JPWO2016125763A1 - Mounting apparatus and mounting method - Google Patents
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Abstract
上下両面に電極を有する半導体チップを、前記半導体チップの下側に配置され、上面に電極を有する被接合物に、熱硬化性の接着剤を介した状態で熱圧着するのに際して、アウトガスによる弊害もなく、接合品質も確保した実装装置および実装方法を提供すること。具体的には、前記半導体チップを吸着保持する仮圧着ヘッドを用いて、前記接着剤からアウトガスを発生しない温度で、前記被接合物上に仮圧着する仮圧着部と、前記被接合物上に仮圧着された前記半導体チップを、加熱機能および加圧機能を有する本圧着ヘッドを用いて、前記半導体チップ下面の電極と前記被接合物上面の電極を接合するとともに前記接着剤を熱硬化させて、前記被接合物に熱圧着する本圧着部とを備えている実装装置および実装方法を提供する。When a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces is thermocompression bonded to a bonded object having an electrode on the upper surface with a thermosetting adhesive disposed on the lower surface of the semiconductor chip, an adverse effect due to outgas And providing a mounting apparatus and a mounting method that also ensure bonding quality. Specifically, using a temporary pressure-bonding head that sucks and holds the semiconductor chip, a temporary pressure-bonding portion that temporarily pressure-bonds onto the object to be bonded at a temperature at which no outgas is generated from the adhesive, Using the main pressure bonding head having a heating function and a pressure function, the temporarily bonded semiconductor chip is bonded to the electrode on the lower surface of the semiconductor chip and the electrode on the upper surface of the object to be bonded, and the adhesive is thermally cured. Provided are a mounting apparatus and a mounting method provided with a main press-bonding portion that is thermocompression bonded to the object to be bonded.
Description
本発明は、実装装置および実装方法に関する。詳しくは、上下両面に電極を有する半導体チップを、前記半導体チップの下側に配置され、上面に電極を有する被接合物に、接着剤を介した状態で熱圧着する実装装置および実装方法に関する。 The present invention relates to a mounting apparatus and a mounting method. Specifically, the present invention relates to a mounting apparatus and a mounting method in which a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces is thermocompression bonded to an object to be bonded having an electrode on the upper surface with an adhesive interposed therebetween.
半導体チップを基板に実装する方法として、フリップチップ工法が知られている。フリップチップ工法では、図14に示す様なフリップチップボンダー50を用いて、半導体チップのバンプ電極と基板の電極を熱圧着して接合させている。図14のフリップチップボンダー50では、図15のような構造からなる熱圧着ヘッド57を有し、アタッチメント59の吸着穴590内を減圧することにより吸着保持した半導体チップCをヒーター58で加熱しながら、基板S0に熱圧着する機能を有している。
A flip chip method is known as a method for mounting a semiconductor chip on a substrate. In the flip chip method, the bump electrode of the semiconductor chip and the electrode of the substrate are bonded by thermocompression bonding using a
フリップチップ工法では、接合部の信頼性を確保するために、半導体チップと基板の隙間を樹脂で封止している。樹脂封止の方法として、従来は接合後に液状樹脂を隙間に注入して熱硬化する方法が一般的であったが、半導体チップと基板の間に接着性を有する樹脂を未硬化状態で配置した状態で熱圧着を行う工法も多く提案されている(例えば特許文献1)。 In the flip chip method, the gap between the semiconductor chip and the substrate is sealed with resin in order to ensure the reliability of the joint. As a method of resin sealing, conventionally, a method of injecting a liquid resin into a gap after bonding and thermosetting was generally used, but an adhesive resin was disposed between the semiconductor chip and the substrate in an uncured state. Many methods for thermocompression bonding in the state have been proposed (for example, Patent Document 1).
半導体チップと基板の間に接着剤としての未硬化樹脂を配した状態で行うフリップチップ工法は、電極同士の接合と樹脂封止を同時に行うことができる。このため、貫通電極のような上下両面に電極を有する半導体チップを積層する3次元実装にも適した工法でもある。 In the flip chip method performed in a state where an uncured resin as an adhesive is disposed between the semiconductor chip and the substrate, the electrodes can be bonded to each other and the resin can be sealed simultaneously. For this reason, it is also a method suitable for three-dimensional mounting in which semiconductor chips having electrodes on both upper and lower surfaces such as through electrodes are stacked.
貫通電極のような上下両面に電極を有する半導体チップは、一般的な半導体チップと異なり、図16に示すように半導体チップC上面にも電極ETによる突起がある。このため、フリップチップボンダー50の熱圧着ヘッド57で吸着保持する場合、熱圧着ヘッド57のアタッチメント59と半導体チップC上面に隙間が生じる。この隙間は僅かであるので、アタッチメントに上下両面に電極(ET、EB)を有する半導体チップCを保持することは可能である。しかし、減圧状態の吸着穴590内部には、半導体チップC周辺の空気が入り込み続けることになる(図17)。
Unlike a general semiconductor chip, a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces such as a through electrode has a protrusion due to the electrode ET on the upper surface of the semiconductor chip C as shown in FIG. For this reason, when attracting and holding by the
このため、未硬化樹脂Rを介して、上下両面に電極を有する半導体チップCを被接合物S(配線基板または配線基板上に上下両面に電極を有する半導体を積層したもの)に熱圧着する場合では、加熱により樹脂からアウトガスGが発生し、吸着穴内部590に吸引されることになる。このアウトガスGの中には有機成分等が含まれており、吸着穴590内部に入り込む過程において、アタッチメント59の吸着面や吸着穴590内部にアウトガス成分が付着する。このアタッチメント59の吸着面や吸着穴590内部へのアウトガス成分の付着は、熱圧着を繰り返すことにより徐々に蓄積され、アタッチメント59の吸着面を汚染したり、吸着穴590を詰まらせて吸着不良に至ることもある。
For this reason, when the semiconductor chip C having electrodes on both upper and lower surfaces is thermocompression-bonded to an object to be bonded S (wiring substrate or a semiconductor having electrodes on both upper and lower surfaces stacked on the wiring substrate) via the uncured resin R. Then, outgas G is generated from the resin by heating and is sucked into the
また、加熱を繰り返すことで、付着したアウトガス成分が炭化物となり、この炭化物が吸着穴から半導体チップC上に落下して品質不良を引き起こす懸念もある。 Further, by repeating the heating, the attached outgas component becomes a carbide, and there is a concern that the carbide may fall onto the semiconductor chip C from the suction hole and cause a quality defect.
そこで、図18のように、半導体チップC上面とアタッチメント59の吸着面との間の隙間をなくすために、アタッチメント59の吸着面に、半導体チップC上面の電極ETを収納するような凹部592を設けることが考えられる。
Therefore, as shown in FIG. 18, in order to eliminate a gap between the upper surface of the semiconductor chip C and the suction surface of the
ところが、半導体チップC上面の電極ETを収納するような凹部592を設けようとすると、凹部592は電極ETより容積的に大きくなるので、凹部592と電極ETの間に隙間が生じる。このような隙間が生じると、この凹部592においてアタッチメント59から半導体チップCへの伝熱が阻害され、半導体チップCの加熱が不十分となる。特に、上
下両面の電極に貫通電極を用いた半導体チップでは、下面の電極への加熱が不十分となってしまい、接合不良の原因となる。また、圧力が大きい場合は、凹部592の周辺で剪断応力TA(図19)が生じて半導体チップにダメージを与えることにもなるので好ましくない。However, if an attempt is made to provide a
一方、アタッチメント59の吸着面が平坦であれば、半導体チップC上面に突出した電極ETにしか熱と加重が加わらないため、半導体チップC下側の未硬化樹脂Rの流動性が低くなり、半導体チップCと被接合物Sの電極間に樹脂が噛み込んだりボイドが発生して接合不良の原因になる。
On the other hand, if the attachment surface of the
また、アウトガスGが発生する温度に到達する前に吸着を止めて、アウトガス成分の吸着穴590内への流入を防いでから加熱する方法も考えられるが、吸着穴590の内部と外部の差圧から半導体チップCに向かって気流が逆流するため、加熱時の樹脂の流動により半導体チップCが位置ズレする懸念がある。さらに、加熱開始を遅らせるとタクトタイムが長くなって生産性が低下する。
In addition, a method of heating after stopping the adsorption before reaching the temperature at which the outgas G is generated and preventing the outgas component from flowing into the
本発明は、上記問題に鑑みて成されたものであり、上下両面に電極を有する半導体チップを、前記半導体チップの下側に配置され、上面に電極を有する被接合物に、接着剤を介した状態で熱圧着するのに際して、アウトガスによる弊害もなく、接合品質も確保した実装装置および実装方法を提供するものである。 The present invention has been made in view of the above problems. A semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces is disposed on the lower side of the semiconductor chip, and an adhesive is interposed in an object to be bonded having electrodes on the upper surface. The present invention provides a mounting apparatus and a mounting method that are free from the adverse effects of outgassing and ensure bonding quality when thermocompression bonding is performed.
上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、
上下両面に電極を有する半導体チップを、前記半導体チップの下側に配置され、上面に電極を有する被接合物に、熱硬化性の接着剤を介した状態で熱圧着する実装装置であって、
前記半導体チップを吸着保持する仮圧着ヘッドを用いて、前記接着剤からアウトガスが発生しない温度で、前記被接合物上に仮圧着する仮圧着部と、
前記被接合物上に仮圧着された前記半導体チップを、加熱機能および加圧機能を有する本圧着ヘッドを用いて、前記半導体チップ下面の電極と前記被接合物上面の電極を接合するとともに前記接着剤を熱硬化させて、前記被接合物に本圧着する本圧着部とを備えていることを特徴とする。In order to solve the above problems, the invention described in
A mounting device for thermocompression bonding a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces to a bonded object having an electrode on an upper surface thereof via a thermosetting adhesive, which is disposed on the lower side of the semiconductor chip,
Using a temporary pressure-bonding head that sucks and holds the semiconductor chip, a temporary pressure-bonding portion that temporarily pressure-bonds onto the object to be bonded at a temperature at which no outgas is generated from the adhesive;
The semiconductor chip temporarily bonded onto the object to be bonded is bonded to the electrode on the lower surface of the semiconductor chip and the electrode on the upper surface of the object to be bonded using a main pressure bonding head having a heating function and a pressure function. It is characterized by comprising a main press-bonding portion for heat-curing the agent and finally press-bonding to the object to be joined.
請求項2に記載の発明は、
請求項1に記載の実装装置であって、
前記本圧着ヘッドと前記被接合物に仮圧着された前記半導体チップの間に樹脂シートを供給する、樹脂シート供給機構を備えたことを特徴とする。The invention described in
The mounting apparatus according to
A resin sheet supply mechanism is provided for supplying a resin sheet between the main pressure bonding head and the semiconductor chip temporarily bonded to the workpiece.
請求項3に記載の発明は、
請求項2に記載の実装装置であって、
前記仮圧着された半導体チップ上面の電極を、前記樹脂シートに埋め込んでから本圧着することを特徴とする。The invention according to
The mounting apparatus according to
The electrode on the upper surface of the temporarily bonded semiconductor chip is embedded in the resin sheet and then finally bonded.
請求項4に記載の発明は、
請求項2または請求項3に記載の実装装置であって、
前記本圧着後に、前記本圧着ヘッド表面に前記樹脂シートを密着させた状態で、前記樹脂 請求項5に記載の発明は、
請求項4に記載の実装装置であって、
前記本圧着ヘッドと前記樹脂シートを離間させる移動手段を備えたことを特徴とする。The invention according to
The mounting apparatus according to
In the state where the resin sheet is brought into close contact with the surface of the main press-bonding head after the main press-bonding, the invention according to claim 5,
The mounting apparatus according to
A moving means for separating the main pressure-bonding head and the resin sheet is provided.
請求項6に記載の発明は、
請求項1から請求項5の何れかに記載の実装装置であって、
前記仮圧着ヘッドの前記半導体チップを吸着保持する面に、前記半導体チップ上面の電極を収納する凹部を有していることを特徴とする。The invention described in
The mounting apparatus according to any one of
The surface of the temporary crimping head for sucking and holding the semiconductor chip has a recess for accommodating the electrode on the upper surface of the semiconductor chip.
請求項7に記載の発明は、
請求項1から請求項6の何れかに記載の実装装置であって、
前記接着剤からアウトガスが発生しない温度として、前記接着剤の硬化開始温度より低い温度を設定することを特徴とする。The invention described in
The mounting apparatus according to any one of
As a temperature at which no outgas is generated from the adhesive, a temperature lower than a curing start temperature of the adhesive is set.
請求項8に記載の発明は、
上下両面に電極を有する半導体チップを、前記半導体チップの下側に配置され、上面に電極を有する被接合物に、熱硬化性の接着剤を介した状態で熱圧着する実装方法であって、
前記半導体チップを吸着保持する仮圧着ヘッドを用いて、前記接着剤からアウトガスが発生しない温度で、前記被接合物上に仮圧着する仮圧着工程と、
前記被接合物上に仮圧着された前記半導体チップを、加熱機能および加圧機能を有する本圧着ヘッドを用いて、前記半導体チップ下面の電極と前記被接合物上面の電極を接合するとともに前記接着剤を熱硬化させて、前記被接合物に熱圧着する本圧着工程とからなることを特徴とする。The invention according to
A mounting method in which a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces is thermocompression bonded to a bonded object having an electrode on an upper surface thereof via a thermosetting adhesive, disposed on the lower side of the semiconductor chip,
Using a temporary pressure bonding head for adsorbing and holding the semiconductor chip, a temporary pressure bonding step of temporarily pressure bonding on the object to be bonded at a temperature at which no outgas is generated from the adhesive;
The semiconductor chip temporarily bonded onto the object to be bonded is bonded to the electrode on the lower surface of the semiconductor chip and the electrode on the upper surface of the object to be bonded using a main pressure bonding head having a heating function and a pressure function. It is characterized by comprising a main press-bonding step of thermosetting the agent and thermocompression-bonding to the object to be joined.
請求項9に記載の発明は、
請求項8に記載の実装方法であって、
前記本圧着ヘッドと前記被接合物に仮圧着された前記半導体チップの間に樹脂シートを供給する工程を有することを特徴とする。The invention according to claim 9 is:
The mounting method according to
It has the process of supplying a resin sheet between the said semiconductor chip temporarily crimped | bonded to the said crimping | compression-bonding head and the said to-be-joined object.
請求項10に記載の発明は、
請求項9に記載の実装方法であって、
本圧着工程前に前記仮圧着された半導体チップ上面の電極を、前記樹脂シートに埋め込んでから本圧着することを特徴とする。The invention according to
The mounting method according to claim 9, comprising:
Before the final press-bonding step, the electrode on the upper surface of the semiconductor chip that has been temporarily press-bonded is embedded in the resin sheet and then subjected to the main press-bonding.
請求項11に記載の発明は、
請求項9または請求項10に記載の実装方法であって、
前記本圧着工程後に、前記本圧着ヘッド表面に前記樹脂シートを密着させた状態で、前記樹脂シートを前記半導体チップから離間させることを特徴とする。The invention according to claim 11
The mounting method according to
After the main press bonding step, the resin sheet is separated from the semiconductor chip in a state where the resin sheet is in close contact with the surface of the main press bonding head.
請求項12に記載の発明は、
請求項11に記載の実装方法であって、
前記樹脂シートを前記半導体チップから離間させた後に、前記本圧着ヘッドから前記樹脂シートを離間することを特徴とする。The invention according to
The mounting method according to claim 11,
The resin sheet is separated from the main pressure bonding head after the resin sheet is separated from the semiconductor chip.
請求項13に記載の発明は、
請求項8から請求項12の何れかに記載の実装方法であって、
前記半導体チップを吸着保持する面に、前記半導体チップ上面の電極を収納する凹部が形成された仮圧着ヘッドを用いて、前記半導体チップ上面の電極を収納した状態で仮圧着を行うことを特徴とする。The invention according to
The mounting method according to any one of
A temporary pressure bonding is performed in a state in which the electrodes on the upper surface of the semiconductor chip are accommodated using a temporary pressure bonding head in which a recess for accommodating the electrodes on the upper surface of the semiconductor chip is formed on the surface for sucking and holding the semiconductor chip. To do.
請求項14に記載の発明は、
請求項8から請求項13の何れかに記載の実装方法であって、
前記接着剤からアウトガスが発生しない温度として、前記接着剤の硬化開始温度より低い温度を設定することを特徴とする。The invention according to
The mounting method according to any one of
As a temperature at which no outgas is generated from the adhesive, a temperature lower than a curing start temperature of the adhesive is set.
本発明により、上下両面に電極を有する半導体チップを、前記半導体チップの下側に配置され、上面に電極を有する被接合物に、接着剤を介した状態で熱圧着するのに際して、アウトガスが発生しない状態で半導体チップを被接合物上に仮固定してから、半導体チップを吸着保持する必要なくアウトガスが発生する温度以上に加熱するので、アウトガスによる弊害もなく、接合品質も確保した実装が行える。 According to the present invention, outgassing occurs when a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces is thermocompression bonded to an object to be bonded having an electrode on the upper surface with an adhesive interposed therebetween. In this state, the semiconductor chip is temporarily fixed on the object to be bonded and then heated to a temperature above which the outgas is generated without the need to hold the semiconductor chip by adsorption. .
本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
まず、図1に示した本発明に係る一実施形態である実装装置1について説明する。以下の説明では仮圧着部2から本圧着部12へ被接合物Sを搬送する方向をX軸方向、これに直交するY軸方向、後述の仮圧着ヘッド7および本圧着ヘッド17の被接合物Sに垂直な移動方向をZ軸方向、Z軸を中心として回転する方向をθ方向として説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
First, the mounting
実装装置1で実装する半導体チップCは、図2のように貫通電極により上下両面に電極を有しており、下面の電極EBは先端部にはんだBSを有するはんだバンプとなっており、上面の電極ETも上面から数μm程度突起している。被接合物Sは、図2(a)に示すような基板S0、または図2(b)に示すような配線基板S0に半導体チップCが積層されたものである。また、本実施形態において、半導体チップCと被接合物Sとを接着する接着剤として、熱硬化性樹脂を主成分とする非導電性フィルム(以下「NCF」と記す)を用いている。NCFは被接合物Sの表面に貼り付けられているものとするが、これに限定されるものではなく、半導体チップCの下面に貼り付けられていてもよい。さらに、接着剤として熱硬化性樹脂を主成分とする非導電性ペースト(以下「NCP」と記す)を用いてもよい。
The semiconductor chip C mounted by the mounting
図1に示す実装装置1は、被接合物Sに半導体チップCを実装するものである。実装装置1は、仮圧着部2、本圧着部12、搬送機構21(図6参照)および制御部23(図6照)を備えている。
A mounting
仮圧着部2は、接着剤であるNCFによって被接合物Sに半導体チップCを仮圧着して仮固定するものである。仮圧着部2は、仮圧着用基台3、仮圧着用ステージ4、支持フレーム5、仮圧着ユニット6,仮圧着ヘッド7および仮圧着用画像認識装置10を備えている。
The temporary press-
仮圧着用基台3は、仮圧着部2を構成する主な構造体である。仮圧着用基台3は、仮圧着用ステージ4と支持フレーム5を支持している。
The temporary
仮圧着用ステージ4は、被接合物Sを保持しつつ、任意の位置に移動させるものである。仮圧着用ステージ4は、駆動ユニット4aに被接合物Sを吸着保持できる吸着テーブル4bが取り付けられ構成されている。仮圧着用ステージ4は、仮圧着用基台3に取り付けられ、駆動ユニット4aによって吸着テーブル4bをX軸方向およびY軸方向に移動できるように構成されている。すなわち、仮圧着用ステージ4は、仮圧着用基台3上において吸着テーブル4bに吸着された被接合物SをX軸方向およびY軸方向に移動できるように構成されている。なお、本実施形態において、仮圧着用ステージ4は、吸着により被接合物Sを保持しているがこれに限定されるものではない。
The temporary press-
支持フレーム5は、仮圧着ユニット6を支持するものである。支持フレーム5は、仮圧着用基台3の仮圧着用ステージ4の近傍からZ軸方向に向かって延びるように構成されている。
The support frame 5 supports the temporary
仮圧ユニットである仮圧着ユニット6は、仮圧着ヘッド7をZ軸方向とθ方向に移動させるものである。仮圧着ユニット6は、図示しないサーボモータとボールねじから構成される。仮圧着ユニット6は、サーボモータによってボールねじを回転させることによりボールねじの軸方向の駆動力を発生するように構成されている。仮圧着ユニット6は、ボールねじの軸方向が被接合物Sに対して垂直なZ軸方向の駆動力(加圧力)を発生するように構成されている。仮圧着ユニット6は、サーボモーターの出力を制御することによりZ軸方向の加圧力である仮圧荷重Ftを任意に設定できるように構成されている。なお、本実施形態において、仮圧着ユニット6は、サーボモータとボールねじとの構成としたが、これに限定されるものではなく、空圧アクチュエータ、油圧アクチュエータやボイスコイルモータから構成してもよい。
The temporary
仮圧着ヘッド7は、半導体チップCを吸着保持して、仮圧着ユニット6の駆動力を半導体チップCに伝達するものである。仮圧着ヘッド7は、仮圧着ユニット6を構成している図示しないボールねじナットに取り付けられている。また、仮圧着ユニット6は、仮圧着用ステージ4と対向するように配置されている。また、仮圧着ヘッド7は、仮圧着ユニット6によってZ方向に移動されることで仮圧着用ステージ4に近接する。仮圧着ヘッド7の構成は図3に示すが、仮圧着ヘッド7には、仮圧着ヒータ8、仮圧着用アタッチメント9が設けられている。
The temporary
図3に示す仮圧着ヒータ8は、半導体チップCを加熱するためのものであり、カートリッジヒータから構成されている。ただし、カートリッジヒータに限定されるものではなく、ラバーヒータ等、半導体チップCを加熱することができるものであればよい。また、仮圧着ヒータ8は、仮圧着ヘッド7に組み込まれているが、これに限定されるものではなく、仮圧着用ステージ4に組み込んで、仮圧着用ステージ4側から被接合物Sを介してNCFを加熱する構成でもよい。更に、仮圧着ヘッド7および仮圧着用ステージ4の両方にヒータを組み込んだ構成としても良い。
The provisional
仮圧着用アタッチメント9は、半導体チップCを保持するものである。仮圧着用アタッチメント9は、仮圧着ヘッド7に仮圧着用ステージ4と対向するように設けられている。仮圧着用アタッチメント9は、半導体チップCを位置決めしながら吸着保持できるように構成されている。また、仮圧着用アタッチメント9は、仮圧着ヒータ8によって加熱されるように構成されている。つまり、仮圧着用アタッチメント9は、半導体チップCを位置決め保持するとともに、仮圧着ヒータ8からの伝熱によって半導体チップCを加熱できるように構成されている。なお、仮圧着用アタッチメント9には、半導体チップCを吸着するための吸着穴90が設けられており、吸着穴90は減圧系91に連通されている。減圧系91を稼働することにより、吸着穴90内部は減圧され、仮圧着用アタッチメント9は半導体チップCを吸着保持する。ここで、図3では吸着穴90は1個のみとなっているが、これに限定されるものではなく複数あってもよく、吸着する半導体チップCの大きさに応じて増やしてもよい。
The temporary crimping attachment 9 holds the semiconductor chip C. The temporary crimping attachment 9 is provided on the temporary crimping
吸着穴90は、半導体チップC上面に突出した電極ETを避けた位置に設けることで、電極ETの頭頂部全面に加重を加えることができるため半導体チップC下面の電極EBに充分な力を加えることができる。
Since the
なお、仮圧着用アタッチメント9の吸着穴90以外の部分の平面形状は、図4(a)のように、平坦であっても半導体チップCの上面と下面の間で生じる気圧差により保持することが可能であるが、図4(b)のように、半導体チップC上面の電極ETを収納するような凹部92を形成したものであってもよい。図4(b)のように凹部92を形成すると、仮圧着用アタッチメント9の表面に、半導体チップCの上面が密着するので、吸着状態の半導体チップCが横ズレする可能性が低減する。なお、仮圧着工程では、はんだ溶融およびNCF硬化に必要な高温も、NCF硬化時の粘度を上回るような圧力も必要ないので、仮圧着用アタッチメント9に凹部92を設けても、半導体チップCに対する加熱不十分という問題や、剪断応力によるダメージという問題は生じない。
Note that the planar shape of the portion other than the
ところで、仮圧着用アタッチメント9の半導体チップCを吸着する面の外周サイズは、、半導体チップCのサイズよりも小さくすることで、半導体チップCと被接合物Sの間からNCFがはみ出したとしても仮圧着用アタッチメント9に付着するという問題は生じない。仮圧着用アタッチメント9の各辺は、半導体チップCの各辺に対して0.1mmから0.5mm程度小さくすることが望ましい。 By the way, even if NCF protrudes from between the semiconductor chip C and the article to be bonded S by making the outer peripheral size of the surface for adsorbing the semiconductor chip C of the temporary crimping attachment 9 smaller than the size of the semiconductor chip C, The problem of adhering to the temporary crimping attachment 9 does not occur. Each side of the temporary crimping attachment 9 is desirably about 0.1 mm to 0.5 mm smaller than each side of the semiconductor chip C.
仮圧着用画像認識装置10は、画像によって半導体チップCと被接合物Sとの位置情報を取得するものである。仮圧着用画像認識装置10は、仮圧着用ステージ4に保持されている被接合物S上面の位置合わせマークと、仮圧着用アタッチメント9に保持されている半導体チップC下面の位置合わせマークとを画像認識して、被接合物Sと半導体チップCとの位置情報を取得するように構成されている。なお、被接合物Sの位置合わせマークとは、被接合物Sが配線基板S0のみの場合は配線基板S0に記された位置合わせマークを用い、被接合物Sが配線基板S0上に半導体チップCが積層されたものである場合は、配線基板S0に記された位置合わせマークまたは積層された最上層の半導体チップCの位置合わせマークを用いる。
The temporary press-bonding
図1に示す本圧着部12は、半導体チップC下面の電極と被接合物S上面の電極とをはんだの溶着により接合するとともにNCFを熱硬化し、半導体チップCを被接合物Sの上に固定するものである。本圧着部12は、本圧着用基台13、本圧着用ステージ14、支持フレーム15、本圧着ユニット16、本圧着ヘッド17、および本圧着用画像認識装置20を備えている。
The main crimping
本圧着用基台13は、本圧着部12を構成する主な構造体である。本圧着用基台13は充分な剛性を有するように構成されている。本圧着用基台13は、本圧着用ステージ14と支持フレーム15とを支持している。
The main
本圧着用ステージ14は、被接合物Sを保持しつつ、任意の位置に移動させるものである。本圧着用ステージ14は、駆動ユニット14aに被接合物Sを吸着保持できる吸着テーブル14bが取り付けられて構成されている。本圧着用ステージ14は、本圧着用基台13に取り付けられ、駆動ユニット14aによって吸着テーブル14bをX軸方向、Y軸方向およびθ方向に移動できるように構成されている。すなわち、本圧着用ステージ14は、本圧着用基台13上において吸着テーブル14bに吸着された被接合物SをX軸方向、Y軸方向、θ軸方向に移動できるように構成されている。なお、本実施形態において、本圧着用ステージ14は、吸着により被接合物Sを保持しているが、これに限定されるものではない。
The main crimping
支持フレーム15は、本圧着ユニット16を支持するものである。支持フレーム15は、本圧着用基台13の本圧着用ステージ14の近傍からZ軸方向に向かって延びるように構成されている。
The
加圧ユニットである本圧着ユニット16は、本圧着ヘッド17を移動させるものである。本圧着ユニット16は、図示しないサーボモータとボールねじとから構成される。本圧着ユニット16は、サーボモータによってボールねじを回転させることによりボールねじの軸方向の駆動力を発生するように構成されている。本圧着ユニット16は、ボールねじの軸方向が被接合物Sに対して垂直なZ軸方向になるように支持フレーム15に取り付けられている。つまり、本圧着ユニット16は、Z軸方向の駆動力(加圧力)を発生できるように構成されている。本圧着ユニット16は、サーボモータの出力を制御することによりZ軸方向の加圧力である本圧荷重Fpを任意に設定できるように構成されている。なお、本実施形態において、本圧着ユニット16は、サーボモータとボールねじとの構成としたが、これに限定されるものではなく、空圧アクチュエータ、油圧アクチュエータやボイスコイルモータから構成してもよい。本圧着ユニット16の加圧力は、半導体チップCの電極の数や、被接合物Sとの電極同士の接触面積に応じて可変できるよう制御される。
The main
本圧着ヘッド17は、本圧着ユニット16の駆動力を半導体チップCに伝達するものである。本圧着ヘッド17は、本圧着ユニット16を構成している図示しないボールねじナットに取り付けられている。つまり、本圧着ユニット16は、本圧着用ステージと対向するように配置されている。つまり、本圧着ヘッド17は、本圧着ユニット16によってZ軸方向に移動されることで、本圧着用ステージ14に近接する。本圧着ヘッド17の構成を図5に示すが、本圧着ヘッド17には、本圧着ヒータ18および本圧着用アタッチメント19が設けられている。
The main
樹脂シート供給機構22は、樹脂シート巻出部22Sおよび樹脂シート巻取部22Rを構成要素として、樹脂シート巻出部22Sに巻かれたテープ状の樹脂シートPを本圧着用アタッチメント19と半導体チップCの間に供給した後に樹脂シート巻取部22Rで巻取るものである。樹脂シート供給機構22には、樹脂シート巻出部22Sと樹脂シート巻取部22R以外に、樹脂シートPを安定に搬送するためのガイドロール等があってもよい。ここで、樹脂シートPとしては、柔軟性を有しつつ、耐熱性に優れ、半導体チップに対する防着性にも優れている材料が好ましく、この特性を備えた材料として、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)等のフッ素樹脂が好適である。また、厚みとしては、機械的強度を保持しつつも半導体チップへの熱伝導性も考慮して20〜50μm程度が好ましい。
The resin
図5に示す本圧着ヒータ18は、半導体チップCを加熱するためのものである。本圧着ヒータ18は、カートリッジヒータから構成され、本圧着ヘッド17に組み込まれている。本実施形態において、本圧着ヒータ18はカートリッジヒータから構成されているが、これに限定されるものではなく、セラミックヒータ、ラバーヒータ等、半導体チップCを所定の温度まで加熱することができるものであればよい。
The
本圧着用アタッチメント19は、樹脂シートPを介して半導体チップCを加圧するものである。本圧着用アタッチメント19は、本圧着ヘッド17に本圧着用ステージ14と対面するように設けられている。さらに、本圧着用アタッチメント19は、本圧着ヒータ18によって加熱されるように構成されている。つまり、本圧着用アタッチメント19は、半導体チップCを加圧すると同時に、本圧着ヒータ18からの伝熱によって加熱できるように構成されている。なお、仮圧着用アタッチメント9と異なり、本圧着用アタッチメント19は半導体チップCを吸着保持する必要がないので、吸着穴はなくてもよい。
The main
樹脂シートPにより、本圧着時に半導体チップCからNCFがはみ出しても本圧着用アタッチメント19に付着することがないので、本圧着用アタッチメント19は圧着面の外周サイズを半導体チップCよりも大きくすることができる。そのため、半導体チップCの周辺部まで全面に熱を伝えることができ、半導体チップC外周にはみだしたNCFのフィレット形状を安定させ、接合強度を高めることができる。また、半導体チップCを圧着する面の外周サイズを、実装のピッチサイズよりも小さくすることで、隣接半導体チップC間での干渉を抑えて本圧着を行うことができる。なお、本圧着用アタッチメント19には、効率よく熱を伝えるために50W/mK以上の熱伝導率を有する材料を用いることが好ましい。
Since the resin sheet P prevents the NCF from sticking out of the semiconductor chip C during the main bonding, it does not adhere to the
本圧着アタッチメント19は、本圧着ヒータ18と分離されていて脱着できる構成であれば、安価であり、交換することで複数品種に対応できて好ましいが、一体型の構造であってもよい。
The
本圧着用画像認識装置20は、画像によって半導体チップCと被接合物Sとの位置情報を取得するものである。本圧着用画像認識装置20は、被接合物Sを構成する配線基板S0上面の位置合わせマークと、被接合物Sに仮固定された半導体チップC上面の位置合わせマークとを画像認識して、被接合物Sと半導体チップCとの位置情報を取得するように構成されている。
The main image-
搬送機構21は、仮圧着部2と本圧着部12との間で被接合物Sの受け渡しを行うものである。搬送機構21は、仮圧着部2の仮圧着用ステージ4で半導体チップCが仮圧着された被接合物Sを本圧着部12の本圧着用ステージ14に搬送できるように構成されている。
The
搬送機構21には、被接合物Sをθ方向に回転させる機能を持たせてもよい。こうすることで、本圧着部12にθ方向に回転させる機構が不要となり、X方向およびY軸方向のみに移動する機構とすることで、剛性の高い本圧着用ステージ14にすることができ、高い荷重を受けることができ、多数の電極を有する半導体チップCの実装に対応できる。
The
図6に示すように、制御部23は、仮圧着部2、本圧着部12および搬送機構21等を制御するものである。制御部23は、具体的には、CPU、ROM、RAM、HDD等がバスで接続される構成される構成であってもよく、あるいはワンチップのLSI等からなる構成であってもよい。制御部23は、仮圧着部2、本圧着部12および搬送機構21等を制御するための種々のプログラムやデータが格納されている。
As shown in FIG. 6, the
制御部23は、仮圧着用ステージ4と本圧着用ステージ14とに接続され、仮圧着用ステージ4と本圧着用ステージ14のX軸方向、Y軸方向、θ軸方向の移動量をそれぞれ制御することができる。
The
制御部23は、樹脂シート供給機構22に接続され、本圧着アタッチメント19直下の樹脂シートPの搬送を制御することができる。
The
制御部23は、仮圧着ヒータ8と本圧着ヒータ18とに接続され、仮圧着ヒータ8と本圧着ヒータ18との温度をそれぞれ制御することができる。特に、制御部23は、本圧着ヘッド17の加圧時における平均温度をNCFの硬化開始温度(後述の基準温度Ts)以上かつはんだの融点以上の温度からなる一定範囲内に維持することができる。
The
制御部23は、仮圧着ユニット6と本圧着ユニット16とに接続され、仮圧着ユニット6と本圧着ユニット16のZ軸方向の加圧力をそれぞれ制御することができる。
The
制御部23は、仮圧着用アタッチメント9の吸着穴90に連通した減圧系91に接続され、仮圧着アタッチメント9の吸着状態を制御することができる。
The
制御部23は、仮圧着用画像認識装置10と本圧着用画像認識装置20に接続され、仮圧着用画像認識装置10と本圧着用画像認識装置20とをそれぞれ制御し、半導体チップCと被接合物Sとの位置情報を取得することができる。
The
制御部23は、搬送機構21に接続され、搬送機構21を制御することができる。
The
以下では、図7から図9用いて、本発明に係る実装装置1の仮圧着工程と本圧着工程について説明するが、まず、NCFの特性について説明する。
Hereinafter, the temporary crimping process and the final crimping process of the mounting
図7に示すように、NCFは、その温度に応じて粘度が変動する。具体的には、熱硬化性樹脂を主成分として構成されるNCFは、樹脂の特性から定まる硬化開始温度である基準温度Ts未満の温度域においては硬化することなく、可逆的に温度上昇に伴って粘度が低くなる性質を示す。一方、NCFは、基準温度Ts以上の温度域においては硬化し、不可逆的に温度上昇に伴って、粘度が高くなる性質を示す。また、基準温度Ts未満ではアウトガスは殆ど発生しないが、基準温度Ts以上に加熱するとアウトガスが発生し易くなる。 As shown in FIG. 7, the viscosity of NCF varies depending on its temperature. Specifically, NCF composed mainly of a thermosetting resin does not cure in the temperature range below the reference temperature Ts, which is the curing start temperature determined from the resin characteristics, and reversibly increases with temperature. The viscosity is lowered. On the other hand, NCF is hardened in a temperature range equal to or higher than the reference temperature Ts, and irreversibly exhibits a property that its viscosity increases as the temperature rises. Further, outgas is hardly generated at a temperature lower than the reference temperature Ts, but outgas is easily generated when the temperature is higher than the reference temperature Ts.
実装装置1は、仮圧着工程において、仮圧着部2の仮圧着用アタッチメント9に吸着保持した半導体チップCを仮圧着ヒータ8によって所定の仮圧温度Ttまで加熱する。ここで、仮圧温度Ttは、NCFを硬化させず、アウトガスも発生させないために基準温度Tsよりも低く設定されている。一方において、仮圧温度Ttが低すぎるとNCFの粘度が高いため、被接合物Sに半導体チップCを仮固定することが難しくなる。このため、基準温度Tsと仮圧温度Ttの差が40℃を超えることは好ましくない。すなわち、基準温度Tsと仮圧温度Ttの差は、0℃より大で40℃より小であることが好ましく、10℃以上で30℃以下に設定することが更に望ましい。具体的な設定値としては、NCFの組成によって異なるが、Ttを120℃以下にしておけばアウトガスの発生は殆どなく、更に望ましくは100℃以下が良い。
The mounting
図8(a)に示すように、実装装置1は、仮圧温度Ttに加熱された半導体チップCを仮圧着ユニット6によって被接合物Sに向かってZ軸方向に移動させる。図8(b)に示すように、被接合物Sに向かって移動された半導体チップC下面の電極は、被接合物Sに貼られたNCFに接触する。半導体チップCは、下面電極EBがNCFに接触したことで、仮圧着ユニット6から仮圧加重FtがZ軸方向に加わる。
As shown in FIG. 8A, the mounting
半導体チップCは、仮圧着ヒータ8によって加熱されることで、半導体チップC下面の電極EB(および半導体チップCの下面)と接触したNCFの粘度が下がり、仮圧着ユニット6によって被接合物Sに向かって加圧される。そして、NCFが加圧荷重Ftにより変形していく。この際、半導体チップCには、仮圧加重Ftに対してNCFの粘性抵抗による反力が生じる。半導体チップCに生じるNCFの粘性抵抗による反力は、被接合物Sと半導体チップCとにはさみこまれたNCFの変形量に応じて増加する。このため、仮圧加重Ftで加圧されている半導体チップCは、仮圧加重Ftにつり合う粘性抵抗による反力が生じるNCFの変形量に到達するとZ軸方向の位置が定まる(図8(c))。
The semiconductor chip C is heated by the temporary
すなわち、仮圧着工程における半導体チップCのZ軸方向の位置は、仮圧加重FtとNCFの粘度によって定まる。したがって、実装装置1は、仮圧着部2において、仮圧着ユニット6による仮圧加重FtとNCFの粘度を設定するための仮圧着ヒータ8の温度とによって被接合物Sの電極ESと半導体チップC下面の電極EBとの間隔を所定範囲に調整することができる。
That is, the position of the semiconductor chip C in the Z-axis direction in the temporary pressure bonding step is determined by the temporary pressure load Ft and the viscosity of the NCF. Therefore, the mounting
この過程において、仮圧温度Ttは図7における基準温度Tsよりも低いことからアウトガスは殆ど発生しない。このため、仮圧着用アタッチメント9の表面や吸着穴90の内部にアウトガスの成分が付着することもない。
In this process, the temporary pressure temperature Tt is lower than the reference temperature Ts in FIG. For this reason, an outgas component does not adhere to the surface of the attachment 9 for temporary pressure bonding or the inside of the
次に、本発明に係る実装装置1の本圧着工程について説明する、図9に示すように、実装装置1は、本圧着工程において、本圧着ユニット16によって、樹脂シートPを介して本圧着用アタッチメント19を、被接合物Sに仮固定された半導体チップCの上面に突出した電極ETの頭頂部に当接させる(図9(a)、図9(b))。次いで、電極ETが樹脂シートPに埋没するまで押し込む(図9(c))。半導体チップCは、本圧着ヒータ18によって本圧着用アタッチメント19、樹脂シートPを介して、半導体チップC全面にわたって所定の本圧温度Tpまで加熱される。これに伴って、半導体チップC下面の電極EBとNCFは加熱された半導体チップCの熱が伝わり、電極EB先端のはんだBSも含めて、半導体チップCと略同一の本圧温度TPに加熱される。ここで、本圧温度Tpは、基準温度Ts以上かつはんだBSの融点以上の一定範囲内に設定されている。すなわち、実装装置1は、NCFが硬化する温度域であってNCFが所定の本圧粘度(硬度)になるとともに、はんだBSが溶融するように本圧着ヒータ18の温度を制御している。
Next, the main crimping process of the mounting
実装装置1は、本圧温度Tpに加熱された半導体チップCを本圧着ユニット16によってZ軸方向に本圧加重Fpで加圧する。半導体チップCは、本圧着ユニット16によって被接合物Sに向かって加圧されることで、半導体チップC下面の電極EBと被接合物S上面の電極ESとの間隙をなくすように近接する(図9(d))。
The mounting
この際、NCFは、基準温度TS以上に加熱されているため硬化が始まるとともにアウトガスを発生する。しかし、本圧着用アタッチメント19は半導体チップCを吸着する必要がなく、このため、アウトガスが半導体チップC上面と本圧着用アタッチメント19の間の隙間に引き込まれるようなことはなく、アウトガスが半導体チップCの上面や本圧着用アタッチメント19の表面には殆ど付着しない。
At this time, since the NCF is heated to the reference temperature TS or higher, curing begins and outgas is generated. However, the main-
本圧着工程での熱圧着が終了すると(図10(a))、本圧着用アタッチメント19は樹脂シートPとともに上昇する(図10(b))。樹脂シートPは本圧着後は半導体チップCの上面の突起電極ETが埋没した状態なので、本圧着用アタッチメント19のみを上昇させると、樹脂シートPが冷却され、収縮により電極ETから離間出来ない状態になるので、本圧着用アタッチメント19に密着した状態で上昇させるのが望ましい。その後、樹脂シートPを本圧着アタッチメント19の表面から離間させる(図10(c))。樹脂シートPを本圧着アタッチメント19表面から離間することにより、樹脂シート供給機構22は、樹脂シートPの搬送を行う事が容易になる。なお、本圧着部12は、本圧着ユニット16又と樹脂シート供給機構22のZ軸方向の相対距離を移動させる図示しない移動手段を備えており、この移動手段により樹脂シートPと本圧着アタッチメント19の接近および離間を行う。
When the thermocompression bonding in the main pressure bonding step is completed (FIG. 10A), the main
なお、図9(c)、9(d)および図10(a)において、電極ETが樹脂シートPに埋没する状態を、図11(a)のようなイメージ図で示しているが、実際には図11(b)に一例を示すように電極ETの周囲には隙間PVが形成されている。ただし、隙間PVの周囲で樹脂シートPは半導体チップCの上面に密着しているので、圧着ヒータ18の熱は、アタッチメント19、樹脂シートPを介して、半導体チップCに伝わる。
9C, 9D, and 10A, the state in which the electrode ET is buried in the resin sheet P is shown in an image diagram as shown in FIG. As shown in FIG. 11B, a gap PV is formed around the electrode ET. However, since the resin sheet P is in close contact with the upper surface of the semiconductor chip C around the gap PV, the heat of the
以下に、図12を用いて、本発明の第二実施形態に係る実装装置30について説明する。なお、以下の実施形態において、既に説明した実施形態と同様の点に関しては、その具体的説明を省略し、相違する部分を中心に説明する。
Below, the mounting
図12の実装装置30は、仮圧着部2において、被接合物Sに半導体チップCを一つずつ仮固定することに関しては実装装置1と同じであるが、本圧着部32において被接合物Sに仮固定された複数の半導体チップCを一括して熱圧着する機能を有している。実装装置30の本圧着部32は、本圧着用基台33、本圧着用ステージ34、支持フレーム35、本圧着ユニット36、本圧着ヘッド37、および本圧着用画像認識装置40を備えており、実装装置1の本圧着部12と同様な構成および機能を有している。また、本圧着ヘッド37に、本圧着ヒータ38と本圧着アタッチメント39が設けられている。更に、図示はしていないが、本圧着アッタチメント39の圧着面と半導体チップCの間に樹脂シートPを供給する樹脂シート供給機構も構成要素として含まれている。本圧着用アタッチメント39は、図13(a)に示すように、半導体チップC単位で分割する構成となっている。また、被接合物Sおよび半導体チップCに厚さばらつきがあっても、複数の半導体チップCの加圧力を同等にするために、本圧着ヒータ38と本圧着用アタッチメント39の間に弾性体39aを挟みこんでいる。
The mounting
本圧着部32は、仮圧着された複数の半導体チップCを同じタイミング熱圧着するのであれば、1チップ毎に本圧着する本圧着ヘッドを複数配置した構成であってもよい。
The main
実装装置30の本圧着部32での半導体チップCの本圧着に際しては、実装装置1の本圧着部12吐同様に、樹脂シートPを介して本圧着用アタッチメント39を、被接合物Sに仮固定された半導体チップCの上面に突出した電極ETの頭頂部に当接させる(図13(a)、図13(b))。次いで、電極ETが樹脂シートPに埋没するまで押し込んでから(図13(c))、本圧温度Tpに加熱する。
In the final crimping of the semiconductor chip C at the final crimping
一般的に、仮圧着工程よりも本圧着工程に要する時間が長い。このため、図12の実装装置30では、第一実施形態の実装装置1と同様な作用効果が得られるとともに、複数の半導体チップを一括で本圧着することができるので、タクト短縮の効果も得られる。
Generally, the time required for the main pressure bonding process is longer than that for the temporary pressure bonding process. For this reason, in the mounting
1 実装装置
2 仮圧着部
3 仮圧着用基台
4 仮圧着用ステージ
5 支持フレーム
6 仮圧着ユニット
7 仮圧着ヘッド
8 仮圧着ヒータ
9 仮圧着用アタッチメント
10 仮圧着用画像認識装置
12 本圧着部
13 本圧着用基台
14 本圧着用ステージ
15 支持フレーム
16 本圧着ユニット
17 本圧着ヘッド
18 本圧着ヒータ
19 本圧着用アタッチメント
20 本圧着用画像認識装置
22 樹脂シート供給機構
22S 樹脂シート巻出部
22R 樹脂シート巻取部
23 制御部
90 吸着穴
91 減圧系
92 凹部
C 半導体チップ
P 樹脂シート
S 被接合物
EB 半導体チップ下面の電極
ET 半導体チップ上面の電極
ES 被接合物上面の電極
NCF 非導電性フィルム(接着剤)DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記半導体チップを吸着保持する仮圧着ヘッドを用いて、前記接着剤からアウトガスが発生しない温度で、前記被接合物上に仮圧着する仮圧着部と、
前記被接合物上に仮圧着された前記半導体チップを、加熱機能および加圧機能を有する本圧着ヘッドを用いて、前記半導体チップ下面の電極と前記被接合物上面の電極を接合するとともに前記接着剤を熱硬化させて、前記被接合物に本圧着する本圧着部とを備えていることを特徴とする実装装置。A mounting device for thermocompression bonding a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces to a bonded object having an electrode on an upper surface thereof via a thermosetting adhesive, which is disposed on the lower side of the semiconductor chip,
Using a temporary pressure-bonding head that sucks and holds the semiconductor chip, a temporary pressure-bonding portion that temporarily pressure-bonds onto the object to be bonded at a temperature at which no outgas is generated from the adhesive;
The semiconductor chip temporarily bonded onto the object to be bonded is bonded to the electrode on the lower surface of the semiconductor chip and the electrode on the upper surface of the object to be bonded using a main pressure bonding head having a heating function and a pressure function. A mounting apparatus, comprising: a thermocompression bonding agent, and a main press-bonding portion that performs a main press-bonding to the object to be bonded.
前記本圧着ヘッドと前記被接合物に仮圧着された前記半導体チップの間に樹脂シートを供給する、樹脂シート供給機構を備えたことを特徴とする実装装置。The mounting apparatus according to claim 1,
A mounting apparatus comprising a resin sheet supply mechanism that supplies a resin sheet between the main pressure bonding head and the semiconductor chip temporarily bonded to the object to be bonded.
前記仮圧着された半導体チップ上面の電極を、前記樹脂シートに埋め込んでから本圧着することを特徴とする実装装置。The mounting apparatus according to claim 2,
A mounting apparatus, wherein the electrode on the upper surface of the temporarily bonded semiconductor chip is embedded in the resin sheet and then finally bonded.
前記本圧着後に、前記本圧着ヘッド表面に前記樹脂シートを密着させた状態で、前記樹脂シートを前記半導体チップから離間させる機能を有している実装装置。The mounting apparatus according to claim 2 or 3, wherein
A mounting apparatus having a function of separating the resin sheet from the semiconductor chip in a state where the resin sheet is in close contact with the surface of the main pressure bonding head after the main pressure bonding.
前記本圧着ヘッドと前記樹脂シートを離間させる移動手段を備えたことを特徴とする実装装置。The mounting apparatus according to claim 4,
A mounting apparatus comprising a moving means for separating the main pressure bonding head from the resin sheet.
前記仮圧着ヘッドの前記半導体チップを吸着保持する面に、前記半導体チップ上面の電極を収納する凹部を有していることを特徴とする実装装置。The mounting apparatus according to any one of claims 1 to 5,
A mounting apparatus comprising a recess for accommodating an electrode on an upper surface of the semiconductor chip on a surface of the temporary pressure-bonding head that holds the semiconductor chip by suction.
前記接着剤からアウトガスが発生しない温度として、前記接着剤の硬化開始温度より低い温度を設定することを特徴とする実装装置。The mounting apparatus according to any one of claims 1 to 6,
The mounting apparatus, wherein a temperature lower than a curing start temperature of the adhesive is set as a temperature at which no outgas is generated from the adhesive.
前記半導体チップを吸着保持する仮圧着ヘッドを用いて、前記接着剤からアウトガスが発生しない温度で、前記被接合物上に仮圧着する仮圧着工程と、
前記被接合物上に仮圧着された前記半導体チップを、加熱機能および加圧機能を有する本圧着ヘッドを用いて、前記半導体チップ下面の電極と前記被接合物上面の電極を接合するとともに前記接着剤を熱硬化させて、前記被接合物に熱圧着する本圧着工程とからなることを特徴とする実装方法。A mounting method in which a semiconductor chip having electrodes on both upper and lower surfaces is thermocompression bonded to a bonded object having an electrode on an upper surface thereof via a thermosetting adhesive, disposed on the lower side of the semiconductor chip,
Using a temporary pressure bonding head for adsorbing and holding the semiconductor chip, a temporary pressure bonding step of temporarily pressure bonding on the object to be bonded at a temperature at which no outgas is generated from the adhesive;
The semiconductor chip temporarily bonded onto the object to be bonded is bonded to the electrode on the lower surface of the semiconductor chip and the electrode on the upper surface of the object to be bonded using a main pressure bonding head having a heating function and a pressure function. A mounting method comprising: a main press-bonding step in which an agent is thermally cured and thermocompression-bonded to the object to be bonded.
前記本圧着ヘッドと前記被接合物に仮圧着された前記半導体チップの間に樹脂シートを供給する工程を有することを特徴とする実装方法。The mounting method according to claim 8,
A mounting method comprising a step of supplying a resin sheet between the main pressure bonding head and the semiconductor chip temporarily bonded to the object to be bonded.
本圧着工程前に前記仮圧着された半導体チップ上面の電極を、前記樹脂シートに埋め込んでから本圧着することを特徴とする実装方法。The mounting method according to claim 9, comprising:
A mounting method comprising: pre-crimping the electrode on the upper surface of the semiconductor chip, which has been pre-crimped before the main crimping step, after embedding it in the resin sheet.
前記本圧着工程後に、前記本圧着ヘッド表面に前記樹脂シートを密着させた状態で、前記樹脂シートを前記半導体チップから離間させることを特徴とする実装方法。The mounting method according to claim 9 or 10, wherein:
A mounting method comprising: separating the resin sheet from the semiconductor chip in a state where the resin sheet is in close contact with the surface of the main pressure bonding head after the main pressure bonding step.
前記樹脂シートを前記半導体チップから離間させた後に、前記本圧着ヘッドから前記樹脂シートを離間することを特徴とする実装方法。The mounting method according to claim 11,
A mounting method comprising: separating the resin sheet from the main pressure-bonding head after separating the resin sheet from the semiconductor chip.
前記半導体チップを吸着保持する面に、前記半導体チップ上面の電極を収納する凹部が形成された仮圧着ヘッドを用いて、前記半導体チップ上面の電極を収納した状態で仮圧着を行うことを特徴とする実装方法。The mounting method according to any one of claims 8 to 12,
A temporary pressure bonding is performed in a state in which the electrodes on the upper surface of the semiconductor chip are accommodated using a temporary pressure bonding head in which a recess for accommodating the electrodes on the upper surface of the semiconductor chip is formed on the surface for sucking and holding the semiconductor chip. How to implement.
前記接着剤からアウトガスが発生しない温度として、前記接着剤の硬化開始温度より低い温度を設定することを特徴とする実装方法。The mounting method according to any one of claims 8 to 13,
A mounting method, wherein a temperature lower than a curing start temperature of the adhesive is set as a temperature at which no outgas is generated from the adhesive.
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