JPWO2017204143A1 - Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium, and magnetic disk - Google Patents

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Abstract

本発明は、製造工程内においてガラスを認識しやすく、割れや欠けにより生じたガラス破片の捜索が容易である、データ記憶媒体基板用ガラス、該ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスクを提供する。本発明は、ガラス組成が特定範囲であり、波長450nmおよび波長250nmにおける透過率が特定範囲であるデータ記憶媒体基板用ガラスに関する。  The present invention provides a glass for a data storage medium substrate, a glass substrate for a data storage medium made of the glass, and a magnetic disk, wherein the glass is easy to recognize in the manufacturing process and it is easy to search for glass fragments generated by cracking or chipping. provide. The present invention relates to a glass for a data storage medium substrate having a specific range of glass composition and a specific range of transmittance at a wavelength of 450 nm and a wavelength of 250 nm.

Description

本発明は、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体に用いられるガラス、該ガラスからなるガラス基板および磁気ディスクに関する。   The present invention relates to a glass used for a data storage medium such as a magnetic disk or an optical disk, a glass substrate made of the glass, and a magnetic disk.

近年、ハードディスクドライブの記憶容量の増大に伴い、高記録密度化がハイペースで進行している。しかし、高記録密度化に伴い、磁性粒子の微細化が熱安定性を損ない、クロストークや再生信号のSN比が低下することが問題となっている。そこで、光と磁気の融合技術として熱アシスト磁気記録技術が注目されている。   In recent years, with the increase in storage capacity of hard disk drives, high recording density has been advanced at a high pace. However, along with the increase in recording density, there is a problem that the miniaturization of the magnetic particles impairs the thermal stability and the crosstalk and the SN ratio of the reproduced signal are lowered. Therefore, thermally assisted magnetic recording technology has attracted attention as a technology for combining light and magnetism.

熱アシスト磁気記録技術は、磁気記録層にレーザ光または近接場光を照射して局所的に加熱した部分の保磁力を低下させた状態で外部磁界を印加して記録し、GMR素子等で記録磁化を読み出す技術である。熱アシスト磁気記録技術によれば、高保磁力媒体に記録できるため、熱安定性を保ちながら磁性粒子を微細化することが可能となる。   In thermally assisted magnetic recording technology, laser light or near-field light is irradiated to the magnetic recording layer, and the external magnetic field is applied and recorded in a state where the coercivity of the locally heated portion is decreased, and recording with a GMR element etc. It is a technology to read the magnetization. According to the thermally assisted magnetic recording technology, since recording can be performed on a high coercive force medium, it is possible to miniaturize the magnetic particles while maintaining the thermal stability.

熱アシスト磁気記録技術により高保磁力媒体を多層膜にして基板上に成膜するには、基板を十分に加熱する必要があり、基板用ガラスとして、高耐熱性とともに、高ヤング率および低膨張性を有する無アルカリガラスが提案されている(例えば、特許文献1)。   In order to form a high coercivity medium as a multilayer film on a substrate by heat assisted magnetic recording technology, it is necessary to heat the substrate sufficiently, and as a glass for a substrate, it has high heat resistance, high Young's modulus and low expansion. An alkali-free glass having the following is proposed (e.g., Patent Document 1).

日本国特開2015−28828号公報Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2015-28828

磁気ディスク用ガラス基板の製造工程では数段階に及ぶ研磨・洗浄工程を有する。また、ガラスの取り出しは人による作業を有する。無アルカリガラスや、低アルカリガラスはイオン交換処理による化学強化が困難であるか、もしくは化学強化による圧縮応力が小さくなるため、高い平滑性が求められる研磨工程等の製造工程内で割れや欠けが発生しやすい。   The manufacturing process of the glass substrate for magnetic disk has several steps of polishing and cleaning steps. Also, the removal of the glass is done by human work. Non-alkali glass and low-alkali glass are difficult to be chemically strengthened by ion exchange treatment, or compressive stress due to chemical strengthening is small, so cracking or chipping occurs in manufacturing processes such as polishing processes where high smoothness is required. Likely to happen.

そのために、工程条件の調整等のため、ガラスの状態を確認する必要が生じることがあるが、該ガラスは無色透明であるため、製造工程内において認識しにくく、ひとたび割れや欠けによりガラス破片が発生すると、製造工程で使用されるスラリー溶液中等では発見しにくく、生産性が低下する。また、ガラス破片が製造工程中に残存すると、該破片によりガラスの傷等の欠点の発生に繋がり、生産性が低下する。   Therefore, it may be necessary to confirm the condition of the glass for adjustment of the process conditions etc. However, since the glass is colorless and transparent, it is difficult to recognize in the manufacturing process, and once broken, there is broken glass or broken glass. If it occurs, it is difficult to find it in the slurry solution or the like used in the manufacturing process, and the productivity is reduced. In addition, if glass fragments remain in the manufacturing process, such fragments lead to the generation of defects such as scratches on the glass, which lowers productivity.

したがって、本発明は、製造工程内においてガラスを認識しやすく、割れや欠けにより生じたガラス破片の捜索が容易である、データ記憶媒体基板用ガラス、該ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的とする。   Therefore, according to the present invention, a glass for a data storage medium substrate, a glass substrate for a data storage medium made of the glass, and a magnetism, which are easy to recognize glass in a manufacturing process and easy to search for glass fragments generated by cracking or chipping The purpose is to provide a disc.

本発明者らは、UV照射により発光が生じる元素を無アルカリガラスまたは低アルカリガラスに含有させて、ガラス組成を最適な範囲で制御し、波長450nmおよび波長250nmにおける透過率を特定範囲とすることで、通常は無色透明でありながらも、波長250〜370nmのUV照射により可視光波長で発光し、容易にガラスを視認できることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventors include an element which emits light upon UV irradiation in an alkali-free glass or a low alkali glass, to control the glass composition in an optimum range, and to set the transmittance at a wavelength of 450 nm and a wavelength of 250 nm to a specific range. The inventors have found that although they are usually colorless and transparent, they emit light at a visible light wavelength by UV irradiation with a wavelength of 250 to 370 nm and can easily visually recognize the glass, thereby completing the present invention.

本発明は、酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55〜80%、Alを6〜18%、Bを0%以上12%未満含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で8〜26%、LiO、NaOおよびKOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で10%以下、発光元素であるSnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で0.03%以上含有し、厚さ0.5mmでの波長450nmにおける透過率が80%以上、波長250nmにおける透過率が0.2%以上であるデータ記憶媒体基板用ガラスを提供する。The present invention, in a molar percentage based on oxides, SiO 2 55 to 80%, the Al 2 O 3 6~18%, the B 2 O 3 containing less than 12% or more 0%, MgO, CaO, SrO and 8-26% in total of the content at least one of BaO (RO), Li 2 O , the sum of the content at least one of Na 2 O and K 2 O (R 2 O) 10% or less, at least one of a light emitting element SnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 in a total content of 0.03 The glass for a data storage medium substrate, which contains at least 80% of transmittance at a wavelength of 450 nm at a thickness of 0.5 mm and 0.2% or more at a wavelength of 250 nm is provided.

また、前記データ記憶媒体基板用ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板および前記データ記憶媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。   Further, the present invention provides a glass substrate for data storage medium comprising the glass for data storage medium substrate, and a magnetic disk having a magnetic recording layer formed on the glass substrate for data storage medium.

本発明のデータ記憶媒体基板用ガラスは、高耐熱性を示すとともに、高ヤング率、高比弾性および低膨張性を有する無アルカリガラスであるため、熱アシスト磁気記録に好適であり、データ記憶媒体の記録密度をより増大できる。また、本発明のデータ記憶媒体基板用ガラスは、UV照射された際に蛍光を発することができる最適な組成であることから、UV照射により容易に視認でき、製造工程内でのガラスの認識や割れや欠けによるガラス破片の視覚的な捜索が容易であるとともに、該ガラス破片による欠点の発生も顕著に抑制できるという効果を奏する。   The glass for a data storage medium substrate of the present invention is a non-alkali glass that exhibits high heat resistance and also has high Young's modulus, high specific elasticity, and low expansion, and thus is suitable for thermally assisted magnetic recording, a data storage medium Recording density can be further increased. In addition, since the glass for data storage medium substrate of the present invention is an optimal composition capable of emitting fluorescence when irradiated with UV, it can be easily visually recognized by UV irradiation, recognition of the glass in the manufacturing process, The visual search for glass fragments due to breakage or chipping is easy, and the occurrence of defects due to the glass fragments can be significantly suppressed.

本発明のデータ記憶媒体基板用ガラス(以下、単に本発明のガラスということがある。)は、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体用の基板に用いられる。なお、特に言及しない限り、組成は酸化物基準のモル百分率で表記する。   The glass for data storage medium substrates of the present invention (hereinafter sometimes referred to simply as the glass of the present invention) is used as a substrate for data storage media such as a magnetic disk or an optical disk. In addition, unless otherwise stated, a composition is described by the molar percentage on the basis of an oxide.

又、本明細書において数値範囲を示す「〜」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用され、特段の定めがない限り、以下本明細書において「〜」は、同様の意味をもって使用される。   Moreover, in the present specification, “-” indicating a numerical range is used in a meaning including the numerical values described before and after it as the lower limit value and the upper limit value, and unless otherwise specified, “-” in the present specification "Is used with the same meaning.

本発明のガラスは、厚さ0.5mmでの波長450nmにおける透過率が80%以上であり、好ましくは85%以上であり、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは90.5%以上、特に好ましくは91%以上である。上限は特に制限されないが、通常95%以下である。波長450nmにおける透過率が80%以上であることにより、UV照射により発光した蛍光がガラスに吸収されるのを防止できる。   The glass of the present invention has a transmittance of 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 90.5% or more, particularly at a wavelength of 450 nm and a thickness of 0.5 mm. Preferably it is 91% or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 95% or less. When the transmittance at a wavelength of 450 nm is 80% or more, the fluorescence emitted by UV irradiation can be prevented from being absorbed by the glass.

波長450nmにおける透過率を80%以上とする方法としては、例えば、ガラス中に含まれると可視域の波長を吸収し、透過率を下げる要因となるFeOなどの着色剤の含有量を、質量百分率で1%以下にすることが挙げられる。As a method for setting the transmittance at a wavelength of 450 nm to 80% or more, for example, the content of a coloring agent such as Fe 2 O which absorbs the wavelength in the visible range when contained in glass and lowers the transmittance is The percentage by mass may be 1% or less.

本発明のガラスは、厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率が0.2%以上であり、好ましくは0.5%以上であり、より好ましくは2%以上、さらに好ましくは4%以上、特に好ましくは6%以上、一層好ましくは8%以上、最も好ましくは10%以上である。上限は特に制限されないが、通常30%以下、より好ましくは20%以下、さらに好ましくは18%以下、特に好ましくは16%以下、一層好ましくは15%以下、最も好ましくは14%以下である。   The glass of the present invention has a transmittance of 0.2% or more, preferably 0.5% or more, more preferably 2% or more, still more preferably 4% or more at a wavelength of 250 nm and a thickness of 0.5 mm. Particularly preferably, it is 6% or more, more preferably 8% or more, and most preferably 10% or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 30% or less, more preferably 20% or less, still more preferably 18% or less, particularly preferably 16% or less, more preferably 15% or less, and most preferably 14% or less.

厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率が0.2%以上であることにより、UV光がガラス表面で急激に減衰してガラス内部まで通りにくくなるのを抑制できる。その結果、発光領域が狭くなるのを防ぎ、視認される蛍光が弱くなるのを抑制できる。また、紫外領域で発光する蛍光が減衰するのを防ぎ、ガラスが該蛍光により再度励起されることによる発光を抑制できる。   When the transmittance at a wavelength of 250 nm with a thickness of 0.5 mm is 0.2% or more, it is possible to suppress that the UV light is rapidly attenuated on the glass surface and hard to pass through the inside of the glass. As a result, it is possible to prevent the narrowing of the light emitting region and to suppress the weakening of the visible fluorescence. In addition, it is possible to prevent the fluorescence emitted in the ultraviolet region from being attenuated, and to suppress the light emission due to the glass being excited again by the fluorescence.

また、厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率を30%以下とすることにより、SiO、BまたはPを多く含有しなくてもよいため好ましい。SiOを多く含有すると溶解しにくくなり、B、もしくはPを多く含有すると、耐候性や耐熱性が低下する等のおそれがある。Further, by setting the transmittance at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm to be 30% or less, it is preferable because a large amount of SiO 2 , B 2 O 3 or P 2 O 5 may not be contained. If a large amount of SiO 2 is contained, it becomes difficult to dissolve, and if a large amount of B 2 O 3 or P 2 O 5 is contained, the weather resistance and heat resistance may be lowered.

厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率を0.2%以上とする方法としては、例えば、以下の(1)および(2)の方法が挙げられる。
(1)溶融ガラスを冷却する際に、冷却速度について、ガラス転移点Tgに対し、Tg+50℃〜Tg+20℃の範囲では400℃/分以下とする。
厚さ0.5mmでの波長250nmでの透過率はガラス転移点付近の温度におけるガラスの冷却速度に依存する。すなわち、ガラスの冷却速度を小さくすることにより、ガラスの構造緩和が進んで該透過率が増加する傾向にあるため、また、冷却時に温度分布が発生し残留応力が残り、基板が反ることを防ぐため、Tg+50℃〜Tg+20℃の範囲では400℃/分以下とすることが好ましい。より好ましくは300℃/分以下、さらに好ましくは200℃/分以下、特に好ましくは100℃/分以下、一層好ましくは50℃/分以下、最も好ましくは10℃/分以下である。下限は製造時間を短くする観点から、0.2℃/分以上が好ましい。
Examples of the method for setting the transmittance at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm to 0.2% or more include the following methods (1) and (2).
(1) When cooling the molten glass, the cooling rate is set to 400 ° C./min or less in the range of Tg + 50 ° C. to Tg + 20 ° C. with respect to the glass transition point Tg.
The transmission at a wavelength of 250 nm with a thickness of 0.5 mm depends on the cooling rate of the glass at a temperature near the glass transition temperature. That is, by reducing the cooling rate of the glass, the structural relaxation of the glass proceeds and the transmittance tends to increase. Further, a temperature distribution occurs during cooling, residual stress remains, and the substrate is warped. In order to prevent it, it is preferable to set it as 400 degrees C / min or less in the range of Tg + 50 degreeC-Tg + 20 degreeC. It is more preferably 300 ° C./minute or less, still more preferably 200 ° C./minute or less, particularly preferably 100 ° C./minute or less, still more preferably 50 ° C./minute or less, and most preferably 10 ° C./minute or less. The lower limit is preferably 0.2 ° C./min or more from the viewpoint of shortening the production time.

0.5℃/分でゆっくりと冷却したガラスは急速に冷却したガラスと比較し、密度が大きくなるため、ガラス構造に変化が生じていることが考えられる。冷却速度によるガラスの密度は、所定の冷却速度で作製したガラスの密度Daに対する、そのガラスをTg+30℃の温度で一定時間保持して0.5℃/分で冷却した後のガラスの密度Dbの増加分(Db−Da)/Da×100(%)で表され、これを密度変化量とする。   It is considered that a change in the glass structure occurs because the glass slowly cooled at 0.5 ° C./min has a higher density than the glass cooled rapidly. The density of the glass according to the cooling rate is the density Db of the glass after cooling the glass at a temperature of Tg + 30 ° C. for a fixed time at a temperature of Tg ° C./min. It is represented by an increase (Db-Da) / Da x 100 (%), and this is taken as the amount of density change.

本発明のガラスの密度変化量は、波長250nmでの透過率を所定範囲に制御する観点から、0.01%以上であることが好ましく、より好ましくは0.05%以上であり、さらに好ましくは0.09%以上であり、一層好ましくは0.11%以上であり、特に好ましくは0.13%以上である。本発明のガラスの密度変化量は、1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5%以下であり、さらに好ましくは0.4%以下であり、一層好ましくは0.3%以下であり、特に好ましくは0.2%以下である。   The amount of density change of the glass of the present invention is preferably 0.01% or more, more preferably 0.05% or more, and still more preferably, from the viewpoint of controlling the transmittance at a wavelength of 250 nm within a predetermined range. It is 0.09% or more, more preferably 0.11% or more, and particularly preferably 0.13% or more. The amount of density change of the glass of the present invention is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.4% or less, and still more preferably 0.3% or less And particularly preferably 0.2% or less.

(2)ガラスの組成を適宜調整する。
例えば、波長250nmの吸収を小さくする観点から、Feなどの着色成分の含有量を1モル%以下にすること、SnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で1モル%以下含有すること、SiO、BまたはPなどの含有量の合計を60モル%以上にすることのいずれかまたはこれらの組み合わせ等がある。
(2) Adjust the composition of the glass as appropriate.
For example, from the viewpoint of reducing the absorption at a wavelength of 250 nm, the content of coloring components such as Fe 2 O 3 should be 1 mol% or less, SnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 And at least one of WO 3 , MoO 3 and CeO 2 in a total content of not more than 1 mol%, and the total content of SiO 2 , B 2 O 3 or P 2 O 5 is 60 mol % Or more or a combination thereof.

次に、本発明の基板用ガラスの組成(各成分の含有量)について、酸化物基準により、特に断らない限りモル百分率表示で説明する。   Next, the composition (content of each component) of the glass for a substrate of the present invention will be described on the basis of oxide in terms of mole percentage unless otherwise specified.

SiOはガラスの骨格を形成する必須成分である。SiOの含有量は55%以上であり、好ましくは60%以上であり、より好ましくは62%以上であり、特に好ましくは65%以上である。また、80%以下であり、好ましくは74%以下であり、より好ましくは73%以下であり、特に好ましくは72%以下であり、一層好ましくは71%以下である。SiO 2 is an essential component that forms the skeleton of glass. The content of SiO 2 is 55% or more, preferably 60% or more, more preferably 62% or more, and particularly preferably 65% or more. In addition, it is 80% or less, preferably 74% or less, more preferably 73% or less, particularly preferably 72% or less, and still more preferably 71% or less.

SiOの含有量を55%以上とすることにより、ガラスが不安定になり、ガラス転移点および耐薬品性が低下するのを防止できる。さらに、波長250nmにおける透過率を高くすることができる。また、SiOの含有量を80%以下とすることにより、熱膨張係数が小さくなりすぎず、ガラスを作製するための溶解温度が高くなりすぎるのを防止できる。By setting the content of SiO 2 to 55% or more, it is possible to prevent the glass from becoming unstable and the glass transition point and the chemical resistance being lowered. Furthermore, the transmittance at a wavelength of 250 nm can be increased. Further, by setting the content of SiO 2 to 80% or less, the thermal expansion coefficient does not become too small, and it can be prevented that the melting temperature for producing glass becomes too high.

Alはガラスの耐薬品性およびガラス転移点を高くする効果を有し、必須成分である。Alの含有量は6%以上であり、好ましくは8%以上であり、より好ましくは10%以上であり、さらに好ましくは11%以上であり、特に好ましくは12%以上であり、最も好ましくは13%以上である。また、18%以下であり、好ましくは17%以下であり、より好ましくは16%以下であり、さらに好ましくは15%以下であり、特に好ましくは14%以下である。Al 2 O 3 has an effect of enhancing the chemical resistance and the glass transition point of glass and is an essential component. The content of Al 2 O 3 is 6% or more, preferably 8% or more, more preferably 10% or more, still more preferably 11% or more, particularly preferably 12% or more, and most preferably Preferably it is 13% or more. Also, it is 18% or less, preferably 17% or less, more preferably 16% or less, still more preferably 15% or less, and particularly preferably 14% or less.

Alの含有量を6%以上とすることにより、前記効果を得ることができる。また、18%以下とすることにより、溶融ガラスの粘度が高くなりすぎ、成形、特にフロート成形が困難になることを防止できる。また、液相温度が高くなりすぎるのを防止できる。The content of Al 2 O 3 by 6% or more, it is possible to obtain the effect. Further, by setting the content to 18% or less, it is possible to prevent the viscosity of the molten glass from becoming too high, and it becomes possible to prevent the molding, particularly the float molding from becoming difficult. Moreover, it can prevent that liquidus temperature becomes high too much.

は、ガラスの溶解反応性を高くし、失透温度を低下させ、また、前述のとおり波長250nmにおける透過率を高める観点から、12%未満含有できる。しかしBは発光を阻害し易い傾向があるため含有量は少ない方が好ましい。Bの含有量は12%未満であり、好ましくは3%未満であり、より好ましくは1%未満であり、さらに好ましくは0.5%未満、特に好ましくは0.2%未満である。B 2 O 3 can be contained in an amount of less than 12% from the viewpoint of enhancing the dissolution reactivity of the glass, lowering the devitrification temperature, and enhancing the transmittance at a wavelength of 250 nm as described above. However, the content of B 2 O 3 is preferably as small as it tends to easily inhibit light emission. The content of B 2 O 3 is less than 12%, preferably less than 3%, more preferably less than 1%, still more preferably less than 0.5%, particularly preferably less than 0.2% .

MgOは、溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくし、ヤング率を高くする観点から、含有してもよい。MgOの含有量は13%以下であることが好ましく、より好ましくは11%以下であり、さらに好ましくは10%以下であり、特に好ましくは8%以下である。MgOの含有量を13%以下とすることにより、発光が阻害されるのを抑制できる。下限は特に限定されないが、MgOを含有する場合、1%以上含有することが好ましい。   MgO may be contained from the viewpoint of lowering the viscosity of the molten glass to facilitate melting of the glass and increasing the Young's modulus. The content of MgO is preferably 13% or less, more preferably 11% or less, still more preferably 10% or less, and particularly preferably 8% or less. By setting the content of MgO to 13% or less, inhibition of light emission can be suppressed. Although a minimum is not specifically limited, When containing MgO, it is preferable to contain 1% or more.

CaOは、溶融ガラスの粘度を低下させ、ヤング率を高くし、またはガラスを溶融しやすくする観点から、含有してもよい。CaOの含有量は、12%以下であることが好ましく、より好ましくは11%以下であり、さらに好ましくは10.5%以下であり、特に好ましくは10%以下である。また、2%以上であることが好ましく、より好ましくは2.5%以上であり、さらに好ましくは3%以上であり、特に好ましくは3.5%以上である。CaOの含有量を12%以下とすることにより、発光が阻害されるのを抑制できる。   CaO may be contained from the viewpoint of lowering the viscosity of the molten glass, increasing the Young's modulus, or making the glass easy to melt. The content of CaO is preferably 12% or less, more preferably 11% or less, still more preferably 10.5% or less, and particularly preferably 10% or less. Moreover, it is preferable that it is 2% or more, More preferably, it is 2.5% or more, More preferably, it is 3% or more, Especially preferably, it is 3.5% or more. By setting the content of CaO to 12% or less, the inhibition of light emission can be suppressed.

SrOは、溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする観点から、含有してもよい。SrOの含有量は10%以下であることが好ましく、より好ましくは7%以下であり、さらに好ましくは5%以下であり、特に好ましくは4%以下であり、一層好ましくは3%以下であり、最も好ましくは2.5%以下である。SrOの含有量を10%以下とすることにより、比重が重くなりすぎず、比弾性の低下を抑制できる。下限は特に限定されないが、SrOを含有する場合、1%以上含有することが好ましい。   SrO may be contained from the viewpoint of lowering the viscosity of the molten glass to facilitate melting of the glass. The content of SrO is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, still more preferably 5% or less, particularly preferably 4% or less, more preferably 3% or less, Most preferably, it is 2.5% or less. By setting the content of SrO to 10% or less, the specific gravity does not become too heavy, and the decrease in specific elasticity can be suppressed. Although a minimum is not specifically limited, When containing SrO, it is preferable to contain 1% or more.

BaOは、ガラス転移点を高くし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする観点から、含有してもよい。BaOの含有量は6%以下であることが好ましく、より好ましくは5.5%以下であり、さらに好ましくは5%以下であり、特に好ましくは4.8%以下である。   BaO may be contained from the viewpoint of raising the glass transition temperature and lowering the viscosity of the molten glass to make the glass easy to melt. The content of BaO is preferably 6% or less, more preferably 5.5% or less, still more preferably 5% or less, and particularly preferably 4.8% or less.

BaOの含有量を6%以下とすることにより、比重を小さくし、比弾性率の低下を防止できる。下限は特に限定されないが、BaOを含有する場合、0.5%以上含有することが好ましい。   By setting the content of BaO to 6% or less, the specific gravity can be reduced and the decrease in specific elastic modulus can be prevented. Although a minimum is not specifically limited, When containing BaO, it is preferable to contain 0.5% or more.

MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計(RO)は、2%以上であり、好ましくは5%以上であり、より好ましくは8%以上であり、さらに好ましくは10%以上であり、特に好ましくは12%以上であり、一層好ましくは14%以上であり、最も好ましくは15%以上である。MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計が2%以上であれば、溶融ガラスの粘度が製造可能な程度となる。また、26%以下であり、好ましくは20%以下であり、より好ましくは19%以下であり、さらに好ましくは18%以下であり、特に好ましくは17%以下、一層好ましくは16.5%以下であり、最も好ましくは16%以下である。MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計が26%以下であると、ガラス転移点が一定以上となり、磁気ディスク製造工程での熱処理においても、変形するおそれがない。   The total content (RO) of the content of MgO, CaO, SrO and BaO is 2% or more, preferably 5% or more, more preferably 8% or more, and still more preferably 10% or more. It is preferably 12% or more, more preferably 14% or more, and most preferably 15% or more. If the total content of MgO, CaO, SrO and BaO is 2% or more, the viscosity of the molten glass can be produced to a sufficient extent. Also, it is 26% or less, preferably 20% or less, more preferably 19% or less, still more preferably 18% or less, particularly preferably 17% or less, more preferably 16.5% or less Most preferably 16% or less. If the total content of MgO, CaO, SrO and BaO is 26% or less, the glass transition point becomes a certain value or more, and there is no possibility of deformation even in the heat treatment in the magnetic disk manufacturing process.

好ましいB、MgO、CaO、SrOおよびBaOの組成範囲としては、以下の(1)および(2)が挙げられる。Preferred B 2 O 3, MgO, CaO , as the composition range of SrO and BaO, in (1) and (2) are mentioned below.

(1)Bを0%以上3%未満、MgOを0%〜6.5%、CaOを0%〜12%、SrOを0〜7%含有する。
アルカリ土類金属の中でもMgO、CaOおよびBは発光を阻害しやすい傾向があるため、MgO、CaOおよびBの含有量はともに低い方が好ましい。
は、熱膨張を小さくするために、および溶解しやすくするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。また、ガラス転移点やヤング率を低下させないためには、2.5%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましい。
MgOは、UV照射による発光を強くするために5.5%以下がより好ましく、4.5%以下がさらに好ましく、4%以下が特に好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が最も好ましい。また、ヤング率を高くするためには、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは2%以上、一層好ましくは2.5%以上である。
CaOは、UV照射による発光を強くするためには、10%以下がより好ましく、8%以下がさらに好ましく、5%以下が特に好ましく、4.5%以下が一層好ましく、3.5%以下がより一層好ましく、3%以下が最も好ましい。溶解特性をよくするためには、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは1.5%以上、一層好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。
SrOは、比弾性率の低下や熱膨張の増加を抑えるためには6.5%以下がより好ましく、6%以下がさらに好ましく、5.5%以下が特に好ましく、5%以下が一層好ましく、4.5%以下が最も好ましい。また、溶解性を改善し、ヤング率を高くするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは1.5%以上、一層好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。
BaOは、溶解性改善のために、好ましくは0.5%以上、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。また、比重の増加、比弾性率の低下や熱膨張の増加、機械特性の増加を抑えるためには4.5%以下がより好ましく、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が特に好ましい。
(1) 0% or more and less than 3% of B 2 O 3 , 0% to 6.5% of MgO, 0% to 12% of CaO, and 0 to 7% of SrO.
Among the alkaline earth metals, MgO, CaO and B 2 O 3 tend to inhibit light emission, so the contents of MgO, CaO and B 2 O 3 are preferably both low.
More preferably, B 2 O 3 is at least 0.5%, more preferably at least 1%, in order to reduce thermal expansion and to facilitate dissolution. Moreover, in order not to reduce a glass transition point or a Young's modulus, 2.5% or less is more preferable, and 2% or less is further more preferable.
The content of MgO is preferably 5.5% or less, more preferably 4.5% or less, particularly preferably 4% or less, still more preferably 3.5% or less, more preferably 3% or less, in order to intensify the light emission by UV irradiation. Most preferred. Moreover, in order to make a Young's modulus high, More preferably, it is 0.5% or more, More preferably, it is 1% or more, Especially preferably, it is 2% or more, More preferably, it is 2.5% or more.
10% or less is more preferable, 8% or less is more preferable, 5% or less is particularly preferable, 4.5% or less is more preferable, and 3.5% or less is more preferable in order to intensify light emission by UV irradiation. Even more preferred is 3% or less. In order to improve the dissolution characteristics, it is more preferably at least 0.5%, still more preferably at least 1%, particularly preferably at least 1.5%, still more preferably at least 2%, most preferably at least 2.5%. is there.
The amount of SrO is more preferably 6.5% or less, further preferably 6% or less, particularly preferably 5.5% or less, still more preferably 5% or less, in order to suppress a decrease in specific elastic modulus and an increase in thermal expansion. 4.5% or less is the most preferable. Further, in order to improve the solubility and increase the Young's modulus, more preferably 0.5% or more, still more preferably 1% or more, particularly preferably 1.5% or more, more preferably 2% or more, most preferably Is 2.5% or more.
BaO is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, particularly preferably 2% or more, most preferably 2.5% or more for improving the solubility. is there. Moreover, in order to suppress an increase in specific gravity, a decrease in specific elastic modulus and an increase in thermal expansion, and an increase in mechanical properties, 4.5% or less is more preferable, 4% or less is more preferable, and 3.5% or less is more preferable , 3% or less is particularly preferred.

(2)Bを0%以上3%未満、MgOを6.5%〜13%、BaOを0.5%〜5%、SrOを1〜10%含有する。
ヤング率を高くするためには、MgOを6.5%以上とすることが好ましく、さらにSrOの含有量は高いことが好ましい。また比弾性率の低下を防ぐためには比重を小さくした方が良く、BaOを5%以下とすることが好ましい。ヤング率を高くするためにMgOおよびSrOの含有量を増やすのが好ましいが、多すぎると失透しやすくなるため、BaOの含有量を増やすことが好ましいためである。また、より好ましくはCaOを0〜4.5%含有する。
は、熱膨張を小さくするために、および溶解しやすくするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。また、ガラス転移点やヤング率を低下させないためには、2.5%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましい。
MgOは、ヤング率を高くするためには、より好ましくは7%以上、さらに好ましくは7.5%以上、特に好ましくは8%以上、一層好ましくは8.5%以上である。また、UV照射による発光強度の低下や、失透特性の悪化を防ぐために、12.5%以下がより好ましく、12%以下がさらに好ましく、11.5%以下が特に好ましく、11%以下が一層好ましく、10.5%以下が最も好ましい。
CaOは、溶解特性をよくするために、さらに好ましくは0.5%以上、特に好ましくは1%以上、一層好ましくは1.5%以上、最も好ましくは2.5%以上である。また、UV照射による発光を強くするためには、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が特に好ましく、3%以下が一層好ましい。
SrOは、溶解性を改善し、ヤング率を高くするために、より好ましくは2%以上、さらに好ましくは3.5%以上、特に好ましくは4%以上、一層好ましくは4.5%以上、最も好ましくは5%以上である。また、比重の増加、脆さの悪化、比弾性率の低下や熱膨張の増加を抑えるためには10%以下が好ましく、9%以下がより好ましく、8%以下がさらに好ましく、7%以下が特に好ましい。
BaOは、溶解性改善のために、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上、一層好ましくは2.5%以上、最も好ましくは3%以上である。また、比重の増加、比弾性率の低下や熱膨張の増加、機械特性の増加を抑えるためには4.5%以下がより好ましく、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が特に好ましい。
(2) 0% or more and less than 3% of B 2 O 3 , 6.5% to 13% of MgO, 0.5% to 5% of BaO, and 1 to 10% of SrO.
In order to increase the Young's modulus, it is preferable to make MgO 6.5% or more, and it is preferable that the content of SrO be high. Further, in order to prevent the decrease in specific elastic modulus, it is better to reduce the specific gravity, and it is preferable to make BaO 5% or less. Although it is preferable to increase the content of MgO and SrO in order to increase the Young's modulus, devitrification tends to occur if the content is too large, so it is preferable to increase the content of BaO. Moreover, more preferably, 0 to 4.5% of CaO is contained.
More preferably, B 2 O 3 is at least 0.5%, more preferably at least 1%, in order to reduce thermal expansion and to facilitate dissolution. Moreover, in order not to reduce a glass transition point or a Young's modulus, 2.5% or less is more preferable, and 2% or less is further more preferable.
MgO is more preferably 7% or more, more preferably 7.5% or more, particularly preferably 8% or more, and more preferably 8.5% or more in order to increase the Young's modulus. Moreover, in order to prevent the fall of the luminescent intensity by UV irradiation, and aggravation of the devitrification characteristic, 12.5% or less is more preferable, 12% or less is more preferable, 11.5% or less is especially preferable, and 11% or less is more Preferably, 10.5% or less is the most preferable.
CaO is more preferably 0.5% or more, particularly preferably 1% or more, more preferably 1.5% or more, and most preferably 2.5% or more in order to improve the dissolution characteristics. Moreover, in order to intensify the light emission by UV irradiation, 4% or less is more preferable, 3.5% or less is especially preferable, and 3% or less is more preferable.
SrO is preferably 2% or more, more preferably 3.5% or more, particularly preferably 4% or more, more preferably 4.5% or more, in order to improve the solubility and increase the Young's modulus. Preferably it is 5% or more. Moreover, in order to suppress an increase in specific gravity, deterioration of brittleness, a decrease in specific elastic modulus and an increase in thermal expansion, 10% or less is preferable, 9% or less is more preferable, 8% or less is more preferable, and 7% or less Particularly preferred.
BaO is more preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, particularly preferably 2% or more, still more preferably 2.5% or more, most preferably 3% or more for improving the solubility. . Moreover, in order to suppress an increase in specific gravity, a decrease in specific elastic modulus and an increase in thermal expansion, and an increase in mechanical properties, 4.5% or less is more preferable, 4% or less is more preferable, and 3.5% or less is more preferable , 3% or less is particularly preferred.

LiO、NaOおよびKOはガラス転移点Tgを低くし、熱膨張性を高くするため、これら3成分の含有量の合計(RO)は10%以下であり、好ましくは4%以下であり、より好ましくは3%以下であり、さらに好ましくは1%以下であり、特に好ましくは0.5%以下であり、一層好ましくは0.2%以下、最も好ましくは実質的に含有しないことが好ましい。Since Li 2 O, Na 2 O and K 2 O lower the glass transition point Tg and increase the thermal expansion property, the total content of these three components (R 2 O) is 10% or less, preferably It is 4% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 1% or less, particularly preferably 0.5% or less, more preferably 0.2% or less, most preferably substantially It is preferable not to contain it.

は、前述のとおり波長250nmにおける透過率を高める観点から、10%以下含有できる。しかしPは発光を阻害し易い傾向があるため含有量は少ない方が好ましい。Pの含有量は、好ましくは3%未満であり、より好ましくは1%未満であり、さらに好ましくは0.5%未満、特に好ましくは0.2%未満である。また、ガラス製造において、Pの化合物由来の欠点を発生させるおそれがあるため、一層好ましくは実質的に含有しない。P 2 O 5 can be contained at 10% or less from the viewpoint of enhancing the transmittance at a wavelength of 250 nm as described above. However, since P 2 O 5 tends to easily inhibit light emission, the smaller the content, the better. The content of P 2 O 5 is preferably less than 3%, more preferably less than 1%, still more preferably less than 0.5%, particularly preferably less than 0.2%. Moreover, in glass manufacture, since there exists a possibility of producing the fault derived from the compound of P, it does not contain substantially more preferably.

なお、本明細書において「実質的に含有しない」とは、意図的に原料中に含有しないことを意味し、不可避的不純物の混入をも排除するものではない。具体的には、含有量が0.01%未満であることをいう。   In addition, in this specification, "it does not contain substantially" means not intentionally containing in a raw material, and also does not exclude mixing of an unavoidable impurity. Specifically, it means that the content is less than 0.01%.

本発明のガラスは、UVの照射により蛍光を発させるために、発光元素であるSnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で0.03%以上、好ましくは0.07%以上、より好ましくは0.1%以上、さらに好ましくは0.12%以上、特に好ましくは0.15%以上、一層好ましくは0.2%以上、最も好ましくは0.25%以上含む。また、1%以下とすることが好ましく、より好ましくは0.8%以下、さらに好ましくは0.5%以下、特に好ましくは0.4%以下、一層好ましくは0.3%以下、最も好ましくは0.35%以下が好ましい。The glass of the present invention is one of the light emitting elements SnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 in order to emit fluorescence by UV irradiation. The total content of at least one is 0.03% or more, preferably 0.07% or more, more preferably 0.1% or more, still more preferably 0.12% or more, particularly preferably 0.15% or more More preferably, it is 0.2% or more, and most preferably 0.25% or more. Also, it is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, still more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.4% or less, more preferably 0.3% or less, most preferably 0.35% or less is preferable.

SnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOの含有量の合計が0.03%以上であることにより、UV照射による発光する蛍光の強さが十分となり、ガラス破片やガラス基板を視認しやすい。一方で、1%以下とすることにより、発光元素による吸収を抑制し、特に波長250nmにおける透過率の低下を防止できる。When the total content of SnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 is 0.03% or more, fluorescence emitted due to UV irradiation The strength is sufficient and it is easy to visually recognize glass fragments and glass substrates. On the other hand, by setting the content to 1% or less, absorption by the light emitting element can be suppressed, and in particular, a decrease in transmittance at a wavelength of 250 nm can be prevented.

Feは可視光域での吸収があるため、多すぎるとUV照射による発光を阻害するおそれがある。また、発光元素に作用して発光の効率を低下させて、その結果UV照射による発光強度を低下させるおそれがある。そのため、含有量は1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5%以下であり、さらに好ましくは0.1%以下であり、特に好ましくは0.05%以下であり、最も好ましくは0.03%以下である。Fe 2 O 3 has absorption in the visible light range, so if it is too large, it may interfere with light emission by UV irradiation. In addition, it may act on the light emitting element to reduce the light emission efficiency, and as a result, the light emission intensity due to UV irradiation may be reduced. Therefore, the content is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.1% or less, particularly preferably 0.05% or less, and most preferably It is 0.03% or less.

一方で、Feを含有させると、ガラス溶融時にガラス融液自身が熱輻射を吸収しやすくなり、ガラス製造がしやすくなる。また、安価な工業原料を使用しやすくなる。そのため、0.005%以上含有させることが好ましく、より好ましくは0.01%、さらに好ましくは0.012%以上、特に好ましくは0.014%以上、一層好ましくは0.016%以上、最も好ましくは0.018%以上である。On the other hand, when Fe 2 O 3 is contained, the glass melt itself easily absorbs the heat radiation at the time of melting the glass, and the glass production becomes easy. In addition, it becomes easy to use inexpensive industrial raw materials. Therefore, it is preferable to contain 0.005% or more, more preferably 0.01%, still more preferably 0.012% or more, particularly preferably 0.014% or more, more preferably 0.016% or more, most preferably Is 0.018% or more.

前記発光元素の含有量の合計/Feの含有量の値は、0.03以上であることが好ましく、より好ましくは5以上であり、さらに好ましくは7以上であり、特に好ましくは9以上、一層好ましくは12以上、最も好ましくは15以上である。また、500以下であることが好ましく、より好ましくは100以下であり、さらに好ましくは60以下であり、特に好ましくは40以下、一層好ましくは30以下、最も好ましくは20以下である。The value of the total of the content of the light emitting element / the content of Fe 2 O 3 is preferably 0.03 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 7 or more, and particularly preferably 9 The above, more preferably 12 or more, and most preferably 15 or more. Moreover, it is preferable that it is 500 or less, More preferably, it is 100 or less, More preferably, it is 60 or less, Especially preferably, it is 40 or less, More preferably, it is 30 or less, Most preferably, it is 20 or less.

前記発光元素の含有量の合計/Feの含有量の値が0.03以上であることにより、Feによる吸収に対して十分な発光強度があるといえるため、UV照射によりガラスが視認されやすくなる。また、該値が500以下であることにより、発光元素による吸収で、特に波長250nmにおける透過率が低下しすぎることが無く、UV照射による発光を強くすることができる。When the value of the content of the total of the content of the light emitting element / the content of Fe 2 O 3 is 0.03 or more, it can be said that sufficient luminescence intensity is obtained for absorption by Fe 2 O 3. The glass is easily visible. In addition, when the value is 500 or less, the absorption by the light emitting element does not decrease the transmittance particularly at a wavelength of 250 nm, and the emission by UV irradiation can be strengthened.

本発明のガラスは実質的に、または本質的に上記成分からなるが、この他に以下に例示する成分などを、本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。上記成分以外の成分の含有量の合計は20%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましい。   The glass of the present invention consists essentially or essentially of the above-mentioned components, but other components as exemplified below may be contained within the range that does not impair the object of the present invention. It is preferable that it is 20% or less, and, as for the sum total of content of components other than the said component, it is more preferable that it is 5% or less.

SO、Cl、AsまたはSb等の清澄剤、NiO、Se、CrまたはCoO等の着色剤を含有量の合計で5%まで含有してもよい。It may contain up to 5% of the total content of a clarifying agent such as SO 3 , Cl, As 2 O 3 or Sb 2 O 3 , a coloring agent such as NiO, Se, Cr 2 O 3 or CoO.

本発明のガラスは、ヤング率が70GPa以上であることが好ましく、より好ましくは75GPa以上、さらに好ましくは78GPa以上、特に好ましくは80GPa以上、一層好ましくは82GPa以上、最も好ましくは84GPa以上である。   The glass of the present invention preferably has a Young's modulus of 70 GPa or more, more preferably 75 GPa or more, still more preferably 78 GPa or more, particularly preferably 80 GPa or more, more preferably 82 GPa or more, and most preferably 84 GPa or more.

ヤング率が70GPa以上であることにより、記録媒体の記録容量を増すために基板の薄板化を行い、記録媒体と読み取りヘッドの間隔を小さくする際、前記基板の薄板化に伴う基板のたわみやそりの増大を抑制できる。また記録媒体が衝撃を受けた際、基板をたわみにくくし、応力の発生を抑え、割れにくくすることができる。上限は制限されないが、通常88GPa以下である。   When the Young's modulus is 70 GPa or more, the substrate is thinned in order to increase the recording capacity of the recording medium, and when the distance between the recording medium and the read head is reduced, the deflection or warpage of the substrate accompanying the thinning of the substrate Can be suppressed. In addition, when the recording medium is subjected to an impact, the substrate can be hardly bent, generation of stress can be suppressed, and the substrate can be hardly broken. The upper limit is not limited but is usually 88 GPa or less.

本発明のガラスは、50〜350℃における熱膨張係数(CTE)が60×10−7/℃以下であることが好ましく、より好ましくは50×10−7/℃以下であり、さらに好ましくは45×10−7/℃以下であり、特に好ましくは40×10−7/℃以下である。下限は特に制限されないが、通常30×10−7/℃以上である。The glass of the present invention preferably has a thermal expansion coefficient (CTE) at 50 to 350 ° C. of 60 × 10 −7 / ° C. or less, more preferably 50 × 10 −7 / ° C. or less, still more preferably 45 It is not more than 10 −7 / ° C., particularly preferably not more than 40 × 10 −7 / ° C. The lower limit is not particularly limited, but is usually 30 × 10 −7 / ° C. or more.

50〜350℃における熱膨張係数(CTE)が60×10−7/℃以下であることにより、熱アシスト磁気記録技術に求められる高い耐熱性を有することができ、熱による割れを防止できる。When the thermal expansion coefficient (CTE) at 50 to 350 ° C. is 60 × 10 −7 / ° C. or less, high heat resistance required for the thermally assisted magnetic recording technology can be obtained, and cracking due to heat can be prevented.

本発明のガラスは、ガラス転移点Tgが600℃以上であることが好ましく、より好ましくは650℃以上であり、さらに好ましくは680℃以上であり、特に好ましくは710℃以上、一層好ましくは740℃以上、最も好ましくは760℃以上である。   The glass of the present invention preferably has a glass transition point Tg of 600 ° C. or higher, more preferably 650 ° C. or higher, still more preferably 680 ° C. or higher, particularly preferably 710 ° C. or higher, more preferably 740 ° C. The above, most preferably 760 ° C. or higher.

ガラス転移点Tgが600℃以上であることにより、データ記憶媒体の記憶密度の増大が容易となる。すなわち、記憶密度増大のためには、磁気記録層である磁性層の保磁力を増加させることが有効であり、そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理をより高い温度で行うことが好ましい。データ記憶媒体用基板に用いられるガラスのガラス転移点を600℃以上とすることにより所望の温度で前記熱処理を実施できる。   When the glass transition point Tg is 600 ° C. or more, the storage density of the data storage medium can be easily increased. That is, in order to increase the storage density, it is effective to increase the coercivity of the magnetic layer which is the magnetic recording layer, and for that purpose, it is preferable to carry out the heat treatment performed at the time of forming the magnetic layer at a higher temperature. The heat treatment can be performed at a desired temperature by setting the glass transition point of the glass used for the data storage medium substrate to 600 ° C. or higher.

本発明のガラス基板のβ−OH値は、0.05mm−1以上であることが好ましく、より好ましくは0.1mm−1以上、さらに好ましくは0.15mm−1以上、特に好ましくは0.2mm−1以上である。また、0.7mm−1以下が好ましく、より好ましくは0.6mm−1以下、さらに好ましくは0.5mm−1以下、特に好ましくは0.4mm−1以下である。β−OH値を0.7mm−1以下とすることにより、ガラスに熱が伝わりやすくなりガラス溶融しやすくなる。また、ガラス転移点の低下を抑制できる。一般的なフロート法、フュージョン法、プレス法でガラスを製造する場合は、典型的には0.05mm−1以上である。The β-OH value of the glass substrate of the present invention is preferably 0.05 mm −1 or more, more preferably 0.1 mm −1 or more, still more preferably 0.15 mm −1 or more, particularly preferably 0.2 mm -1 or more. Moreover, 0.7 mm- 1 or less is preferable, More preferably, it is 0.6 mm- 1 or less, More preferably, it is 0.5 mm- 1 or less, Most preferably, it is 0.4 mm- 1 or less. By setting the β-OH value to 0.7 mm −1 or less, heat is easily transmitted to the glass and the glass is easily melted. Moreover, the fall of a glass transition point can be suppressed. When producing glass by a general float method, a fusion method, and a press method, it is typically 0.05 mm < -1 > or more.

なお、本発明でいうβ−OH値とはガラス中の水酸基含有量の尺度であり、FT−IR(フーリエ変換赤外分光法)により測定される透過率をもとに次式により算出される。
β−OH値=(1/X)log10(T1/T2)。
Incidentally, the β-OH value in the present invention is a measure of the hydroxyl group content in glass, and is calculated by the following equation based on the transmittance measured by FT-IR (Fourier transform infrared spectroscopy) .
β-OH value = (1 / X) log 10 (T1 / T2).

ここで、Xはサンプルの厚さ(mm)、T1は参照波数4000cm−1における透過率(%)、T2は水酸基吸収波数3500cm−1付近(3300cm−1〜3700cm−1の範囲)における透過率の最小値(%)である。β−OH値が高いほどガラス中の水酸基含有量が高いこととなる。Here, X is the thickness of the sample (mm), T1 is the transmittance (%) at a reference wave number 4000 cm -1 , T2 is the transmittance at around a hydroxyl group absorption wave number 3500 cm -1 (range of 3300 cm -1 to 3700 cm -1 ) Is the minimum value (%) of The higher the β-OH value, the higher the hydroxyl content in the glass.

本発明のデータ記憶媒体用ガラス基板は、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体用の基板として用いられる。   The glass substrate for data storage media of the present invention is used as a substrate for data storage media such as a magnetic disk or an optical disk.

本発明におけるデータ記憶媒体用ガラス基板は典型的には、厚みが0.5〜1.5mm、直径が20〜100mmである円形ガラス基板であり、磁気ディスク用ガラス基板等においては通常その中央に直径が5〜25mmである孔が形成される。   The glass substrate for data storage media in the present invention is typically a circular glass substrate having a thickness of 0.5 to 1.5 mm and a diameter of 20 to 100 mm, and in the case of a glass substrate for magnetic disks, etc. Holes with a diameter of 5 to 25 mm are formed.

本発明の磁気ディスクにおいては本発明のデータ記憶媒体用ガラス基板の主表面に少なくとも磁気記録層たる磁性層が形成されており、その他に必要に応じて下地層、保護層、潤滑層または凹凸制御層などが形成される場合がある。   In the magnetic disk of the present invention, at least a magnetic layer, which is a magnetic recording layer, is formed on the main surface of the glass substrate for data storage media of the present invention. Layers may be formed.

本発明のガラスおよびガラス基板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、またダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、所定の冷却速度となるよう調整して徐冷した後、必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とする。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好ましい。   The manufacturing method of the glass of this invention and a glass substrate is not specifically limited, Various methods can be applied. For example, the raw material of each component generally used is prepared so that it may become target composition, and this is heat-melted with a glass melting furnace. The glass is homogenized by bubbling, stirring, addition of a fining agent, etc., and formed into a sheet glass of a predetermined thickness by a method such as the well-known float method, press method, or downdraw method, and adjusted to a predetermined cooling rate. After cooling slowly, processing such as grinding and polishing is performed as necessary, and a glass substrate of a predetermined size and shape is obtained. As a molding method, in particular, a float method suitable for mass production is preferable.

各成分の原料を表1にモル百分率表示で示した組成となるように調合し、白金るつぼを用いて1550〜1650℃の温度で3〜5時間溶解した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷した。なお、Tg+50℃〜Tg+20℃の冷却速度について、表1に示す通りとした。   The raw materials of the respective components were prepared so as to have the composition shown by molar percentage in Table 1 and melted at a temperature of 1550 to 1650 ° C. for 3 to 5 hours using a platinum crucible. Next, the molten glass was poured out, formed into a plate, and annealed. In addition, it was as having shown in Table 1 about the cooling rate of Tg + 50 degreeC-Tg + 20 degreeC.

こうして得られたガラス基板について、ヤング率E(単位:GPa)、50〜350℃における熱膨張係数CTE(単位:×10−7/℃)、ガラス転移点Tg(単位:℃)、β−OH(単位:mm−1)、波長450nmにおける透過率(単位:%)、波長250nmにおける透過率(単位:%)、波長450nmにおける蛍光強度、密度(単位:g/cm)、冷却速度0.5℃/minの時の密度(単位:g/cm)、密度変化量(単位:%)、波長250nmの励起光による発光の有無を以下に示す方法により測定または評価した。The glass substrate thus obtained has Young's modulus E (unit: GPa), thermal expansion coefficient CTE (unit: 10 -7 / ° C) at 50 to 350 ° C, glass transition point Tg (unit: ° C), β-OH (Unit: mm −1 ), transmittance at a wavelength of 450 nm (unit:%), transmittance at a wavelength of 250 nm (unit:%), fluorescence intensity at a wavelength of 450 nm, density (unit: g / cm 3 ), cooling rate of 0. The density (unit: g / cm 3 ) at 5 ° C./min, the amount of density change (unit:%), and the presence or absence of light emission by excitation light with a wavelength of 250 nm were measured or evaluated by the following method.

ガラス転移点Tg:示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から5℃/分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。   Glass transition point Tg: Elongation percentage of glass when heated from a room temperature at a rate of 5 ° C./min from quartz glass as a reference sample using a differential thermal expansion meter, the glass is softened and the elongation is no longer observed The temperature, that is, the temperature to the point of deformation was measured, and the temperature corresponding to the inflection point in the thermal expansion curve was taken as the glass transition point.

ヤング率E:厚さが0.5mm、大きさが4cm×4cmのガラス基板について、超音波パルス法により測定した。   Young's modulus E: The measurement was performed by an ultrasonic pulse method on a glass substrate having a thickness of 0.5 mm and a size of 4 cm × 4 cm.

50〜350℃における熱膨張係数CTE:前記Tgの測定と同様にして得られた熱膨張曲線から50〜350℃℃における熱膨張係数を算出した。   Thermal expansion coefficient CTE at 50 to 350 ° C .: The thermal expansion coefficient at 50 to 350 ° C. was calculated from the thermal expansion curve obtained in the same manner as the measurement of Tg.

β−OH値:厚さが0.5mm、大きさが2cm×2cmのガラス基板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨した後、FT−IRを用いて透過スペクトルを測定した。その後、前記式を用いてβ−OH値を算出した。   β-OH value: Both surfaces of a glass substrate having a thickness of 0.5 mm and a size of 2 cm × 2 cm were mirror-polished with cerium oxide, and then a transmission spectrum was measured using FT-IR. Thereafter, the β-OH value was calculated using the above equation.

波長450nmにおける透過率および波長250nmにおける透過率:分光光度計(HITACHI社製、型番:U−4100形)を用いて厚さ0.5mmにおける透過率を測定した。測定光をガラス基板に入射後、出射する光に可視光カットフィルタ(シグマ光機社製、型番:UVTAF−50S−33U)を透過させることにより発光の影響が出ない条件で測定した。   Transmittance at a wavelength of 450 nm and transmittance at a wavelength of 250 nm: The transmittance at a thickness of 0.5 mm was measured using a spectrophotometer (manufactured by HITACHI, model number: U-4100). After the measurement light was incident on the glass substrate, the measurement light was measured under the condition that no influence of light emission was caused by transmitting the visible light cut filter (manufactured by Sigma Kouki Co., Ltd., model number: UVTAF-50S-33U) to the emitted light.

波長450nmにおける蛍光強度:分光蛍光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製、型番:F4500)を用いて測定した。測定条件は励起波長250nmで、入射側のバンド幅は2.5nmとした。大きさ50mm角、0.5mm厚の両面鏡面研磨したガラスに、入射角およそ45°で入射し、出射角およそ45°方向の蛍光を検出した。検出側のバンド幅は2.5nmとした。蛍光波長400〜500nmを1200nm/minの速さで走査し、450nmにおける蛍光強度を算出した。   Fluorescence intensity at a wavelength of 450 nm: Measured using a spectrofluorimeter (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, model number: F4500). The measurement conditions were an excitation wavelength of 250 nm, and the incident side band width was 2.5 nm. A double-sided mirror-polished glass of 50 mm square and 0.5 mm thickness was incident at an incident angle of about 45 °, and fluorescence in the direction of an outgoing angle of about 45 ° was detected. The bandwidth on the detection side was 2.5 nm. The fluorescence wavelength of 400 to 500 nm was scanned at a speed of 1200 nm / min, and the fluorescence intensity at 450 nm was calculated.

ガラスの密度:アルキメデス法を用いて測定した。冷却速度によるガラスの密度の違いは、それぞれの冷却速度で作製したガラスの密度Daを上記方法で測定した後、各ガラスをTg+30℃の温度で一定時間保持し、0.5℃/分で冷却を行い、再度各ガラスの密度Dbを上記方法で測定した。それぞれの冷却速度で作製したガラスの密度に対する0.5℃/分で冷却した際の密度の増加分(Db−Da)/Da×100(%)を密度変化量とした。   Glass density: Measured using the Archimedes method. The difference in the density of glass depending on the cooling rate is determined by measuring the density Da of the glass produced at each cooling rate by the above method, and then holding each glass at a temperature of Tg + 30 ° C for a fixed time and cooling at 0.5 ° C / min And the density Db of each glass was again measured by the above method. The increase in density (Db−Da) / Da × 100 (%) when cooled at 0.5 ° C./min relative to the density of the glass produced at each cooling rate was taken as the amount of density change.

波長250nmの励起光による発光の有無:1cm角のガラス破片を黒い紙上に配置した。UV光源(ASONE社製、型番:Handy UV Lamp SLUV−4)をガラスの表面からの垂直高さ30cmから照射し、明るさ1ルクスの環境下で目視し、1mの距離で容易に視認できる場合は○、視認できない場合は×とした。   Presence or absence of light emission by excitation light of wavelength 250 nm: 1 cm square pieces of glass were placed on black paper. A UV light source (ASONE, model number: Handy UV Lamp SLUV-4) is irradiated from a vertical height of 30 cm from the surface of the glass, and it can be viewed visually at a distance of 1 m by visual observation under an environment of 1 lux. ○, 場合 when not visible.

結果を表1に示す。表1において、例1〜6は実施例であり、例7〜9は比較例である。   The results are shown in Table 1. In Table 1, Examples 1 to 6 are Examples, and Examples 7 to 9 are Comparative Examples.

Figure 2017204143
Figure 2017204143

表1の例1〜6に示すように、本発明のガラスは発光元素を合計で0.03%以上含有しているので、UV照射により発光し、視認性が高いガラスであるとともに、高耐熱性、高ヤング率および低膨張性を示し、熱アシスト磁気記録に好適であることがわかった。   As shown in Examples 1 to 6 of Table 1, since the glass of the present invention contains a total of 0.03% or more of light emitting elements, it emits light by UV irradiation and is a glass having high visibility and high heat resistance. , High Young's modulus and low expansibility, which proves to be suitable for thermally assisted magnetic recording.

一方、例7、9では発光元素を合計で0.03%以上含有していないため、UV照射により発光しなかった。   On the other hand, in Examples 7 and 9, since the light emitting element was not contained in total by 0.03% or more, no light was emitted by UV irradiation.

例8は、発光元素としてNbを含むため、当該ガラスの吸収端がNbを含まない場合と比較して長波長側にシフトする。このため、発光元素としてSnOを入れた例1および2等と比較して、波長250nmの透過率が低くなる。そして、例3と比較して冷却速度が40℃/分と大きいため、波長250nmにおける透過率が0.2%以上ではなく、UV照射による発光が認められなかったと考えられる。In Example 8, since Nb 2 O 5 is contained as a light emitting element, the absorption edge of the glass is shifted to the long wavelength side as compared with the case where Nb 2 O 5 is not contained. For this reason, compared with Examples 1 and 2 etc. which put SnO 2 as a light emitting element, the transmittance | permeability of wavelength 250nm becomes low. And, since the cooling rate is as high as 40 ° C./min as compared with Example 3, the transmittance at a wavelength of 250 nm is not 0.2% or more, and it is considered that light emission by UV irradiation was not recognized.

本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。なお、本出願は、2016年5月25日付けで出願された日本特許出願(特願2016−104476)に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。   Although the present invention has been described in detail with reference to particular embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. This application is based on Japanese Patent Application (Japanese Patent Application No. 2016-104476) filed on May 25, 2016, which is incorporated by reference in its entirety. Also, all references cited herein are taken as a whole.

本発明のデータ記憶媒体基板用ガラスは、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体、その基板、およびそれらの製造に利用できる。   The glass for data storage medium substrates of the present invention can be used for data storage media such as magnetic disks or optical disks, their substrates, and their manufacture.

Claims (7)

酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55〜80%、Alを6〜18%、Bを0%以上12%未満含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で2〜26%、LiO、NaOおよびKOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で10%以下、発光元素であるSnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で0.03%以上含有し、厚さ0.5mmでの波長450nmにおける透過率が80%以上、波長250nmにおける透過率が0.2%以上であるデータ記憶媒体基板用ガラス。Containing 55 to 80% of SiO 2 , 6 to 18% of Al 2 O 3 , and 0% to 12% of B 2 O 3 in terms of mole percentage on an oxide basis, of MgO, CaO, SrO and BaO 2 to 26% of at least one in total of its content (RO), 10% or less in total of its content (R 2 O) of at least one of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O, At least one of the light emitting elements SnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 in a total content of at least 0.03% A glass for a data storage medium substrate having a transmittance of 80% or more at a wavelength of 450 nm and a transmittance of 0.2% or more at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm. 酸化物基準のモル百分率表示で、Feを1%以下含有し、且つ前記発光元素の含有量の合計をFeの含有量で除した値が0.03〜500である請求項1に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。A molar percentage based on oxides, Fe 2 O 3 containing 1% or less, a and the value the total content divided by the content of Fe 2 O 3 of the light emitting element is 0.03 to 500 according Item 6. A glass for a data storage medium substrate according to item 1. ヤング率が70Gpa以上、50〜350℃における熱膨張係数(CTE)が60×10−7/℃以下、Tgが600℃以上である請求項1または2に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。The glass for a data storage medium substrate according to claim 1 or 2, having a Young's modulus of 70 Gpa or more, a thermal expansion coefficient (CTE) at 50 to 350 ° C of 60 × 10 -7 / ° C or less, and a Tg of 600 ° C or more. 酸化物基準のモル百分率表示で、Bを0%以上3%未満、MgOを0〜6.5%、CaOを0〜12%、SrOを0〜7%含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。The composition contains 0% or more and less than 3% of B 2 O 3 , 0 to 6.5% of MgO, 0 to 12% of CaO, and 0 to 7% of SrO in terms of mole percentage on an oxide basis. A glass for a data storage medium substrate according to any one of the above. 酸化物基準のモル百分率表示で、Bを0%以上3%未満、MgOを6.5〜13%、BaOを0.5〜5%、SrOを1〜10%含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。The composition contains 0% or more and less than 3% of B 2 O 3 , 6.5 to 13% of MgO, 0.5 to 5% of BaO, and 1 to 10% of SrO in terms of mole percentage on an oxide basis. The glass for data storage media board | substrate of any one of -3. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のデータ記憶媒体基板用ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板。   The glass substrate for data storage media which consists of glass for data storage media board | substrate of any one of Claims 1-5. 請求項6に記載のデータ記憶媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。   A magnetic disk having a magnetic recording layer formed on the glass substrate for data storage medium according to claim 6.
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