JPWO2016052576A1 - グリッド偏光素子及び光配向装置 - Google Patents
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Abstract
Description
尚、この出願の発明の偏光素子は、グリッドが金属(ワイヤー)には限らないので、以下の説明では、単にグリッド偏光素子と呼ぶ。
この出願の発明者らは、上記の点を考慮し、従来の反射型のグリッド偏光素子とは異なるモデルで動作する、吸収型ともいうべきグリッド偏光素子を想到するに至った。吸収型のグリッド偏光素子では、グリッドの材料として誘電体のような光吸収材料を使用し、s偏光光とp偏光光との間の光吸収の相違を利用して偏光作用を生じさせる。
各線状部は、第一の波長が吸収のピークである第一の材料で形成された第一の層と、第一の波長とは異なる第二の波長が吸収のピークである第二の材料で形成された第二の層とを備えており、
透明基板は石英ガラス製であり、
第二の層は透明基板の上に形成された層であって第二の材料はアモルファス状のシリコンであり、
第一の層は第二の層の上に形成された層であって第一の材料はアモルファス状の酸化チタンであり、
第一の層及び第二の層で得られる消光比は、250nm以上390nm以下の波長域において1×102以上であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、透明基板と、透明基板上に設けられた縞状のグリッドとを備え、グリッドは光を吸収する材料で形成された多数の線状部から成り、各線状部は、入射する光のうち特定の方向に偏光軸が向いた偏光光をそれとは異なる方向に偏光軸が向いた偏光光に比べて多く吸収することで偏光作用を為す吸収型のグリッド偏光素子であって、
各線状部は、第一の波長が吸収のピークである第一の材料で形成された第一の層と、第一の波長とは異なる第二の波長が吸収のピークである第二の材料で形成された第二の層とを備えており、
透明基板は石英ガラス製であり、
第二の層は透明基板の上に形成された層であって第二の材料はアモルファス状のシリコンであり、
第一の層は第二の層の上に形成された層であって第一の材料はアモルファス状の酸化チタンであり、
第一の層と第二の層との全体の厚さに対する第二の層の厚さの割合は50%以上100%未満であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項3記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記第一の層と前記第二の層との全体の厚さに対する前記第二の層の厚さの割合は50%以上100%未満であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項4記載の発明は、前記請求項2又は3の構成において、前記第一の層と前記第二の層との全体の厚さに対する前記第二の層の厚さの割合は50%以上90%以下であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項5記載の発明は、光処理装置の発明であって、光源と、請求項1、2、3又は4に記載のグリッド偏光素子とを備えており、グリッド偏光素子は、光配向用の膜材が配置される照射領域と光源との間に配置されているという構成を有する。
また、請求項5記載の発明によれば、上記効果に加え、上記効果を得ながら膜材に対して光配向処理を行うことができ、グリッド偏光素子の汎用性が高いことから、設備投資のコストを抑えることができる。
図1は、実施形態に係るグリッド偏光素子の斜視概略図である。図1に示すグリッド偏光素子は、透明基板1と、透明基板1上に設けられたグリッド2とから主に構成されている。
透明基板1は、対象波長(偏光素子を使用して偏光させる光の波長)に対して十分な透過性を有するという意味で「透明」ということである。この実施形態では、紫外線を対象波長として想定しているので、透明基板1の材質としては石英ガラス(例えば合成石英)が採用されている。
このようなs偏光光がグリッド偏光素子のグリッド2にさしかかると、s偏光光の電界Eyは、各線状部3の誘電率によって弱められる。一方、ギャップ4の媒質は、空気である場合が多いが、一般的に各線状部3より誘電率が小さいので、ギャップ4では電界Eyはグリッド2内ほどは弱められない。
図3に示すように、グリッド2にさしかかる前のs偏光光にはHz成分が無いためHx成分のみとなるが、グリッド2にさしかかると前述のHz成分の生成により、磁界がx−z面内で波打つことが確認できる。図3に示すように、磁界の波打ちは、時計回りの磁界の回転ともいえる状況である。
紫外域の光の物質における吸収は、前述した金属の場合のモデル(自由電子のプラズマ振動数が光の振動数に近づくために生じる)の他、一般的には電子遷移特にバンド間遷移によって生じる。いずれにしても、紫外域における吸収特性即ち分光吸収率は、材料に応じて異なる。吸収率はある波長でピークとなる場合が多いが、吸収率がある波長でピークとなる場合、ピーク波長は材料によって異なる。グリッド偏光阻止の材料としてこのように分光吸収特性の異なる二つの材料を選定した場合、分光吸収特性が平均化される形となり、平均化された分光吸収特性に応じた偏光性能が得られることになる。
前述したように、実施形態のグリッド偏光素子は吸収型であり、入射した偏光光が、s波とp波とで異なった吸収のされ方(減衰の仕方)をすることで偏光が行われる。この際、第一の層31の材料において多く吸収される第一の波長の光は、第一の層31で形成される上側のグリッド領域を伝搬する際、上記のような吸収型のモデルでの偏光が行われる。そして、上側のグリッド領域を過ぎ、第二の層32で形成された下側のグリッド領域を伝搬する際、第二の層32の材料において多く吸収される第二の波長の光について、同様に吸収型のモデルにより偏光が行われる。この結果、透明基板からは、第一の波長と第二の波長とにおいて専らp偏光光が出射されることになり、ブロードな偏光が達成される。
実施形態のグリッド偏光素子を製造する場合、まず、石英製の透明基板1の上に第二の層32用のシリコン膜51を形成する(図7(1))。形成方法としては、各種の方法を採用し得るが、例えばALD(原子層蒸着)法を採用し得る。
上述したように、実施形態のグリッド偏光素子は、第二の層31用のシリコン膜の上に第一の層31用の酸化チタン膜を積層し、その上で各膜をエッチングして第一の層31及び第二の層32を形成する。RIEでは、図8に示すように、イオン化させたエッチャント50を電界で加速して衝突させることで、エッチングが行われる。この際、シリコンに比べて結合エネルギーの高い酸化チタンについては、電界強度を高くし、高いイオン衝撃エネルギーでエッチングを行う必要がある。
図9に示す装置は、前述した液晶ディスプレイ用の光配向膜を得るための光配向装置であり、対象物(ワーク)60に偏光光を照射することで、ワーク60の分子構造が一定の方向に揃った状態とするものである。従って、ワーク60は光配向膜用の膜(膜材)であり、例えばポリイミド製のシートである。ワーク60がシート状である場合、ロールツーロールの搬送方式が採用され、搬送の途中で偏光光が照射される。光配向用の膜材で被覆された液晶基板がワークとなることもあり、この場合には、液晶基板をステージに載せて搬送したり、又はコンベアで搬送したりする構成が採用される。
光源61として、前述したように高圧水銀ランプのような紫外線ランプが使用される。光源61は、ワーク60の搬送方向に対して垂直な方向(ここでは紙面垂直方向)に長いものが使用される。
尚、グリッド偏光素子は、大型のものを製造するのが難しいため、大きな領域に偏光光を照射する必要がある場合、複数のグリッド偏光素子を同一平面上に並べた構成が採用される。この場合、複数のグリッド偏光素子を並べた面は、ワーク60の表面と並行とされ、各グリッド偏光素子における各線状部の長さ方向がワーク60に対して所定の向きとなるように各グリッド偏光素子が配置される。
尚、このような効果は、光配向以外にも、対象物に応じて異なる波長域の偏光光が必要になる光処理において一般的に妥当することはいうまでもない。
2 グリッド
3 線状部
31 第一の層
32 第二の層
4 ギャップ
60 ワーク
61 光源
62 ミラー
63 グリッド偏光素子
各線状部は、第一の波長が吸収のピークである第一の材料で形成された第一の層と、第一の波長とは異なる第二の波長が吸収のピークである第二の材料で形成された第二の層とを備えており、
透明基板は石英ガラス製であり、
第二の層は透明基板の上に形成された層であって第二の材料はアモルファス状のシリコンであり、
第一の層は第二の層の上に形成された層であって第一の材料はアモルファス状の酸化チタンであり、
第一の層と第二の層との全体の厚さに対する第一の層の厚さの割合は50%以上100%未満であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、光処理装置の発明であって、光源と、請求項1に記載のグリッド偏光素子とを備えており、グリッド偏光素子は、光配向用の膜材が配置される照射領域と光源との間に配置されているという構成を有する。
また、請求項2記載の発明によれば、上記効果に加え、上記各効果を得ながら膜材に対して光配向処理を行うことができ、グリッド偏光素子の汎用性が高いことから、設備投資のコストを抑えることができる。
Claims (5)
- 透明基板と、透明基板上に設けられた縞状のグリッドとを備え、グリッドは光を吸収する材料で形成された多数の線状部から成り、各線状部は、入射する光のうち特定の方向に偏光軸が向いた偏光光をそれとは異なる方向に偏光軸が向いた偏光光に比べて多く吸収することで偏光作用を為す吸収型のグリッド偏光素子であって、
各線状部は、第一の波長が吸収のピークである第一の材料で形成された第一の層と、第一の波長とは異なる第二の波長が吸収のピークである第二の材料で形成された第二の層とを備えており、
透明基板は石英ガラス製であり、
第二の層は透明基板の上に形成された層であって第二の材料はアモルファス状のシリコンであり、
第一の層は第二の層の上に形成された層であって第一の材料はアモルファス状の酸化チタンであり、
第一の層及び第二の層で得られる消光比は、250nm以上390nm以下の波長域において1×102以上であることを特徴とすることを特徴とするグリッド偏光素子。 - 透明基板と、透明基板上に設けられた縞状のグリッドとを備え、グリッドは光を吸収する材料で形成された多数の線状部から成り、各線状部は、入射する光のうち特定の方向に偏光軸が向いた偏光光をそれとは異なる方向に偏光軸が向いた偏光光に比べて多く吸収することで偏光作用を為す吸収型のグリッド偏光素子であって、
各線状部は、第一の波長が吸収のピークである第一の材料で形成された第一の層と、第一の波長とは異なる第二の波長が吸収のピークである第二の材料で形成された第二の層とを備えており、
透明基板は石英ガラス製であり、
第二の層は透明基板の上に形成された層であって第二の材料はアモルファス状のシリコンであり、
第一の層は第二の層の上に形成された層であって第一の材料はアモルファス状の酸化チタンであり、
第一の層と第二の層との全体の厚さに対する第二の層の厚さの割合は50%以上100%未満であることを特徴とするグリッド偏光素子。 - 前記第一の層と前記第二の層との全体の厚さに対する前記第二の層の厚さの割合は50%以上100%未満であることを特徴とする請求項1記載のグリッド偏光素子。
- 前記第一の層と前記第二の層との全体の厚さに対する前記第二の層の厚さの割合は50%以上90%以下であることを特徴とする請求項2又は3記載のグリッド偏光素子。
- 光源と、請求項1、2、3又は4に記載のグリッド偏光素子とを備えており、グリッド偏光素子は、光配向用の膜材が配置される照射領域と光源との間に配置されていることを特徴とする光配向装置。
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