管に代えて本実施形態の紫外線透過フィルタ1を管成形したものを用いることで、深紫外線の透過率が高い発光管を提供することができる。   For example, a UV tube having a UV light source mounted in a glass tube is used as the UV tube. Here, it is possible to provide an arc tube having a high transmittance of deep ultraviolet rays by using a tube formed with the ultraviolet transmission filter 1 of this embodiment instead of the glass tube.

例えば、半導体ウエハの製造工程では、シリコン(Si)のバックグラインド用途などにサポート基板が利用されている。サポート基板を用いてシリコン基板をより薄膜化することで、携帯電話やデジタルAV機器およびICカード等において、チップの小型化および薄型化の要求に貢献している。現状、半導体ウエハのバックグラインド用途などに用いられるサポート基板には、再生Si基板が多く採用されているが、バックグラインド後の剥離方法が熱処理や物理処理に限定されるため、処理時間が長くなり、歩留まりも悪いなどの課題を抱えている。   For example, in a semiconductor wafer manufacturing process, a support substrate is used for back grinding of silicon (Si). By making the silicon substrate thinner using the support substrate, it contributes to the demand for smaller and thinner chips in mobile phones, digital AV devices, IC cards, and the like. Currently, a reclaimed Si substrate is often used as a support substrate used for backgrinding of semiconductor wafers, etc., but the processing time becomes longer because the peeling method after backgrinding is limited to heat treatment and physical treatment. , Have problems such as poor yield.

本実施形態の熱膨張係数の上記範囲に制御されたガラス板2を有する紫外線透過フィルタ1をサポート基板として用いることで、前記のような課題を解決できる。すなわち、熱膨張係数をシリコンと合わせたガラス板2に保護膜3を形成した紫外線透過フィルタ1を、サポート基板として用い、紫外線硬化樹脂(紫外線吸収性の構造を有する化合物)等によりシリコン基板と貼り合わせてから、バックグラインド加工をする。そして、バックグラインド後は、高強度の紫外線に暴露して、前記紫外線硬化樹脂の接着性を低下させることで、サポート基板の容易かつ迅速な剥離が可能になる。さらに、処理時間も短くなり、歩留まり向上にも貢献できる。   The above problems can be solved by using, as a support substrate, the ultraviolet light transmitting filter 1 having the glass plate 2 controlled in the above range of the thermal expansion coefficient of the present embodiment. That is, an ultraviolet transmission filter 1 in which a protective film 3 is formed on a glass plate 2 having a thermal expansion coefficient combined with silicon is used as a support substrate, and is bonded to a silicon substrate with an ultraviolet curable resin (compound having an ultraviolet absorbing structure) or the like. After matching, do back grinding. Then, after back grinding, the support substrate can be easily and quickly peeled by exposing to high-intensity ultraviolet rays to reduce the adhesiveness of the ultraviolet curable resin. Furthermore, the processing time is shortened, which can contribute to the improvement of yield.

さらに、本実施形態の紫外線透過フィルタ1は、細胞培養容器や、細胞を観察、測定するための部材(生体分析用器具)に好適に用いることができる。細胞培養分野において、細胞を観察する手法として、蛍光タンパク質を所望の細胞に発現させたり、蛍光色素を導入して、その蛍光を観察する手法が用いられている。本実施形態の紫外線透過フィルタは、紫外線透過フィルタ1を構成するガラス自体の発する蛍光が小さいため、容器や部材として用いる場合に発する蛍光が小さく、細胞から発せられる微弱な蛍光を高い精度で測定することができる。このような容器や部材としては、カバーガラス、スライドガラス、細胞培養用ディッシュ、ウエルプレート、マイクロプレート、細胞培養容器、分析チップ(バイオチップ、マイクロ化学チップ)、マイクロ流路デバイス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Furthermore, the ultraviolet transmission filter 1 of the present embodiment can be suitably used for a cell culture container or a member for observing and measuring cells (a bioanalytical instrument). In the field of cell culture, as a technique for observing cells, a technique for observing fluorescence by expressing a fluorescent protein in a desired cell or introducing a fluorescent dye is used. The ultraviolet transmissive filter of the present embodiment has a small fluorescence emitted from the glass itself constituting the ultraviolet transmissive filter 1, so that the fluorescence emitted when used as a container or member is small, and the weak fluorescence emitted from cells is measured with high accuracy. be able to. Examples of such containers and members include cover glasses, slide glasses, cell culture dishes, well plates, microplates, cell culture containers, analysis chips (biochips, microchemical chips), microchannel devices, and the like. However, it is not limited to these.

以下、実施例に基づいて本発明を説明する。例1〜例11は本発明の実施例である。各例に用いる試料は、次のようにして作製した。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples. Examples 1 to 11 are examples of the present invention. The sample used for each example was produced as follows.

[ガラス板の作製]
まず、表1に記載のガラス組成となるようにガラス原料を調合し、このガラス原料調合物を、白金坩堝を用いてモリブデンシリサイドを発熱体とした電気炉で、1300℃以上1650℃以下の温度で5時間溶融・撹拌・清澄を行った。この溶融物を鋳鉄の金型に鋳込み成形し、徐冷を行い、800gのガラス試料(ガラスブロック)を得た。また、このガラスブロックにスライス加工、研磨加工等を行った。研磨加工においては、両面を光学研磨加工して、所定形状(30mm×30mm×0.5mm)のガラス板(ガラスA〜Eを得た。
[Production of glass plate]
First, a glass raw material was prepared so as to have the glass composition shown in Table 1, and this glass raw material preparation was heated to 1300 ° C. or higher and 1650 ° C. or lower in an electric furnace using a platinum crucible and molybdenum silicide as a heating element. The mixture was melted, stirred and clarified for 5 hours. The melt was cast into a cast iron mold and slowly cooled to obtain 800 g of a glass sample (glass block). The glass block was sliced and polished. In the polishing process, both surfaces were optically polished to obtain glass plates (glasses A to E) having a predetermined shape (30 mm × 30 mm × 0.5 mm).

得られたガラス板(保護膜なし)について、後述のように、ガラス板厚0.5mmにおける波長200〜230nmの光の平均透過率、ガラス板厚0.5mmにおける波長254nmの透過率、紫外線照射試験による波長254nmの透過率の劣化度、耐候性試験(1000時間)による波長254nmの透過率の劣化度の各測定及び評価を行った。これらの結果を、表1の下欄に示す。なお、各ガラス板において、紫外線照射試験前の波長254nmの透過率と耐侯性試験前の波長254nmの透過率が相違する。これは、ガラス板の板厚のばらつきや測定誤差に起因するものである。   About the obtained glass plate (without a protective film), as described later, the average transmittance of light having a wavelength of 200 to 230 nm when the glass plate thickness is 0.5 mm, the transmittance of wavelength 254 nm when the glass plate thickness is 0.5 mm, and ultraviolet irradiation Each measurement and evaluation of the deterioration degree of the transmittance at a wavelength of 254 nm by the test and the deterioration degree of the transmittance at a wavelength of 254 nm by the weather resistance test (1000 hours) were performed. These results are shown in the lower column of Table 1. In each glass plate, the transmittance at a wavelength of 254 nm before the ultraviolet irradiation test is different from the transmittance at a wavelength of 254 nm before the weather resistance test. This is due to variations in the thickness of the glass plate and measurement errors.

Figure 2018100991
Figure 2018100991

(ガラス板厚0.5mmにおける透過率)
ガラスの透過率は、紫外線の波長200〜230nmの平均透過率と、波長254nmの透過率を、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光社製、型番:V−570)により測定した。波長200〜230nmの平均透過率は、波長200〜230nmにおける1nm毎の透過率値の平均値として算出した。
(Transmissivity at a glass plate thickness of 0.5 mm)
The transmittance of the glass was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, model number: V-570) as an average transmittance of ultraviolet light having a wavelength of 200 to 230 nm and a transmittance of 254 nm. The average transmittance at a wavelength of 200 to 230 nm was calculated as an average value of transmittance values every 1 nm at a wavelength of 200 to 230 nm.

(耐候性試験(1000時間)による透過率の劣化度)
上記で得られたガラス板を、高温高湿(温度85℃、相対湿度85%)雰囲気下に1000時間、保持した。上記同様の紫外可視近赤外分光光度計により、耐候性試験前後の波長254nmの透過率を測定し、下記式によって劣化度を算出した。
(Deterioration degree of transmittance by weather resistance test (1000 hours))
The glass plate obtained above was held for 1000 hours in a high temperature and high humidity (temperature 85 ° C., relative humidity 85%) atmosphere. The transmittance at a wavelength of 254 nm before and after the weather resistance test was measured with the same ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer as described above, and the degree of deterioration was calculated by the following formula.

耐候性試験による透過率劣化度(%)=[(耐候性試験前の透過率−耐候性試験後の透過率)/耐候性試験射前の透過率]×100   Degree of transmittance deterioration by weather resistance test (%) = [(transmittance before weather resistance test−transmittance after weather resistance test) / transmittance before weather resistance test] × 100

(紫外線照射試験による透過率の劣化度)
紫外線照射試験による透過率の劣化度は、以下のようにして測定した。上記のガラス板について、上記同様の紫外可視近赤外分光光度計により、波長254nmの透過率を測定した。次に、紫外線光源として理化学用高圧水銀ランプ(ハリソン東芝ライティング社製、型番:H−400P、出力400W)を用い、波長254nmの紫外線を、照射強度が10mW/cmとなるように、ガラス板表面からの距離が15cmの位置から1000時間、ガラス板に照射した。その後、再度、上記同様にガラス板の波長254nmの透過率を上記同様の紫外可視近赤外分光光度計により測定した。そして、紫外線照射試験前後のガラス板の波長254nmにおける透過率の変化を比較した。劣化度(%)は下記式によって算出した。
(Degree of deterioration of transmittance by UV irradiation test)
The degree of transmittance deterioration by the ultraviolet irradiation test was measured as follows. About the said glass plate, the transmittance | permeability of wavelength 254nm was measured with the same ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer. Next, a high-pressure mercury lamp for physics and chemistry (manufactured by Harrison Toshiba Lighting Co., model number: H-400P, output 400 W) is used as an ultraviolet light source, and ultraviolet light having a wavelength of 254 nm is applied to a glass plate so that the irradiation intensity is 10 mW / cm 2. The glass plate was irradiated for 1000 hours from a position at a distance of 15 cm from the surface. Then, the transmittance | permeability of wavelength 254nm of a glass plate was again measured with the ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer similar to the above similarly to the above. And the change of the transmittance | permeability in wavelength 254nm of the glass plate before and behind an ultraviolet irradiation test was compared. The degree of deterioration (%) was calculated by the following formula.

紫外線照射試験による透過率劣化度(%)=[(紫外線照射前の透過率−紫外線照射後の透過率)/紫外線照射前の透過率]×100   Degree of transmittance deterioration (%) by UV irradiation test = [(Transmission before UV irradiation−Transmission after UV irradiation) / Transmission before UV irradiation] × 100

(例1〜10)
[紫外線透過フィルタの製造]
上記で得られたガラス板(ガラスA〜E)のそれぞれについて、例1〜5では、(1)酸化ハフニウムと酸化ケイ素を交互に積層した誘電体多層膜からなる保護膜(ドライ(Dry)コート)を、例6〜10では、(2)中空シリカ粒子を含む保護膜(ウエット(Wet)コート)を、次のように形成して、紫外線透過フィルタを製造した。保護膜は、ガラス板の両方の主面に形成した。
(Examples 1 to 10)
[Manufacture of UV transmission filter]
For each of the glass plates (glasses A to E) obtained above, in Examples 1 to 5, (1) a protective film (dry coat) comprising a dielectric multilayer film in which hafnium oxide and silicon oxide are alternately laminated In Examples 6 to 10, (2) a protective film (wet coat) containing hollow silica particles was formed as follows to produce an ultraviolet transmission filter. The protective film was formed on both main surfaces of the glass plate.

(保護膜の形成方法)
(1)ドライコート
ガラス板側から、膜厚9.71nmの酸化ハフニウム膜(HfO)、膜厚19.33nmの酸化ケイ素膜(SiO)、膜厚28.38nmの酸化ハフニウム膜(HfO)、膜厚48.47nmの酸化ケイ素膜(SiO)の計4層の高屈折率膜及び低屈折率膜を真空蒸着法によって形成した。このようにして、誘電体多層膜からなる保護膜を有する紫外線透過フィルタを得た。
(Protective film formation method)
(1) Dry coating From the glass plate side, a 9.71 nm thick hafnium oxide film (HfO 2 ), a 19.33 nm thick silicon oxide film (SiO 2 ), and a 28.38 nm thick hafnium oxide film (HfO 2). ), A total of four layers of a high refractive index film and a low refractive index film of a 48.47 nm-thickness silicon oxide film (SiO 2 ) were formed by vacuum deposition. In this way, an ultraviolet transmission filter having a protective film made of a dielectric multilayer film was obtained.

(2)ウェットコート
テトラエトキシシランの加水分解縮合物の分散液を用意した。分散液の分散媒としては、エタノール、イソプロパノール、及びメチルエチルケトンの混合溶媒を用いた。上記テトラエトキシシランの加水分解縮合物の分散液を、ガラス基板の主表面上にディップコート法によって塗布し、その後、予熱炉内で、200℃、1分間、仮焼成した。仮焼成後の塗膜の表面に、上記テトラエトキシシランの加水分解縮合物の分散液に、中空シリカ粒子の水分散液(商品名;ルシーディア4111、日揮触媒化成社製、中空シリカ粒子の平均一次粒子径60nm)を混合した塗布液をディップコート法によって塗布し、焼成炉内で、650℃で10分間、焼成した。塗布液中の中空シリカ粒子の含有割合は、SiO換算で、テトラエトキシシランの加水分解縮合物の100質量部に対して、50質量部とした。このようにして、ガラス板の主表面上に、厚さ50nmのシリカアンダーコートと、当該シリカアンダーコート上の厚さ50nmの中空シリカ粒子を含む膜からなる保護膜を有する紫外線透過フィルタを得た。
(2) Wet coat A dispersion of a hydrolyzed condensate of tetraethoxysilane was prepared. As a dispersion medium of the dispersion, a mixed solvent of ethanol, isopropanol, and methyl ethyl ketone was used. The dispersion of the tetraethoxysilane hydrolyzed condensate was applied on the main surface of the glass substrate by dip coating, and then pre-baked in a preheating furnace at 200 ° C. for 1 minute. On the surface of the coating film after calcination, the dispersion of the tetraethoxysilane hydrolyzed condensate is dispersed in an aqueous dispersion of hollow silica particles (trade name; Lucidia 4111, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, average primary of hollow silica particles. A coating solution mixed with a particle diameter of 60 nm was applied by a dip coating method, and baked in a baking furnace at 650 ° C. for 10 minutes. The content ratio of the hollow silica particles in the coating solution was 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the tetraethoxysilane hydrolysis condensate in terms of SiO 2 . In this way, an ultraviolet transmission filter having a protective film composed of a silica undercoat having a thickness of 50 nm and a hollow silica particle having a thickness of 50 nm on the silica undercoat was obtained on the main surface of the glass plate. .

得られた紫外線透過フィルタについて、保護膜の形成された一方の主面側から紫外線を照射して、上記同様に、波長200〜230nmの平均透過率、波長254nmの透過率、紫外線照射試験による波長254nmの透過率の劣化度、耐候性試験による波長254nmの透過率の劣化度の各測定及び評価を行った。結果を表2に示す。なお、表2において、NDと表記している箇所は、未測定である。また、それぞれの紫外線透過フィルタにおいて、紫外線照射試験前の波長254nmの透過率と耐侯性試験前の波長254nmの透過率とが相違する。これは、ガラス板の板厚、保護膜の膜厚のばらつきや測定誤差に起因するものである。特に、ウエットコートは膜厚の制御が難しく、記載したシリカアンダーコートや中空シリカ粒子を含有する膜の膜厚は狙いの数値である。評価に用いた紫外線透過フィルタは、このような透過率のばらつきが見られたが、各評価試験に用いたサンプルごとに試験前の透過率を測定することで、各試験前後の波長254nmの透過率劣化度を正確に評価することができる。   The obtained ultraviolet transmission filter was irradiated with ultraviolet rays from one main surface side where the protective film was formed, and similarly to the above, the average transmittance at a wavelength of 200 to 230 nm, the transmittance at a wavelength of 254 nm, and the wavelength by an ultraviolet irradiation test. Each measurement and evaluation of the deterioration degree of the transmittance at 254 nm and the deterioration degree of the transmittance at a wavelength of 254 nm by a weather resistance test were performed. The results are shown in Table 2. In Table 2, the portion indicated as ND is not measured. Further, in each ultraviolet transmission filter, the transmittance at a wavelength of 254 nm before the ultraviolet irradiation test is different from the transmittance at a wavelength of 254 nm before the weather resistance test. This is due to variations in the thickness of the glass plate, the thickness of the protective film, and measurement errors. Particularly, it is difficult to control the film thickness of the wet coat, and the film thickness of the film containing the silica undercoat and the hollow silica particles described is a target numerical value. The UV transmission filter used for the evaluation showed such a variation in transmittance. By measuring the transmittance before the test for each sample used in each evaluation test, the transmission at a wavelength of 254 nm before and after each test was performed. The rate degradation rate can be accurately evaluated.

Figure 2018100991
Figure 2018100991

各ガラス板について、後述のように、保護膜を形成し、紫外線透過フィルタとした上で、耐候性試験(500時間)による波長254nmの透過率の劣化度の各測定及び評価を行った。これらの結果を、表3に示す。   For each glass plate, as described later, a protective film was formed to form an ultraviolet transmission filter, and each measurement and evaluation of the degree of deterioration of transmittance at a wavelength of 254 nm by a weather resistance test (500 hours) were performed. These results are shown in Table 3.

(例11)
[紫外線透過フィルタの製造]
上記で得られたガラス板(ガラスA)の主面に膜厚30nmの酸化ケイ素(SiO)からなる単層膜をスパッタリング法によって形成して、紫外線透過フィルタを製造した。保護膜は、ガラス板の両方の主面に形成した。
(Example 11)
[Manufacture of UV transmission filter]
A single-layer film made of silicon oxide (SiO 2 ) having a film thickness of 30 nm was formed on the main surface of the glass plate (glass A) obtained above by a sputtering method to produce an ultraviolet transmission filter. The protective film was formed on both main surfaces of the glass plate.

(耐候性試験(500時間)による透過率の劣化度)
上記例1、例6〜11で得られた紫外線透過フィルタおよびこれらの紫外線透過フィルタで用いたガラス板(保護膜なし)について、それぞれ高温高湿(温度85℃、相対湿度85%)雰囲気下に500時間、保持した。上記同様の紫外可視近赤外分光光度計により、耐候性試験前後の波長254nmの透過率を測定し、下記式によって劣化度を算出した。
(Degree of deterioration of transmittance by weather resistance test (500 hours))
The ultraviolet transmissive filters obtained in Examples 1 and 6 to 11 and the glass plates (without a protective film) used in these ultraviolet transmissive filters were each in a high temperature and high humidity (temperature 85 ° C., relative humidity 85%) atmosphere. Hold for 500 hours. The transmittance at a wavelength of 254 nm before and after the weather resistance test was measured with the same ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer as described above, and the degree of deterioration was calculated by the following formula.

耐候性試験による透過率劣化度(%)=[(耐候性試験前の透過率−耐候性試験後の透過率)/耐候性試験射前の透過率]×100   Degree of transmittance deterioration by weather resistance test (%) = [(transmittance before weather resistance test−transmittance after weather resistance test) / transmittance before weather resistance test] × 100

Figure 2018100991
Figure 2018100991

表1、2、3から、実施例の紫外線透過フィルタは、耐候性試験による波長254nm透過率劣化度が低く、優れた耐候性を有することが分かる。また、保護膜として誘電体多層膜を形成した紫外線透過フィルタでは、紫外線照射試験による波長254nm透過率劣化度も極めて低く、さらに優れた耐候性を有することが分かる。   From Tables 1, 2, and 3, it can be seen that the ultraviolet transmission filters of the examples have a low degree of transmittance deterioration at a wavelength of 254 nm according to the weather resistance test and have excellent weather resistance. In addition, it can be seen that the ultraviolet transmission filter in which the dielectric multilayer film is formed as the protective film has a very low degree of deterioration of transmittance at a wavelength of 254 nm in the ultraviolet irradiation test, and further has excellent weather resistance.

1…紫外線透過フィルタ、2…ガラス板、3…保護膜   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... UV transmission filter, 2 ... Glass plate, 3 ... Protective film

Claims (20)

ガラス板と、前記ガラス板の主面に備えられた保護膜と、を有し、
前記ガラス板は、酸化物基準のモル百分率表示で、
SiOを55〜80%、
を12〜27%、
O(Rは、Li、Na、およびKからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ金属を示す。)を4〜20%、
Alを0〜5%、
R´O(R´は、Mg、Ca、Sr、およびBaからなる群より選択される少なくとも1種のアルカリ土類金属を示す。)を0〜5%、
ZnOを0〜5%、
ZrOを0〜20%、
Taを0〜5%、含有し、
前記ガラス板は、その厚さ0.5mmにおける分光透過率において、波長254nmの透過率が70%以上であるガラスで形成されている、ことを特徴とする紫外線透過フィルタ。
A glass plate, and a protective film provided on the main surface of the glass plate,
The glass plate is a molar percentage display based on oxide,
The SiO 2 55~80%,
12-27% B 2 O 3
4 to 20% of R 2 O (R represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, and K),
Al 2 O 3 0-5%
0 to 5% of R′O (R ′ represents at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, and Ba);
ZnO 0-5%,
ZrO 2 from 0 to 20%,
0 to 5% of Ta 2 O 5 is contained,
The ultraviolet transmission filter, wherein the glass plate is formed of glass having a transmittance of 70% or more at a wavelength of 254 nm in a spectral transmittance at a thickness of 0.5 mm.
前記保護膜は、前記紫外線透過フィルタに、耐候性、耐アルカリ性、耐酸性、耐薬品性から選ばれる少なくとも1つ以上の機能を付与することを特徴とする請求項1に記載の紫外線透過フィルタ。   The ultraviolet transmissive filter according to claim 1, wherein the protective film imparts at least one function selected from weather resistance, alkali resistance, acid resistance, and chemical resistance to the ultraviolet transmissive filter. 前記保護膜は、SiOを主成分とする膜であって、前記保護膜中に中空シリカ粒子を含有することを特徴とする請求項1に記載の紫外線透過フィルタ。The ultraviolet transmissive filter according to claim 1, wherein the protective film is a film mainly composed of SiO 2 and contains hollow silica particles in the protective film. 前記保護膜は、SiO、Si、Si、Al、ZrO、TiO、Ta及びMgFからなる群から選ばれる少なくとも1種の単層膜からなることを特徴とする請求項1に記載の紫外線透過フィルタ。The protective film is at least one single layer selected from the group consisting of SiO 2 , Si 3 N 4 , Si 4 O 5 N 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2 , Ta 2 O 5 and MgF 2. The ultraviolet transmission filter according to claim 1, comprising a film. 前記保護膜は、誘電体多層膜からなることを特徴とする請求項1に記載の紫外線透過フィルタ。   The ultraviolet transmissive filter according to claim 1, wherein the protective film is made of a dielectric multilayer film. 前記誘電体多層膜は、低屈折率膜と高屈折率膜が交互に積層されてなり、前記高屈折率膜は、酸化ハフニウム及び酸化タンタルから選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項5に記載の紫外線透過フィルタ。   The dielectric multilayer film is formed by alternately laminating a low refractive index film and a high refractive index film, and the high refractive index film includes at least one selected from hafnium oxide and tantalum oxide. Item 6. The ultraviolet transmissive filter according to Item 5. 波長200nm〜230nmの平均透過率が60%以下であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。   The ultraviolet transmission filter according to any one of claims 1 to 6, wherein an average transmittance at a wavelength of 200 nm to 230 nm is 60% or less. 前記ガラスは、Alを実質的に含有しないことを特徴とする、請求項1ないし7のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。The ultraviolet transmission filter according to claim 1, wherein the glass does not substantially contain Al 2 O 3 . 前記ガラスは、Alを0.5〜5%含有することを特徴とする、請求項1ないし7のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。The ultraviolet transmission filter according to claim 1, wherein the glass contains 0.5 to 5% of Al 2 O 3 . 前記ガラスは、ZrOを1.5〜20%含有することを特徴とする、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。The ultraviolet transmission filter according to claim 1, wherein the glass contains 1.5 to 20% of ZrO 2 . 前記ガラスは、Taを0.01〜2%含有することを特徴とする、請求項1ないし10のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。The ultraviolet transmissive filter according to claim 1, wherein the glass contains 0.01 to 2 % of Ta 2 O 5 . 前記ガラスは、R´O(R´は、Mg、Ca、Sr、およびBaからなる群より選択されるアルカリ土類金属を示す。)を実質的に含有しないことを特徴とする、請求項1ないし11のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。   The glass is substantially free of R′O (R ′ represents an alkaline earth metal selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, and Ba). The ultraviolet transmissive filter of any one of thru | or 11. 前記ガラスは、Fe 0.00005〜0.01%および/またはTiO 0.0001〜0.02%をさらに含有することを特徴とする、請求項1ないし12のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。The glass is characterized by further containing Fe 2 O 3 0.00005~0.01% and / or TiO 2 0.0001 to 0.02%, to any one of claims 1 to 12 The ultraviolet ray transmitting filter described. 前記ガラスは、Cr、NiO、CuO、CeO、V、WO、MoO、MnO、およびCoOのいずれも実質的に含有しないことを特徴とする、請求項1ないし13のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。The glass, Cr 2 O 3, NiO, CuO, characterized in that none of CeO 2, V 2 O 5, WO 3, MoO 3, MnO 2, and CoO substantially devoid, claims 1 14. The ultraviolet transmissive filter according to any one of items 13. 前記ガラスは、Clを実質的に含有しないことを特徴とする、請求項1ないし14のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。   The ultraviolet transmission filter according to claim 1, wherein the glass does not substantially contain Cl. 耐候性試験において、以下の式で求められる、波長254nmの透過率の劣化度が3%以下であることを特徴とする、請求項1ないし15のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。
耐候性試験による劣化度(%)=[(T0−T2)/T0]×100
(式中、T0は、両面を光学研磨した厚さ0.5mmの前記ガラス板の一方の主面に保護膜を備えた紫外線透過フィルタの波長254nmにおける初期透過率であり、T2は、当該紫外線透過フィルタを85℃、相対湿度85%の雰囲気下に500時間保持した後の、波長254nmにおける透過率である。)
The ultraviolet transmission filter according to any one of claims 1 to 15, wherein a deterioration degree of transmittance at a wavelength of 254 nm obtained by the following formula in a weather resistance test is 3% or less.
Degree of deterioration by weather resistance test (%) = [(T0−T2) / T0] × 100
(In the formula, T0 is an initial transmittance at a wavelength of 254 nm of an ultraviolet transmission filter having a protective film on one main surface of the glass plate having a thickness of 0.5 mm whose both surfaces are optically polished, and T2 is the ultraviolet ray. (The transmittance at a wavelength of 254 nm after holding the transmission filter in an atmosphere of 85 ° C. and 85% relative humidity for 500 hours.)
耐候性試験において、以下の式で求められる、波長254nmの透過率の劣化度が5%以下であることを特徴とする、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。
耐候性試験による劣化度(%)=[(T0−T1)/T0]×100
(式中、T0は、両面を光学研磨した厚さ0.5mmの前記ガラス板の一方の主面に保護膜を備えた紫外線透過フィルタの波長254nmにおける初期透過率であり、T1は、当該紫外線透過フィルタを85℃、相対湿度85%の雰囲気下に1000時間保持した後の、波長254nmにおける透過率である。)
The ultraviolet ray transmission filter according to any one of claims 1 to 16, wherein a deterioration degree of transmittance at a wavelength of 254 nm, which is obtained by the following formula in a weather resistance test, is 5% or less.
Degree of deterioration by weather resistance test (%) = [(T0−T1) / T0] × 100
(In the formula, T0 is an initial transmittance at a wavelength of 254 nm of an ultraviolet transmission filter having a protective film on one main surface of the glass plate having a thickness of 0.5 mm whose both surfaces are optically polished, and T1 is the ultraviolet ray. (The transmittance at a wavelength of 254 nm after holding the transmission filter in an atmosphere of 85 ° C. and 85% relative humidity for 1000 hours.)
紫外線照射試験において、以下の式で求められる、波長254nmの透過率の劣化度が5%以下であることを特徴とする、請求項1ないし17のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。
紫外線照射試験による劣化度(%)=[(T0−T3)/T0]×100
(式中、T0は、両面を光学研磨した厚さ0.5mmの前記ガラス板の一方の主面に保護膜を備えた紫外線透過フィルタの波長254nmにおける初期透過率であり、T3は、当該紫外線透過フィルタに、前記保護膜の備えられた主面側から波長254nmの紫外線を10mW/cmの強度で1000時間照射した後の波長254nmにおける透過率である。)
The ultraviolet transmission filter according to any one of claims 1 to 17, wherein, in the ultraviolet irradiation test, the degree of deterioration of transmittance at a wavelength of 254 nm, which is obtained by the following formula, is 5% or less.
Degree of deterioration by ultraviolet irradiation test (%) = [(T0−T3) / T0] × 100
(In the formula, T0 is an initial transmittance at a wavelength of 254 nm of an ultraviolet transmission filter having a protective film on one main surface of the glass plate having a thickness of 0.5 mm whose both surfaces are optically polished, and T3 is the ultraviolet ray. (Transmittance at a wavelength of 254 nm after irradiating the transmission filter with ultraviolet light having a wavelength of 254 nm with an intensity of 10 mW / cm 2 from the main surface side provided with the protective film for 1000 hours.)
前記ガラス板の厚さ0.5mmにおける分光透過率において、波長254nmの透過率が80%以上であることを特徴とする、請求項1ないし18のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。   19. The ultraviolet transmission filter according to claim 1, wherein a transmittance at a wavelength of 254 nm is 80% or more in a spectral transmittance at a thickness of 0.5 mm of the glass plate. 前記ガラスは、0〜300℃の温度範囲の平均熱膨張係数が、30×10−7〜90×10−7/℃であることを特徴とする、請求項1ないし19のいずれか1項に記載の紫外線透過フィルタ。20. The glass according to claim 1, wherein the glass has an average coefficient of thermal expansion of 30 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. in a temperature range of 0 to 300 ° C. 20. The ultraviolet ray transmitting filter described.
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