JPWO2017195344A1 - プリプレグ、金属箔付きプリプレグ、積層板、金属張積層板及びプリント回路基板 - Google Patents
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Abstract
Description
架橋性官能基を共重合した高分子アクリルポリマーの特徴は、低弾性、伸び率が高い、及び官能基を入れ易い等である。一方、熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂の特徴は、高い絶縁信頼性、高い耐熱性、及び高ガラス転移温度(Tg)等である。
一方、相分離構造において、島相の比率が高い場合は、エポキシ樹脂の島相の特性に偏り、金属箔との密着強度は向上するものの、高分子アクリルポリマーが有する低弾性及び柔軟性が十分に発現できない。
(1)(A)アクリルポリマーを含む第1相と、(B)熱硬化性樹脂を含む島相としての第2相とが相分離構造を形成し、前記島相の平均ドメインサイズが1μm〜10μmであり、(C)フィラーを含有する樹脂組成物が含浸されたプリプレグ。
(2)前記(A)アクリルポリマーの配合量が、前記(A)アクリルポリマーと前記(B)熱硬化性樹脂の総量を100質量部としたとき10〜70質量部である、(1)に記載のプリプレグ。
(3)前記(C)フィラーとして、(C−1)カップリング処理されたフィラーを含有する、(1)又は(2)に記載のプリプレグ。
(4)前記(C)フィラーとして、(C−2)カップリング処理されていないフィラーを含有する、(1)〜(3)のいずれかに記載のプリプレグ。
(5)前記(B)熱硬化性樹脂が、(B−1)エポキシ樹脂と(B−2)フェノール樹脂を含む、(1)〜(4)のいずれかに記載のプリプレグ。
(6)前記(B−1)エポキシ樹脂が、1分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有する、(5)に記載のプリプレグ。
(7)前記(B−1)エポキシ樹脂の重量平均分子量が、200〜1,000である、(5)又は(6)に記載のプリプレグ。
(8)前記(B−1)エポキシ樹脂のエポキシ当量が、150〜500である、(5)〜(7)に記載のプリプレグ。
(9)前記(A)アクリルポリマーの重量平均分子量が、10,000〜1,500,000である、(1)〜(8)のいずれかに記載のプリプレグ。
(10)前記(B−2)フェノール樹脂が、1分子内に2個以上の水酸基を有するフェノール樹脂を含有する、(5)〜(9)のいずれかに記載のプリプレグ。
(11)前記(C)フィラーとして、シリカを含有する、(1)〜(10)のいずれかに記載のプリプレグ。
(12)前記(C−2)フィラーの体積平均粒径が、1.0μm〜3.5μmである(1)〜(11)のいずれかに記載のプリプレグ。
(13)(1)〜(12)のいずれかに記載のプリプレグと金属箔とを積層してなる金属箔付きプリプレグ。
(14)(1)〜(12)のいずれかに記載のプリプレグを複数有する積層板。
(15)(14)に記載の積層板がさらに金属箔を有する金属張積層板。
(16)(14)に記載の積層板がさらに回路を有するプリント回路基板。
本発明の実施の形態に係るプリプレグは、(A)アクリルポリマー(以下、「(A)成分」と称する。)を含む第1相と、(B)熱硬化性樹脂(以下、「(B)成分」と称する。)を含む島相としての第2相とが相分離構造を形成し、前記島相の平均ドメインサイズが1μm〜10μmであり、(C)フィラー成分(以下、「(C)成分」と称する。)を含有する樹脂組成物が含浸されたプリプレグであることを特徴とする。
(A)成分が島相ではなくて海相を形成する理由については、分子量が大きくて絡み合いが多い(A)成分中で、(B)成分の相分離が起こる際、(A)成分が島相となるためにはその絡み合いや架橋網目を切断しなくてはならず、島相にはなりにくいためと考えられる。
[アクリルポリマー:(A)成分]
(A)成分は、アクリルポリマーであり、通常(メタ)アクリル酸アルキルエステルをモノマーとする共重合体である。共重合体としては、架橋性官能基を共重合したアクリルポリマーが好ましい。このような共重合体は一般に、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと架橋性官能基を有する共重合モノマーとを共重合することにより生成される。架橋性官能基を有する共重合モノマーとしては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合できる化合物であれば特に制限されものではなく、架橋性官能基としては、エポキシ基を有することが好ましく、グリシジル基を有することがより好ましい。架橋性官能基を有する共重合モノマーとしては、(メタ)アクリル酸グリシジルを用いることが好ましい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルにおいて、アルキル基は炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましく、アルキル基は置換基を有していてもよい。アルキル基の置換基としては、例えば、脂環基、グリシジル基、水酸基を有する炭素数1〜6のアルキル基、含窒素環状基等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸エチレングリコールメチルエーテル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸アミド、アクリル酸イソデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸アリル、アクリル酸N−ビニルピロリドン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸エチレングリコールメチルエーテル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸アミド、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル等が挙げられる。
(A)成分は、重量平均分子量の異なる2種以上を組み合わせてもよい。
上記の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)分析によって測定される値であって、標準ポリスチレン換算値のことを意味する。GPC分析は、テトラヒドロフラン(THF)を溶解液として用いて行うことができる。
また、特に低弾性とする観点からは、(A)成分と(B)成分の総量100質量部における(A)成分の配合量が15質量部以上であることが好ましく、20質量部以上であることがより好ましく、30質量部以上であることがさらに好ましい。
また、特に良好な金属箔との接着強度を得る観点からは、(A)成分と(B)成分の総量100質量部における(A)成分の配合量が60質量部以下であることが好ましく、50質量部以下であることがより好ましく、40質量部以下であることがさらに好ましい。
本発明において用いられる(B)成分としては、(A)成分と組み合わせて硬化したときに相分離構造を有するものが適宜選択される。(B)成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、エポキシ樹脂、シアネート樹脂、ビスマレイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂とジアミンとの付加重合物、フェノール樹脂、レゾール樹脂、イソシアネート樹脂、トリアリルイソシアヌレート樹脂、トリアリルシアヌレート樹脂、及びビニル基含有ポリオレフィン化合物等が挙げられる。これらの中でも耐熱性、絶縁性等の性能のバランスを考慮すると、エポキシ樹脂又はシアネート樹脂が好ましい。
(B)成分は、(B−1)成分を含むことが好ましい。
(B−1)成分の重量平均分子量は、200〜1,000であることが好ましく、300〜900であることがより好ましい。重量平均分子量が200以上であると、(A)成分と相分離構造を形成する傾向があり、1,000以下であるとドメインの比較的小さな第2相を有する相分離構造を形成しやすい傾向があり、低弾性を発現しやすい傾向がある。
(B−1)成分のエポキシ当量としては、150〜500であることが好ましく、150〜450であることがより好ましく、150〜300であることがより好ましい。エポキシ樹脂のエポキシ当量が上記の範囲内にあると、第2相の平均ドメインサイズが大きくなり過ぎない傾向にある。
(B−1)成分の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂である「N770」(DIC株式会社製、商品名)、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂である「EPICLON 153」(DIC株式会社製、商品名)、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂である「NC−3000H」(日本化薬株式会社製、商品名)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂である「エピコート1001」(三菱化学株式会社製、商品名)、リン含有エポキシ樹脂である「ZX−1548」(東都化成株式会社製、商品名)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である「EPICLON N−660」(DIC株式会社製、商品名)等が挙げられる。
(B)成分は、金属箔との密着強度確保の観点から、(B−2)成分を含むことが好ましい。
(B−2)成分としては、公知のものを用いることができ、例えば、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、サリチルアルデヒド型フェノール樹脂、ベンズアルデヒド型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂の共重合型樹脂及びノボラック型フェノール樹脂等が挙げられる。これらの1種又は2種以上を用いることができる。
(B−2)成分の市販品として、例えば、クレゾールノボラック型樹脂である「KA−1165」(DIC株式会社社製、商品名)、及びビフェニルノボラック型樹脂である「MEH−7851」(明和化成株式会社社製、商品名)等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、(B)成分の硬化剤を含んでもよい。(B)成分の硬化剤としては、公知のものを用いることができる。例えば、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン等のアミン系硬化剤、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の酸無水物硬化剤又はこれらの混合物等が挙げられる。
本発明における(B)成分とその硬化剤との組み合わせは、使用する(A)成分、硬化条件、硬化剤、及び硬化触媒により種々の組み合わせが考えられる。
一般的に、樹脂硬化物の相構造は相分離速度と架橋反応速度の競争反応で決定される。エポキシ樹脂を例として挙げれば、触媒種及び骨格構造等をコントロールして、特性のそれぞれ異なるエポキシ樹脂を混合し、硬化させることで、平均ドメインサイズが約1μm〜10μmという相分離構造である海島構造を形成することが可能となる。
本発明の実施の形態に係る樹脂組成物は、(C)成分としてシリカを1種以上含有することが好ましい。また、本発明の実施の形態に係る樹脂組成物は、(C)成分として、(C−1)カップリング処理を施したフィラー(以下、「(C−1)成分」と称する。)を1種以上含有することが好ましい。また、本発明の実施の形態に係る樹脂組成物は、(C)成分として、(C−2)カップリング処理を施していないフィラー(以下、「(C−2)成分」と称する。)を1種以上含有することが好ましい。
(C−1)成分の平均粒径は、0.1μm〜1.5μmであることが好ましく、0.2μm〜1.2μmであることがより好ましく、0.3μm〜1.0μmであることがさらに好ましい。(C−1)成分の平均粒径が0.1μm以上であるとワニス化した際にフィラー同士が分散しやすくなり凝集が起こりにくい傾向があり、1.5μm以下であるとワニス化の際に(C)成分の沈降が起き難い傾向がある。
(C−2)成分の平均粒径は、1.0μm〜3.5μmであることが好ましく、1.2μm〜3.2μmであることがより好ましく、1.4μm〜3.0μmであることがさらに好ましい。(C−2)成分の平均粒径が1.0μm以上であるとフィラー同士が分散しやすくなり凝集が起こりにくい傾向があり、3.5μm以下であるとワニス化の際に(C)成分の沈降が起き難い傾向がある。
ここで、平均粒子径とは、粒子の全体積を100%として粒子径による累積度数分布曲線を求めたとき、体積50%に相当する点の粒子径のことであり、レーザ回折散乱法を用いた粒度分布測定装置等で測定することができる。
本発明で用いられるシリカとしては、湿式法又は乾式法で合成された各種合成シリカ又は珪石を破砕した破砕シリカ、一度溶融させた溶融シリカ等種々なものを用いることができる。
本明細書において、「固形分」とは、溶媒等の揮発する物質を除いた不揮発分のことであり、該樹脂組成物を乾燥させた際に、揮発せずに残る成分を示し、室温で液状、水飴状及びワックス状のものも含む。ここで、本明細書において室温とは25℃を示す。
樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、アミン類、又はイミダゾール類が好ましい。アミン類は、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルエタン、グアニル尿素等を例示することができる。イミダゾール類は、2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、ベンゾイミダゾール等を例示することができる。
硬化促進剤の配合量は、例えば、樹脂組成物におけるオキシラン環の総量に応じて決定することができるが、一般的に樹脂組成物の樹脂固形分100質量部中、0.01質量部〜10質量部とすることが好ましく、0.02質量部〜9.0質量部であることがより好ましく、0.03質量部〜8.0質量部であることがさらに好ましい。
本発明に係る樹脂組成物は、必要に応じて、例えば、架橋剤、難燃剤、流動調整剤、導電性粒子、カップリング剤、顔料、レベリング剤、消泡剤、イオントラップ剤及び酸化防止剤等を含んでいてもかまわず、公知のものを用いることができる。
本発明の樹脂組成物を用いて、プリプレグ等を製造する場合、本発明の樹脂組成物の成分が有機溶媒に溶解又は分散した状態のワニスにしてもよい。
本発明の樹脂組成物をワニスにする際に用いられる有機溶剤としては、特に制限されるものではないが、ケトン系、芳香族炭化水素系、エステル系、アミド系、アルコール系等が用いられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
芳香族炭化水素系溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。
エステル系溶剤としては、例えば、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、酢酸エチル等が挙げられる。
アミド系溶剤としては、例えば、N−メチルピロリドン、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。
アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル等が挙げられる。
これらの有機溶剤は1種又は2種以上を混合して用いてもよい。
本発明における相分離構造とは、海島構造、連続球状構造、複合分散相構造、共連続相構造であって、島相の平均ドメインサイズは1μm〜10μmであり、好ましくは1.5μm〜9μmであり、より好ましくは2μm〜8μmである。
島相の平均ドメインサイズが1μm未満であると、熱硬化性樹脂(B)の持つ良好な絶縁信頼性及び高耐熱性が発現し難い傾向にある。また、比較的金属箔との接着強度が弱いアクリルポリマーの表面積が大きくなり、絶縁層と金属箔との良好な接着強度が得られない傾向にある。
また、島相の平均ドメインサイズが10μmを超えると、(A)成分の持つ低弾性が発現し難い傾向にある。
ここで、島相の平均ドメインサイズとは、熱硬化させた当該樹脂組成物の断面をミクロトームにて平滑化した後、電子顕微鏡により得られた断面構造から、70個以上の島相について、最大幅と最小幅をそれぞれ測定し、その平均値を算出した。
本発明のプリプレグは、上述の樹脂組成物のワニスを基材に含浸させ、例えば、80℃〜180℃の範囲で乾燥させて製造することができる。
基材は、金属張積層板、プリント回路基板等を製造する際に用いられるものであれば特に制限されないが、通常、織布、不織布等の繊維基材が用いられる。繊維基材の材質としては、例えば、ガラス、アルミナ、アスベスト、ボロン、シリカアルミナガラス、シリカガラス、チラノ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア等の無機繊維、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、カーボン、セルロース等の有機繊維及びこれら混抄系などが挙げられる。これらの中でも、ガラスクロスが好ましく、厚みが100μm以下のガラスクロスがより好ましく、厚みが50μm以下のガラスクロスが特に好ましい。ガラスクロスの厚みが50μm以下であると、任意に折り曲げ可能なプリント回路基板を得ることができ、製造プロセス上での温度、吸湿等に伴う寸法変化が小さいため好ましい。
本発明の金属箔付きプリプレグは、上述のプリプレグと金属箔とを積層してなることが好ましい。
本発明の金属箔付きプリプレグは、例えば、本発明のプリプレグの片面又は両面に金属箔を重ね、通常130℃〜250℃、好ましくは150℃〜230℃の範囲の温度で、通常0.5MPa〜20MPa、好ましくは1MPa〜8MPaの範囲の圧力で加熱加圧することで製造することができる。加熱加圧の方法についても、特に限定されるものではなく、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用することができる。
また、本発明の金属箔付きプリプレグを製造する際に用いられる金属箔としては、特に限定されるものではないが、例えば、銅箔、アルミニウム箔が一般的に用いられる。金属箔の厚みも特に限定されるものではなく、1μm〜200μmのものを使用できる。その他にも、例えば、ニッケル、ニッケル‐リン、ニッケル‐スズ合金、ニッケル‐鉄合金、鉛、鉛‐スズ合金等を中間層とし、この両面に0.5μm〜15μmの銅層と10μm〜300μmの銅層を設けた3層構造の複合箔あるいはアルミニウムと銅箔を複合した2層構造複合箔を用いることができる。
本発明の積層板は、上述のプリプレグを複数有するものであることが好ましい。
本発明の積層板は、例えば、本発明のプリプレグを積層し加熱加圧してなるものである。加熱加圧の方法は、特に限定されるものではなく、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用することができる。
本発明の金属張積層板は、上述の積層板がさらに金属箔を有するものであることが好ましい。
本発明の金属張積層板は、例えば、本発明の積層板の片面又は両面に金属箔を重ね、通常130℃〜250℃、好ましくは150℃〜230℃の範囲の温度で、通常0.5MPa〜20MPa、好ましくは1MPa〜8MPaの範囲の圧力で加熱加圧することで製造することができる。加熱加圧の方法についても、特に限定されるものではなく、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用することができる。
また、本発明の金属張積層板を製造する際に用いられる金属箔としては、特に限定されるものではないが、例えば、銅箔、アルミニウム箔が一般的に用いられる。金属箔の厚みも特に限定されるものではなく、1μm〜200μmのものを使用できる。その他にも、例えば、ニッケル、ニッケル−リン、ニッケル−スズ合金、ニッケル−鉄合金、鉛、鉛−スズ合金等を中間層とし、この両面に0.5μm〜15μmの銅層と10μm〜300μmの銅層を設けた3層構造の複合箔あるいはアルミニウムと銅箔を複合した2層構造複合箔を用いることができる。
本発明のプリント回路基板は、上述の積層板がさらに回路を有するものであることが好ましい。回路は、本発明の積層板を回路加工してなるものであることが好ましい。
本発明のプリント回路基板の製造方法は、特に限定されるものではないが、片面又は両面に金属箔が設けられた本発明の積層板(金属張積層板)の金属箔に回路(配線)加工を施すことによって製造することができる。
(A)成分、(B−1)成分、(B−2)成分、(C−1)成分、(C−2)成分を表1に示す配合量で配合し、メチルエチルケトンに溶解後、(D)成分、カップリング剤を表1に従って配合し、不揮発分40%の樹脂組成物ワニスを得た。
(A)成分、(B−1)成分、(B−2)成分、(C−1)成分、(C−2)成分を表2に示す配合量で配合し、メチルエチルケトンに溶解後、成分(D)を表2に従って配合し、不揮発分40%の樹脂組成物ワニスを得た。
(1)プリプレグの作製
実施例1〜13、比較例1〜10で作製したワニスを厚さ0.028mmのガラス布「1037」(旭シュエーベル株式会社製、商品名)に含浸後、140℃にて10分間加熱して、乾燥しプリプレグを得た。
(2)樹脂付き銅箔の作製
実施例1〜13、比較例1〜10で作製したワニスを厚さ18μmの電解銅箔「YGP−18」(日本電解株式会社社製、商品名)に塗工機により塗工成型し、140℃にて約6分熱風乾燥させ、塗布厚さ50μmの樹脂付き銅箔を作製した。
(3)金属張積層板(銅張積層板)の作製
4枚重ねた(1)で作成したプリプレグの両側に厚さ18μmの電解銅箔「YGP−18」(日本電解株式会社社製、商品名)を接着面がプリプレグと合わさるように重ね、200℃にて60分間、4MPaの真空プレス条件で両面銅張積層板を作製した。また、樹脂付き銅箔は樹脂面が向き合うように重ね、200℃にて60分間、4MPaの真空プレス条件で両面銅張積層板を作製した。
(1)ワニス性
ワニス性の評価は、作製したワニスを透明な容器に受け、24時間後の外観を目視により観察し、ワニス成分の分離、及び、沈降物について観察した。ワニス色相が均一であれば分離していないと判断した。また、容器の底に沈降物の堆積が目視で確認できない場合は沈降物なしと判断した。結果を表1、2に示す。
(2)プリプレグのタック性
プリプレグのタック性の評価は、作製したプリプレグを250mm×250mmサイズに加工し100枚重ね、密閉封入可能な袋に入れたものを、温度25℃、湿度70%の恒温恒湿環境に投入し、プリプレグ同士の密着発生有無を観察した。48時間経過後に、1番下に配置したプリプレグとそれと接するプリプレグが剥がれ、おのおのが投入前の表面を維持している場合は、密着発生なしとし、タック性が問題ないと判断した。結果を表1、2に示す。
(3)プリプレグの外観(凝集物の有無)
プリプレグの外観の評価は、20倍の拡大鏡を用いて凝集物の発生について観察した。結果を表1、2に示す。
(4)貯蔵弾性率
貯蔵弾性率の評価は、樹脂付き銅箔を樹脂面が向き合うように重ね作製した銅張積層板を全面エッチングした積層板を、幅5mm×長さ30mmに切断し、動的粘弾性測定装置(株式会社UBM社製)を用いて貯蔵弾性率を算出した。25℃の貯蔵弾性率が2.0×109Pa以下であれば応力緩和効果を発現可能と判断した。結果を表1、2に示す。
(5)引張り伸び率
引張り伸び率の評価は、樹脂付き銅箔を樹脂面が向き合うように重ね作製した銅張積層板を全面エッチングした積層板を、幅10mm×長さ100mmに切断し、オートグラフ(島津製作所製)を用いて引張り伸び率を算出した。25℃の引張り伸び率が3%以上であれば応力緩和効果を発現可能と判断した。結果を表1、2に示す。
(6)耐熱性
4枚重ねたプリプレグから作製した両面銅張積層板を50mm四方の正方形に切り出して試験片を得た。その試験片を260℃のはんだ浴中に浸漬して、その時点から試験片の膨れが目視で認められる時点までに経過した時間を測定した。経過時間の測定は300秒までとし、300秒以上は耐熱性が十分であると判断した。結果を表1、2に示す。
(7)基板に対する金属箔接着性の評価
4枚重ねたプリプレグから作製した両面銅張積層板の銅箔を部分的にエッチングして、3mm幅の銅箔ラインを形成した。次に、銅箔ラインを、接着面に対して90°方向に50mm/分の速度で引き剥がした際の荷重を測定し、銅箔引き剥がし強さとした。銅箔引き剥がし強さが結果を0.5kN/m以上であれば金属箔との接着性は十分であると判断した。表1、2に示す。
(8)相構造観察試験
島相の平均ドメインサイズは、樹脂付き銅箔を樹脂面が向き合うように重ね作製した銅張積層板の樹脂絶縁層の断面をミクロトームにて平滑化した後、過硫酸塩溶液でエッチングし、電子顕微鏡により得られた断面構造から、70個以上の島相について、最大幅と最小幅をそれぞれ測定し,その平均値を算出した。結果を表1、2に示す。
(9)電気絶縁信頼性
電気絶縁信頼性は、4枚重ねたプリプレグから作製した両面銅張積層板をスルーホール穴壁間隔が350μmとなるよう加工したテストパターンを用いて、各試料について400穴の絶縁抵抗を経時的に測定した。測定条件は、85℃/85%RH雰囲気中100V印加して行い、導通破壊が発生するまでの時間を測定した。測定時間は2000時間までとし、1000時間以上は電気絶縁信頼性が十分であると判断した。結果を表1、2に示す。
※2:商品名「HTR−860P−3」、ナガセケムテックス株式会社製、(重量平均分子量:Mw=80×104、構造中にニトリル基を含まないアクリルポリマー)
※3:商品名「HAN5−M90S」、根上工業株式会社製、(重量平均分子量:Mw=90×104、構造中にニトリル基を含むアクリルポリマー)
※4:商品名「N770」、DIC株式会社製、(フェノールノボラック型エポキシ樹脂)
※5:商品名「EPICLON 153」、DIC株式会社製、(テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂)
※6:商品名「NC−3000H」、日本化薬株式会社製、(ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂)
※7:商品名「4005P」、三菱化学株式会社製、(ビスフェノールF型エポキシ樹脂)
※8:商品名「KA−1165」、DIC株式会社製、(クレゾールノボラック型樹脂)
※9:商品名「SC−2050KC」、アドマテック株式会社製、(溶融球状シリカ、シランカップリング処理、平均粒子径0.5μm)
※10:商品名「HK−001」、河合石灰株式会社製、(水酸化アルミニウム、平均粒子径4.0μm)
※11:商品名「F05−12」、福島窯業株式会社製、(破砕シリカ、平均粒子径2.5μm)
※12:商品名「F05−30」、福島窯業株式会社製、(破砕シリカ、平均粒子径4.2μm)
※13:商品名「2PZ」、四国化成工業株式会社製、(2−フェニルイミダゾール)
※14:商品名「A−187」、東レ・ダウコーニング株式会社製、(シランカップリング剤)
Claims (16)
- (A)アクリルポリマーを含む第1相と、(B)熱硬化性樹脂を含む島相としての第2相とが相分離構造を形成し、前記島相の平均ドメインサイズが1μm〜10μmであり、(C)フィラーを含有する樹脂組成物が含浸されたプリプレグ。
- 前記(A)アクリルポリマーの配合量が、前記(A)アクリルポリマーと前記(B)熱硬化性樹脂の総量を100質量部としたとき10〜70質量部である、請求項1に記載のプリプレグ。
- 前記(C)フィラーとして、(C−1)カップリング処理されたフィラーを含有する、請求項1又は2に記載のプリプレグ。
- 前記(C)フィラーとして、(C−2)カップリング処理されていないフィラーを含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載のプリプレグ。
- 前記(B)熱硬化性樹脂が、(B−1)エポキシ樹脂と(B−2)フェノール樹脂を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプリプレグ。
- 前記(B−1)エポキシ樹脂が、1分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有する、請求項5に記載のプリプレグ。
- 前記(B−1)エポキシ樹脂の重量平均分子量が、200〜1,000である、請求項5又は6に記載のプリプレグ。
- 前記(B−1)エポキシ樹脂のエポキシ当量が、150〜500である、請求項5〜7のいずれか1項に記載のプリプレグ。
- 前記(A)アクリルポリマーの重量平均分子量が、10,000〜1,500,000である、請求項1〜8のいずれか1項に記載のプリプレグ。
- 前記(B−2)フェノール樹脂が、1分子内に2個以上の水酸基を有するフェノール樹脂を含有する、請求項5〜9のいずれか1項に記載のプリプレグ。
- 前記(C)フィラーとして、シリカを含有する、請求項1〜10のいずれか1項に記載のプリプレグ。
- 前記(C−2)フィラーの体積平均粒径が、1.0μm〜3.5μmである請求項1〜11のいずれか1項に記載のプリプレグ。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載のプリプレグと金属箔とを積層してなる金属箔付きプリプレグ。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載のプリプレグを複数有する積層板。
- 請求項14に記載の積層板がさらに金属箔を有する金属張積層板。
- 請求項14に記載の積層板がさらに回路を有するプリント回路基板。
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