JPWO2018079509A1 - ガスセンサー装置および気体成分除去方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ガスセンサーと、前記ガスセンサーを洗浄するための液体を含む洗浄手段とを備えたガスセンサー装置であって、
前記ガスセンサーは、
気相中または液相中に存在する成分の特性パラメータを検出可能なセンサー本体と、
前記センサー本体の表面に被覆され、かつ、前記液体に対する耐性を有する感応膜と、
を備えることを特徴としている。
前記ガスセンサーは、気相中または液相中に存在する成分の特性パラメータを検出可能なセンサー本体と、
前記センサー本体の表面に被覆され、かつ、前記液体に対する耐性を有する感応膜と、を備え、
以下の工程:
(1)前記ガスセンサーと前記液体とを接触させる洗浄工程;および
(2)前記洗浄工程の後、前記ガスセンサーを気相中で乾燥させる乾燥工程
を含むことを特徴としている。
液相状態における前記基準値に基づいて、前記センサー本体を調整する工程を含むことが好ましい。
(1)前記ガスセンサーと前記液体とを接触させる洗浄工程、
(2)前記洗浄工程の後、前記ガスセンサーを気相中で乾燥させる乾燥工程
を含む。
<実施例1>液体の水に耐性を有する感応膜によって被覆されたセンサーに各種蒸気を吹きかけた場合に、液体の水に浸すことによる気相/液相定常状態への復帰の実証
微粒子は、非特許文献3に示す方法を基本として合成した。微粒子は、オクタデシルアミン(ODA)が溶解したアンモニア塩基性のイソプロパノール(IPA)水溶液中における、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)と、チタニウムテトライソプロポキシド(TTIP)との共加水分解、縮合重合反応により合成した。これにより、アミノプロピル基修飾シリカチタニア微粒子が得られる。上記合成反応は、マイクロメートルサイズのY字型流路を有するテフロン(登録商標)製マイクロリアクタを用いて実施した(非特許文献3)。前駆溶液は、溶液1:APTES/IPA、溶液2:H2O/IPA/アンモニア、溶液3:TTIP/IPA、溶液4:H2O/IPAの4つとし、溶液1から溶液4まで体積を揃えて調製した。前駆溶液はシリンジポンプにより同時に一定速度で送液した。溶液1と溶液2、溶液3と溶液4を並列したマイクロリアクタ内でそれぞれ混合し、両リアクタからの吐出液をさらに別のマイクロリアクタ内で混合することにより、1つの反応液とした。反応液は別途調製しておいた前駆溶液5:ODA/H2O/IPA中へ吐出し、吐出終了まで一定速度で撹拌した。その後、室温で静置し、上記微粒子分散液を得た。
本実施例で使用した微粒子被覆MSSについては、前記<実施例1>と同様の方法で準備した。また、サンプル蒸気を吹きかける操作も、前記<実施例1>と同様の方法で行った。
Claims (7)
- ガスセンサーと、前記ガスセンサーを洗浄するための液体を含む洗浄手段とを備えたガスセンサー装置であって、
前記ガスセンサーは、
気相中または液相中に存在する成分の特性パラメータを検出可能なセンサー本体と、
前記センサー本体の表面に被覆され、かつ、前記液体に対する耐性を有する感応膜と、
を備えることを特徴とするガスセンサー装置。 - 前記感応膜は、粒径が1nm〜1mmの微粒子によって形成されていることを特徴とする請求項1に記載のガスセンサー装置。
- ガスセンサーに付着した気体成分を液体によって除去する方法であって、
前記ガスセンサーは、
気相中または液相中に存在する成分の特性パラメータを検出可能なセンサー本体と、
前記センサー本体の表面に被覆され、かつ、前記液体に対する耐性を有する感応膜と、
を備え、
以下の工程:
(1)前記ガスセンサーと前記液体とを接触させる洗浄工程;および
(2)前記洗浄工程の後、前記ガスセンサーを気相中で乾燥させる乾燥工程
を含むことを特徴とする気体成分除去方法。 - 前記(2)の乾燥工程では、前記センサー本体によって検出される気相中の成分による特性パラメータのシグナルが一定値に収束することを特徴とする請求項3に記載の気体成分除去方法。
- 前記(1)の洗浄工程では、前記センサー本体によって検出された液相中の成分による特性パラメータのシグナルに基づいて液相状態における基準値を算出し、
液相状態における前記基準値に基づいて、前記センサー本体を調整する工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の気体成分除去方法。 - 前記センサー本体を調整する工程は、前記洗浄工程の前記基準値と前記乾燥工程の収束値とを比較してセンサーシグナルの再現性を向上させる工程を含む、請求項5に記載の気体成分除去方法。
- センサーシグナルの再現性を向上させる工程は、前記比較の結果に基づいて前記センサー本体の検出感度、オフセット、及び応答波形からなる群から選択される少なくとも一を調整する工程を含む、請求項6に記載の気体成分除去方法。
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