JPWO2018100929A1 - Active energy ray-curable composition and film using the same - Google Patents

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Abstract

本発明は、活性エネルギー線硬化性化合物(A)及びシリカ粒子(B)を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、該活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜表面のぬれ張力が35〜60mN/mの範囲であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。前記シリカ粒子(B)の配合量は、活性エネルギー線硬化性化合物(A)100質量部に対して、1〜60質量部の範囲であることが好ましい。本発明が解決しようとする課題は、フィルム表面に高いアンチブロッキング性を付与でき、高い透明性とOCA等に対する高い接着密着性を有するハードコート層を形成できる活性エネルギー線硬化性組成物及びそれを用いたフィルムを提供することである。The present invention is an active energy ray-curable composition containing an active energy ray-curable compound (A) and silica particles (B), wherein the wet energy tension of the cured coating film surface of the active energy ray-curable composition is Provided is an active energy ray-curable composition characterized by being in a range of 35 to 60 mN / m. It is preferable that the compounding quantity of the said silica particle (B) is the range of 1-60 mass parts with respect to 100 mass parts of active energy ray hardening compounds (A). The problem to be solved by the present invention is to provide an active energy ray-curable composition capable of providing a high anti-blocking property on the film surface and capable of forming a hard coat layer having high transparency and high adhesive adhesion to OCA and the like. It is to provide the film used.

Description

本発明は、フィルムの表面に塗工、硬化させることにより、フィルム表面に高いアンチブロッキング性を付与でき、高い透明性と高い接着密着性を有するハードコート層を形成できる活性エネルギー線硬化性組成物及びそれを用いたフィルムに関する。   The present invention provides an active energy ray-curable composition that can impart a high antiblocking property to a film surface by coating and curing the film surface, and can form a hard coat layer having high transparency and high adhesive adhesion. And a film using the same.

各種樹脂フィルムは、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)、プラズマディスプレイ(PDP)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)表面の傷付き防止用フィルム、自動車の内外装用加飾フィルム(シート)、窓向けの低反射フィルムや熱線カットフィルムなど各種用途に用いられている。しかしながら、樹脂フィルム表面は柔らかく耐擦傷性が低いため、これを補う目的で、UV硬化性組成物等からなるハードコート剤をフィルム表面に塗工、硬化させハードコート層をフィルム表面に設けることが一般的に行われている。ハードコート層を設ける工程を概略すると、ロール状に巻いてあるフィルム原反から塗工機へ送り出され、ハードコート剤が塗工され、紫外線照射により硬化してハードコート層を形成した後、再度ロール状に巻き取られる。   Various resin films include scratch prevention films on the surface of flat panel displays (FPD) such as liquid crystal displays (LCD), organic EL displays (OLED), plasma displays (PDP), decorative films (sheets) for interior and exterior of automobiles, It is used for various applications such as low reflection film for windows and heat ray cut film. However, since the resin film surface is soft and has low scratch resistance, a hard coat layer comprising a UV curable composition or the like may be applied to the film surface and cured to provide a hard coat layer on the film surface in order to compensate for this. Generally done. The outline of the process of providing a hard coat layer is sent out from a film roll wound in a roll shape to a coating machine, a hard coat agent is applied, cured by ultraviolet irradiation to form a hard coat layer, and again It is wound up into a roll.

ここで、ハードコート層の表面は平滑であるため、再度ロール状に巻き取る際にフィルム同士が張り付いてしまい(ブロッキング)、再加工時にフィルムをロールから繰り出したときブロッキングによる摩擦が生じ、フィルム表面を傷付けてしまう問題があった。   Here, since the surface of the hard coat layer is smooth, the films stick to each other when the roll is wound again (blocking), and when the film is unwound from the roll during reprocessing, friction due to blocking occurs, and the film There was a problem of scratching the surface.

上記のフィルムのブロッキングを防止(アンチブロッキング)する方法としては、ハードコート剤にシリカ粒子等の微粒子を添加し、ハードコート剤の硬化塗膜表面に凹凸を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1及び2を参照。)。また、平均一次粒子径が5〜80nmのシリカ粒子と平均一次粒子径が100〜300nmのシリカ粒子を併用する方法も提案されている(例えば、特許文献3を参照。)。   As a method for preventing the blocking of the film (anti-blocking), a method is proposed in which fine particles such as silica particles are added to the hard coating agent to form irregularities on the hard coating surface of the hard coating agent (for example, , See Patent Documents 1 and 2.) In addition, a method in which silica particles having an average primary particle diameter of 5 to 80 nm and silica particles having an average primary particle diameter of 100 to 300 nm are used in combination has been proposed (see, for example, Patent Document 3).

ここで、タッチパネルで使用されている酸化インジウムスズ(ITO)フィルムの構成は、ポリエチレンテレフタレート(PET)基材の片面に高屈折率ハードコート層を形成し、もう一方の面にはフィルム同士のブロッキングを防止するアンチブッキング性付与ハードコート層を形成するのが主流である。高屈折率ハードコート層側は、その上に低屈折率層を積層させた後、ITOをスパッタしアニール処理を行う。   Here, the structure of the indium tin oxide (ITO) film used in the touch panel is such that a high refractive index hard coat layer is formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) base material, and the other side is blocked between the films. It is the mainstream to form an anti-booking property-imparting hard coat layer that prevents the above. On the high refractive index hard coat layer side, after a low refractive index layer is laminated thereon, ITO is sputtered and annealed.

一方、アンチブッキング性付与ハードコート層側は、上記アニール処理が完了するまで耐熱保護PETフィルムが貼られる。その後、耐熱保護PETは剥離され、高透明性粘着テープ(OCA)を用いてタッチパネルのモジュールを組み立てるが、上記のアンチブロッキング性を付与するハードコート剤の硬化塗膜は、OCAに十分に密着しないという問題があった。   On the other hand, a heat-resistant protective PET film is applied to the anti-booking property imparting hard coat layer side until the annealing treatment is completed. Thereafter, the heat-resistant protective PET is peeled off, and a touch panel module is assembled using a highly transparent adhesive tape (OCA). However, the cured coating film of the hard coating agent that imparts the above antiblocking property does not sufficiently adhere to the OCA. There was a problem.

そこで、フィルム表面に高いアンチブロッキング性を付与でき、高い透明性とOCA等に対する高い接着密着性を有するハードコート層を形成できる活性エネルギー線硬化性組成物が求められていた。   Therefore, there has been a demand for an active energy ray-curable composition that can impart high antiblocking properties to the film surface and can form a hard coat layer having high transparency and high adhesion to OCA.

特開2012−27401号公報JP 2012-27401 A 特開2011−98529号公報JP2011-98529A 特開2009−132880号公報JP 2009-132880 A

本発明が解決しようとする課題は、フィルム表面に高いアンチブロッキング性を付与でき、高い透明性とOCA等に対する高い接着密着性を有するハードコート層を形成できる活性エネルギー線硬化性組成物及びそれを用いたフィルムを提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide an active energy ray-curable composition capable of providing a high anti-blocking property on the film surface and capable of forming a hard coat layer having high transparency and high adhesive adhesion to OCA and the like. It is to provide the film used.

本発明者等は、上記の課題を解決するため鋭意研究した結果、シリカ粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜表面のぬれ張力が一定の範囲のものは、OCA等に対する高い接着密着性を有することを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have a high wetting tension on the surface of the cured coating film of the active energy ray-curable composition containing silica particles, which is high for OCA and the like. It discovered that it had adhesive adhesiveness, and completed this invention.

すなわち、活性エネルギー線硬化性化合物(A)及びシリカ粒子(B)を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、該活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜表面のぬれ張力が35〜60mN/mの範囲であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物及びそれを用いたフィルムに関する。   That is, it is an active energy ray-curable composition containing the active energy ray-curable compound (A) and the silica particles (B), and the wetting tension of the cured coating film surface of the active energy ray-curable composition is 35 to 35. The present invention relates to an active energy ray-curable composition characterized by being in a range of 60 mN / m and a film using the same.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、樹脂フィルム表面に塗工、硬化することで、フィルム表面に高いアンチブロッキング性を付与でき、高い透明性とOCA等に対する高い接着密着性を有するハードコート層を形成することができる。したがって、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜は耐擦傷性を有するため、各種樹脂フィルム表面の傷つきを防止でき、かつロール状に巻き取る際、ロールから繰り出す際に、ブロッキングが原因となるトラブルも回避できるため、その後のハンドリングに優れたフィルムを提供することができる。また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜からなるハードコート層を有するフィルムは、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)、プラズマディスプレイ(PDP)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)表面の傷付き防止用フィルム(保護フィルム)やタッチパネル、自動車の内外装用加飾フィルム(シート)、窓向けの低反射フィルムや熱線カットフィルムなど各種用途に用いることができる。特に、OCAとの高い接着密着性が要求されるタッチパネル用途には好適に用いることができる。   The active energy ray-curable composition of the present invention is capable of imparting high antiblocking properties to the film surface by coating and curing on the resin film surface, and has high transparency and high adhesive adhesion to OCA and the like. A layer can be formed. Therefore, since the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention has scratch resistance, it is possible to prevent scratches on the surface of various resin films, and when winding up into a roll shape, when blocking from the roll, blocking occurs. Since the trouble which becomes the cause can also be avoided, the film excellent in subsequent handling can be provided. Moreover, the film which has a hard-coat layer which consists of a cured coating film of the active energy ray curable composition of this invention is flat panel displays, such as a liquid crystal display (LCD), an organic electroluminescent display (OLED), and a plasma display (PDP) ( It can be used for various applications such as a film for protecting scratches (FPD) on the surface (protective film), a touch panel, a decorative film (sheet) for automobile interior and exterior, a low reflection film for windows, and a heat ray cut film. In particular, it can be suitably used for touch panel applications that require high adhesive adhesion with OCA.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物(A)及びシリカ粒子(B)を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、該活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜表面のぬれ張力が35〜60mN/mの範囲であるものである。   The active energy ray-curable composition of the present invention is an active energy ray-curable composition containing an active energy ray-curable compound (A) and silica particles (B), The wetting tension on the surface of the cured coating film is in the range of 35-60 mN / m.

前記活性エネルギー線硬化性化合物(A)としては、例えば、多官能(メタ)アクリレート(A1)、ウレタン(メタ)アクリレート(A2)等が挙げられる。これらは、単独で用いることも2種以上併用することもできる。   Examples of the active energy ray-curable compound (A) include polyfunctional (meth) acrylate (A1) and urethane (meth) acrylate (A2). These can be used alone or in combination of two or more.

なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方又は両方をいい、「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方又は両方をいう。   In the present invention, “(meth) acrylate” refers to one or both of acrylate and methacrylate, and “(meth) acryloyl group” refers to one or both of acryloyl group and methacryloyl group.

前記多官能(メタ)アクリレート(A1)は、1分子中に2つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物である。この多官能(メタ)アクリレート(a1)の具体例としては、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2−メチル−1,8−オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の2価アルコールのジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA1モルに2モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、トリス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの多官能(メタ)アクリレート(A1)は、単独で用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの多官能(メタ)アクリレート(A1)の中でも、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜の耐擦傷性が向上することから、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが好ましい。   The polyfunctional (meth) acrylate (A1) is a compound having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate (a1) include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol. Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2-methyl-1,8-octanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate , Tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di ( (Meth) acrylate, etc. Di (meth) acrylate of dihydric alcohol, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 4 moles per mole of neopentyl glycol Di (meth) acrylate of diol obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide as described above, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A, trimethylolpropane Tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditri Tyrolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol Examples include tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These polyfunctional (meth) acrylates (A1) can be used alone or in combination of two or more. Among these polyfunctional (meth) acrylates (A1), since the scratch resistance of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention is improved, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, di Pentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate are preferred.

前記ウレタン(メタ)アクリレート(A2)は、ポリイソシアネート(a2−1)と水酸基を有する(メタ)アクリレート(a2−2)とを反応させて得られたものである。   The urethane (meth) acrylate (A2) is obtained by reacting a polyisocyanate (a2-1) with a (meth) acrylate (a2-2) having a hydroxyl group.

前記ポリイソシアネート(a2−1)としては、脂肪族ポリイソシアネートと芳香族ポリイソシアネートとが挙げられるが、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜の着色を低減できることから、脂肪族ポリイソシアネートが好ましい。   Examples of the polyisocyanate (a2-1) include aliphatic polyisocyanates and aromatic polyisocyanates, but since the coloring of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention can be reduced, aliphatic polyisocyanates. Isocyanates are preferred.

前記脂肪族ポリイソシアネートは、イソシアネート基を除く部位が脂肪族炭化水素から構成される化合物である。この脂肪族ポリイソシアネートの具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート;ノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、2−メチル−1,3−ジイソシアナトシクロヘキサン、2−メチル−1,5−ジイソシアナトシクロヘキサン等の脂環式ポリイソシアネートなどが挙げられる。また、前記脂肪族ポリイソシアネート又は脂環式ポリイソシアネートを3量化した3量化物も前記脂肪族ポリイソシアネートとして用いることができる。また、これらの脂肪族ポリイソシアネートは、単独で用いることも2種以上併用することもできる。   The aliphatic polyisocyanate is a compound in which a portion excluding an isocyanate group is composed of an aliphatic hydrocarbon. Specific examples of the aliphatic polyisocyanate include aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and lysine triisocyanate; norbornane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanato). And cycloaliphatic polyisocyanates such as methyl) cyclohexane, 2-methyl-1,3-diisocyanatocyclohexane and 2-methyl-1,5-diisocyanatocyclohexane. A trimerized product obtained by trimming the aliphatic polyisocyanate or the alicyclic polyisocyanate can also be used as the aliphatic polyisocyanate. These aliphatic polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more.

前記脂肪族ポリイソシアネートの中でも塗膜の耐擦傷性を向上させるには、脂肪族ポリイソシアネートの中でも、直鎖脂肪族炭化水素のジイソシアネートであるヘキサメチレンジイソシアネート、脂環式ジイソシアネートであるノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートが好ましい。   Among the aliphatic polyisocyanates, in order to improve the scratch resistance of the coating film, among the aliphatic polyisocyanates, hexamethylene diisocyanate, which is a linear aliphatic hydrocarbon diisocyanate, norbornane diisocyanate, which is an alicyclic diisocyanate, isophorone Diisocyanate is preferred.

前記(メタ)アクリレート(a2−2)は、水酸基と(メタ)アクリロイル基とを有する化合物である。この(メタ)アクリレート(a2−2)の具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールモノ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート等の2価アルコールのモノ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド(EO)変性トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド(PO)変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート等の3価のアルコールのモノ又はジ(メタ)アクリレート、あるいは、これらのアルコール性水酸基の一部をε−カプロラクトンで変性した水酸基を有するモノ及びジ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の1官能の水酸基と3官能以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、あるいは、該化合物をさらにε−カプロラクトンで変性した水酸基を有する多官能(メタ)アクリレート;ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のオキシアルキレン鎖を有する(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリオキシブチレン−ポリオキシプロピレンモノ(メタ)アクリレート等のブロック構造のオキシアルキレン鎖を有する(メタ)アクリレート;ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート等のランダム構造のオキシアルキレン鎖を有する(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの(メタ)アクリレート(a2−2)は、単独で用いることも2種以上併用することもできる。   The (meth) acrylate (a2-2) is a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group. Specific examples of the (meth) acrylate (a2-2) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth). Divalent compounds such as acrylate, 1,5-pentanediol mono (meth) acrylate, 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, and hydroxypivalate neopentyl glycol mono (meth) acrylate Mono (meth) acrylate of alcohol; trimethylolpropane di (meth) acrylate, ethylene oxide (EO) modified trimethylolpropane (meth) acrylate, propylene oxide (PO) modified trimethylolpropane di (meta) Mono- or di (meth) acrylate of a trivalent alcohol such as acrylate, glycerin di (meth) acrylate, bis (2- (meth) acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, or a part of these alcoholic hydroxyl groups Mono- and di (meth) acrylates having hydroxyl groups modified with ε-caprolactone; monofunctional hydroxyl groups such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and 3 A compound having a functional (meth) acryloyl group or a polyfunctional (meth) acrylate having a hydroxyl group obtained by further modifying the compound with ε-caprolactone; dipropylene glycol mono (meth) acrylate, diethylene group (Meth) acrylates having an oxyalkylene chain such as coal mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate; polyethylene glycol-polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyoxybutylene-poly (Meth) acrylate having an oxyalkylene chain having a block structure such as oxypropylene mono (meth) acrylate; poly (ethylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate, poly (propylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) And (meth) acrylate having an oxyalkylene chain having a random structure such as acrylate. These (meth) acrylates (a2-2) can be used alone or in combination of two or more.

前記ウレタン(メタ)アクリレート(A2)の中でも、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜の耐擦傷性を向上できるため、1分子中に4つ以上の(メタ)アクリロイル基を有するものが好ましい。前記ウレタン(メタ)アクリレート(A2)を1分子中に4つ以上の(メタ)アクリロイル基を有するものとするため、前記(メタ)アクリレート(a2−2)としては、(メタ)アクリロイル基は2つ以上有するものが好ましい。このような(メタ)アクリレート(a2−2)としては、例えば、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの(メタ)アクリレート(a2−2)は、前記脂肪族ポリイソシアネート(a1)の1種に対して、1種を用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの(メタ)アクリレート(a2−2)の中でも、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートは、耐擦傷性を向上できるため好ましい。   Among the urethane (meth) acrylate (A2), since it can improve the scratch resistance of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention, it has four or more (meth) acryloyl groups in one molecule. Those are preferred. Since the urethane (meth) acrylate (A2) has four or more (meth) acryloyl groups in one molecule, the (meth) acrylate (a2-2) has 2 (meth) acryloyl groups. Those having at least two are preferred. Examples of such (meth) acrylate (a2-2) include trimethylolpropane di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane di (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane di (meth) acrylate, Glycerin di (meth) acrylate, bis (2- (meth) acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, etc. Can be mentioned. These (meth) acrylates (a2-2) can be used singly or in combination of two or more of the aliphatic polyisocyanate (a1). Among these (meth) acrylates (a2-2), pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferable because they can improve scratch resistance.

前記ポリイソシアネート(a2−1)と前記(メタ)アクリレート(a2−2)との反応は、常法のウレタン化反応により行うことができる。また、ウレタン化反応の進行を促進するために、ウレタン化触媒の存在下でウレタン化反応を行うことが好ましい。前記ウレタン化触媒としては、例えば、ピリジン、ピロール、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン等のアミン化合物;トリフェニルホスフィン、トリエチルホスフィン等のリン化合物;ジブチル錫ジラウレート、オクチル錫トリラウレート、オクチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫等の有機錫化合物、オクチル酸亜鉛等の有機亜鉛化合物などが挙げられる。   The reaction of the polyisocyanate (a2-1) and the (meth) acrylate (a2-2) can be carried out by a conventional urethanization reaction. Moreover, in order to accelerate | stimulate progress of a urethanation reaction, it is preferable to perform a urethanation reaction in presence of a urethanization catalyst. Examples of the urethanization catalyst include amine compounds such as pyridine, pyrrole, triethylamine, diethylamine and dibutylamine; phosphorus compounds such as triphenylphosphine and triethylphosphine; dibutyltin dilaurate, octyltin trilaurate, octyltin diacetate, dibutyltin Examples thereof include organic tin compounds such as diacetate and tin octylate, and organic zinc compounds such as zinc octylate.

また、必要に応じて、上記の多官能(メタ)アクリレート(A1)、ウレタン(メタ)アクリレート(A2)以外の活性エネルギー線硬化性化合物(A)として、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート等を用いることができる。前記エポキシ(メタ)アクリレートとしては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリグリシジルメタクリレート等に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得られるものが挙げられる。また、前記ポリエステル(メタ)アクリレートとしては、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールを重縮合して得られた両末端が水酸基であるポリエステルに、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得られたもの、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加したものに(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得られたものが挙げられる。さらに、前記ポリエーテル(メタ)アクリレートとしては、例えば、ポリエーテルポリオールに(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得られたものが挙げられる。   Moreover, as needed, as active energy ray-curable compound (A) other than said polyfunctional (meth) acrylate (A1) and urethane (meth) acrylate (A2), epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) An acrylate, a polyether (meth) acrylate, etc. can be used. Examples of the epoxy (meth) acrylate include those obtained by reacting (meth) acrylic acid with bisphenol-type epoxy resin, novolac-type epoxy resin, polyglycidyl methacrylate and the like and esterifying it. Moreover, as said polyester (meth) acrylate, (meth) acrylic acid is made to react and esterify with the polyester which the both terminal obtained by polycondensation of polyhydric carboxylic acid and polyhydric alcohol is a hydroxyl group, for example. Or a product obtained by reacting (meth) acrylic acid with ester obtained by adding an alkylene oxide to a polyvalent carboxylic acid. Furthermore, as said polyether (meth) acrylate, what was obtained by reacting (meth) acrylic acid with polyether polyol and esterifying is mentioned, for example.

前記シリカ粒子(B)の一次平均粒子径は、通常1nm以上のものが好ましく、透明性をより向上できることから、50nm以下が好ましく、40nm以下がより好ましく、30nm以下がさらに好ましい。なお、前記シリカ粒子(B)の一次平均粒子径は、透過型電子顕微鏡で観察した結果から求めたものである。   The primary average particle diameter of the silica particles (B) is usually preferably 1 nm or more, and is preferably 50 nm or less, more preferably 40 nm or less, and even more preferably 30 nm or less because transparency can be further improved. In addition, the primary average particle diameter of the said silica particle (B) is calculated | required from the result observed with the transmission electron microscope.

また、前記シリカ粒子(B)は、上記の一次平均粒子径を有するシリカ粒子が二次凝集したものを用いることが好ましい。シリカ粒子の二次凝集後の粒度分布におけるD50での粒子径(以下、単に「平均粒子径」と略記する。)は、高いアンチブロッキング性と高い透明性を両立できることから、50nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましく、120nm以上がさらに好ましい。また、同様の理由から、シリカ粒子の二次凝集後の平均粒子径は、500nm以下が好ましく、400nm以下がより好ましく、300nm以下がさらに好ましい。なお、粒度分布におけるD50での粒子径とは、粒度分布測定結果の積算粒子量曲線において、その積算量が50%を占めるときの粒子径を表す。   Moreover, it is preferable to use what the silica particle which has said primary average particle diameter secondary aggregated as said silica particle (B). The particle size at D50 in the particle size distribution after the secondary aggregation of the silica particles (hereinafter simply abbreviated as “average particle size”) is preferably 50 nm or more because both high antiblocking properties and high transparency can be achieved. 100 nm or more is more preferable, and 120 nm or more is more preferable. For the same reason, the average particle size after secondary aggregation of the silica particles is preferably 500 nm or less, more preferably 400 nm or less, and even more preferably 300 nm or less. In addition, the particle diameter at D50 in the particle size distribution represents the particle diameter when the integrated amount occupies 50% in the integrated particle amount curve of the particle size distribution measurement result.

前記シリカ粒子(B)は、例えば、湿式法で製造されたものを用いることができる。また、湿式法には、沈降法とゲル法が知られているが、いずれの方法で製造されたシリカ粒子でも用いることができる。さらに、本発明で用いるサイズの一次平均粒子径及び二次平均粒子径を有するシリカ粒子とするためには、沈降法、ゲル法ともに、シリカ粒子の原料であるケイ酸ナトリウムと硫酸等の鉱酸との反応条件(pH、原料濃度、反応温度等)を調整することで達成できる。また、大きめの二次平均粒径を有するシリカ粒子を一度製造した後、粉砕して所望の二次平均粒径とすることもできる。   As the silica particles (B), for example, those produced by a wet method can be used. Moreover, although the precipitation method and the gel method are known as a wet method, the silica particle manufactured by any method can be used. Further, in order to obtain silica particles having a primary average particle size and a secondary average particle size of the size used in the present invention, both the precipitation method and the gel method are mineral acids such as sodium silicate and sulfuric acid which are raw materials for silica particles. Can be achieved by adjusting the reaction conditions (pH, raw material concentration, reaction temperature, etc.). Alternatively, silica particles having a larger secondary average particle diameter can be produced once and then pulverized to obtain a desired secondary average particle diameter.

上記のシリカ粒子の粉砕に用いる装置としては、ボールミル、ビーズミル、ロッドミル、SAGミル、高圧粉砕ロール、縦軸インパクタ(VSI)ミル、コロイドミル、コニカルミル、ディスクミル、エッジミル、ハンマーミル、乳鉢、ジェットミル等が挙げられる。   The apparatus used for pulverizing the silica particles includes a ball mill, a bead mill, a rod mill, a SAG mill, a high-pressure pulverizing roll, a vertical axis impactor (VSI) mill, a colloid mill, a conical mill, a disk mill, an edge mill, a hammer mill, a mortar, and a jet mill. Etc.

また、シリカ粒子を粉砕する際に、シランカップリング剤を加えて、粉砕と同時にシリカ粒子の表面を有機基で修飾することも好ましい。前記シランカップリング剤としては、例えば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を用いることができる。   In addition, when pulverizing the silica particles, it is also preferable to add a silane coupling agent and modify the surface of the silica particles with an organic group simultaneously with the pulverization. Examples of the silane coupling agent include trifluoropropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane.

前記シリカ粒子(B)の配合量は、アンチブロッキング性をより向上できることから、前記活性エネルギー線硬化性化合物(A)100質量部に対して、1〜60質量部の範囲が好ましく、2〜50質量部の範囲がより好ましく、5〜40質量部の範囲がさらに好ましい。   Since the compounding quantity of the said silica particle (B) can improve antiblocking property more, the range of 1-60 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said active energy ray hardening compounds (A), and 2-50 The range of parts by mass is more preferable, and the range of 5 to 40 parts by mass is more preferable.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜表面のぬれ張力は、35〜60mN/mの範囲であるが、OCAとの密着性をより向上できることから、40mN/m以上が好ましく、40〜55mN/mの範囲がより好ましい。なお、ぬれ張力は、JIS試験方法K6768:1999に準拠して測定した値である。   The wetting tension on the surface of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention is in the range of 35 to 60 mN / m, but 40 mN / m or more is preferable because the adhesion with OCA can be further improved. A range of ˜55 mN / m is more preferable. The wetting tension is a value measured according to JIS test method K6768: 1999.

前記ぬれ張力を所望の範囲とするためには、前記シリカ粒子(B)の種類、表面処理、配合量等を適宜調整することにより行うことができる。   In order to make the said wetting tension into a desired range, it can carry out by adjusting suitably the kind, surface treatment, compounding quantity, etc. of the said silica particle (B).

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、基材に塗布後、活性エネルギー線を照射することで硬化塗膜とすることができる。この活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線をいう。活性エネルギー線として紫外線を照射して硬化塗膜とする場合には、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物中に光重合開始剤(C)を添加し、硬化性を向上することが好ましい。また、必要であればさらに光増感剤(D)を添加して、硬化性を向上することもできる。一方、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線を用いる場合には、光重合開始剤(C)や光増感剤(D)を用いなくても速やかに硬化するので、特に光重合開始剤(C)や光増感剤(D)を添加する必要はない。   Moreover, the active energy ray curable composition of this invention can be made into a cured coating film by irradiating an active energy ray after apply | coating to a base material. The active energy rays refer to ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. When irradiating ultraviolet rays as active energy rays to form a cured coating film, it is preferable to improve the curability by adding a photopolymerization initiator (C) to the active energy ray-curable composition of the present invention. Further, if necessary, a photosensitizer (D) can be further added to improve curability. On the other hand, when ionizing radiation such as electron beam, α-ray, β-ray, γ-ray, etc. is used, it cures quickly without using a photopolymerization initiator (C) or photosensitizer (D). It is not necessary to add a photopolymerization initiator (C) or a photosensitizer (D).

前記光重合開始剤(C)としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物;2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物;ベンジル(ジベンゾイル)、メチルフェニルグリオキシエステル、オキシフェニル酢酸2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルエステル、オキシフェニル酢酸2−(2−オキソ−2−フェニルアセトキシエトキシ)エチルエステル等のベンジル系化合物;ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル−4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物;ミヒラ−ケトン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物;10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアンスラキノン、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、1−[4−(4−ベンゾイルフェニルサルファニル)フェニル]−2−メチル−2−(4−メチルフェニルサルフォニル)プロパン−1−オン等が挙げられる。これらの光重合開始剤(C)は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。   Examples of the photopolymerization initiator (C) include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- ( 1-methylvinyl) phenyl] propanone}, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy -2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) ) -Acetophenone compounds such as butanone; benzoin, benzoin methyl ether, benzoy Benzoin compounds such as isopropyl ether; acylphosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoin diphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; benzyl (dibenzoyl) and methylphenyl Benzylic compounds such as glyoxyester, oxyphenylacetic acid 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl ester, oxyphenylacetic acid 2- (2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy) ethyl ester; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate -4-phenylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, acrylated benzophenone, 3,3 ', , 4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-methylbenzophenone and other benzophenone compounds; 2-isopropylthioxanthone, Thioxanthone compounds such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone; Aminobenzophenone compounds such as Michler's ketone and 4,4'-diethylaminobenzophenone; 10-butyl-2- Chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, 1- [4- (4-benzoylphenylsulfanyl) phenyl] -2-methyl-2- (4-methylphenylsal Fonyl) Propan-1-one etc. are mentioned. These photopolymerization initiators (C) can be used alone or in combination of two or more.

また、前記光増感剤(D)としては、例えば、ジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、トリブチルアミン等の3級アミン化合物、o−トリルチオ尿素等の尿素化合物、ナトリウムジエチルジチオホスフェート、s−ベンジルイソチウロニウム−p−トルエンスルホネート等の硫黄化合物などが挙げられる。   Examples of the photosensitizer (D) include tertiary amine compounds such as diethanolamine, N-methyldiethanolamine, and tributylamine, urea compounds such as o-tolylthiourea, sodium diethyldithiophosphate, and s-benzylisothiuro. And sulfur compounds such as nitro-p-toluenesulfonate.

上記の光重合開始剤(C)及び光増感剤(D)の使用量は、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物中の前記活性エネルギー線硬化性化合物(A)及び前記化合物(B)の合計100質量部に対し、各々0.05〜20質量部が好ましく、0.5〜10質量部がより好ましい。   The photopolymerization initiator (C) and the photosensitizer (D) are used in the active energy ray-curable compound (A) and the compound (B) in the active energy ray-curable composition of the present invention. Is preferably 0.05 to 20 parts by mass, and more preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、上記の活性エネルギー線硬化性化合物(A)及びシリカ粒子(B)等以外に、用途、要求特性に応じて、有機溶剤、重合禁止剤、表面調整剤、帯電防止剤、消泡剤、粘度調整剤、耐光安定剤、耐候安定剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、有機顔料、無機顔料、顔料分散剤、シリカビーズ、有機ビーズ等の添加剤;酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、ジルコニア、五酸化アンチモン等の無機充填剤などを配合することができる。これらその他の配合物は単独で用いることも2種以上併用することもできる。   In addition to the active energy ray-curable compound (A) and the silica particles (B), the active energy ray-curable composition of the present invention includes an organic solvent, a polymerization inhibitor, a surface, depending on applications and required characteristics. Conditioner, antistatic agent, antifoaming agent, viscosity modifier, light stabilizer, weathering stabilizer, heat stabilizer, ultraviolet absorber, antioxidant, leveling agent, organic pigment, inorganic pigment, pigment dispersant, silica beads Additives such as organic beads; inorganic fillers such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconia, and antimony pentoxide can be blended. These other blends can be used alone or in combination of two or more.

前記有機溶剤は、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の溶液粘度を適宜調整する上で有用であり、特に薄膜コーティングを行うためには、膜厚を調整することが容易となる。ここで使用できる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、t−ブタノール等のアルコール;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン化合物;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素などが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。   The organic solvent is useful in appropriately adjusting the solution viscosity of the active energy ray-curable composition of the present invention, and it is easy to adjust the film thickness particularly for performing thin film coating. Examples of the organic solvent that can be used here include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, and t-butanol; ester compounds such as ethyl acetate, butyl acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Ketone compounds of the following: aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

本発明のフィルムで用いる前記基材フィルムは、フィルム状でもシート状でもよく、その厚さは、20〜500μmの範囲が好ましい。また、前記基材フィルムの材質としては、透明性の高い樹脂が好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン−1等のポリオレフィン系樹脂;セルロースアセテート(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等)、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、セルロースアセテートフタレート、硝酸セルロース等のセルロース系樹脂;ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニル系樹脂;ポリビニルアルコール;エチレン−酢酸ビニル共重合体;ポリスチレン;ポリアミド;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ポリイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂;ノルボルネン系樹脂(例えば、日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」)、変性ノルボルネン系樹脂(例えば、(JSR株式会社製「アートン」)、環状オレフィン共重合体(例えば、三井化学株式会社製「アペル」)などが挙げられる。さらに、これらの樹脂からなる基材を2種以上貼り合わせたものを用いても構わない。   The base film used in the film of the present invention may be in the form of a film or a sheet, and the thickness is preferably in the range of 20 to 500 μm. The material of the base film is preferably a highly transparent resin, for example, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or polyethylene naphthalate; a polyolefin resin such as polypropylene, polyethylene, or polymethylpentene-1. Resins; Cellulose acetates such as cellulose acetate (diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, etc.), cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate butyrate, cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate, etc .; polymethyl methacrylate, etc. Acrylic resin; Vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; Polyvinyl alcohol; Ethylene-vinyl acetate copolymer; Poly Polyethylene; Polysulfone; Polyethersulfone; Polyetheretherketone; Polyimide resin such as polyimide and polyetherimide; Norbornene resin (for example, “ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), modified norbornene resin (for example, (“Arton” manufactured by JSR Corporation), cyclic olefin copolymers (for example, “Appel” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), etc. Further, two or more types of base materials made of these resins are bonded together. May be used.

また、前記樹脂フィルムの厚さは、20〜200μmの範囲が好ましく、30〜150μmの範囲がより好ましく、40〜130μmの範囲がさらに好ましい。フィルム基材の厚さを当該範囲とすることで、環状オレフィン樹脂フィルムの片面に、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物によりハードコート層を設けた場合にもカールを抑制しやすくなる。   The thickness of the resin film is preferably in the range of 20 to 200 μm, more preferably in the range of 30 to 150 μm, and still more preferably in the range of 40 to 130 μm. By setting the thickness of the film substrate within the above range, curling can be easily suppressed even when a hard coat layer is provided on one side of the cyclic olefin resin film with the active energy ray-curable composition of the present invention.

本発明のフィルムは、当該フィルムの少なくとも1面に、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を塗工し、その後活性エネルギー線を照射して硬化塗膜とすることで得られたものである。フィルムに本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を塗工する方法としては、例えば、ダイコート、マイクログラビアコート、グラビアコート、ロールコート、コンマコート、エアナイフコート、キスコート、スプレーコート、かけ渡しコート、ディップコート、スピンナーコート、ホイーラーコート、刷毛塗り、シルクスクリーンによるベタコート、ワイヤーバーコート、フローコート等が挙げられる。   The film of the present invention is obtained by applying the active energy ray-curable composition of the present invention to at least one surface of the film and then irradiating the active energy ray to form a cured coating film. . Examples of the method for applying the active energy ray-curable composition of the present invention to a film include die coating, micro gravure coating, gravure coating, roll coating, comma coating, air knife coating, kiss coating, spray coating, transfer coating, and dip coating. Examples thereof include a coat, a spinner coat, a wheeler coat, a brush coat, a solid coat by silk screen, a wire bar coat, and a flow coat.

また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物中に有機溶媒を含む場合は、活性エネルギー線硬化性組成物を基材フィルムへの塗工した後、活性エネルギー線を照射する前に、有機溶媒を揮発させ、また、前記シリカ粒子(B)を塗膜表面に偏析させるために、加熱又は室温乾燥することが好ましい。加熱乾燥の条件としては、有機溶剤が揮発する条件であれば、特に限定しないが、通常は、温度50〜100℃の範囲で、時間は0.5〜10分の範囲で加熱乾燥することが好ましい。   In addition, when the active energy ray-curable composition of the present invention contains an organic solvent, after applying the active energy ray-curable composition to the substrate film, before irradiating the active energy ray, the organic solvent It is preferable to heat or dry at room temperature in order to volatilize the silica particles and segregate the silica particles (B) on the coating film surface. The conditions for heat drying are not particularly limited as long as the organic solvent volatilizes. Usually, the temperature is 50 to 100 ° C. and the time is 0.5 to 10 minutes. preferable.

また、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化するために、紫外線を照射する装置としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ(フュージョンランプ)、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光、LEDランプ等が挙げられる。   In addition, as a device for irradiating ultraviolet rays to cure the active energy ray-curable composition, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an electrodeless lamp (fusion lamp), a chemical Lamp, black light lamp, mercury-xenon lamp, short arc lamp, helium / cadmium laser, argon laser, sunlight, LED lamp, and the like.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜を有するフィルムは、高いアンチブロッキング性に加え、その表面の耐擦傷性に優れることから、各種用途に適用できるが、特に、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)等の画像表示装置の画像表示部に用いる光学フィルムとして有用である。特に、薄型であっても優れた耐擦傷性を有することから、例えば、電子手帳、携帯電話、スマートフォン、携帯オーディオプレイヤー、モバイルパソコン、タブレット端末等の小型化や薄型化の要請の高い携帯電子端末の画像表示装置の画像表示部の光学フィルムとして好適に用いることができる。また、光学フィルムとして用いる場合、画像表示装置の画像表示部の最表面に用いる保護フィルム、タッチパネルの基材として用いることができる。さらに、保護フィルムとして用いた場合には、例えば、LCDモジュールやOLEDモジュール等の画像表示モジュールの上部に当該画像表示モジュールを保護する透明パネルが設けられた構成の画像表示装置においては、当該透明パネルの表面又は裏面に貼り付けて使用することで、傷つき防止や透明パネルが破損した際の飛散防止に有効である。   The film having a cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention is applicable to various applications because of its excellent anti-blocking property and excellent scratch resistance on its surface. ) And an optical film used for an image display unit of an image display device such as an organic EL display (OLED). In particular, since it has excellent scratch resistance even if it is thin, for example, electronic notebooks, mobile phones, smartphones, portable audio players, mobile personal computers, tablet terminals, etc. It can use suitably as an optical film of the image display part of this image display apparatus. Moreover, when using as an optical film, it can use as a protective film used for the outermost surface of the image display part of an image display apparatus, and a base material of a touch panel. Furthermore, when used as a protective film, for example, in an image display device having a configuration in which a transparent panel for protecting the image display module is provided on the upper part of an image display module such as an LCD module or an OLED module, the transparent panel By sticking to the front or back surface of the plate, it is effective for preventing damage and preventing scattering when the transparent panel is damaged.

以下に実施例により本発明をより具体的に説明する。なお、シリカ粒子の平均粒子径は、粒度分布計(日機装株式会社製「マイクロトラック UPA」を用いて測定した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The average particle size of the silica particles was measured using a particle size distribution meter ("Microtrack UPA" manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).

(調製例1:シリカ分散液(1)の調製)
シリカ粒子(東ソー・シリカ株式会社製「ニップシル E−220A」、平均粒子径:1.7μm、表面未処理品)16質量部に、メチルエチルケトン42質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル42質量部を加え、ディスパーミルにより混合した後、ビーズミル(ウィリー・エ・バッコーフェン社製「ダイノミルECM」;メディア:ジルコニウムビーズ、ビーズ径:0.3〜0.4mm、ビーズ充填率:60%)を用いて、粉砕、分散して、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(1)を得た。このシリカ分散液(1)中のシリカ粒子の平均粒子径は251nmであった。
(Preparation Example 1: Preparation of silica dispersion (1))
To 16 parts by mass of silica particles (“Nipples E-220A” manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., average particle size: 1.7 μm, surface untreated product), 42 parts by mass of methyl ethyl ketone and 42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether are added. After mixing by par mill, pulverize and disperse using a bead mill ("Dynomill ECM" manufactured by Willy et Bacofen); media: zirconium beads, bead diameter: 0.3 to 0.4 mm, bead filling rate: 60%) Thus, a silica dispersion liquid (1) having a silica particle content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (1) was 251 nm.

(調製例2:シリカ分散液(2)の調製)
シリカ粒子(東ソー・シリカ株式会社製「ニップシル BY−200」、平均粒子径:1.7μm、表面未処理品)を用いた以外は調製例1と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(2)を得た。このシリカ分散液(2)中のシリカ粒子の平均粒子径は455nmであった。
(Preparation Example 2: Preparation of silica dispersion (2))
The same procedure as in Preparation Example 1 was carried out except that silica particles (“Nipples BY-200” manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., average particle size: 1.7 μm, surface untreated product) were used, and the content of silica particles was 16 mass. % Silica dispersion (2) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (2) was 455 nm.

(調製例3:シリカ分散液(3)の調製)
シリカ粒子(日本アエロジル株式会社製「アエロジル 50」、平均粒子径:0.3μm、表面未処理品)を用いた以外は調製例1と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(3)を得た。このシリカ分散液(3)中のシリカ粒子の平均粒子径は368nmであった。
(Preparation Example 3: Preparation of silica dispersion (3))
The same procedure as in Preparation Example 1 except that silica particles (“Aerosil 50” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average particle size: 0.3 μm, surface untreated product) was used. A dispersion (3) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (3) was 368 nm.

(調製例4:シリカ分散液(4)の調製)
シリカ粒子(東ソー・シリカ株式会社製「ニップシル E−220A」、平均粒子径:1.7μm、表面未処理品)16質量部に、メチルエチルケトン42質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル42質量部を加え、ディスパーミルにより混合した後、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−7103」)をシリカ粒子に対し0.5質量%添加し、ディスパーミルによりさらに混合し、得られた混合液をビーズミル(ウィリー・エ・バッコーフェン社製「ダイノミルECM」;メディア:ジルコニウムビーズ、ビーズ径:0.3〜0.4mm、ビーズ充填率:60%)を用いて、粉砕、分散して、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(4)を得た。このシリカ分散液(4)中のシリカ粒子の平均粒子径は214nmであった。
(Preparation Example 4: Preparation of silica dispersion (4))
To 16 parts by mass of silica particles (“Nipples E-220A” manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., average particle size: 1.7 μm, surface untreated product), 42 parts by mass of methyl ethyl ketone and 42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether are added. After mixing by permill, 0.5% by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane (“KBM-7103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to the silica particles, and further mixed by a disper mill. The silica particles are pulverized and dispersed using a bead mill ("Dynomill ECM" manufactured by Willy et Bacofen; media: zirconium beads, bead diameter: 0.3 to 0.4 mm, bead filling rate: 60%). A silica dispersion (4) having a content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (4) was 214 nm.

(調製例5:シリカ分散液(5)の調製)
調製例4で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−5103」)に変更した以外は調製例4と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(5)を得た。このシリカ分散液(5)中のシリカ粒子の平均粒子径は237nmであった。
(Preparation Example 5: Preparation of silica dispersion (5))
The same procedure as in Preparation Example 4 was conducted except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 4 was changed to 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (“KBM-5103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). A silica dispersion (5) having a content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (5) was 237 nm.

(調製例6:シリカ分散液(6)の調製)
調製例4で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランをメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−13」)に変更した以外は調製例4と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(6)を得た。このシリカ分散液(6)中のシリカ粒子の平均粒子径は209nmであった。
(Preparation Example 6: Preparation of silica dispersion (6))
The same procedure as in Preparation Example 4 was conducted except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 4 was changed to methyltrimethoxysilane (“KBM-13” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the silica particle content was 16 A mass dispersion of silica (6) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (6) was 209 nm.

(調製例7:シリカ分散液(7)の調製)
調製例4で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランを3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−503」)に変更した以外は調製例4と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(7)を得た。このシリカ分散液(7)中のシリカ粒子の平均粒子径は223nmであった。
(Preparation Example 7: Preparation of silica dispersion (7))
The same procedure as in Preparation Example 4 was conducted except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 4 was changed to 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (“KBM-503” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). A silica dispersion (7) having a content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (7) was 223 nm.

(調製例8:シリカ分散液(8)の調製)
調製例4で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランをビニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−1003」)に変更した以外は調製例4と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(8)を得た。このシリカ分散液(8)中のシリカ粒子の平均粒子径は225nmであった。
(Preparation Example 8: Preparation of silica dispersion (8))
The same procedure as in Preparation Example 4 was conducted except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 4 was changed to vinyltrimethoxysilane (“KBM-1003” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the silica particle content was 16 A mass dispersion of silica (8) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (8) was 225 nm.

(調製例9:シリカ分散液(9)の調製)
調製例4で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランを3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−403」)に変更した以外は調製例4と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(9)を得た。このシリカ分散液(9)中のシリカ粒子の平均粒子径は219nmであった。
(Preparation Example 9: Preparation of silica dispersion (9))
Silica particles were prepared in the same manner as in Preparation Example 4 except that trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 4 was changed to 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (“KBM-403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). A silica dispersion liquid (9) having a content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (9) was 219 nm.

(調製例10:シリカ分散液(10)の調製)
シリカ粒子(東ソー・シリカ株式会社製「ニップシル BY−200」、平均粒子径:1.7μm、表面未処理品)16質量部に、メチルエチルケトン42質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル42質量部を加え、ディスパーミルにより混合した後、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−7103」)をシリカ粒子に対し0.5質量%添加し、ディスパーミルによりさらに混合し、得られた混合液をビーズミル(ウィリー・エ・バッコーフェン社製「ダイノミルECM」;メディア:ジルコニウムビーズ、ビーズ径:0.3〜0.4mm、ビーズ充填率:60%)を用いて、粉砕、分散して、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(10)を得た。このシリカ分散液(10)中のシリカ粒子の平均粒子径は452nmであった。
(Preparation Example 10: Preparation of silica dispersion (10))
To 16 parts by mass of silica particles (“Nipples BY-200” manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., average particle size: 1.7 μm, surface untreated product), 42 parts by mass of methyl ethyl ketone and 42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether are added. After mixing by permill, 0.5% by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane (“KBM-7103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to the silica particles, and further mixed by a disper mill. The silica particles are pulverized and dispersed using a bead mill ("Dynomill ECM" manufactured by Willy et Bacofen; media: zirconium beads, bead diameter: 0.3 to 0.4 mm, bead filling rate: 60%). A silica dispersion liquid (10) having a content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (10) was 452 nm.

(調製例11:シリカ分散液(11)の調製)
調製例10で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−5103」)に変更した以外は調製例10と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(9)を得た。このシリカ分散液(9)中のシリカ粒子の平均粒子径は463nmであった。
(Preparation Example 11: Preparation of silica dispersion (11))
The same procedure as in Preparation Example 10 was conducted except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 10 was changed to 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (“KBM-5103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). A silica dispersion (9) having a content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (9) was 463 nm.

(調製例12:シリカ分散液(12)の調製)
調製例10で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランをメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−13」)に変更した以外は調製例10と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(9)を得た。このシリカ分散液(9)中のシリカ粒子の平均粒子径は423nmであった。
(Preparation Example 12: Preparation of silica dispersion (12))
The same procedure as in Preparation Example 10 was performed except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 10 was changed to methyltrimethoxysilane (“KBM-13” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the silica particle content was 16 A mass dispersion of silica (9) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (9) was 423 nm.

(調製例13:シリカ分散液(13)の調製)
調製例10で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシラン0.5質量部を3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−5103」)をシリカ粒子に対し0.5質量%及びメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−13」)をシリカ粒子に対し0.5質量%に変更した以外は調製例10と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(10)を得た。このシリカ分散液(10)中のシリカ粒子の平均粒子径は315nmであった。
(Preparation Example 13: Preparation of silica dispersion (13))
0.5 part by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 10 was mixed with 0.5% by mass of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (“KBM-5103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) based on silica particles, and The same procedure as in Preparation Example 10 was conducted except that methyltrimethoxysilane (“KBM-13” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was changed to 0.5 mass% with respect to the silica particles, and the silica particle content was 16 mass%. A silica dispersion (10) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (10) was 315 nm.

(調製例14:シリカ分散液(14)の調製)
シリカ粒子(日本アエロジル株式会社製「アエロジル 50」、平均粒子径:0.3μm、表面未処理品)8質量部に、メチルエチルケトン42質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル42質量部を加え、ディスパーミルにより混合した後、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−7103」)をシリカ粒子に対し0.5質量%を添加し、ディスパーミルによりさらに混合し、得られた混合液をビーズミル(ウィリー・エ・バッコーフェン社製「ダイノミルECM」;メディア:ジルコニウムビーズ、ビーズ径:0.3〜0.4mm、ビーズ充填率:60%)を用いて、粉砕、分散して、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(14)を得た。このシリカ分散液(14)中のシリカ粒子の平均粒子径は263nmであった。
(Preparation Example 14: Preparation of silica dispersion (14))
To 8 parts by mass of silica particles (“Aerosil 50” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average particle size: 0.3 μm, surface untreated product), 42 parts by mass of methyl ethyl ketone and 42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether are added and mixed by a disper mill. After that, 0.5% by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane (“KBM-7103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to the silica particles, and further mixed by a disper mill. (Willie and Bacofen "Dynomill ECM"; media: zirconium beads, bead diameter: 0.3 to 0.4 mm, bead filling rate: 60%), pulverized and dispersed to contain silica particles A silica dispersion liquid (14) having a rate of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (14) was 263 nm.

(調製例15:シリカ分散液(15)の調製)
調製例14で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−5103」)に変更した以外は調製例14と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(15)を得た。このシリカ分散液(15)中のシリカ粒子の平均粒子径は293nmであった。
(Preparation Example 15: Preparation of silica dispersion (15))
The same procedure as in Preparation Example 14 was carried out except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 14 was changed to 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (“KBM-5103” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). A silica dispersion (15) having a content of 16% by mass was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (15) was 293 nm.

(調製例16:シリカ分散液(16)の調製)
調製例14で用いたトリフルオロプロピルトリメトキシシランをメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製「KBM−13」)に変更した以外は調製例14と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(16)を得た。このシリカ分散液(16)中のシリカ粒子の平均粒子径は281nmであった。
(Preparation Example 16: Preparation of silica dispersion (16))
The same procedure as in Preparation Example 14 was performed except that the trifluoropropyltrimethoxysilane used in Preparation Example 14 was changed to methyltrimethoxysilane (“KBM-13” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the silica particle content was 16 A mass dispersion of silica (16) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (16) was 281 nm.

(調製例17:シリカ分散液(17)の調製)
シリカ粒子(日本アエロジル株式会社製「アエロジル NAX50」、平均粒子径:27.2μm、ヘキサメチルジシラザンによる表面処理品)8質量部に、メチルエチルケトン46質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル46質量部を加え、ディスパーミルにより混合した後、ビーズミル(ウィリー・エ・バッコーフェン社製「ダイノミルECM」;メディア:ジルコニウムビーズ、ビーズ径:0.3〜0.4mm、ビーズ充填率:60%)を用いて、粉砕、分散して、シリカ粒子の含有率が8質量%のシリカ分散液(17)を得た。このシリカ分散液(17)中のシリカ粒子の平均粒子径は207nmであった。
(Preparation Example 17: Preparation of silica dispersion (17))
To 8 parts by mass of silica particles (“Aerosil NAX50” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average particle diameter: 27.2 μm, surface treatment product with hexamethyldisilazane), 46 parts by mass of methyl ethyl ketone and 46 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether are added. After mixing by a disper mill, it is pulverized using a bead mill ("Dynomill ECM" manufactured by Willy et Bacofen); media: zirconium beads, bead diameter: 0.3 to 0.4 mm, bead filling rate: 60%), Dispersion gave a silica dispersion (17) having a silica particle content of 8% by mass. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (17) was 207 nm.

(調製例18:シリカ分散液(18)の調製)
シリカ粒子(日本アエロジル株式会社製「アエロジル 200」、平均粒子径:42.2μm、表面未処理品)を用いた以外は調製例17と同様に行い、シリカ粒子の含有率が8質量%のシリカ分散液(18)を得た。このシリカ分散液(18)中のシリカ粒子の平均粒子径は259nmであった。
(Preparation Example 18: Preparation of silica dispersion (18))
Silica with a silica particle content of 8% by mass, except that silica particles (“Aerosil 200” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average particle size: 42.2 μm, surface untreated product) were used. A dispersion (18) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (18) was 259 nm.

(調製例19:シリカ分散液(19)の調製)
シリカ粒子(日本アエロジル株式会社製「アエロジル R974」、平均粒子径:52.0μm、ジメチルジクロロシランによる表面処理品)を用いた以外は調製例17と同様に行い、シリカ粒子の含有率が8質量%のシリカ分散液(19)を得た。このシリカ分散液(19)中のシリカ粒子の平均粒子径は149nmであった。
(Preparation Example 19: Preparation of silica dispersion (19))
The same procedure as in Preparation Example 17 was conducted except that silica particles (“Aerosil R974” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average particle size: 52.0 μm, surface-treated product with dimethyldichlorosilane) were used, and the silica particle content was 8 mass. % Silica dispersion (19) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (19) was 149 nm.

(調製例20:シリカ分散液(20)の調製)
東ソー・シリカ株式会社製「ニップシル SS−50F」、平均粒子径:1.2μm、ジメチルポリシロキサンによる表面処理品)を用いた以外は調製例1と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(20)を得た。このシリカ分散液(20)中のシリカ粒子の平均粒子径は97nmであった。
(Preparation Example 20: Preparation of silica dispersion (20))
The same procedure as in Preparation Example 1 was performed except that “Nipples SS-50F” manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., average particle size: 1.2 μm, surface-treated product with dimethylpolysiloxane was used, and the silica particle content was 16 mass. % Silica dispersion (20) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (20) was 97 nm.

(調製例21:シリカ分散液(21)の調製)
東ソー・シリカ株式会社製「ニップシル SBY−61」、平均粒子径:1.5μm、ジメチルポリシロキサンによる表面処理品)を用いた以外は調製例1と同様に行い、シリカ粒子の含有率が16質量%のシリカ分散液(21)を得た。このシリカ分散液(21)中のシリカ粒子の平均粒子径は358nmであった。
(Preparation Example 21: Preparation of silica dispersion (21))
The same procedure as in Preparation Example 1 was performed except that “Nipples SBY-61” manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd., average particle size: 1.5 μm, surface-treated product with dimethylpolysiloxane was used, and the content of silica particles was 16 mass. % Silica dispersion (21) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (21) was 358 nm.

(調製例22:シリカ分散液(22)の調製)
シリカ粒子(日本アエロジル株式会社製「アエロジル NY50」、平均粒子径:29.4μm、ジメチルジクロロシランによる表面処理品)を用いた以外は調製例17と同様に行い、シリカ粒子の含有率が8質量%のシリカ分散液(22)を得た。このシリカ分散液(22)中のシリカ粒子の平均粒子径は234nmであった。
(Preparation Example 22: Preparation of silica dispersion (22))
The same procedure as in Preparation Example 17 was performed except that silica particles (“Aerosil NY50” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average particle size: 29.4 μm, surface-treated product with dimethyldichlorosilane) were used, and the silica particle content was 8 mass. % Silica dispersion (22) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (22) was 234 nm.

(調製例23:シリカ分散液(23)の調製)
シリカ粒子(日本アエロジル株式会社製「アエロジル RY200」、平均粒子径:59.4μm、ジメチルジクロロシランによる表面処理品)を用いた以外は調製例17と同様に行い、シリカ粒子の含有率が8質量%のシリカ分散液(23)を得た。このシリカ分散液(23)中のシリカ粒子の平均粒子径は901nmであった。
(Preparation Example 23: Preparation of silica dispersion (23))
The same procedure as in Preparation Example 17 was performed except that silica particles (“Aerosil RY200” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average particle size: 59.4 μm, surface-treated product with dimethyldichlorosilane) were used, and the silica particle content was 8 mass. % Silica dispersion (23) was obtained. The average particle diameter of the silica particles in this silica dispersion (23) was 901 nm.

(実施例1)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亞合成株式会社製「ルミキュア DPA−620」、一部ジペンタエリスリトールペンタアクリレートを含有。;以下、「DPHA」と略記する。)10質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックス M−450」、一部ペンタエリスリトールトリアクリレートを含有。;以下、「PETA」と略記する。)20質量部、イソシアヌル酸EO(エチレンオキサイド)変性トリアクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックス M−315」)30質量部、及びウレタンアクリレート(MIWON社製「PU−610」)40質量部を均一に混合した。
(Example 1)
10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (“LumiCure DPA-620” manufactured by Toagosei Co., Ltd., partially containing dipentaerythritol pentaacrylate; hereinafter abbreviated as “DPHA”), pentaerythritol triacrylate (Toagosei Co., Ltd.) "Aronix M-450" manufactured by Co., Ltd., partially containing pentaerythritol triacrylate; hereinafter abbreviated as "PETA") 20 parts by mass, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) modified triacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 30 parts by mass of “Aronix M-315”) and 40 parts by mass of urethane acrylate (“PU-610” manufactured by MIWON) were mixed uniformly.

次いで、それに調製例1で得られたシリカ分散液(1)をシリカ粒子の含有率が8質量%になるようにメチルエチルケトン及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合溶剤(質量比=50/50)で希釈したもの20質量部、及び光重合開始剤(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア 184」と「イルガキュア 2959」の質量比で1:1の混合物)4質量部を加えた後、メチルイソブチルケトンで不揮発分30質量%となるように希釈して、活性エネルギー線硬化性組成物(1)を得た。   Next, the silica dispersion (1) obtained in Preparation Example 1 was diluted with a mixed solvent of methyl ethyl ketone and propylene glycol monomethyl ether (mass ratio = 50/50) so that the content of silica particles was 8% by mass. After adding 20 parts by mass of the product and 4 parts by mass of a photopolymerization initiator (a mixture of “Irgacure 184” and “Irgacure 2959” by BASF Japan Ltd. in a mass ratio of 1: 1), the non-volatile content is 30 with methyl isobutyl ketone. It diluted so that it might become mass%, and active energy ray hardening composition (1) was obtained.

(実施例2〜19)
実施例1で用いたシリカ分散液(1)を、調製例2〜19で得られたシリカ分散液(2)〜(19)に変更した以外は実施例1と同様に行い、活性エネルギー線硬化性組成物(2)〜(19)を得た。
(Examples 2 to 19)
Active energy ray curing is carried out in the same manner as in Example 1 except that the silica dispersion (1) used in Example 1 is changed to the silica dispersions (2) to (19) obtained in Preparation Examples 2 to 19. Sex compositions (2) to (19) were obtained.

(比較例1〜4)
実施例1で用いたシリカ分散液(1)を、調製例20〜23で得られたシリカ分散液(20)〜(23)に変更した以外は実施例1と同様に行い、活性エネルギー線硬化性組成物(R1)〜(R4)を得た。
(Comparative Examples 1-4)
Active energy ray curing is carried out in the same manner as in Example 1 except that the silica dispersion (1) used in Example 1 is changed to the silica dispersions (20) to (23) obtained in Preparation Examples 20 to 23. Sex compositions (R1) to (R4) were obtained.

[評価用フィルムの作製]
上記で得られた活性エネルギー線硬化性組成物(1)〜(19)及び(R1)〜(R4)を、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ株式会社製「ルミラー UH−13」、厚さ:50μm)上に、ワイヤーバーを用いて塗工し、60℃で60秒間乾燥した。次いで、空気雰囲気下で紫外線照射装置(アイグラフィック「UV照射装置」、高圧水銀ランプ:120W/cm、照射光量:1.5kJ/m)を用いて紫外線を照射し、膜厚2μmの硬化塗膜を有する評価用フィルムを得た。
[Production of evaluation film]
The active energy ray-curable compositions (1) to (19) and (R1) to (R4) obtained above were converted into polyethylene terephthalate (PET) films ("Lumirror UH-13" manufactured by Toray Industries, Inc., thickness: 50 μm) was coated using a wire bar and dried at 60 ° C. for 60 seconds. Next, UV irradiation is performed using an ultraviolet irradiation device (eye graphic “UV irradiation device”, high pressure mercury lamp: 120 W / cm, irradiation light amount: 1.5 kJ / m 2 ) in an air atmosphere, and a cured coating having a film thickness of 2 μm. An evaluation film having a membrane was obtained.

[ぬれ張力の測定]
上記で得られた評価用フィルムの硬化塗膜表面について、JIS試験方法K6768:1999に準拠して、ぬれ張力を測定した。
[Measurement of wetting tension]
The wetting tension of the cured coating film surface of the evaluation film obtained above was measured according to JIS test method K6768: 1999.

[ヘイズ値の測定及び透明性の評価]
上記で得られた評価用フィルムについて、ヘイズメーター(日本電色工業株式会社製「NDH2000」)で測定した。得られたヘイズ値から、下記の基準にしたがって透明性を評価した。
A:ヘイズ値が0.5未満である。
B:ヘイズ値が0.5以上2.0未満である。
C:ヘイズ値が2.0以上である。
[Measurement of haze value and evaluation of transparency]
About the film for evaluation obtained above, it measured with the haze meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. "NDH2000"). From the obtained haze value, transparency was evaluated according to the following criteria.
A: The haze value is less than 0.5.
B: The haze value is 0.5 or more and less than 2.0.
C: Haze value is 2.0 or more.

[アンチブロッキング性の評価]
上記で得られた評価用フィルムの硬化塗膜表面同士、又は評価用フィルムの硬化塗膜表面と基材面(硬化塗膜の反対面)とを接触させ、下記の基準にしたがってアンチブロッキング性(以下、「AB性」と略記する。)を評価した。
A:強く擦っても引っかからない。
B:強く擦るとわずかに引っかかる。
C:張り付いてしまう。
[Evaluation of anti-blocking properties]
The cured coating film surfaces of the evaluation film obtained above, or the cured coating film surface of the evaluation film and the substrate surface (the opposite surface of the cured coating film) are brought into contact with each other, and anti-blocking property ( Hereinafter, it is abbreviated as “AB property”).
A: Even if it rubs strongly, it does not catch.
B: Slightly caught when rubbed strongly.
C: It sticks.

[OCA密着性の評価]
上記で得られた評価用フィルムの硬化塗膜面に対し、幅25mm、膜厚25μmのOCA(DIC株式会社製「ファインタックCT−6030」と「ファインタック硬化剤DN」を100/1の配合比で混合したもの)を貼り付け、引っ張り試験機にて180°ピール試験を行い、剥離強度を測定した。得られた剥離強度の値から、下記の基準にしたがって密着性を評価した。
A:剥離強度が17N以上である。
B:剥離強度が12N以上17N未満である。
C:剥離強度が12N未満である。
[Evaluation of OCA adhesion]
OCA with a width of 25 mm and a film thickness of 25 μm (“Fine Tuck CT-6030” and “Fine Tack Curing Agent DN” manufactured by DIC Corporation) is 100/1 with respect to the cured coating film surface of the evaluation film obtained above. The mixture was mixed at a ratio, and a 180 ° peel test was conducted with a tensile tester to measure the peel strength. The adhesion was evaluated from the obtained peel strength value according to the following criteria.
A: Peel strength is 17N or more.
B: Peel strength is 12N or more and less than 17N.
C: Peel strength is less than 12N.

上記の実施例1〜19及び比較例1〜4で調製した活性エネルギー線硬化性組成物で用いたシリカ種及び評価結果を表1に示す。   Table 1 shows the silica species and the evaluation results used in the active energy ray-curable compositions prepared in Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 4.

Figure 2018100929
Figure 2018100929

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(実施例1〜19)の硬化塗膜は、透明性が高く、AB性も良好で、OCAとの密着性も高いことが確認できた。   The cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention (Examples 1 to 19) was confirmed to have high transparency, good AB property, and high adhesion to OCA.

一方、比較例1〜4の活性エネルギー線硬化性組成物は、その硬化塗膜表面のぬれ張力が35mN/m未満の例であるが、透明性、OCA密着性の少なくとも1つが不十分であることが確認できた。   On the other hand, the active energy ray-curable compositions of Comparative Examples 1 to 4 are examples in which the wet tension of the cured coating film surface is less than 35 mN / m, but at least one of transparency and OCA adhesion is insufficient. I was able to confirm.

Claims (4)

活性エネルギー線硬化性化合物(A)及びシリカ粒子(B)を含有する活性エネルギー線硬化性組成物であって、該活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜表面のぬれ張力が35〜60mN/mの範囲であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。   An active energy ray-curable composition containing an active energy ray-curable compound (A) and silica particles (B), wherein the wet tension of the cured coating film surface of the active energy ray-curable composition is 35 to 60 mN / An active energy ray-curable composition having a range of m. 前記シリカ粒子(B)の配合量が、活性エネルギー線硬化性化合物(A)100質量部に対して、1〜60質量部の範囲である請求項1記載の活性エネルギー線硬化性組成物。   The active energy ray-curable composition according to claim 1, wherein the amount of the silica particles (B) is in the range of 1 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound (A). 請求項1又は2記載の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物。   A cured product of the active energy ray-curable composition according to claim 1 or 2. 請求項1又は2記載の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化塗膜を有することを特徴とするフィルム。   A film comprising a cured coating film of the active energy ray-curable composition according to claim 1.
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