JPWO2016067857A1 - 研磨材及び研磨材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1A及び図1Bに示す研磨材1は、基材10と、その表面側に積層される研磨層20と、基材10の裏面側に積層される接着層30とを備える。
上記基材10は、研磨層20を支持するための板状の部材である。
研磨層20は無機物を主成分とするバインダー21とこのバインダー21中に分散される研磨粒子22とを有する。また、上記研磨層20は表面が溝23で区分された複数の領域(凸状部24)を備える。
上記バインダー21の主成分である無機物としては、ケイ酸塩、リン酸塩、多価金属アルコキシド等を挙げることができる。中でも研磨層20の研磨粒子保持力が高いケイ酸塩が好ましい。
研磨粒子22としては、ダイヤモンド、アルミナ、シリカ、セリア、炭化ケイ素等の粒子が挙げられる。中でも高い研削力が得られるダイヤモンド粒子が好ましい。このダイヤモンド粒子としては、単結晶でも多結晶でもよく、またNiコーティング等の処理がされたダイヤモンドであってもよい。
上記研磨層20は、表面が溝23で区分された複数の領域である複数の凸状部24を備える。上記溝23は、研磨層20の表面に等間隔の格子状に配設される。すなわち上記複数の凸状部24の形状は、平面視で直交するXY方向でそれぞれ少なくとも2以上配設されたブロックパターン状である。また、凸状部24を区分する溝23の底面は、基材10の表面で構成される。
接着層30は、当該研磨材1を支持し研磨装置に装着するための支持体に当該研磨材1を固定する層である。
当該研磨材1は、研磨層用組成物を準備する工程、及び上記研磨層20を研磨層用組成物の印刷により形成する工程により製造できる。
当該研磨材1は研磨層20が無機物を主成分とするバインダー21を有するので、研磨粒子22の保持力が高く、研磨粒子22が脱粒し難い。また、研磨層20表面の最大山高さ(Rp)を所定範囲内とするので、当該研磨材1は研磨粒子22の保持力を維持しつつ、研磨粒子22の一部のバインダー21表面からの突出量を大きくできる。このため、上記研磨粒子22は使用開始時より研磨力に優れる。従って、当該研磨材1は研磨粒子22が脱粒し難く研磨力に優れるので、高い研磨効率を実現できる。また、当該研磨材1は研磨層20が溝23で区分された複数の領域から構成されているので、加工する基板への面圧や研磨作用点数を容易に制御でき、研磨精度が高い。さらに、当該研磨材1は研磨時に研磨粒子22を新たに供給する必要がないため、当該研磨材1を用いた研磨は、研磨コストが低い。
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記態様の他、種々の変更、改良を施した態様で実施することができる。上記実施形態では、溝を等間隔の格子状に構成したが、格子の間隔は、等間隔でなくともよく、例えば縦方向と横方向とで間隔を変えてもよい。ただし、溝の間隔が異なる場合、研磨に異方性が生じるおそれがあるため、等間隔が好ましい。
ダイヤモンド研磨粒子(ランズ社の「LS605FN」)を用意し、日機装株式会社の「MicrotracMT3300EXII」を用いて平均粒子径を計測した。このダイヤモンド研磨粒子の平均粒子径は7.5μmであった。なお、この研磨粒子のダイヤモンドの種類は55質量%ニッケルコーティングされた処理ダイヤモンドである。
実施例1の塗工液をダイヤモンド研磨粒子の研磨層に対する含有量が50体積%及び酸化物充填剤の研磨層に対する含有量が20体積%となるよう調整した以外は実施例1と同様にして研磨材を得た。
実施例1の研磨層の形成において、凸状部の研磨層全体に対する面積占有率を25%とした以外は実施例1と同様にして研磨材を得た。
ダイヤモンド研磨粒子(ランズ社の「LS600F」)を用意し、日機装株式会社の「MicrotracMT3300EXII」を用いて平均粒子径を計測した。このダイヤモンド研磨粒子の平均粒子径は41μmであった。なお、この研磨粒子のダイヤモンドの種類は単結晶ダイヤモンドである。
実施例4のダイヤモンド研磨粒子のダイヤモンドの種類、平均粒子径及び含有量と、研磨層の溝形状と、酸化物充填剤の種類、平均粒子径及び含有量とを表1のように変化させて、実施例5〜14を得た。なお、ダイヤモンド研磨粒子の種類において、多結晶ダイヤモンド研磨粒子としてはランズ社の「LS600X」を用い、処理ダイヤモンドとしては55質量%ニッケルコーティングされたダイヤモンド研磨粒子(ランズ社の「LS605FN」)を用いた。また、酸化物充填剤の種類において、実施例11、実施例13、及び実施例14のアルミナとしては、太平洋ランダム株式会社の「LA4000」を用い、実施例12のアルミナとしては電気化学工業社の「ASFP−20」を用い、ジルコニア(ZrO2)としては、第一稀元素化学工業社の「BR−12QZ」を用い、実施例7のシリカ(SiO2)としては、富士シリシア化学社の「サイリシア470」を用い、実施例11〜12のシリカ(SiO2)としては、日本アエロジル社の「AEROSIL OX50」(登録商標)を用い、酸化セリウム(CeO2)としては、昭和電工社の「SHOROX A−10」を用い、酸化マグネシウム(MgO)としては、神島化学工業社の「スターマグL」を用いた。
希釈溶剤(イソホロン)に、エポキシ樹脂(三菱化学株式会社の「JER828」)、ダイヤモンド研磨粒子(単結晶、ランズ社の「LS600F」、平均粒子径7.5μm)、及び硬化剤(三菱化学株式会社の「YH306」並びに四国化成工業株式会社の「キュアゾール1B2MZ」)を加えて混合し、ダイヤモンド研磨粒子の研磨層に対する含有量が47体積%となるよう調整し、塗工液を得た。なお、比較例1の塗工液には酸化物充填剤は加えていない。
ケイ酸塩(富士化学株式会社の「3号ケイ酸ソーダ」)、酸化物充填剤としてのアルミナ(Al2O3、太平洋ランダム株式会社の「LA800」、及び平均粒子径30μm)を混合し、酸化物充填剤の研磨層に対する含有量が73体積%となるよう調整し、塗工液を得た。なお、比較例2の塗工液にはダイヤモンド研磨粒子は加えていない。
希釈溶剤(イソホロン)に、エポキシ樹脂(三菱化学株式会社の「JER828」)、ダイヤモンド研磨粒子(単結晶、ランズ社の「LS600F」、平均粒子径35μm)、及び硬化剤(三菱化学株式会社の「YH306」並びに四国化成工業株式会社の「キュアゾール1B2MZ」)を加えて混合し、ダイヤモンド研磨粒子の研磨層に対する含有量が45体積%となるよう調整し、塗工液を得た。なお、比較例3の塗工液には酸化物充填剤は加えていない。
比較例3の塗工液のダイヤモンド研磨粒子を平均粒子径50μmとした以外は比較例3と同様にして比較例4の研磨材を得た。
希釈溶剤(イソホロン)に、エポキシ樹脂(三菱化学株式会社の「JER828」)、ダイヤモンド研磨粒子(単結晶、ランズ社の「LS600F」、平均粒子径35μm)、酸化物充填剤としてのアルミナ(Al2O3、太平洋ランダム株式会社の「LA1200」、平均粒子径12μm)及び硬化剤(三菱化学株式会社の「YH306」並びに四国化成工業株式会社の「キュアゾール1B2MZ」)を加えて混合し、ダイヤモンド研磨粒子の研磨層に対する含有量が20体積%及び酸化物充填剤の研磨層に対する含有量が30体積%となるよう調整し、塗工液を得た。
上記実施例1〜3及び比較例1で得られた研磨材を用いて、ガラス基板の研磨を行った。上記ガラス基板には、直径6.25cm、比重2.4の3枚のソーダライムガラス(平岡特殊硝子製作株式会社製)を用いた。上記研磨には、市販の両面研磨機(日本エンギス株式会社「EJD−5B−3W」)を用いた。両面研磨機のキャリアは、厚さ0.4mmのエポキシガラスである。研磨は、研磨圧力を150g/cm2とし、上定盤回転数60rpm、下定盤回転数90rpm及びSUNギア回転数10rpmの条件で15分間行った。その際、クーラントとして、株式会社モレスコの「ツールメイトGR−20」を毎分120cc供給した。
実施例1〜14及び比較例1〜5の研磨材の研磨層表面の最大山高さ(Rp)及びこれらの研磨材を用いて研磨した基板(ガラス基板又はサファイア基板)について、研磨速度と研磨後の被削体の表面粗さ(Ra)とを求めた。結果を表1に示す。
最大山高さについて、表面粗さ測定計(株式会社ミツトヨの「SV−C4100」)を用い、JIS−B−0601:2001記載の方法に準拠して研磨層表面の任意の3カ所に関して、送り速度0.2mm/秒、カットオフ0.25mm、測定長さ1.25mmの設定で行い、得られた測定値の平均値を求めた。
研磨速度について、研磨前後の基板の重量変化(g)を、基板の表面積(cm2)、基板の比重(g/cm3)及び研磨時間(分)で除し、算出した。
実施例1〜10の表面粗さについては、接触式表面粗さ計(株式会社ミツトヨの「S−3000」)を用い、表面及び裏面それぞれ任意の4カ所を測定し、合計8カ所の平均値を求めた。実施例11〜14の表面粗さについては、表面粗さが実施例1〜10より小さいため、Burker社のオプティカルプロファイラー「Wyko NT1100」を用い、表面及び裏面それぞれ任意の4カ所を測定し、合計8カ所の平均値を求めた。比較例1〜5については、研磨力不足により、これらの比較例により本来現れるべき表面粗さが研削体に表出しなかったため、測定を行わなかった。
10 基材
20 研磨層
21 バインダー
22 研磨粒子
23 溝
24 凸状部
30 接着層
31 第二接着層
40 支持体
Claims (7)
- 基材と、その表面側に積層される研磨層とを備える研磨材であって、
上記研磨層が無機物を主成分とするバインダーとこのバインダー中に分散される研磨粒子とを有し、
上記研磨層の表面が溝で区分された複数の領域から構成され、
上記研磨層表面の最大山高さ(Rp)が2.5μm以上70μm以下であることを特徴とする研磨材。 - 上記複数の領域が平面視で直交するXY方向で少なくとも2以上配設されている請求項1に記載の研磨材。
- 上記バインダーが酸化物を主成分とする充填剤を含有し、
上記酸化物充填剤の平均粒子径が上記研磨粒子の平均粒子径よりも小さい請求項1又は請求項2に記載の研磨材。 - 上記無機物がケイ酸塩である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の研磨材。
- 上記研磨粒子がダイヤモンドである請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の研磨材。
- 上記研磨層が印刷法により形成される請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の研磨材。
- 基材と、その表面側に積層される研磨層とを備える研磨材の製造方法であって、
研磨層用組成物の印刷により上記研磨層を形成する工程を備え、
上記研磨層用組成物が、無機物を主成分とするバインダー成分及び研磨粒子を有することを特徴とする研磨材の製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57114367A (en) * | 1980-11-20 | 1982-07-16 | Kuringusupooru Buarutaa | Flexible grinding material and its manufacture |
JPH05111878A (ja) * | 1991-04-25 | 1993-05-07 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 研磨製品およびその製造方法 |
JP2009511281A (ja) * | 2005-10-05 | 2009-03-19 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 構造化研磨物品の製造方法 |
JP2009072832A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-09 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シートおよびその製造方法 |
JP2010179402A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シートおよび研磨シートの製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR9509116A (pt) * | 1994-09-30 | 1997-11-18 | Minnesota Mining & Mfg | Artigo abrasivo revestido processos para produzir o mesmo e processo para desbastar uma peça dura |
US5851247A (en) * | 1997-02-24 | 1998-12-22 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece |
BR9808152A (pt) | 1997-03-07 | 2000-03-28 | Minnesota Mining & Mfg | Artigo abrasivo, sistema para polimento de vidro, processo para o polimento de uma peça e de um artigo de vidro, e, aparelho compreendendo um tubo de raios catódicos |
US6672952B1 (en) * | 1998-12-23 | 2004-01-06 | 3M Innovative Properties Company | Tearable abrasive article |
US6458018B1 (en) | 1999-04-23 | 2002-10-01 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article suitable for abrading glass and glass ceramic workpieces |
JP2002086350A (ja) | 2000-09-08 | 2002-03-26 | Noritake Diamond Ind Co Ltd | 電気泳動研磨用研磨液および研磨加工方法 |
BR0211580A (pt) | 2001-08-02 | 2004-07-13 | 3M Innovative Properties Co | Métodos para a fabricação de material amorfo, de cerâmica compreendendo vidro, de um artigo compreendendo vidro, de vidro-cerâmica, de um artigo de vidro-cerâmica e de partìculas abrasivas |
US7384436B2 (en) * | 2004-08-24 | 2008-06-10 | Chien-Min Sung | Polycrystalline grits and associated methods |
US7169029B2 (en) * | 2004-12-16 | 2007-01-30 | 3M Innovative Properties Company | Resilient structured sanding article |
US20080287047A1 (en) * | 2007-05-18 | 2008-11-20 | Sang Fang Chemical Industry Co., Ltd. | Polishing pad, use thereof and method for making the same |
WO2009088606A2 (en) * | 2007-12-31 | 2009-07-16 | 3M Innovative Properties Company | Plasma treated abrasive article and method of making same |
US8425278B2 (en) * | 2009-08-26 | 2013-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive article and method of using the same |
CN102029571B (zh) * | 2009-09-24 | 2015-07-29 | 贝达先进材料股份有限公司 | 研磨垫与其应用和其制造方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57114367A (en) * | 1980-11-20 | 1982-07-16 | Kuringusupooru Buarutaa | Flexible grinding material and its manufacture |
JPH05111878A (ja) * | 1991-04-25 | 1993-05-07 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 研磨製品およびその製造方法 |
JP2009511281A (ja) * | 2005-10-05 | 2009-03-19 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 構造化研磨物品の製造方法 |
JP2009072832A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-09 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シートおよびその製造方法 |
JP2010179402A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シートおよび研磨シートの製造方法 |
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