JP7056558B2 - Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk - Google Patents

Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk Download PDF

Info

Publication number
JP7056558B2
JP7056558B2 JP2018519527A JP2018519527A JP7056558B2 JP 7056558 B2 JP7056558 B2 JP 7056558B2 JP 2018519527 A JP2018519527 A JP 2018519527A JP 2018519527 A JP2018519527 A JP 2018519527A JP 7056558 B2 JP7056558 B2 JP 7056558B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
less
glass
data storage
storage medium
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018519527A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2017204143A1 (en
Inventor
枝里子 前田
裕 黒岩
哲也 中島
研輔 永井
学 西沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of JPWO2017204143A1 publication Critical patent/JPWO2017204143A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7056558B2 publication Critical patent/JP7056558B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911Inorganic substrates
    • G11B5/73921Glass or ceramic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/095Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/097Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/82Disk carriers

Description

本発明は、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体に用いられるガラス、該ガラスからなるガラス基板および磁気ディスクに関する。 The present invention relates to glass used for a data storage medium such as a magnetic disk or an optical disk, a glass substrate made of the glass, and a magnetic disk.

近年、ハードディスクドライブの記憶容量の増大に伴い、高記録密度化がハイペースで進行している。しかし、高記録密度化に伴い、磁性粒子の微細化が熱安定性を損ない、クロストークや再生信号のSN比が低下することが問題となっている。そこで、光と磁気の融合技術として熱アシスト磁気記録技術が注目されている。 In recent years, with the increase in the storage capacity of hard disk drives, the recording density has been increasing at a high pace. However, as the recording density increases, the miniaturization of magnetic particles impairs thermal stability, and there is a problem that the SN ratio of crosstalk and reproduced signals decreases. Therefore, heat-assisted magnetic recording technology is attracting attention as a fusion technology of light and magnetism.

熱アシスト磁気記録技術は、磁気記録層にレーザ光または近接場光を照射して局所的に加熱した部分の保磁力を低下させた状態で外部磁界を印加して記録し、GMR素子等で記録磁化を読み出す技術である。熱アシスト磁気記録技術によれば、高保磁力媒体に記録できるため、熱安定性を保ちながら磁性粒子を微細化することが可能となる。 The heat-assisted magnetic recording technology records by irradiating the magnetic recording layer with laser light or near-field light to reduce the coercive force of the locally heated part by applying an external magnetic field, and recording with a GMR element or the like. It is a technique to read the magnetization. According to the heat-assisted magnetic recording technique, it is possible to record on a highly coercive magnetic force medium, so that it is possible to miniaturize magnetic particles while maintaining thermal stability.

熱アシスト磁気記録技術により高保磁力媒体を多層膜にして基板上に成膜するには、基板を十分に加熱する必要があり、基板用ガラスとして、高耐熱性とともに、高ヤング率および低膨張性を有する無アルカリガラスが提案されている(例えば、特許文献1)。 In order to form a high coercive force medium into a multilayer film by heat-assisted magnetic recording technology and form a film on the substrate, it is necessary to sufficiently heat the substrate. As a glass for a substrate, it has high heat resistance, high Young's modulus and low expansion. Non-alkali glass having the above has been proposed (for example, Patent Document 1).

日本国特開2015-28828号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-28828

磁気ディスク用ガラス基板の製造工程では数段階に及ぶ研磨・洗浄工程を有する。また、ガラスの取り出しは人による作業を有する。無アルカリガラスや、低アルカリガラスはイオン交換処理による化学強化が困難であるか、もしくは化学強化による圧縮応力が小さくなるため、高い平滑性が求められる研磨工程等の製造工程内で割れや欠けが発生しやすい。 The manufacturing process of a glass substrate for a magnetic disk has several stages of polishing and cleaning processes. In addition, the removal of the glass involves a human operation. Non-alkali glass and low-alkali glass are difficult to chemically strengthen by ion exchange treatment, or the compressive stress due to chemical strengthening is small, so cracks and chips occur in manufacturing processes such as polishing processes that require high smoothness. Likely to happen.

そのために、工程条件の調整等のため、ガラスの状態を確認する必要が生じることがあるが、該ガラスは無色透明であるため、製造工程内において認識しにくく、ひとたび割れや欠けによりガラス破片が発生すると、製造工程で使用されるスラリー溶液中等では発見しにくく、生産性が低下する。また、ガラス破片が製造工程中に残存すると、該破片によりガラスの傷等の欠点の発生に繋がり、生産性が低下する。 Therefore, it may be necessary to check the state of the glass in order to adjust the process conditions, but since the glass is colorless and transparent, it is difficult to recognize it in the manufacturing process, and once cracked or chipped, glass fragments will be generated. When it occurs, it is difficult to find it in the slurry solution used in the manufacturing process, and the productivity is lowered. Further, if the glass shards remain in the manufacturing process, the shards lead to the occurrence of defects such as scratches on the glass, and the productivity is lowered.

したがって、本発明は、製造工程内においてガラスを認識しやすく、割れや欠けにより生じたガラス破片の捜索が容易である、データ記憶媒体基板用ガラス、該ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention is a glass for a data storage medium substrate, a glass substrate for a data storage medium made of the glass, and a magnetic disk, which makes it easy to recognize the glass in the manufacturing process and search for glass fragments generated by cracking or chipping. The purpose is to provide a disc.

本発明者らは、UV照射により発光が生じる元素を無アルカリガラスまたは低アルカリガラスに含有させて、ガラス組成を最適な範囲で制御し、波長450nmおよび波長250nmにおける透過率を特定範囲とすることで、通常は無色透明でありながらも、波長250~370nmのUV照射により可視光波長で発光し、容易にガラスを視認できることを見出し、本発明を完成させた。 The present inventors include an element that emits light by UV irradiation in non-alkali glass or low-alkali glass to control the glass composition in an optimum range, and set the transmission rate at a wavelength of 450 nm and a wavelength of 250 nm to a specific range. The present invention has been completed by finding that glass is easily visible by emitting light at a visible light wavelength by UV irradiation having a wavelength of 250 to 370 nm, although it is usually colorless and transparent.

本発明は、酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55~80%、Alを6~18%、Bを0%以上12%未満含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で~26%、LiO、NaOおよびKOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で10%以下、発光元素であるSnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で0.03%以上含有し、厚さ0.5mmでの波長450nmにおける透過率が80%以上、波長250nmにおける透過率が0.2%以上であるデータ記憶媒体基板用ガラスを提供する。 The present invention is an oxide-based molar percentage display containing 55 to 80% SiO 2 , 6 to 18% Al 2 O 3 , 0% or more and less than 12% B 2 O 3 , MgO, CaO, SrO. And at least one of BaO in total content (RO) of 2 to 26%, and at least one of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O in total content (R 2 O). 10% or less, at least one of the luminescent elements SnO 2 , TIO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 with a total content of 0.03 Provided is a glass for a data storage medium substrate, which contains% or more and has a transmittance of 80% or more at a wavelength of 450 nm at a thickness of 0.5 mm and a transmittance of 0.2% or more at a wavelength of 250 nm.

また、前記データ記憶媒体基板用ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板および前記データ記憶媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。 Further, the present invention provides a glass substrate for a data storage medium made of glass for the data storage medium substrate and a magnetic disk in which a magnetic recording layer is formed on the glass substrate for the data storage medium.

本発明のデータ記憶媒体基板用ガラスは、高耐熱性を示すとともに、高ヤング率、高比弾性および低膨張性を有する無アルカリガラスであるため、熱アシスト磁気記録に好適であり、データ記憶媒体の記録密度をより増大できる。また、本発明のデータ記憶媒体基板用ガラスは、UV照射された際に蛍光を発することができる最適な組成であることから、UV照射により容易に視認でき、製造工程内でのガラスの認識や割れや欠けによるガラス破片の視覚的な捜索が容易であるとともに、該ガラス破片による欠点の発生も顕著に抑制できるという効果を奏する。 The glass for a data storage medium substrate of the present invention is a non-alkali glass having high Young's modulus, high specific elasticity and low expandability while exhibiting high heat resistance, and is therefore suitable for heat-assisted magnetic recording and is a data storage medium. The recording density of can be further increased. Further, since the glass for the data storage medium substrate of the present invention has an optimum composition capable of emitting fluorescence when irradiated with UV, it can be easily visually recognized by UV irradiation, and the glass can be recognized in the manufacturing process. It is easy to visually search for broken glass fragments due to breakage or chipping, and it is possible to remarkably suppress the occurrence of defects caused by the broken glass fragments.

本発明のデータ記憶媒体基板用ガラス(以下、単に本発明のガラスということがある。)は、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体用の基板に用いられる。なお、特に言及しない限り、組成は酸化物基準のモル百分率で表記する。 The glass for a data storage medium substrate of the present invention (hereinafter, may be simply referred to as the glass of the present invention) is used for a substrate for a data storage medium such as a magnetic disk or an optical disk. Unless otherwise specified, the composition is expressed as an oxide-based molar percentage.

又、本明細書において数値範囲を示す「~」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用され、特段の定めがない限り、以下本明細書において「~」は、同様の意味をもって使用される。 Further, in the present specification, "-" indicating a numerical range is used to mean that the numerical values described before and after the numerical range are included as the lower limit value and the upper limit value, and unless otherwise specified, the following "-" in the present specification. Is used with the same meaning.

本発明のガラスは、厚さ0.5mmでの波長450nmにおける透過率が80%以上であり、好ましくは85%以上であり、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは90.5%以上、特に好ましくは91%以上である。上限は特に制限されないが、通常95%以下である。波長450nmにおける透過率が80%以上であることにより、UV照射により発光した蛍光がガラスに吸収されるのを防止できる。 The glass of the present invention has a transmittance of 80% or more at a wavelength of 450 nm at a thickness of 0.5 mm, preferably 85% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 90.5% or more, particularly. It is preferably 91% or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 95% or less. When the transmittance at a wavelength of 450 nm is 80% or more, it is possible to prevent the fluorescence emitted by UV irradiation from being absorbed by the glass.

波長450nmにおける透過率を80%以上とする方法としては、例えば、ガラス中に含まれると可視域の波長を吸収し、透過率を下げる要因となるFeOなどの着色剤の含有量を、質量百分率で1%以下にすることが挙げられる。As a method of increasing the transmittance at a wavelength of 450 nm to 80% or more, for example, the content of a colorant such as Fe 2 O, which absorbs the wavelength in the visible region when contained in glass and causes a decrease in the transmittance, is used. The mass percentage may be 1% or less.

本発明のガラスは、厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率が0.2%以上であり、好ましくは0.5%以上であり、より好ましくは2%以上、さらに好ましくは4%以上、特に好ましくは6%以上、一層好ましくは8%以上、最も好ましくは10%以上である。上限は特に制限されないが、通常30%以下、より好ましくは20%以下、さらに好ましくは18%以下、特に好ましくは16%以下、一層好ましくは15%以下、最も好ましくは14%以下である。 The glass of the present invention has a transmittance of 0.2% or more at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm, preferably 0.5% or more, more preferably 2% or more, still more preferably 4% or more. It is particularly preferably 6% or more, more preferably 8% or more, and most preferably 10% or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 30% or less, more preferably 20% or less, still more preferably 18% or less, particularly preferably 16% or less, still more preferably 15% or less, and most preferably 14% or less.

厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率が0.2%以上であることにより、UV光がガラス表面で急激に減衰してガラス内部まで通りにくくなるのを抑制できる。その結果、発光領域が狭くなるのを防ぎ、視認される蛍光が弱くなるのを抑制できる。また、紫外領域で発光する蛍光が減衰するのを防ぎ、ガラスが該蛍光により再度励起されることによる発光を抑制できる。 When the transmittance at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm is 0.2% or more, it is possible to prevent UV light from being rapidly attenuated on the glass surface and difficult to pass through the inside of the glass. As a result, it is possible to prevent the light emitting region from being narrowed and to suppress the visible fluorescence from being weakened. In addition, it is possible to prevent the fluorescence emitted in the ultraviolet region from being attenuated, and to suppress the emission caused by the glass being re-excited by the fluorescence.

また、厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率を30%以下とすることにより、SiO、BまたはPを多く含有しなくてもよいため好ましい。SiOを多く含有すると溶解しにくくなり、B、もしくはPを多く含有すると、耐候性や耐熱性が低下する等のおそれがある。Further, by setting the transmittance at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm to 30% or less, it is not necessary to contain a large amount of SiO 2 , B 2 O 3 or P 2 O 5 , which is preferable. If a large amount of SiO 2 is contained, it becomes difficult to dissolve, and if a large amount of B 2 O 3 or P 2 O 5 is contained, the weather resistance and heat resistance may decrease.

厚さ0.5mmでの波長250nmにおける透過率を0.2%以上とする方法としては、例えば、以下の(1)および(2)の方法が挙げられる。
(1)溶融ガラスを冷却する際に、冷却速度について、ガラス転移点Tgに対し、Tg+50℃~Tg+20℃の範囲では400℃/分以下とする。
厚さ0.5mmでの波長250nmでの透過率はガラス転移点付近の温度におけるガラスの冷却速度に依存する。すなわち、ガラスの冷却速度を小さくすることにより、ガラスの構造緩和が進んで該透過率が増加する傾向にあるため、また、冷却時に温度分布が発生し残留応力が残り、基板が反ることを防ぐため、Tg+50℃~Tg+20℃の範囲では400℃/分以下とすることが好ましい。より好ましくは300℃/分以下、さらに好ましくは200℃/分以下、特に好ましくは100℃/分以下、一層好ましくは50℃/分以下、最も好ましくは10℃/分以下である。下限は製造時間を短くする観点から、0.2℃/分以上が好ましい。
Examples of the method for setting the transmittance at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm to 0.2% or more include the following methods (1) and (2).
(1) When cooling the molten glass, the cooling rate is set to 400 ° C./min or less in the range of Tg + 50 ° C. to Tg + 20 ° C. with respect to the glass transition point Tg.
The transmittance at a wavelength of 250 nm at a thickness of 0.5 mm depends on the cooling rate of the glass at a temperature near the glass transition point. That is, by reducing the cooling rate of the glass, the structure of the glass is relaxed and the transmittance tends to increase. Therefore, a temperature distribution is generated during cooling, residual stress remains, and the substrate warps. In order to prevent this, the temperature is preferably 400 ° C./min or less in the range of Tg + 50 ° C. to Tg + 20 ° C. It is more preferably 300 ° C./min or less, still more preferably 200 ° C./min or less, particularly preferably 100 ° C./min or less, still more preferably 50 ° C./min or less, and most preferably 10 ° C./min or less. The lower limit is preferably 0.2 ° C./min or more from the viewpoint of shortening the manufacturing time.

0.5℃/分でゆっくりと冷却したガラスは急速に冷却したガラスと比較し、密度が大きくなるため、ガラス構造に変化が生じていることが考えられる。冷却速度によるガラスの密度は、所定の冷却速度で作製したガラスの密度Daに対する、そのガラスをTg+30℃の温度で一定時間保持して0.5℃/分で冷却した後のガラスの密度Dbの増加分(Db-Da)/Da×100(%)で表され、これを密度変化量とする。 Since the density of the glass slowly cooled at 0.5 ° C./min is higher than that of the rapidly cooled glass, it is considered that the glass structure is changed. The density of the glass according to the cooling rate is the density Db of the glass after the glass is held at a temperature of Tg + 30 ° C. for a certain period of time and cooled at 0.5 ° C./min with respect to the density Da of the glass produced at a predetermined cooling rate. It is expressed as an increase (Db-Da) / Da × 100 (%), and this is used as the density change amount.

本発明のガラスの密度変化量は、波長250nmでの透過率を所定範囲に制御する観点から、0.01%以上であることが好ましく、より好ましくは0.05%以上であり、さらに好ましくは0.09%以上であり、一層好ましくは0.11%以上であり、特に好ましくは0.13%以上である。本発明のガラスの密度変化量は、1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5%以下であり、さらに好ましくは0.4%以下であり、一層好ましくは0.3%以下であり、特に好ましくは0.2%以下である。 The amount of change in the density of the glass of the present invention is preferably 0.01% or more, more preferably 0.05% or more, still more preferably 0.05% or more, from the viewpoint of controlling the transmittance at a wavelength of 250 nm within a predetermined range. It is 0.09% or more, more preferably 0.11% or more, and particularly preferably 0.13% or more. The amount of change in the density of the glass of the present invention is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.4% or less, still more preferably 0.3% or less. Yes, especially preferably 0.2% or less.

(2)ガラスの組成を適宜調整する。
例えば、波長250nmの吸収を小さくする観点から、Feなどの着色成分の含有量を1モル%以下にすること、SnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で1モル%以下含有すること、SiO、BまたはPなどの含有量の合計を60モル%以上にすることのいずれかまたはこれらの組み合わせ等がある。
(2) Adjust the composition of the glass as appropriate.
For example, from the viewpoint of reducing absorption at a wavelength of 250 nm, the content of coloring components such as Fe 2 O 3 should be 1 mol% or less, SnO 2 , TIO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 should be contained in an amount of 1 mol% or less in total, and the total content of SiO 2 , B 2 O 3 or P 2 O 5 should be 60 mol. There is either one of% or more or a combination thereof.

次に、本発明の基板用ガラスの組成(各成分の含有量)について、酸化物基準により、特に断らない限りモル百分率表示で説明する。 Next, the composition (content of each component) of the substrate glass of the present invention will be described in terms of molar percentage according to the oxide standard unless otherwise specified.

SiOはガラスの骨格を形成する必須成分である。SiOの含有量は55%以上であり、好ましくは60%以上であり、より好ましくは62%以上であり、特に好ましくは65%以上である。また、80%以下であり、好ましくは74%以下であり、より好ましくは73%以下であり、特に好ましくは72%以下であり、一層好ましくは71%以下である。SiO 2 is an essential component that forms the skeleton of glass. The content of SiO 2 is 55% or more, preferably 60% or more, more preferably 62% or more, and particularly preferably 65% or more. Further, it is 80% or less, preferably 74% or less, more preferably 73% or less, particularly preferably 72% or less, still more preferably 71% or less.

SiOの含有量を55%以上とすることにより、ガラスが不安定になり、ガラス転移点および耐薬品性が低下するのを防止できる。さらに、波長250nmにおける透過率を高くすることができる。また、SiOの含有量を80%以下とすることにより、熱膨張係数が小さくなりすぎず、ガラスを作製するための溶解温度が高くなりすぎるのを防止できる。By setting the content of SiO 2 to 55% or more, it is possible to prevent the glass from becoming unstable and the glass transition point and the chemical resistance from being lowered. Further, the transmittance at a wavelength of 250 nm can be increased. Further, by setting the content of SiO 2 to 80% or less, it is possible to prevent the coefficient of thermal expansion from becoming too small and the melting temperature for producing glass from becoming too high.

Alはガラスの耐薬品性およびガラス転移点を高くする効果を有し、必須成分である。Alの含有量は6%以上であり、好ましくは8%以上であり、より好ましくは10%以上であり、さらに好ましくは11%以上であり、特に好ましくは12%以上であり、最も好ましくは13%以上である。また、18%以下であり、好ましくは17%以下であり、より好ましくは16%以下であり、さらに好ましくは15%以下であり、特に好ましくは14%以下である。Al 2 O 3 has the effect of increasing the chemical resistance of glass and the glass transition point, and is an essential component. The content of Al 2 O 3 is 6% or more, preferably 8% or more, more preferably 10% or more, further preferably 11% or more, particularly preferably 12% or more, and most. It is preferably 13% or more. Further, it is 18% or less, preferably 17% or less, more preferably 16% or less, further preferably 15% or less, and particularly preferably 14% or less.

Alの含有量を6%以上とすることにより、前記効果を得ることができる。また、18%以下とすることにより、溶融ガラスの粘度が高くなりすぎ、成形、特にフロート成形が困難になることを防止できる。また、液相温度が高くなりすぎるのを防止できる。The above effect can be obtained by setting the content of Al 2 O 3 to 6% or more. Further, by setting it to 18% or less, it is possible to prevent the viscosity of the molten glass from becoming too high and making molding, particularly float molding, difficult. In addition, it is possible to prevent the liquid phase temperature from becoming too high.

は、ガラスの溶解反応性を高くし、失透温度を低下させ、また、前述のとおり波長250nmにおける透過率を高める観点から、12%未満含有できる。しかしBは発光を阻害し易い傾向があるため含有量は少ない方が好ましい。Bの含有量は12%未満であり、好ましくは3%未満であり、より好ましくは1%未満であり、さらに好ましくは0.5%未満、特に好ましくは0.2%未満である。B 2 O 3 can be contained in an amount of less than 12% from the viewpoint of increasing the dissolution reactivity of the glass, lowering the devitrification temperature, and increasing the transmittance at a wavelength of 250 nm as described above. However, since B 2 O 3 tends to inhibit light emission, it is preferable that the content is small. The content of B 2 O 3 is less than 12%, preferably less than 3%, more preferably less than 1%, still more preferably less than 0.5%, particularly preferably less than 0.2%. ..

MgOは、溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくし、ヤング率を高くする観点から、含有してもよい。MgOの含有量は13%以下であることが好ましく、より好ましくは11%以下であり、さらに好ましくは10%以下であり、特に好ましくは8%以下である。MgOの含有量を13%以下とすることにより、発光が阻害されるのを抑制できる。下限は特に限定されないが、MgOを含有する場合、1%以上含有することが好ましい。 MgO may be contained from the viewpoint of lowering the viscosity of the molten glass, making it easier to melt the glass, and increasing the Young's modulus. The content of MgO is preferably 13% or less, more preferably 11% or less, still more preferably 10% or less, and particularly preferably 8% or less. By setting the MgO content to 13% or less, it is possible to suppress the inhibition of light emission. The lower limit is not particularly limited, but when MgO is contained, it is preferably contained in an amount of 1% or more.

CaOは、溶融ガラスの粘度を低下させ、ヤング率を高くし、またはガラスを溶融しやすくする観点から、含有してもよい。CaOの含有量は、12%以下であることが好ましく、より好ましくは11%以下であり、さらに好ましくは10.5%以下であり、特に好ましくは10%以下である。また、2%以上であることが好ましく、より好ましくは2.5%以上であり、さらに好ましくは3%以上であり、特に好ましくは3.5%以上である。CaOの含有量を12%以下とすることにより、発光が阻害されるのを抑制できる。 CaO may be contained from the viewpoint of lowering the viscosity of the molten glass, increasing the Young's modulus, or facilitating the melting of the glass. The CaO content is preferably 12% or less, more preferably 11% or less, still more preferably 10.5% or less, and particularly preferably 10% or less. Further, it is preferably 2% or more, more preferably 2.5% or more, further preferably 3% or more, and particularly preferably 3.5% or more. By setting the CaO content to 12% or less, inhibition of luminescence can be suppressed.

SrOは、溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする観点から、含有してもよい。SrOの含有量は10%以下であることが好ましく、より好ましくは7%以下であり、さらに好ましくは5%以下であり、特に好ましくは4%以下であり、一層好ましくは3%以下であり、最も好ましくは2.5%以下である。SrOの含有量を10%以下とすることにより、比重が重くなりすぎず、比弾性の低下を抑制できる。下限は特に限定されないが、SrOを含有する場合、1%以上含有することが好ましい。 SrO may be contained from the viewpoint of lowering the viscosity of the molten glass and making it easier to melt the glass. The content of SrO is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, further preferably 5% or less, particularly preferably 4% or less, still more preferably 3% or less, and more preferably 3% or less. Most preferably, it is 2.5% or less. By setting the SrO content to 10% or less, the specific gravity does not become too heavy and the decrease in specific elasticity can be suppressed. The lower limit is not particularly limited, but when SrO is contained, it is preferably contained in an amount of 1% or more.

BaOは、ガラス転移点を高くし、また溶融ガラスの粘度を低下させガラスを溶融しやすくする観点から、含有してもよい。BaOの含有量は6%以下であることが好ましく、より好ましくは5.5%以下であり、さらに好ましくは5%以下であり、特に好ましくは4.8%以下である。 BaO may be contained from the viewpoint of increasing the glass transition point and lowering the viscosity of the molten glass to facilitate melting of the glass. The BaO content is preferably 6% or less, more preferably 5.5% or less, still more preferably 5% or less, and particularly preferably 4.8% or less.

BaOの含有量を6%以下とすることにより、比重を小さくし、比弾性率の低下を防止できる。下限は特に限定されないが、BaOを含有する場合、0.5%以上含有することが好ましい。 By setting the BaO content to 6% or less, the specific gravity can be reduced and the decrease in the specific elastic modulus can be prevented. The lower limit is not particularly limited, but when BaO is contained, it is preferably contained in an amount of 0.5% or more.

MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計(RO)は、2%以上であり、好ましくは5%以上であり、より好ましくは8%以上であり、さらに好ましくは10%以上であり、特に好ましくは12%以上であり、一層好ましくは14%以上であり、最も好ましくは15%以上である。MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計が2%以上であれば、溶融ガラスの粘度が製造可能な程度となる。また、26%以下であり、好ましくは20%以下であり、より好ましくは19%以下であり、さらに好ましくは18%以下であり、特に好ましくは17%以下、一層好ましくは16.5%以下であり、最も好ましくは16%以下である。MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量の合計が26%以下であると、ガラス転移点が一定以上となり、磁気ディスク製造工程での熱処理においても、変形するおそれがない。 The total content (RO) of MgO, CaO, SrO and BaO is 2% or more, preferably 5% or more, more preferably 8% or more, still more preferably 10% or more, and particularly. It is preferably 12% or more, more preferably 14% or more, and most preferably 15% or more. When the total content of MgO, CaO, SrO and BaO is 2% or more, the viscosity of the molten glass can be produced. Further, it is 26% or less, preferably 20% or less, more preferably 19% or less, further preferably 18% or less, particularly preferably 17% or less, still more preferably 16.5% or less. Yes, most preferably 16% or less. When the total content of MgO, CaO, SrO and BaO is 26% or less, the glass transition point becomes a certain level or more, and there is no possibility of deformation even in the heat treatment in the magnetic disk manufacturing process.

好ましいB、MgO、CaO、SrOおよびBaOの組成範囲としては、以下の(1)および(2)が挙げられる。Preferred composition ranges of B 2 O 3 , MgO, CaO, SrO and BaO include the following (1) and (2).

(1)Bを0%以上3%未満、MgOを0%~6.5%、CaOを0%~12%、SrOを0~7%含有する。
アルカリ土類金属の中でもMgO、CaOおよびBは発光を阻害しやすい傾向があるため、MgO、CaOおよびBの含有量はともに低い方が好ましい。
は、熱膨張を小さくするために、および溶解しやすくするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。また、ガラス転移点やヤング率を低下させないためには、2.5%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましい。
MgOは、UV照射による発光を強くするために5.5%以下がより好ましく、4.5%以下がさらに好ましく、4%以下が特に好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が最も好ましい。また、ヤング率を高くするためには、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは2%以上、一層好ましくは2.5%以上である。
CaOは、UV照射による発光を強くするためには、10%以下がより好ましく、8%以下がさらに好ましく、5%以下が特に好ましく、4.5%以下が一層好ましく、3.5%以下がより一層好ましく、3%以下が最も好ましい。溶解特性をよくするためには、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは1.5%以上、一層好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。
SrOは、比弾性率の低下や熱膨張の増加を抑えるためには6.5%以下がより好ましく、6%以下がさらに好ましく、5.5%以下が特に好ましく、5%以下が一層好ましく、4.5%以下が最も好ましい。また、溶解性を改善し、ヤング率を高くするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上、特に好ましくは1.5%以上、一層好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。
BaOは、溶解性改善のために、好ましくは0.5%以上、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上、最も好ましくは2.5%以上である。また、比重の増加、比弾性率の低下や熱膨張の増加、機械特性の増加を抑えるためには4.5%以下がより好ましく、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が特に好ましい。
(1) B 2 O 3 is contained in an amount of 0% or more and less than 3%, MgO is contained in an amount of 0% to 6.5%, CaO is contained in an amount of 0% to 12%, and SrO is contained in an amount of 0 to 7%.
Among alkaline earth metals, MgO, CaO and B2O3 tend to inhibit light emission. Therefore , it is preferable that the contents of MgO , CaO and B2O3 are both low.
B 2 O 3 is more preferably 0.5% or more, still more preferably 1% or more, in order to reduce thermal expansion and facilitate dissolution. Further, in order not to reduce the glass transition point and Young's modulus, 2.5% or less is more preferable, and 2% or less is further preferable.
MgO is more preferably 5.5% or less, further preferably 4.5% or less, particularly preferably 4% or less, further preferably 3.5% or less, and 3% or less in order to enhance light emission due to UV irradiation. Most preferred. Further, in order to increase the Young's modulus, it is more preferably 0.5% or more, further preferably 1% or more, particularly preferably 2% or more, still more preferably 2.5% or more.
CaO is more preferably 10% or less, further preferably 8% or less, particularly preferably 5% or less, further preferably 4.5% or less, and 3.5% or less in order to enhance light emission by UV irradiation. Even more preferably, 3% or less is most preferable. In order to improve the dissolution characteristics, it is more preferably 0.5% or more, further preferably 1% or more, particularly preferably 1.5% or more, still more preferably 2% or more, and most preferably 2.5% or more. be.
SrO is more preferably 6.5% or less, further preferably 6% or less, particularly preferably 5.5% or less, still more preferably 5% or less, in order to suppress a decrease in specific elastic modulus and an increase in thermal expansion. Most preferably 4.5% or less. Further, in order to improve the solubility and increase the Young's modulus, it is more preferably 0.5% or more, further preferably 1% or more, particularly preferably 1.5% or more, still more preferably 2% or more, most preferably. Is 2.5% or more.
BaO is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, particularly preferably 2% or more, and most preferably 2.5% or more for improving solubility. be. Further, in order to suppress an increase in specific gravity, a decrease in specific elastic modulus, an increase in thermal expansion, and an increase in mechanical properties, 4.5% or less is more preferable, 4% or less is further preferable, and 3.5% or less is further preferable. 3% or less is particularly preferable.

(2)Bを0%以上3%未満、MgOを6.5%~13%、BaOを0.5%~5%、SrOを1~10%含有する。
ヤング率を高くするためには、MgOを6.5%以上とすることが好ましく、さらにSrOの含有量は高いことが好ましい。また比弾性率の低下を防ぐためには比重を小さくした方が良く、BaOを5%以下とすることが好ましい。ヤング率を高くするためにMgOおよびSrOの含有量を増やすのが好ましいが、多すぎると失透しやすくなるため、BaOの含有量を増やすことが好ましいためである。また、より好ましくはCaOを0~4.5%含有する。
は、熱膨張を小さくするために、および溶解しやすくするために、より好ましくは0.5%以上、さらに好ましくは1%以上である。また、ガラス転移点やヤング率を低下させないためには、2.5%以下がより好ましく、2%以下がさらに好ましい。
MgOは、ヤング率を高くするためには、より好ましくは7%以上、さらに好ましくは7.5%以上、特に好ましくは8%以上、一層好ましくは8.5%以上である。また、UV照射による発光強度の低下や、失透特性の悪化を防ぐために、12.5%以下がより好ましく、12%以下がさらに好ましく、11.5%以下が特に好ましく、11%以下が一層好ましく、10.5%以下が最も好ましい。
CaOは、溶解特性をよくするために、さらに好ましくは0.5%以上、特に好ましくは1%以上、一層好ましくは1.5%以上、最も好ましくは2.5%以上である。また、UV照射による発光を強くするためには、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が特に好ましく、3%以下が一層好ましい。
SrOは、溶解性を改善し、ヤング率を高くするために、より好ましくは2%以上、さらに好ましくは3.5%以上、特に好ましくは4%以上、一層好ましくは4.5%以上、最も好ましくは5%以上である。また、比重の増加、脆さの悪化、比弾性率の低下や熱膨張の増加を抑えるためには10%以下が好ましく、9%以下がより好ましく、8%以下がさらに好ましく、7%以下が特に好ましい。
BaOは、溶解性改善のために、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上、一層好ましくは2.5%以上、最も好ましくは3%以上である。また、比重の増加、比弾性率の低下や熱膨張の増加、機械特性の増加を抑えるためには4.5%以下がより好ましく、4%以下がさらに好ましく、3.5%以下が一層好ましく、3%以下が特に好ましい。
(2) B 2 O 3 is contained in an amount of 0% or more and less than 3%, MgO is contained in an amount of 6.5% to 13%, BaO is contained in an amount of 0.5% to 5%, and SrO is contained in an amount of 1 to 10%.
In order to increase Young's modulus, MgO is preferably 6.5% or more, and the content of SrO is preferably high. Further, in order to prevent a decrease in the specific elastic modulus, it is better to reduce the specific gravity, and it is preferable that the BaO is 5% or less. It is preferable to increase the content of MgO and SrO in order to increase the Young's modulus, but it is preferable to increase the content of BaO because if it is too large, devitrification is likely to occur. Further, it more preferably contains 0 to 4.5% of CaO.
B 2 O 3 is more preferably 0.5% or more, still more preferably 1% or more, in order to reduce thermal expansion and facilitate dissolution. Further, in order not to reduce the glass transition point and Young's modulus, 2.5% or less is more preferable, and 2% or less is further preferable.
In order to increase Young's modulus, MgO is more preferably 7% or more, further preferably 7.5% or more, particularly preferably 8% or more, still more preferably 8.5% or more. Further, in order to prevent a decrease in emission intensity and deterioration of devitrification characteristics due to UV irradiation, 12.5% or less is more preferable, 12% or less is further preferable, 11.5% or less is particularly preferable, and 11% or less is further preferable. It is preferably 10.5% or less, and most preferably 10.5% or less.
CaO is more preferably 0.5% or more, particularly preferably 1% or more, still more preferably 1.5% or more, and most preferably 2.5% or more in order to improve the dissolution characteristics. Further, in order to enhance the light emission by UV irradiation, 4% or less is further preferable, 3.5% or less is particularly preferable, and 3% or less is further preferable.
SrO is more preferably 2% or more, further preferably 3.5% or more, particularly preferably 4% or more, still more preferably 4.5% or more, most preferably, in order to improve the solubility and increase the Young's modulus. It is preferably 5% or more. Further, in order to suppress an increase in specific gravity, deterioration of brittleness, decrease in specific elastic modulus and increase in thermal expansion, 10% or less is preferable, 9% or less is more preferable, 8% or less is further preferable, and 7% or less is more preferable. Especially preferable.
BaO is more preferably 1% or more, further preferably 1.5% or more, particularly preferably 2% or more, still more preferably 2.5% or more, and most preferably 3% or more for improving the solubility. .. Further, in order to suppress an increase in specific gravity, a decrease in specific elastic modulus, an increase in thermal expansion, and an increase in mechanical properties, 4.5% or less is more preferable, 4% or less is further preferable, and 3.5% or less is further preferable. 3% or less is particularly preferable.

LiO、NaOおよびKOはガラス転移点Tgを低くし、熱膨張性を高くするため、これら3成分の含有量の合計(RO)は10%以下であり、好ましくは4%以下であり、より好ましくは3%以下であり、さらに好ましくは1%以下であり、特に好ましくは0.5%以下であり、一層好ましくは0.2%以下、最も好ましくは実質的に含有しないことが好ましい。Since Li 2 O, Na 2 O and K 2 O lower the glass transition point Tg and increase the thermal expansion property, the total content (R 2 O) of these three components is preferably 10% or less. It is 4% or less, more preferably 3% or less, further preferably 1% or less, particularly preferably 0.5% or less, still more preferably 0.2% or less, and most preferably substantially. It is preferable not to contain it.

は、前述のとおり波長250nmにおける透過率を高める観点から、10%以下含有できる。しかしPは発光を阻害し易い傾向があるため含有量は少ない方が好ましい。Pの含有量は、好ましくは3%未満であり、より好ましくは1%未満であり、さらに好ましくは0.5%未満、特に好ましくは0.2%未満である。また、ガラス製造において、Pの化合物由来の欠点を発生させるおそれがあるため、一層好ましくは実質的に含有しない。As described above, P 2 O 5 can be contained in an amount of 10% or less from the viewpoint of increasing the transmittance at a wavelength of 250 nm. However, since P 2 O 5 tends to inhibit light emission, it is preferable that the content is small. The content of P 2 O 5 is preferably less than 3%, more preferably less than 1%, still more preferably less than 0.5%, and particularly preferably less than 0.2%. Further, in the production of glass, since there is a possibility of causing defects derived from the compound of P, it is more preferably substantially not contained.

なお、本明細書において「実質的に含有しない」とは、意図的に原料中に含有しないことを意味し、不可避的不純物の混入をも排除するものではない。具体的には、含有量が0.01%未満であることをいう。 In addition, in this specification, "substantially not contained" means that it is intentionally not contained in the raw material, and does not exclude the inclusion of unavoidable impurities. Specifically, it means that the content is less than 0.01%.

本発明のガラスは、UVの照射により蛍光を発させるために、発光元素であるSnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で0.03%以上、好ましくは0.07%以上、より好ましくは0.1%以上、さらに好ましくは0.12%以上、特に好ましくは0.15%以上、一層好ましくは0.2%以上、最も好ましくは0.25%以上含む。また、1%以下とすることが好ましく、より好ましくは0.8%以下、さらに好ましくは0.5%以下、特に好ましくは0.4%以下、一層好ましくは0.3%以下、最も好ましくは0.35%以下が好ましい。The glass of the present invention is one of the light emitting elements SnO 2 , TIO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 in order to fluoresce when irradiated with UV. The total content of at least one species is 0.03% or more, preferably 0.07% or more, more preferably 0.1% or more, still more preferably 0.12% or more, and particularly preferably 0.15% or more. , More preferably 0.2% or more, and most preferably 0.25% or more. Further, it is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, still more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.4% or less, still more preferably 0.3% or less, and most preferably. It is preferably 0.35% or less.

SnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOの含有量の合計が0.03%以上であることにより、UV照射による発光する蛍光の強さが十分となり、ガラス破片やガラス基板を視認しやすい。一方で、1%以下とすることにより、発光元素による吸収を抑制し、特に波長250nmにおける透過率の低下を防止できる。Fluorescence emitted by UV irradiation when the total content of SnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 is 0.03% or more. It is strong enough to make it easy to see glass fragments and glass substrates. On the other hand, when it is set to 1% or less, absorption by luminescent elements can be suppressed, and a decrease in transmittance can be prevented especially at a wavelength of 250 nm.

Feは可視光域での吸収があるため、多すぎるとUV照射による発光を阻害するおそれがある。また、発光元素に作用して発光の効率を低下させて、その結果UV照射による発光強度を低下させるおそれがある。そのため、含有量は1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5%以下であり、さらに好ましくは0.1%以下であり、特に好ましくは0.05%以下であり、最も好ましくは0.03%以下である。Since Fe 2 O 3 is absorbed in the visible light region, if it is too much, it may hinder the light emission due to UV irradiation. In addition, it may act on luminescent elements to reduce the efficiency of luminescence, and as a result, reduce the luminescence intensity due to UV irradiation. Therefore, the content is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, further preferably 0.1% or less, particularly preferably 0.05% or less, and most preferably. It is 0.03% or less.

一方で、Feを含有させると、ガラス溶融時にガラス融液自身が熱輻射を吸収しやすくなり、ガラス製造がしやすくなる。また、安価な工業原料を使用しやすくなる。そのため、0.005%以上含有させることが好ましく、より好ましくは0.01%、さらに好ましくは0.012%以上、特に好ましくは0.014%以上、一層好ましくは0.016%以上、最も好ましくは0.018%以上である。On the other hand, when Fe 2 O 3 is contained, the glass melt itself easily absorbs heat radiation when the glass is melted, which facilitates glass production. It also makes it easier to use cheap industrial raw materials. Therefore, it is preferably contained in an amount of 0.005% or more, more preferably 0.01%, further preferably 0.012% or more, particularly preferably 0.014% or more, still more preferably 0.016% or more, and most preferably. Is 0.018% or more.

前記発光元素の含有量の合計/Feの含有量の値は、0.03以上であることが好ましく、より好ましくは5以上であり、さらに好ましくは7以上であり、特に好ましくは9以上、一層好ましくは12以上、最も好ましくは15以上である。また、500以下であることが好ましく、より好ましくは100以下であり、さらに好ましくは60以下であり、特に好ましくは40以下、一層好ましくは30以下、最も好ましくは20以下である。The total content of the luminescent elements / the value of the content of Fe 2 O 3 is preferably 0.03 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 7 or more, and particularly preferably 9 or more. As mentioned above, it is more preferably 12 or more, and most preferably 15 or more. Further, it is preferably 500 or less, more preferably 100 or less, further preferably 60 or less, particularly preferably 40 or less, still more preferably 30 or less, and most preferably 20 or less.

前記発光元素の含有量の合計/Feの含有量の値が0.03以上であることにより、Feによる吸収に対して十分な発光強度があるといえるため、UV照射によりガラスが視認されやすくなる。また、該値が500以下であることにより、発光元素による吸収で、特に波長250nmにおける透過率が低下しすぎることが無く、UV照射による発光を強くすることができる。When the total content of the luminescent elements / the value of the content of Fe 2 O 3 is 0.03 or more, it can be said that the luminescence intensity is sufficient for absorption by Fe 2 O 3 , and therefore, by UV irradiation. The glass is easily visible. Further, when the value is 500 or less, the transmittance due to absorption by the light emitting element does not decrease too much, particularly at a wavelength of 250 nm, and the light emission due to UV irradiation can be strengthened.

本発明のガラスは実質的に、または本質的に上記成分からなるが、この他に以下に例示する成分などを、本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。上記成分以外の成分の含有量の合計は20%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましい。 The glass of the present invention is substantially or essentially composed of the above-mentioned components, but other components such as those exemplified below may be contained within a range that does not impair the object of the present invention. The total content of components other than the above components is preferably 20% or less, more preferably 5% or less.

SO、Cl、AsまたはSb等の清澄剤、NiO、Se、CrまたはCoO等の着色剤を含有量の合計で5%まで含有してもよい。A clarifying agent such as SO 3 , Cl, As 2 O 3 or Sb 2 O 3 and a coloring agent such as NiO, Se, Cr 2 O 3 or CoO may be contained up to 5% in total.

本発明のガラスは、ヤング率が70GPa以上であることが好ましく、より好ましくは75GPa以上、さらに好ましくは78GPa以上、特に好ましくは80GPa以上、一層好ましくは82GPa以上、最も好ましくは84GPa以上である。 The glass of the present invention preferably has a Young's modulus of 70 GPa or more, more preferably 75 GPa or more, still more preferably 78 GPa or more, particularly preferably 80 GPa or more, still more preferably 82 GPa or more, and most preferably 84 GPa or more.

ヤング率が70GPa以上であることにより、記録媒体の記録容量を増すために基板の薄板化を行い、記録媒体と読み取りヘッドの間隔を小さくする際、前記基板の薄板化に伴う基板のたわみやそりの増大を抑制できる。また記録媒体が衝撃を受けた際、基板をたわみにくくし、応力の発生を抑え、割れにくくすることができる。上限は制限されないが、通常88GPa以下である。 When the Young's modulus is 70 GPa or more, the substrate is thinned in order to increase the recording capacity of the recording medium, and when the distance between the recording medium and the reading head is reduced, the substrate is bent or warped due to the thinning of the substrate. Can be suppressed from increasing. In addition, when the recording medium receives an impact, the substrate can be made difficult to bend, stress can be suppressed, and cracks can be made difficult. The upper limit is not limited, but is usually 88 GPa or less.

本発明のガラスは、50~350℃における熱膨張係数(CTE)が60×10-7/℃以下であることが好ましく、より好ましくは50×10-7/℃以下であり、さらに好ましくは45×10-7/℃以下であり、特に好ましくは40×10-7/℃以下である。下限は特に制限されないが、通常30×10-7/℃以上である。The glass of the present invention preferably has a coefficient of thermal expansion (CTE) of 60 × 10 -7 / ° C. or less at 50 to 350 ° C., more preferably 50 × 10 -7 / ° C. or less, and further preferably 45. It is × 10 -7 / ° C or less, and particularly preferably 40 × 10 -7 / ° C or less. The lower limit is not particularly limited, but is usually 30 × 10 -7 / ° C. or higher.

50~350℃における熱膨張係数(CTE)が60×10-7/℃以下であることにより、熱アシスト磁気記録技術に求められる高い耐熱性を有することができ、熱による割れを防止できる。When the coefficient of thermal expansion (CTE) at 50 to 350 ° C. is 60 × 10 -7 / ° C. or less, it is possible to have high heat resistance required for heat-assisted magnetic recording technology, and it is possible to prevent cracking due to heat.

本発明のガラスは、ガラス転移点Tgが600℃以上であることが好ましく、より好ましくは650℃以上であり、さらに好ましくは680℃以上であり、特に好ましくは710℃以上、一層好ましくは740℃以上、最も好ましくは760℃以上である。 The glass of the present invention preferably has a glass transition point Tg of 600 ° C. or higher, more preferably 650 ° C. or higher, further preferably 680 ° C. or higher, particularly preferably 710 ° C. or higher, still more preferably 740 ° C. or higher. As mentioned above, it is most preferably 760 ° C. or higher.

ガラス転移点Tgが600℃以上であることにより、データ記憶媒体の記憶密度の増大が容易となる。すなわち、記憶密度増大のためには、磁気記録層である磁性層の保磁力を増加させることが有効であり、そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理をより高い温度で行うことが好ましい。データ記憶媒体用基板に用いられるガラスのガラス転移点を600℃以上とすることにより所望の温度で前記熱処理を実施できる。 When the glass transition point Tg is 600 ° C. or higher, the storage density of the data storage medium can be easily increased. That is, in order to increase the storage density, it is effective to increase the coercive force of the magnetic layer which is the magnetic recording layer, and for that purpose, it is preferable to perform the heat treatment performed at the time of forming the magnetic layer at a higher temperature. The heat treatment can be performed at a desired temperature by setting the glass transition point of the glass used for the substrate for the data storage medium to 600 ° C. or higher.

本発明のガラス基板のβ-OH値は、0.05mm-1以上であることが好ましく、より好ましくは0.1mm-1以上、さらに好ましくは0.15mm-1以上、特に好ましくは0.2mm-1以上である。また、0.7mm-1以下が好ましく、より好ましくは0.6mm-1以下、さらに好ましくは0.5mm-1以下、特に好ましくは0.4mm-1以下である。β-OH値を0.7mm-1以下とすることにより、ガラスに熱が伝わりやすくなりガラス溶融しやすくなる。また、ガラス転移点の低下を抑制できる。一般的なフロート法、フュージョン法、プレス法でガラスを製造する場合は、典型的には0.05mm-1以上である。The β-OH value of the glass substrate of the present invention is preferably 0.05 mm -1 or more, more preferably 0.1 mm -1 or more, still more preferably 0.15 mm -1 or more, and particularly preferably 0.2 mm. It is -1 or more. Further, 0.7 mm -1 or less is preferable, more preferably 0.6 mm -1 or less, still more preferably 0.5 mm -1 or less, and particularly preferably 0.4 mm -1 or less. By setting the β-OH value to 0.7 mm -1 or less, heat is easily transferred to the glass and the glass is easily melted. In addition, the decrease in the glass transition point can be suppressed. When glass is manufactured by a general float method, fusion method, or press method, it is typically 0.05 mm -1 or more.

なお、本発明でいうβ-OH値とはガラス中の水酸基含有量の尺度であり、FT-IR(フーリエ変換赤外分光法)により測定される透過率をもとに次式により算出される。
β-OH値=(1/X)log10(T1/T2)。
The β-OH value in the present invention is a measure of the hydroxyl group content in glass, and is calculated by the following equation based on the transmittance measured by FT-IR (Fourier transform infrared spectroscopy). ..
β-OH value = (1 / X) log 10 (T1 / T2).

ここで、Xはサンプルの厚さ(mm)、T1は参照波数4000cm-1における透過率(%)、T2は水酸基吸収波数3500cm-1付近(3300cm-1~3700cm-1の範囲)における透過率の最小値(%)である。β-OH値が高いほどガラス中の水酸基含有量が高いこととなる。Here, X is the sample thickness (mm), T1 is the transmittance (%) at the reference wave number 4000 cm -1 , and T2 is the transmittance near the hydroxyl group absorption wave number 3500 cm -1 (range of 3300 cm -1 to 3700 cm -1 ). Is the minimum value (%) of. The higher the β-OH value, the higher the hydroxyl group content in the glass.

本発明のデータ記憶媒体用ガラス基板は、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体用の基板として用いられる。 The glass substrate for a data storage medium of the present invention is used as a substrate for a data storage medium such as a magnetic disk or an optical disk.

本発明におけるデータ記憶媒体用ガラス基板は典型的には、厚みが0.5~1.5mm、直径が20~100mmである円形ガラス基板であり、磁気ディスク用ガラス基板等においては通常その中央に直径が5~25mmである孔が形成される。 The glass substrate for a data storage medium in the present invention is typically a circular glass substrate having a thickness of 0.5 to 1.5 mm and a diameter of 20 to 100 mm, and is usually in the center of a glass substrate for a magnetic disk or the like. A hole having a diameter of 5 to 25 mm is formed.

本発明の磁気ディスクにおいては本発明のデータ記憶媒体用ガラス基板の主表面に少なくとも磁気記録層たる磁性層が形成されており、その他に必要に応じて下地層、保護層、潤滑層または凹凸制御層などが形成される場合がある。 In the magnetic disk of the present invention, at least a magnetic layer serving as a magnetic recording layer is formed on the main surface of the glass substrate for a data storage medium of the present invention, and if necessary, a base layer, a protective layer, a lubricating layer or unevenness control is formed. Layers and the like may be formed.

本発明のガラスおよびガラス基板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、またダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、所定の冷却速度となるよう調整して徐冷した後、必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とする。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好ましい。 The method for producing the glass and the glass substrate of the present invention is not particularly limited, and various methods can be applied. For example, the raw materials of each component usually used are mixed so as to have a target composition, and this is heated and melted in a glass melting kiln. The glass is homogenized by bubbling, stirring, addition of a clarifying agent, etc., molded into a plate glass of a predetermined thickness by a well-known float method, press method, down draw method, etc., and adjusted to a predetermined cooling rate. After slowly cooling, if necessary, processing such as grinding and polishing is performed, and then a glass substrate having a predetermined size and shape is obtained. As the molding method, a float method suitable for mass production is particularly preferable.

各成分の原料を表1にモル百分率表示で示した組成となるように調合し、白金るつぼを用いて1550~1650℃の温度で3~5時間溶解した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷した。なお、Tg+50℃~Tg+20℃の冷却速度について、表1に示す通りとした。 The raw materials of each component were prepared so as to have the composition shown in the molar percentage display in Table 1, and dissolved in a platinum crucible at a temperature of 1550 to 1650 ° C. for 3 to 5 hours. Next, the molten glass was poured out, formed into a plate shape, and slowly cooled. The cooling rates of Tg + 50 ° C. to Tg + 20 ° C. were as shown in Table 1.

こうして得られたガラス基板について、ヤング率E(単位:GPa)、50~350℃における熱膨張係数CTE(単位:×10-7/℃)、ガラス転移点Tg(単位:℃)、β-OH(単位:mm-1)、波長450nmにおける透過率(単位:%)、波長250nmにおける透過率(単位:%)、波長450nmにおける蛍光強度、密度(単位:g/cm)、冷却速度0.5℃/minの時の密度(単位:g/cm)、密度変化量(単位:%)、波長250nmの励起光による発光の有無を以下に示す方法により測定または評価した。For the glass substrate thus obtained, Young ratio E (unit: GPa), thermal expansion coefficient CTE at 50 to 350 ° C. (unit: × 10-7 / ° C.), glass transition point Tg (unit: ° C.), β-OH. (Unit: mm -1 ), transmission rate at wavelength 450 nm (unit:%), transmission rate at wavelength 250 nm (unit:%), fluorescence intensity at wavelength 450 nm, density (unit: g / cm 3 ), cooling rate 0. The density at 5 ° C./min (unit: g / cm 3 ), the amount of change in density (unit:%), and the presence or absence of light emission by excitation light having a wavelength of 250 nm were measured or evaluated by the methods shown below.

ガラス転移点Tg:示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から5℃/分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。 Glass transition point Tg: Using a differential thermal expansion meter, the elongation rate of the glass when the temperature is raised from room temperature to 5 ° C / min using quartz glass as a reference sample is softened and the elongation is no longer observed. The temperature was measured up to the bending point, that is, the temperature corresponding to the bending point in the thermal expansion curve was defined as the glass transition point.

ヤング率E:厚さが0.5mm、大きさが4cm×4cmのガラス基板について、超音波パルス法により測定した。 Young's modulus E: A glass substrate having a thickness of 0.5 mm and a size of 4 cm × 4 cm was measured by an ultrasonic pulse method.

50~350℃における熱膨張係数CTE:前記Tgの測定と同様にして得られた熱膨張曲線から50~350℃における熱膨張係数を算出した。
Coefficient of thermal expansion at 50 to 350 ° C. CTE: The coefficient of thermal expansion at 50 to 350 ° C. was calculated from the thermal expansion curve obtained in the same manner as in the measurement of Tg.

β-OH値:厚さが0.5mm、大きさが2cm×2cmのガラス基板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨した後、FT-IRを用いて透過スペクトルを測定した。その後、前記式を用いてβ-OH値を算出した。 β-OH value: Both sides of a glass substrate having a thickness of 0.5 mm and a size of 2 cm × 2 cm were mirror-polished with cerium oxide, and then the transmission spectrum was measured using FT-IR. Then, the β-OH value was calculated using the above formula.

波長450nmにおける透過率および波長250nmにおける透過率:分光光度計(HITACHI社製、型番:U-4100形)を用いて厚さ0.5mmにおける透過率を測定した。測定光をガラス基板に入射後、出射する光に可視光カットフィルタ(シグマ光機社製、型番:UVTAF-50S-33U)を透過させることにより発光の影響が出ない条件で測定した。 Transmittance at a wavelength of 450 nm and transmittance at a wavelength of 250 nm: A transmittance at a thickness of 0.5 mm was measured using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, model number: U-4100). After the measurement light was incident on the glass substrate, the light emitted was passed through a visible light cut filter (manufactured by Sigma Kouki Co., Ltd., model number: UVTAF-50S-33U), and the measurement was performed under conditions where the influence of light emission did not appear.

波長450nmにおける蛍光強度:分光蛍光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製、型番:F4500)を用いて測定した。測定条件は励起波長250nmで、入射側のバンド幅は2.5nmとした。大きさ50mm角、0.5mm厚の両面鏡面研磨したガラスに、入射角およそ45°で入射し、出射角およそ45°方向の蛍光を検出した。検出側のバンド幅は2.5nmとした。蛍光波長400~500nmを1200nm/minの速さで走査し、450nmにおける蛍光強度を算出した。 Fluorescence intensity at a wavelength of 450 nm: Measured using a spectrofluorescence fluorometer (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, model number: F4500). The measurement conditions were an excitation wavelength of 250 nm and a bandwidth on the incident side of 2.5 nm. A 50 mm square, 0.5 mm thick double-sided mirror-polished glass was incident at an incident angle of about 45 °, and fluorescence in an emission angle of about 45 ° was detected. The bandwidth on the detection side was 2.5 nm. The fluorescence wavelength of 400 to 500 nm was scanned at a speed of 1200 nm / min, and the fluorescence intensity at 450 nm was calculated.

ガラスの密度:アルキメデス法を用いて測定した。冷却速度によるガラスの密度の違いは、それぞれの冷却速度で作製したガラスの密度Daを上記方法で測定した後、各ガラスをTg+30℃の温度で一定時間保持し、0.5℃/分で冷却を行い、再度各ガラスの密度Dbを上記方法で測定した。それぞれの冷却速度で作製したガラスの密度に対する0.5℃/分で冷却した際の密度の増加分(Db-Da)/Da×100(%)を密度変化量とした。 Glass density: measured using the Archimedes method. The difference in the density of glass depending on the cooling rate is that after measuring the density Da of the glass produced at each cooling rate by the above method, each glass is held at a temperature of Tg + 30 ° C for a certain period of time and cooled at 0.5 ° C / min. The density Db of each glass was measured again by the above method. The amount of increase in density (Db-Da) / Da × 100 (%) when cooled at 0.5 ° C./min with respect to the density of the glass produced at each cooling rate was defined as the amount of change in density.

波長250nmの励起光による発光の有無:1cm角のガラス破片を黒い紙上に配置した。UV光源(ASONE社製、型番:Handy UV Lamp SLUV-4)をガラスの表面からの垂直高さ30cmから照射し、明るさ1ルクスの環境下で目視し、1mの距離で容易に視認できる場合は○、視認できない場合は×とした。 Presence or absence of light emission by excitation light having a wavelength of 250 nm: 1 cm square glass fragments were placed on black paper. When a UV light source (manufactured by ASONE, model number: Handy UV Lamp SLUV-4) is irradiated from a vertical height of 30 cm from the surface of the glass, visually observed in an environment with a brightness of 1 lux, and easily visible at a distance of 1 m. Was marked with ○, and if it was not visible, it was marked with ×.

結果を表1に示す。表1において、例1~6は実施例であり、例7~9は比較例である。 The results are shown in Table 1. In Table 1, Examples 1 to 6 are Examples, and Examples 7 to 9 are Comparative Examples.

Figure 0007056558000001
Figure 0007056558000001

表1の例1~6に示すように、本発明のガラスは発光元素を合計で0.03%以上含有しているので、UV照射により発光し、視認性が高いガラスであるとともに、高耐熱性、高ヤング率および低膨張性を示し、熱アシスト磁気記録に好適であることがわかった。 As shown in Examples 1 to 6 of Table 1, since the glass of the present invention contains 0.03% or more of luminescent elements in total, it emits light by UV irradiation, is highly visible, and has high heat resistance. It was found to be suitable for heat-assisted magnetic recording because of its properties, high Young's modulus and low expansion.

一方、例7、9では発光元素を合計で0.03%以上含有していないため、UV照射により発光しなかった。 On the other hand, in Examples 7 and 9, since the total amount of luminescent elements was 0.03% or more, no light was emitted by UV irradiation.

例8は、発光元素としてNbを含むため、当該ガラスの吸収端がNbを含まない場合と比較して長波長側にシフトする。このため、発光元素としてSnOを入れた例1および2等と比較して、波長250nmの透過率が低くなる。そして、例3と比較して冷却速度が40℃/分と大きいため、波長250nmにおける透過率が0.2%以上ではなく、UV照射による発光が認められなかったと考えられる。In Example 8, since Nb 2 O 5 is contained as a light emitting element, the absorption end of the glass is shifted to the longer wavelength side as compared with the case where Nb 2 O 5 is not contained. Therefore, the transmittance at a wavelength of 250 nm is lower than that of Examples 1 and 2 in which SnO 2 is added as a light emitting element. Since the cooling rate was as high as 40 ° C./min as compared with Example 3, it is considered that the transmittance at a wavelength of 250 nm was not 0.2% or more, and no light emission due to UV irradiation was observed.

本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。なお、本出願は、2016年5月25日付けで出願された日本特許出願(特願2016-104476)に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。 Although the invention has been described in detail with reference to particular embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and modifications are possible without departing from the spirit and scope of the invention. This application is based on a Japanese patent application filed on May 25, 2016 (Japanese Patent Application No. 2016-10476), which is incorporated by reference in its entirety. Also, all references cited here are taken in as a whole.

本発明のデータ記憶媒体基板用ガラスは、磁気ディスクまたは光ディスク等のデータ記憶媒体、その基板、およびそれらの製造に利用できる。 The glass for a data storage medium substrate of the present invention can be used for manufacturing a data storage medium such as a magnetic disk or an optical disk, a substrate thereof, and the like.

Claims (5)

酸化物基準のモル百分率表示で、SiOを55~80%、Alを10~18%、B3.0%超12%未満、Feを1%以下含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で2~26%、LiO、NaOおよびKOのうち少なくとも1種をその含有量の合計(RO)で10%以下、発光元素であるSnO、TiO、Nb、ZrO、Ta、WO、MoOおよびCeOのうち少なくとも1種をその含有量の合計で0.03%以上含有し、前記発光元素の含有量の合計を前記Feの含有量で除した値が5以上であり、厚さ0.5mmでの波長450nmにおける透過率が80%以上、波長250nmにおける透過率が0.2%以上であるデータ記憶媒体基板用ガラス。 In terms of oxide-based molar percentage display, SiO 2 is 55 to 80%, Al 2 O 3 is 10 to 18%, B 2 O 3 is more than 3.0% and less than 12%, and Fe 2 O 3 is 1% or less. Then, at least one of MgO, CaO, SrO and BaO is contained in the total content (RO) of 2 to 26%, and at least one of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O is contained in the total content (RO). Contains at least one of the luminescent elements SnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , WO 3 , MoO 3 and CeO 2 in total (R 2 O) of 10% or less. The total content is 0.03% or more, the value obtained by dividing the total content of the luminescent element by the content of Fe 2 O 3 is 5 or more, and transmission at a wavelength of 450 nm at a thickness of 0.5 mm. Glass for a data storage medium substrate having a rate of 80% or more and a transmission rate of 0.2% or more at a wavelength of 250 nm. 前記発光元素の含有量の合計を前記Feの含有量で除した値が5~500である請求項1に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。 The glass for a data storage medium substrate according to claim 1, wherein the value obtained by dividing the total content of the luminescent elements by the content of Fe 2 O 3 is 5 to 500. ヤング率が70Gpa以上、50~350℃における熱膨張係数(CTE)が60×10-7/℃以下、Tgが600℃以上である請求項1または2に記載のデータ記憶媒体基板用ガラス。 The glass for a data storage medium substrate according to claim 1 or 2 , wherein the Young's modulus is 70 Gpa or more, the coefficient of thermal expansion (CTE) at 50 to 350 ° C. is 60 × 10 -7 / ° C. or less, and the Tg is 600 ° C. or more. 請求項1~のいずれか1項に記載のデータ記憶媒体基板用ガラスからなるデータ記憶媒体用ガラス基板。 A glass substrate for a data storage medium comprising the glass for the data storage medium substrate according to any one of claims 1 to 3 . 請求項に記載のデータ記憶媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。 A magnetic disk in which a magnetic recording layer is formed on the glass substrate for a data storage medium according to claim 4 .
JP2018519527A 2016-05-25 2017-05-22 Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk Active JP7056558B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016104476 2016-05-25
JP2016104476 2016-05-25
PCT/JP2017/018989 WO2017204143A1 (en) 2016-05-25 2017-05-22 Glass for data storage medium substrates, glass substrate for data storage medium, and magnetic disk

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2017204143A1 JPWO2017204143A1 (en) 2019-03-22
JP7056558B2 true JP7056558B2 (en) 2022-04-19

Family

ID=60412846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018519527A Active JP7056558B2 (en) 2016-05-25 2017-05-22 Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7056558B2 (en)
WO (1) WO2017204143A1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11640833B2 (en) 2018-08-07 2023-05-02 Hoya Corporation Substrate for magnetic disk and magnetic disk
JP7392909B2 (en) 2019-11-25 2023-12-06 日本電気硝子株式会社 Glass substrate for magnetic recording media and magnetic recording device using the same
CN115699177A (en) * 2020-06-02 2023-02-03 日本电气硝子株式会社 Glass disk for magnetic storage medium and magnetic storage device using the same

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002201040A (en) 2000-10-31 2002-07-16 Asahi Glass Co Ltd Aluminoborosilicate glass
JP2010254549A (en) 2009-04-02 2010-11-11 Asahi Glass Co Ltd Glass for information recording medium substrate, glass substrate for information recording medium and magnetic disk
WO2012053549A1 (en) 2010-10-20 2012-04-26 旭硝子株式会社 Glass substrate for cu-in-ga-se solar cells and solar cell using same
JP2012184146A (en) 2011-03-08 2012-09-27 Nippon Electric Glass Co Ltd Alkali-free glass
US20120282450A1 (en) 2011-03-14 2012-11-08 Takahiro Kawaguchi Alkali-free glass
JP2012236759A (en) 2011-04-25 2012-12-06 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass substrate for liquid crystal lens
JP2013028512A (en) 2011-07-29 2013-02-07 Asahi Glass Co Ltd Glass for substrate and glass substrate
JP2013254555A (en) 2008-01-28 2013-12-19 Asahi Glass Co Ltd Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk
JP2015028827A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium using the same
JP2015028828A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium using the same
JP2015027931A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium prepared using the same
JP2015027932A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium prepared using the same
US20160122229A1 (en) 2014-10-31 2016-05-05 Corning Incorporated Dimensionally stable fast etching glasses

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0551234A (en) * 1991-08-22 1993-03-02 Hoya Corp Glass for coating alumina substrate and glazed substrate

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002201040A (en) 2000-10-31 2002-07-16 Asahi Glass Co Ltd Aluminoborosilicate glass
JP2013254555A (en) 2008-01-28 2013-12-19 Asahi Glass Co Ltd Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk
JP2010254549A (en) 2009-04-02 2010-11-11 Asahi Glass Co Ltd Glass for information recording medium substrate, glass substrate for information recording medium and magnetic disk
WO2012053549A1 (en) 2010-10-20 2012-04-26 旭硝子株式会社 Glass substrate for cu-in-ga-se solar cells and solar cell using same
JP2012184146A (en) 2011-03-08 2012-09-27 Nippon Electric Glass Co Ltd Alkali-free glass
US20120282450A1 (en) 2011-03-14 2012-11-08 Takahiro Kawaguchi Alkali-free glass
JP2012236759A (en) 2011-04-25 2012-12-06 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass substrate for liquid crystal lens
JP2013028512A (en) 2011-07-29 2013-02-07 Asahi Glass Co Ltd Glass for substrate and glass substrate
JP2015028827A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium using the same
JP2015028828A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium using the same
JP2015027931A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium prepared using the same
JP2015027932A (en) 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 Alkali-free glass for magnetic recording medium, and glass substrate for magnetic recording medium prepared using the same
US20160122229A1 (en) 2014-10-31 2016-05-05 Corning Incorporated Dimensionally stable fast etching glasses

Also Published As

Publication number Publication date
WO2017204143A1 (en) 2017-11-30
JPWO2017204143A1 (en) 2019-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5757350B2 (en) Magnetic disk and method for manufacturing glass substrate for information recording medium
JP7207442B2 (en) UV transparent glass
JP5375608B2 (en) Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk
JP5263152B2 (en) Substrate glass and glass substrate for data storage media
JP7056558B2 (en) Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium and magnetic disk
TW201837004A (en) Crystallized glass
SG187326A1 (en) Glass for substrate, and glass substrate
JPWO2008062847A1 (en) Glass for information recording medium substrate
JP4923556B2 (en) Glass substrate for information recording media
JP7287524B2 (en) Alkali-free glass substrate, laminated substrate, and method for manufacturing glass substrate
JP5900560B2 (en) Substrate glass and glass substrate
JP4161509B2 (en) Glass for information recording medium substrate and glass substrate for information recording medium
WO2019021911A1 (en) Support glass for semiconductor packages
US20180222789A1 (en) Glass for data storage medium substrate, glass substrate for data storage medium, and magnetic disk
JP5022532B2 (en) Substrate glass and glass substrate
TWI792533B (en) High transmission glasses
JP7103219B2 (en) Glass for magnetic recording medium, glass substrate for magnetic recording medium and magnetic disk
US20230162759A1 (en) Glass disk for magnetic recording medium and magnetic recording device using the same
TWI787331B (en) Crystallized glass substrate
TWI759530B (en) Crystallized glass substrate
WO2023100893A1 (en) Glass substrate for magnetic recording medium, glass disk for magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and method for manufacturing glass disk
WO2024034492A1 (en) Non-alkali glass plate
TW202319363A (en) Alkali-free glass panel
TW201821380A (en) Glasses having resistance to photo-darkening
JP2018030742A (en) Method for manufacturing optical glass

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210323

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20210517

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210712

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220308

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220321

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7056558

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150