JPWO2015170584A1 - 静電気放電保護デバイス - Google Patents
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Abstract
製造プロセスにおけるガス発生に起因するクラックの発生および放電電極の剥離が抑制され、良好な放電特性を有するESD保護デバイスを提供する。セラミック基材と、セラミック基材の外表面に設けられた第1および第2の外部電極と、セラミック基材の内部に設けられた空洞部と、第1の端部が第1の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内に配置された第1の放電電極と、第1の端部が第2の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内において、第1の放電電極と離隔して配置された第2の放電電極と、第1の放電電極の第2の端部と第2の放電電極の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極とを含む静電気放電保護デバイスであって、セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量が3重量%以下である、静電気放電保護デバイス。
Description
本発明は、電子機器を静電気放電による破壊から保護する静電気放電保護デバイスに関する。
従来、静電気放電(ESD:electro-static discharge)による電子機器の破壊を抑制するための静電気放電保護デバイス(ESD保護デバイス)が広く用いられている。
例えば、特許文献1には、セラミック多層基板と、セラミック多層基板に形成され、間隔を設けて互いに対向する、少なくとも一対の放電電極と、セラミック多層基板の表面に形成され、放電電極と接続される外部電極と、を有するESD保護デバイスであって、一対の放電電極間を接続する領域に、金属材料と半導体材料とが分散してなる補助電極を備えたことを特徴とする、ESD保護デバイスが記載されている。特許文献1に記載のESD保護デバイスは、放電電極間を接続する補助電極を備えることにより、ESD特性の調整および安定化が容易である。
また、特許文献2には、ガラス成分を有するセラミック基材と、セラミック基材の内部に、先端部が互いに間隔をおいて対向するように形成された一方側対向電極と他方側対向電極とを備えてなる対向電極と、対向電極を構成する一方側対向電極と他方側対向電極のそれぞれと接続し、一方側対向電極から他方側対向電極にわたるように配設された放電補助電極とを具備し、放電補助電極と、セラミック基材との間に、セラミック基材から放電補助電極にガラス成分が浸入することを防止するためのシール層を備えていることを特徴とするESD保護デバイスが記載されている。
特許文献1および2には、セラミック基材中に設けられた空洞部内において一対の放電電極が対向して配置されるESD保護デバイスが記載されている。このような構成を有するESD保護デバイスに一定の値以上の電圧が印加されると、放電電極の対向する部分において気中放電および沿面放電が生じる。従って、ESD保護デバイスの放電特性は、放電電極間の離間距離および空洞部の体積によって決まる。そのため、所定のESD保護性能を安定して発現させるためには、放電電極間の距離および空洞部の体積を安定して形成することが有効である。
一対の放電電極の対向する部分に放電補助電極を設けることにより、放電電極間の電子の移動を促進させて効率よく放電現象を生じさせ、ESD応答性を向上させることができる。放電補助電極としては、金属材料および/または半導体材料を含むものが知られている(特許文献1)。しかし、放電補助電極が半導体材料として炭化ケイ素(SiC)を含む場合、ESD保護デバイスの製造プロセスにおいて、ガス発生による空洞部体積の膨張が起こり、空洞部が変形してしまうという問題が生じることがある。このような空洞部の変形により、ESD保護デバイスにおけるクラックの発生および放電電極の剥離が発生するおそれがある。放電電極の剥離は、放電電極間距離の増大をもたらし、その結果、ESD保護デバイスの放電特性が低下し得る。更には、放電特性を示さなくこともある。
本発明の目的は、製造プロセスにおけるガス発生に起因するクラックの発生および放電電極の剥離が抑制され、良好な放電特性を有する静電気放電保護デバイスを提供することにある。
本発明者らは、研究を重ねた結果、上述のガス発生がセラミック基材に含まれるアルカリ金属とSiCとの反応に起因するものであることを発見した。更に、本発明者らは、セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量を低くすることによりガス発生およびそれに起因するクラックの発生および放電電極の剥離を抑制することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明の第1の要旨によれば、セラミック基材と、
セラミック基材の外表面に設けられた第1および第2の外部電極と、
セラミック基材の内部に設けられた空洞部と、
第1の端部が第1の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内に配置された第1の放電電極と、
第1の端部が第2の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内において、第1の放電電極と離隔して配置された第2の放電電極と、
第1の放電電極の第2の端部と第2の放電電極の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極と
を含む静電気放電保護デバイスであって、
セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量が3重量%以下である、静電気放電保護デバイスが提供される。
セラミック基材の外表面に設けられた第1および第2の外部電極と、
セラミック基材の内部に設けられた空洞部と、
第1の端部が第1の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内に配置された第1の放電電極と、
第1の端部が第2の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内において、第1の放電電極と離隔して配置された第2の放電電極と、
第1の放電電極の第2の端部と第2の放電電極の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極と
を含む静電気放電保護デバイスであって、
セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量が3重量%以下である、静電気放電保護デバイスが提供される。
本発明の第2の要旨によれば、セラミック基材と、
セラミック基材の外表面に設けられた第1および第2の外部電極と、
セラミック基材の内部に設けられた空洞部と、
第1の端部が第1の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内に配置された第1の放電電極と、
第1の端部が第2の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内において、第1の放電電極と離隔して配置された第2の放電電極と、
第1の放電電極の第2の端部と第2の放電電極の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極と
を含む静電気放電保護デバイスであって、
シール層が、放電補助電極とセラミック基材との間の領域の少なくとも一部に設けられ、
セラミック基材中のアルカリ金属元素の含有量が5重量%以下である、静電気放電保護デバイスが提供される。
セラミック基材の外表面に設けられた第1および第2の外部電極と、
セラミック基材の内部に設けられた空洞部と、
第1の端部が第1の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内に配置された第1の放電電極と、
第1の端部が第2の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が空洞部内において、第1の放電電極と離隔して配置された第2の放電電極と、
第1の放電電極の第2の端部と第2の放電電極の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極と
を含む静電気放電保護デバイスであって、
シール層が、放電補助電極とセラミック基材との間の領域の少なくとも一部に設けられ、
セラミック基材中のアルカリ金属元素の含有量が5重量%以下である、静電気放電保護デバイスが提供される。
本発明は、上記構成を有することにより、製造プロセスにおけるガス発生に起因するクラックの発生および放電電極の剥離が抑制され、良好な放電特性を有する静電気放電保護デバイスを得ることができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。但し、以下に示す実施形態は例示を目的とするものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
[第1の実施形態]
図1に、本発明の第1の実施形態に係る静電気放電保護デバイス(ESD保護デバイス)の概略断面図を示す。図1に示すESD保護デバイス1は、セラミック基材10と、セラミック基材10の外表面に設けられた第1の外部電極21および第2の外部電極22(まとめて外部電極20ともよぶ)と、セラミック基材10の内部に設けられた空洞部30と、第1の端部が第1の外部電極21と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内に配置された第1の放電電極41と、第1の端部が第2の外部電極22と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内において、第1の放電電極41と離隔して配置された第2の放電電極42(第1および第2の放電電極をまとめて放電電極40ともよぶ)と、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極50とを含む。
図1に、本発明の第1の実施形態に係る静電気放電保護デバイス(ESD保護デバイス)の概略断面図を示す。図1に示すESD保護デバイス1は、セラミック基材10と、セラミック基材10の外表面に設けられた第1の外部電極21および第2の外部電極22(まとめて外部電極20ともよぶ)と、セラミック基材10の内部に設けられた空洞部30と、第1の端部が第1の外部電極21と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内に配置された第1の放電電極41と、第1の端部が第2の外部電極22と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内において、第1の放電電極41と離隔して配置された第2の放電電極42(第1および第2の放電電極をまとめて放電電極40ともよぶ)と、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極50とを含む。
(セラミック基材)
セラミック基材10としては、常套的なセラミック材料を適宜用いてよい。具体的には、セラミック基材10として、例えば、Ba、Al、Siを主成分として含む低温同時焼成セラミックス(LTCC:Low Temperature Cofirable Ceramics)を用いることができる。
セラミック基材10としては、常套的なセラミック材料を適宜用いてよい。具体的には、セラミック基材10として、例えば、Ba、Al、Siを主成分として含む低温同時焼成セラミックス(LTCC:Low Temperature Cofirable Ceramics)を用いることができる。
本実施形態において、セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量は、3重量%以下である。セラミック基材において、アルカリ金属元素は通常、セラミック材料の軟化点を下げるために添加される。アルカリ金属元素としては、例えば、Li、Na、K等が挙げられる。
セラミック基材10中に含まれるアルカリ金属元素は、製造プロセスにおける焼成時に揮発および拡散することがあり、放電補助電極50内に侵入するおそれがある。一方、放電補助電極50に含まれるSiCは、粒子表面に酸化被膜としてSiO2が存在するので反応性が低く、安定な化合物である。アルカリ金属元素はこのSiO2の結合構造の隙間を広げて破壊し、酸素の内方拡散を促進する働きを示すおそれがある。このため、セラミック基材10中に大量のアルカリ金属元素が存在する場合、焼成時にセラミック基材10中のアルカリ金属元素が放電補助電極50中に侵入することにより、SiO2の酸化被膜が少なくとも部分的に破壊され得、その結果、SiCの分解反応が起こり、CO2ガスが発生してしまうおそれがある。CO2ガスが大量に発生すると、空洞部30の膨張および変形が起こり得、クラックが発生し得る。また、クラックの発生に至らない場合であっても、空洞部30の変形が起こると、放電電極41および42が放電補助電極50から剥離して放電電極間の距離(図4において43で示す)が増大してしまうことがあり得る。また、剥離の発生に至らない場合であっても、放電電極41および42と放電補助電極50との間の固着力が弱くなることも考えられる。ESD保護デバイスの放電特性は、放電電極間距離の増大および空洞部の体積膨張により低下し得、また、放電電極41および42と放電補助電極50との固着力が弱くなることにより繰り返し耐性が低下し得る。更には、ESD保護デバイスとしての特性を示さなくなることもあり得ると考えられる。
セラミック基材10中のアルカリ金属元素含有量を3重量%以下とすることにより、上述のCO2ガス発生が抑制され、クラックの発生および放電電極の剥離を防止することができる。その結果、放電特性の良好なESD保護デバイスを得ることができる。セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量は、好ましくは0.1〜1重量%である。アルカリ金属元素含有量を1重量%以下とすることにより、ガス発生をより一層抑制することができ、放電特性のより良好なESD保護デバイスを得ることができる。アルカリ金属元素含有量が0.1重量%以上であれば、アルカリ金属元素の添加による効果(軟化点の低下等)を十分発揮することができる。
セラミック基材10中のアルカリ金属元素の含有量は、常套的な方法で適宜測定することができる。具体的には、例えば、原子吸光分析法(AAS)や、誘導結合プラズマ(ICP)発光分光分析法等によって測定することができる。アルカリ金属元素の定量においては、ICP発光分光分析法を用いることが好ましい。本明細書において、セラミック基材10中のアルカリ金属元素の含有量は、セラミック基材10のバルク部分において定量された値を意味する。
(外部電極)
第1の外部電極21および第2の外部電極22は、セラミック基材10の外表面に設けられる。第1の外部電極21および第2の外部電極22において使用可能な金属材料としては、例えば、Cu、Ag、Pd、Ni等の合金や、これらを組み合わせたものが挙げられる。金属材料は粒子状であってよく、例えば球状、扁平状等またはこれらの組み合わせであってよい。第1の外部電極21および第2の外部電極22には、金属材料に加えてガラス材料が添加されていてよい。ガラス材料としては、1種類を単独で用いてよく、軟化点が異なるガラス材料を組み合わせて用いてもよい。第1の外部電極21および第2の外部電極22は、例えば、図2に示すようにセラミック基材10の両端面を覆い且つセラミック基材10の側面の少なくとも一部に延在するように配置されてよく、あるいは、図3に示すようにセラミック基材10の両端面に埋め込むように配置されてよいが、本発明はこれらの構成に限定されるものではない。
第1の外部電極21および第2の外部電極22は、セラミック基材10の外表面に設けられる。第1の外部電極21および第2の外部電極22において使用可能な金属材料としては、例えば、Cu、Ag、Pd、Ni等の合金や、これらを組み合わせたものが挙げられる。金属材料は粒子状であってよく、例えば球状、扁平状等またはこれらの組み合わせであってよい。第1の外部電極21および第2の外部電極22には、金属材料に加えてガラス材料が添加されていてよい。ガラス材料としては、1種類を単独で用いてよく、軟化点が異なるガラス材料を組み合わせて用いてもよい。第1の外部電極21および第2の外部電極22は、例えば、図2に示すようにセラミック基材10の両端面を覆い且つセラミック基材10の側面の少なくとも一部に延在するように配置されてよく、あるいは、図3に示すようにセラミック基材10の両端面に埋め込むように配置されてよいが、本発明はこれらの構成に限定されるものではない。
(空洞部)
セラミック基材10の内部に空洞部30が設けられる。空洞部30の寸法および形状は、第1の放電電極41の端部と第2の放電電極42の端部とが対向している部分が空洞部30内に配置されるようなものであれは特に限定されるものではない。例えば、図1に示すように上側が曲面になっている形状の他、矩形、円柱形等の形状を適宜選択することができる。
セラミック基材10の内部に空洞部30が設けられる。空洞部30の寸法および形状は、第1の放電電極41の端部と第2の放電電極42の端部とが対向している部分が空洞部30内に配置されるようなものであれは特に限定されるものではない。例えば、図1に示すように上側が曲面になっている形状の他、矩形、円柱形等の形状を適宜選択することができる。
(放電電極)
ESD保護デバイス1は、第1の放電電極41および第2の放電電極42を備える。第1の放電電極41の第1の端部は、第1の外部電極21と電気的に接続され、第1の放電電極41の第2の端部は、空洞部30内に配置される。第2の放電電極42の第1の端部は、第2の外部電極22と電気的に接続され、第2の放電電極42の第2の端部は、空洞部30内に配置される。第1の放電電極41の第2の端部と、第2の放電電極42の第2の端部とは、空洞部30内において離隔して配置され、その離隔部分において放電が発生する。
ESD保護デバイス1は、第1の放電電極41および第2の放電電極42を備える。第1の放電電極41の第1の端部は、第1の外部電極21と電気的に接続され、第1の放電電極41の第2の端部は、空洞部30内に配置される。第2の放電電極42の第1の端部は、第2の外部電極22と電気的に接続され、第2の放電電極42の第2の端部は、空洞部30内に配置される。第1の放電電極41の第2の端部と、第2の放電電極42の第2の端部とは、空洞部30内において離隔して配置され、その離隔部分において放電が発生する。
図4は、本発明に係るESD保護デバイスにおける放電電極の配置の一例を示す概略平面図である。第1の放電電極41および第2の放電電極42は、図4に示すように、第1の放電電極41の第2の端部と、第2の放電電極42の第2の端部とが対向して配置されるように配置されてよい。図4に示す配置において、放電電極間距離43は、第1の放電電極41および第2の放電電極42の端部間の距離を指す。なお、本明細書において、「放電電極間距離」は、放電電極と放電補助電極とが接する面における、第1の放電電極と第2の放電電極との最短距離を意味する。
別法として、第1の放電電極41および第2の放電電極42は、端部において対向していなくてもよく、図5に示すように平面視において互いに平行に配置されてもよい。図5に示す配置において、第1の放電電極41および第2の放電電極42は、第1の放電電極の第1の端部と第2の端部との間の側部と、第2の放電電極の第1の端部と第2の端部との間の側部とが、平面視において部分的に対向して配置されるように配置される。この構成において、放電電極間距離43は、第1の放電電極41および第2の放電電極42の側部間の距離を指す。
なお、図4および5に示す構成において、空洞部30は、平面視において放電補助電極50よりも大きい寸法を有しているが、本発明はかかる構成に限定されるものではなく、空洞部30が平面視において放電補助電極50よりも小さい寸法を有していてもよい。
もう1つの別法として、第1の放電電極41および第2の放電電極42は、図6に示すように高さ方向において互いに平行に配置されてよい。図6に示す配置において、第1の放電電極41および第2の放電電極42は、第1の放電電極41の第1の端部と第2の端部との間の上部と、第2の放電電極42の第1の端部と第2の端部との間の下部とが、高さ方向に部分的に対向して配置されるように配置される。この構成において、放電電極間距離は、第1の放電電極41の上部と第2の放電電極42の下部との間の距離を指す。放電補助電極50は、図6に示すように、第1の放電電極41と第2の放電電極42とが対向する部分において、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に配置することができる。図6に示す構成は、2つの放電補助電極50を含む。一方の放電補助電極50は、第1の放電電極41の第2の端部と、第2の放電電極42の下部とを接続するように配置されてよく、もう一方の放電補助電極50は、第2の放電電極42の第2の端部と、第1の放電電極41の上部とを接続するように配置されてよい。
放電電極間距離43は、所望の放電特性に応じて適宜設定することができる。具体的には、放電電極間距離43は、例えば5〜50μmに設定することができる。
第1の放電電極41および第2の放電電極42において使用可能な金属材料としては、例えば、Ni、Ag、Pdおよびこれらの合金ならびに上述のいずれかの組み合わせが挙げられる。
(放電補助電極)
放電補助電極50は、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に配置される。なお、放電補助電極50は、少なくとも、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部とが対向している部分において存在すれば十分である。但し、放電補助電極50は、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に加えて、第1の放電電極41および第2の放電電極42とセラミック基材10との間に設けられてもよい。
放電補助電極50は、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に配置される。なお、放電補助電極50は、少なくとも、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部とが対向している部分において存在すれば十分である。但し、放電補助電極50は、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に加えて、第1の放電電極41および第2の放電電極42とセラミック基材10との間に設けられてもよい。
放電補助電極50は、半導体材料である炭化ケイ素(SiC)を含有する。放電補助電極50中にSiCが存在することにより、放電電極間の放電として、沿面放電および気中放電に加えて放電補助電極50を経由した放電も発生させることができる。通常、沿面放電、気中放電および放電補助電極50を経由した放電の中では、放電補助電極50を経由した放電の開始電圧が最も低い。従って、放電補助電極50を設けることにより、放電開始電圧を低下させることができる。その結果、ESD保護デバイス1の絶縁破壊を抑制することができ、また、ESD保護デバイス1の応答性を向上させることができる。
SiCの平均粒径は、0.1〜5μmであることが好ましい。SiCの平均粒径が0.1μm以上であると、良好なESD放電特性を得ることができる。SiCの平均粒径が5μm以下であると、良好な絶縁耐性を得ることができる。また、放電補助電極50におけるSiCの含有量は、15〜70重量%であることが好ましい。SiCの含有量が15重量%以上であると、絶縁耐性をより一層向上させることができる。SiCの含有量が70重量%以下であると、ESD放電特性をより一層向上させることができる。
放電補助電極50は、SiCに加えて、金属材料等の導体材料、SiC以外の半導体材料、セラミック材料およびこれらのいずれかの組み合わせを更に含んでよい。放電補助電極50において、SiC粒子を含む各材料は、それぞれ分散して存在し、全体として絶縁性を有していればよい。一例として、図7に、セラミック基材10と同じ種類のセラミック材料とSiCとを含む放電補助電極50の模式図を示す。図7において、放電補助電極50中のSiC粒子51は、セラミック材料(図示せず)中に粒状に分散して存在する。
導体材料としては、Cu、Ag、Pd、Pt、Al、Ni、W、Mo、これらの合金およびこれらのいずれかの組み合わせ等を用いることができるが、これに限定されない。導体材料粒子の直径は、例えば0.1μm〜3μm程度とすることができる。別法として、導体材料粒子の表面を無機材料でコーティングしたものを用いてもよい。コーティングに用いられる無機材料としては、例えば、Al2O3等の無機酸化物や、セラミック材料(セラミック基材の構成要素を含むもの等)を用いることができる。
SiC以外の半導体材料としては、例えば、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化モリブデンもしくは炭化タングステン等の炭化物、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化クロム、窒化バナジウムもしくは窒化タンタル等の窒化物、ケイ化チタン、ケイ化ジルコニウム、ケイ化タングステン、ケイ化モリブデン、ケイ化クロム等のケイ化物、ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化クロム、ホウ化ランタン、ホウ化モリブデン、ホウ化タングステン等のホウ化物、酸化亜鉛、チタン酸ストロンチウム等の酸化物等を用いることができるが、これに限定されるものではない。
セラミック材料としては、セラミック基材10の成分の一部または全てと同じものを含むものを用いることができる。このような構成とすることにより、放電補助電極50の収縮挙動等をセラミック基材10の収縮挙動等に合わせることが容易になり、放電補助電極50のセラミック基材10への密着性が向上し、焼成時における放電補助電極50の剥離が発生しにくくなる。また、ESD繰り返し耐性も向上する。更に、使用する材料の種類を少なくすることができ、それにより製造コストを低減することができる。但し、セラミック材料は上述のものに限定されず、種々のセラミック材料を適宜用いることができる。
放電補助電極50は、酸化アルミニウム等の絶縁性粒子を更に含んでいてもよい。
[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態に係るESD保護デバイスについて、図8を参照して以下に説明する。図8は、本発明の第2の実施形態に係るESD保護デバイスの構成を示す概略断面図である。図8に示すESD保護デバイス1は、セラミック基材10と、セラミック基材10の外表面に設けられた第1の外部電極21および第2の外部電極22と、セラミック基材10の内部に設けられた空洞部30と、第1の端部が第1の外部電極21と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内に配置された第1の放電電極41と、第1の端部が第2の外部電極22と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内において、第1の放電電極41と離隔して配置された第2の放電電極42と、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極50とを含み、シール層60が、放電補助電極50とセラミック基材10との間の領域の少なくとも一部に設けられている。以下、第2の実施形態について第1の実施形態と異なる点を中心に説明し、特に説明のない限り第1の実施形態と同様の説明が当て嵌まるものとする。
次に、本発明の第2の実施形態に係るESD保護デバイスについて、図8を参照して以下に説明する。図8は、本発明の第2の実施形態に係るESD保護デバイスの構成を示す概略断面図である。図8に示すESD保護デバイス1は、セラミック基材10と、セラミック基材10の外表面に設けられた第1の外部電極21および第2の外部電極22と、セラミック基材10の内部に設けられた空洞部30と、第1の端部が第1の外部電極21と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内に配置された第1の放電電極41と、第1の端部が第2の外部電極22と電気的に接続され、第2の端部が空洞部30内において、第1の放電電極41と離隔して配置された第2の放電電極42と、第1の放電電極41の第2の端部と第2の放電電極42の第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極50とを含み、シール層60が、放電補助電極50とセラミック基材10との間の領域の少なくとも一部に設けられている。以下、第2の実施形態について第1の実施形態と異なる点を中心に説明し、特に説明のない限り第1の実施形態と同様の説明が当て嵌まるものとする。
(シール層)
本実施例において、シール層60が、放電補助電極50とセラミック基材10との間の領域に設けられている。シール層60は、セラミック基材10中のアルカリ金属元素が放電補助電極50中に侵入することを防止するためのものである。シール層60としては、セラミック基材10との反応性が低いものであれば、特に限定されることなく適宜使用することができる。具体的には、例えば、シール層60は、Al2O3を主成分とするものであってよい。シール層60の厚さは、3〜20μmであることが好ましい。シール層60の厚さが3μm以上であると、セラミック基材10中のアルカリ金属元素の放電補助電極50中への侵入を効果的に防止することができる。シール層60の厚さが20μm以下であると、シール層60とセラミック基材10との収縮挙動差に起因する変形やクラックの発生を効果的に抑制することができる。
本実施例において、シール層60が、放電補助電極50とセラミック基材10との間の領域に設けられている。シール層60は、セラミック基材10中のアルカリ金属元素が放電補助電極50中に侵入することを防止するためのものである。シール層60としては、セラミック基材10との反応性が低いものであれば、特に限定されることなく適宜使用することができる。具体的には、例えば、シール層60は、Al2O3を主成分とするものであってよい。シール層60の厚さは、3〜20μmであることが好ましい。シール層60の厚さが3μm以上であると、セラミック基材10中のアルカリ金属元素の放電補助電極50中への侵入を効果的に防止することができる。シール層60の厚さが20μm以下であると、シール層60とセラミック基材10との収縮挙動差に起因する変形やクラックの発生を効果的に抑制することができる。
本実施例において、セラミック基材10中のアルカリ金属元素の含有量は、5重量%以下である。シール層60が放電補助電極50とセラミック基材10との間の領域の少なくとも一部に設けられていることにより、放電補助電極50中へのアルカリ金属元素の拡散量が低減するので、セラミック基材10中のアルカリ金属元素の含有量が3重量%を超える場合であっても、含有量が5重量パーセント以下であれば、クラックの発生および放電電極40の剥離を防止することができ、良好な放電特性を有するESD保護デバイスを得ることができる。
セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量は、好ましくは0.1〜3重量%である。アルカリ金属元素含有量を3重量%以下とすることにより、ガス発生をより一層抑制することができ、放電特性のより良好なESD保護デバイスを得ることができる。アルカリ金属元素含有量が0.1重量%以上であれば、アルカリ金属元素の添加による効果(軟化点の低下等)を十分発揮することができる。
シール層60は、図9に示すように、空洞部30の内表面全体を実質的に覆っていることが好ましい。シール層60が、放電補助電極50とセラミック基材10との間の領域に設けられているのみならず、空洞部30の内表面全体を実質的に覆っていることにより、焼成時に発生し得る、セラミック基材10内のアルカリ金属元素由来の揮発成分が空洞部30内を経由して放電補助電極50内に侵入することを効果的に防止することができる。その結果、クラックの発生および放電電極40の剥離をより一層効果的に防止することができ、より良好な放電特性を有するESD保護デバイスを得ることができる。
[ESD保護デバイスの製造方法]
以下に、ESD保護デバイスの製造方法の一例について説明するが、本発明は、以下に示す方法に限定されるものではない。
以下に、ESD保護デバイスの製造方法の一例について説明するが、本発明は、以下に示す方法に限定されるものではない。
(1) セラミックグリーンシートの調製
セラミック基材を形成するためのセラミックグリーンシートを調製する。
セラミック基材を構成するセラミック材料の各原料を、アルカリ金属元素の含有量が3重量%以下(シール層を形成する場合には5重量%以下)となるように調合および混合し、800〜1000℃で仮焼する。得られる仮焼粉末をジルコニアボールミルで12時間粉砕し、セラミック粉末を得る。なお、セラミック材料中のアルカリ金属含有量は、完成品のESD保護デバイスにおけるセラミック基材中のアルカリ金属元素含有量と実質的に同じであると見なして差支えない。このセラミック粉末に、トルエン、エキネン等の有機溶媒を加えて混合する。この混合物にバインダー、可塑剤等を加えて更に混合してスラリーを得る。このスラリーをドクターブレード法により成形し、所定の厚さのセラミックグリーンシートを得る。
セラミック基材を形成するためのセラミックグリーンシートを調製する。
セラミック基材を構成するセラミック材料の各原料を、アルカリ金属元素の含有量が3重量%以下(シール層を形成する場合には5重量%以下)となるように調合および混合し、800〜1000℃で仮焼する。得られる仮焼粉末をジルコニアボールミルで12時間粉砕し、セラミック粉末を得る。なお、セラミック材料中のアルカリ金属含有量は、完成品のESD保護デバイスにおけるセラミック基材中のアルカリ金属元素含有量と実質的に同じであると見なして差支えない。このセラミック粉末に、トルエン、エキネン等の有機溶媒を加えて混合する。この混合物にバインダー、可塑剤等を加えて更に混合してスラリーを得る。このスラリーをドクターブレード法により成形し、所定の厚さのセラミックグリーンシートを得る。
(2−1) 放電補助電極ペーストの調製
放電補助電極を形成するための放電補助電極ペーストを調製する。
所定の平均粒径のSiC粉末と、場合により導体材料、SiC以外の半導体材料および/またはセラミック材料と、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより放電補助電極ペーストを調製する。
放電補助電極を形成するための放電補助電極ペーストを調製する。
所定の平均粒径のSiC粉末と、場合により導体材料、SiC以外の半導体材料および/またはセラミック材料と、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより放電補助電極ペーストを調製する。
(2−2) 放電電極ペーストの調製
放電電極を形成するための放電電極ペーストを調製する。
所定の平均粒径のCu粉末と、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより放電電極用ペーストを調製する。
放電電極を形成するための放電電極ペーストを調製する。
所定の平均粒径のCu粉末と、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより放電電極用ペーストを調製する。
(2−3) 空洞部形成ペーストの調製
空洞部を形成するための空洞部形成ペーストを調製する。空洞部形成ペーストとしては、焼成時に分解して消失する樹脂を用いることができ、例えば、PET、ポリプロピレン、エチルセルロース、アクリル樹脂等を用いることができる。
具体的には、一例として、所定の平均粒径の架橋アクリル樹脂ビーズと、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより空洞部形成ペーストを調製する。
空洞部を形成するための空洞部形成ペーストを調製する。空洞部形成ペーストとしては、焼成時に分解して消失する樹脂を用いることができ、例えば、PET、ポリプロピレン、エチルセルロース、アクリル樹脂等を用いることができる。
具体的には、一例として、所定の平均粒径の架橋アクリル樹脂ビーズと、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより空洞部形成ペーストを調製する。
(2−4) 外部電極ペーストの調製
外部電極を形成するための外部電極ペーストを調製する。
所定の平均粒径のCu粉末と、所定の転移点、軟化点および平均粒径を有するホウケイ酸アルカリ系ガラスフリットと、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより、外部電極用ペーストを調製する。
外部電極を形成するための外部電極ペーストを調製する。
所定の平均粒径のCu粉末と、所定の転移点、軟化点および平均粒径を有するホウケイ酸アルカリ系ガラスフリットと、ターピネオール等の有機溶媒中にエチルセルロース等のバインダーを溶解して得られる有機ビヒクルとを所定の割合で調合し、三本ロール等を用いて混合することにより、外部電極用ペーストを調製する。
(2−5) シール層ペーストの調製
シール層を備えるESD保護デバイスを製造する場合、シール層を形成するためのシール層ペーストを調製する。
所定の平均粒径2umのAl2O3粉末と有機ビヒクルとを混合することによりシール層ペーストを調製する。
シール層を備えるESD保護デバイスを製造する場合、シール層を形成するためのシール層ペーストを調製する。
所定の平均粒径2umのAl2O3粉末と有機ビヒクルとを混合することによりシール層ペーストを調製する。
(3) 各ペーストの塗布
第1のセラミックグリーンシ−ト上に、放電補助電極ペーストを所定のパターンで塗布する。次いで、放電電極ペーストを、一対の放電電極ペーストが放電補助電極ペースト上で所定の放電電極間距離にて対向するように、所定のパターンで塗布する。最後に、空洞部形成ペーストを、放電電極ペーストの対向部分を覆うように、所定のパターンで塗布する。各ペーストの塗布方法としては、スクリーン印刷等の方法を用いることができる。なお、各ペーストの塗布厚さが大きい場合等においては、セラミックグリーンシートに予め設けた凹部に、各ペーストを順次充填するようにして各ペーストの塗布を行ってもよい。
第1のセラミックグリーンシ−ト上に、放電補助電極ペーストを所定のパターンで塗布する。次いで、放電電極ペーストを、一対の放電電極ペーストが放電補助電極ペースト上で所定の放電電極間距離にて対向するように、所定のパターンで塗布する。最後に、空洞部形成ペーストを、放電電極ペーストの対向部分を覆うように、所定のパターンで塗布する。各ペーストの塗布方法としては、スクリーン印刷等の方法を用いることができる。なお、各ペーストの塗布厚さが大きい場合等においては、セラミックグリーンシートに予め設けた凹部に、各ペーストを順次充填するようにして各ペーストの塗布を行ってもよい。
シール層を備えるESD保護デバイスを製造する場合には、下記の手順で各ペーストを塗布する。
第1のセラミックグリーンシ−ト上に、シール層ペーストを所定のパターンで塗布する。このシール層ペーストの上に、放電補助電極ペーストを所定のパターンで塗布する。次いで、放電電極ペーストを、一対の放電電極ペーストが放電補助電極ペースト上で所定の放電電極間距離にて対向するように、所定のパターンで塗布する。次に、空洞部形成ペーストを、放電電極ペーストの対向部分を覆うように、所定のパターンで塗布する。最後に、シール層ペーストを、空洞部形成ペーストを覆うように所定のパターンで塗布する。最後のシール層ペーストは省略してもよい。
第1のセラミックグリーンシ−ト上に、シール層ペーストを所定のパターンで塗布する。このシール層ペーストの上に、放電補助電極ペーストを所定のパターンで塗布する。次いで、放電電極ペーストを、一対の放電電極ペーストが放電補助電極ペースト上で所定の放電電極間距離にて対向するように、所定のパターンで塗布する。次に、空洞部形成ペーストを、放電電極ペーストの対向部分を覆うように、所定のパターンで塗布する。最後に、シール層ペーストを、空洞部形成ペーストを覆うように所定のパターンで塗布する。最後のシール層ペーストは省略してもよい。
(4) 積層および圧着
上述のように放電補助電極ペースト、放電電極ペーストおよび空洞部形成ペーストをこの順番で塗布した第1のセラミックグリーンシートの上に第2のセラミックグリーンシートを積層し、全体の厚さが所定の厚さとなるように圧着して積層体を得る。
上述のように放電補助電極ペースト、放電電極ペーストおよび空洞部形成ペーストをこの順番で塗布した第1のセラミックグリーンシートの上に第2のセラミックグリーンシートを積層し、全体の厚さが所定の厚さとなるように圧着して積層体を得る。
(5) 焼成
得られた積層体をマイクロカッタで所定の寸法にカットしてチップとし、窒素雰囲気の下で900〜1000℃にて90分間焼成する。電極材料がAg等の焼成時に酸化しないものである場合には、大気雰囲気下で焼成してもよい。焼成により、空洞部形成ペーストは分解して揮発し、空洞部が形成される。また、焼成により、セラミックグリーンシートおよび各ペースト中に存在する有機溶媒およびバインダーも分解して揮発する。
得られた積層体をマイクロカッタで所定の寸法にカットしてチップとし、窒素雰囲気の下で900〜1000℃にて90分間焼成する。電極材料がAg等の焼成時に酸化しないものである場合には、大気雰囲気下で焼成してもよい。焼成により、空洞部形成ペーストは分解して揮発し、空洞部が形成される。また、焼成により、セラミックグリーンシートおよび各ペースト中に存在する有機溶媒およびバインダーも分解して揮発する。
(6) 外部電極の形成
焼成したチップの両端に外部電極ペーストを塗布して焼き付けることにより外部電極を形成する。更に、外部電極上に電解Ni−Snめっきを施して、ESD保護デバイスを完成させる。
焼成したチップの両端に外部電極ペーストを塗布して焼き付けることにより外部電極を形成する。更に、外部電極上に電解Ni−Snめっきを施して、ESD保護デバイスを完成させる。
このようにして得られるESD保護デバイスは、クラックの発生および放電電極の剥離が防止され、良好な放電特性を示す。
本発明の第1の実施形態に係るESD保護デバイスに関連して、試料1〜7のESD保護デバイスを下記の手順で作製した。
[試料1]
試料1のESD保護デバイスを、下記の(1)〜(6)の手順で作製した。
試料1のESD保護デバイスを、下記の(1)〜(6)の手順で作製した。
(1) セラミックグリーンシートの調製
セラミック基材を構成する材料として、SiおよびAlを主成分として含有し、アルカリ金属元素を含有しないLTCC(低温焼成セラミック)を含むセラミックグリーンシートを調製した。LTCCの各原料を所定の組成になるよう調合および混合し、800〜1000℃で2時間仮焼した。得られた仮焼粉末をジルコニアボールミルで12時間粉砕し、セラミック粉末を得た。このセラミック粉末45重量部に、有機溶媒としてトルエン35重量部およびエキネン10重量部を加えて混合した。この混合物にバインダー5重量部および可塑剤5重量部を加えて更に混合し、スラリーを得た。このスラリーをドクターブレード法により成形し、厚さ50μmの第1および第2のセラミックグリーンシートを得た。
セラミック基材を構成する材料として、SiおよびAlを主成分として含有し、アルカリ金属元素を含有しないLTCC(低温焼成セラミック)を含むセラミックグリーンシートを調製した。LTCCの各原料を所定の組成になるよう調合および混合し、800〜1000℃で2時間仮焼した。得られた仮焼粉末をジルコニアボールミルで12時間粉砕し、セラミック粉末を得た。このセラミック粉末45重量部に、有機溶媒としてトルエン35重量部およびエキネン10重量部を加えて混合した。この混合物にバインダー5重量部および可塑剤5重量部を加えて更に混合し、スラリーを得た。このスラリーをドクターブレード法により成形し、厚さ50μmの第1および第2のセラミックグリーンシートを得た。
(2−1) 放電補助電極ペーストの調製
平均粒径0.5μmのSiC粉末5重量部と、無機材料にコートされた粒径Cu粉末50重量部と、ターピネオール中にエチルセルロース(登録商標)樹脂を10重量%溶解して得られた有機ビヒクル45重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより放電補助電極ペーストを調製した。
平均粒径0.5μmのSiC粉末5重量部と、無機材料にコートされた粒径Cu粉末50重量部と、ターピネオール中にエチルセルロース(登録商標)樹脂を10重量%溶解して得られた有機ビヒクル45重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより放電補助電極ペーストを調製した。
(2−2) 放電電極ペーストの調製
平均粒径1μmのCu粉末40重量部と、平均粒径3μmのCu粉末40重量部と、ターピネオール中にエチルセルロースを10重量%溶解して得られた有機ビヒクル20重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより放電電極用ペーストを調製した。
平均粒径1μmのCu粉末40重量部と、平均粒径3μmのCu粉末40重量部と、ターピネオール中にエチルセルロースを10重量%溶解して得られた有機ビヒクル20重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより放電電極用ペーストを調製した。
(2−3) 空洞部形成ペーストの調製
平均粒径1μmの架橋アクリル樹脂ビーズ40重量部と、ターピネオール中にエチルセルロース樹脂を10重量%溶解して得られた有機ビヒクル60重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより空洞部形成ペーストを調製した。
平均粒径1μmの架橋アクリル樹脂ビーズ40重量部と、ターピネオール中にエチルセルロース樹脂を10重量%溶解して得られた有機ビヒクル60重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより空洞部形成ペーストを調製した。
(2−4) 外部電極ペーストの調製
平均粒径1μmのCu粉末75重量部と、転移点620℃、軟化点720℃、平均粒径1μmのホウケイ酸アルカリ系ガラスフリット10重量部と、ターピネオール中にエチルセルロースを30重量%溶解して得られた有機ビヒクル15重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより外部電極用ペーストを調製した。
平均粒径1μmのCu粉末75重量部と、転移点620℃、軟化点720℃、平均粒径1μmのホウケイ酸アルカリ系ガラスフリット10重量部と、ターピネオール中にエチルセルロースを30重量%溶解して得られた有機ビヒクル15重量部とを調合し、三本ロールを用いて混合することにより外部電極用ペーストを調製した。
(3) 各ペーストの塗布
第1のセラミックグリーンシ−ト上に、放電補助電極ペーストを、長さ300μm、幅200μm、厚さ10μmの形状に塗布した。次いで、放電電極ペーストを、長さ600μm、幅100μm、厚さ5μmの一対の放電電極ペーストが、放電補助電極ペースト上で長さ方向に対向するような形状に塗布した。対向する一対の放電電極ペースト間の距離は15μmに設定した。最後に、空洞部形成ペーストを、放電電極ペーストの対向部分を覆うように、長さ300μm、幅100μm、厚さ10μmの形状に塗布した。
第1のセラミックグリーンシ−ト上に、放電補助電極ペーストを、長さ300μm、幅200μm、厚さ10μmの形状に塗布した。次いで、放電電極ペーストを、長さ600μm、幅100μm、厚さ5μmの一対の放電電極ペーストが、放電補助電極ペースト上で長さ方向に対向するような形状に塗布した。対向する一対の放電電極ペースト間の距離は15μmに設定した。最後に、空洞部形成ペーストを、放電電極ペーストの対向部分を覆うように、長さ300μm、幅100μm、厚さ10μmの形状に塗布した。
(4) 積層および圧着
上述のように放電補助電極ペースト、放電電極ペーストおよび空洞部形成ペーストをこの順番で塗布した第1のセラミックグリーンシートの上に第2のセラミックグリーンシートを積層し、全体の厚さが0.3mmとなるように圧着して積層体を得た。
上述のように放電補助電極ペースト、放電電極ペーストおよび空洞部形成ペーストをこの順番で塗布した第1のセラミックグリーンシートの上に第2のセラミックグリーンシートを積層し、全体の厚さが0.3mmとなるように圧着して積層体を得た。
(5) 焼成
得られた積層体をマイクロカッタで1.0mm×0.5mmの寸法にカットしてチップとし、窒素雰囲気の下で900〜1000℃にて90分間焼成した。
得られた積層体をマイクロカッタで1.0mm×0.5mmの寸法にカットしてチップとし、窒素雰囲気の下で900〜1000℃にて90分間焼成した。
(6) 外部電極の形成
焼成したチップの両端に外部電極ペーストを塗布して焼き付けることにより外部電極を形成した。更に、外部電極上に電解Ni−Snめっきを施して、ESD保護デバイスを完成させた。
焼成したチップの両端に外部電極ペーストを塗布して焼き付けることにより外部電極を形成した。更に、外部電極上に電解Ni−Snめっきを施して、ESD保護デバイスを完成させた。
[試料2〜7]
アルカリ金属元素として下記の表1に示す量のリチウムを含有するセラミック粉末を用いて第1および第2のセラミックグリーンシートを調製した以外は試料1と同様の手順で試料2〜7のESD保護デバイスを作製した。リチウムを含有するセラミック粉末は、表1に示す量のリチウムを含むLTCCの各原料を調合および混合し、800〜1000℃で仮焼することにより調製した。
アルカリ金属元素として下記の表1に示す量のリチウムを含有するセラミック粉末を用いて第1および第2のセラミックグリーンシートを調製した以外は試料1と同様の手順で試料2〜7のESD保護デバイスを作製した。リチウムを含有するセラミック粉末は、表1に示す量のリチウムを含むLTCCの各原料を調合および混合し、800〜1000℃で仮焼することにより調製した。
(セラミック基材中のアルカリ金属含有量)
得られた試料1〜7のESD保護デバイスにおけるセラミック基材中のリチウム濃度をICP発光分光分析法により測定した。セラミック基材のバルク部分を酸で溶解したものをサンプルとして測定した。その結果、セラミック基材中のリチウム濃度は、セラミック基材の原料であるセラミック粉末中のリチウム濃度と実質的に同じ(即ち、表1に示す値)であることが確認された。
得られた試料1〜7のESD保護デバイスにおけるセラミック基材中のリチウム濃度をICP発光分光分析法により測定した。セラミック基材のバルク部分を酸で溶解したものをサンプルとして測定した。その結果、セラミック基材中のリチウム濃度は、セラミック基材の原料であるセラミック粉末中のリチウム濃度と実質的に同じ(即ち、表1に示す値)であることが確認された。
試料1〜7のESD保護デバイスについて、下記の評価を行った。
(放電電極の剥離およびクラックの発生の有無)
ESD保護デバイスの断面を金属顕微鏡や走査電子顕微鏡(SEM)で観察することにより、放電電極の剥離の有無および空洞部の膨張に起因するクラックの発生の有無を評価した。放電電極の剥離が観察されたものを「不良(×)」、剥離が観察されなかったものを「良(○)」と評価し、クラックの発生が確認されたものを「不良(×)」、クラックの発生が確認されなかったものを「良(○)」と評価した。また、各試料について、放電電極間距離が30μmであることを確認した。
ESD保護デバイスの断面を金属顕微鏡や走査電子顕微鏡(SEM)で観察することにより、放電電極の剥離の有無および空洞部の膨張に起因するクラックの発生の有無を評価した。放電電極の剥離が観察されたものを「不良(×)」、剥離が観察されなかったものを「良(○)」と評価し、クラックの発生が確認されたものを「不良(×)」、クラックの発生が確認されなかったものを「良(○)」と評価した。また、各試料について、放電電極間距離が30μmであることを確認した。
(放電特性試験)
ESD保護デバイスの放電特性は、国際電気標準会議(IEC)の定める規格IEC61000−4−2に基づいて評価した。接触放電8kVの条件で、ピーク電圧値(Vpeak)および波頭値から30ns後の電圧値(Vclamp)を測定した。接触放電の印加回数は、各試料について20回とした。Vpeakについて、700V以上のものを「不良(×)」、500V以上700V未満のものを「可(△)」、500V未満のものを「良(○)」と評価した。また、Vclampについて、「Vclamp<100V」であった回数が10回未満のものを「不良(×)」、10〜19回のものを「可(△)」、20回のものを「良(○)」と評価した。
ESD保護デバイスの放電特性は、国際電気標準会議(IEC)の定める規格IEC61000−4−2に基づいて評価した。接触放電8kVの条件で、ピーク電圧値(Vpeak)および波頭値から30ns後の電圧値(Vclamp)を測定した。接触放電の印加回数は、各試料について20回とした。Vpeakについて、700V以上のものを「不良(×)」、500V以上700V未満のものを「可(△)」、500V未満のものを「良(○)」と評価した。また、Vclampについて、「Vclamp<100V」であった回数が10回未満のものを「不良(×)」、10〜19回のものを「可(△)」、20回のものを「良(○)」と評価した。
以上の結果を下記の表1に示す。なお、総合判定として、1以上の項目が「不良(×)」であった場合を「不良(×)」、全ての項目が「可(△)」であった場合を「可(△)」、「不良(×)」の項目がなく、「良(○)」および「可(△)」の項目がそれぞれ1以上であった場合を「良(○)」、全ての項目が「良(○)」であった場合を「非常に良好(◎)」と評価した。
セラミック基材におけるリチウム含有量(アルカリ金属元素含有量)が0〜3重量%であった試料1〜4のESD保護デバイスにおいて、放電電極は放電補助電極に沿って存在しており、放電電極の剥離は観察されなかった。放電電極間距離は、試料1〜4の何れにおいてもほぼ同じであった。また、試料1〜4のESD保護デバイスにおいては、クラック等の形状不良および構造欠陥は観察されなかった。これは、放電補助電極中の炭化ケイ素の分解反応に起因するガス発生が抑制され、その結果、空洞部の膨張が軽微であったことによると考えられる。これに対し、リチウム含有量が5重量%以上であった試料5〜7のESD保護デバイスにおいては、放電電極の剥離およびクラックの発生が観察された。これは、放電補助電極中の炭化ケイ素の分解反応に起因するガス発生により、空洞部が過度に膨張したことによると考えられる。
一方、放電特性に着目すると、セラミック基材におけるリチウム含有量が0〜1重量%であった試料1〜3のESD保護デバイスは、VpeakおよびVclampの両方において「良(○)」と判定され、リチウム含有量が3重量%であった試料4のESD保護デバイスは「可(△)」と判定された。この結果より、セラミック基材におけるリチウム含有量(アルカリ金属元素含有量)が3重量%以下であると、ESD保護デバイスの放電特性が向上し、1重量%以下であると放電特性がより一層向上したことがわかる。
各特性を踏まえて総合的に判断すると、第1の実施形態に係るESD保護デバイスにおいて、セラミック基材中のリチウム含有量(アルカリ金属元素含有量)は、好ましくは3重量%以下、より好ましくは1重量%以下であることがわかった。
本発明の第2の実施形態に係るESD保護デバイスに関連して、試料8〜14のESD保護デバイスを下記の手順で作製した。
[試料8]
試料1と同様の手順で、第1および第2のセラミックグリーンシート、放電補助電極ペースト、放電電極ペースト、空洞部形成ペーストおよび外部電極ペーストを調製した。
試料1と同様の手順で、第1および第2のセラミックグリーンシート、放電補助電極ペースト、放電電極ペースト、空洞部形成ペーストおよび外部電極ペーストを調製した。
平均粒径2μmのAl2O3粉末と有機ビヒクルとを混合することによりシール層ペーストを調製した。
第1のセラミックグリーンシ−ト上に、シール層ペーストを、長さ400μm、幅300μm、厚さ10μmの形状に塗布した。このシール層ペーストの上に、放電補助電極ペーストを、長さ300μm、幅200μm、厚さ10μmの形状に塗布した。次いで、放電電極ペーストを、長さ600μm、幅100μm、厚さ5μmの一対の放電電極ペーストが、放電補助電極ペースト上で長さ方向に対向するような形状に塗布した。対向する一対の放電電極ペースト間の距離は15μmに設定した。次に、空洞部形成ペーストを、放電電極ペーストの対向部分を覆うように、長さ300μm、幅100μm、厚さ30μmの形状に塗布した。最後に、シール層ペーストを、空洞部形成ペーストを覆うように、長さ300μm、幅100μm、厚さ10μmの形状に塗布した。
このようにシール層ペースト、放電補助電極ペースト、放電電極ペースト、空洞部形成ペーストおよびシール層ペーストをこの順番で塗布した第1のセラミックグリーンシートの上に第2のセラミックグリーンシートを積層し、全体の厚さが0.3mmとなるように圧着して積層体を得た。
このようにして得られた積層体を、試料1と同様の手順でカットし、焼成し、外部電極を形成することにより、試料8のESD保護デバイスを完成させた。
[試料9〜14]
アルカリ金属元素として下記の表2に示す量のリチウムを含有するセラミック粉末を用いて第1および第2のセラミックグリーンシートを調製した以外は試料8と同様の手順で試料9〜14のESD保護デバイスを作製した。リチウムを含有するセラミック粉末は、表2に示す量のリチウムを含むLTCCの各原料を調合および混合し、800〜1000℃で仮焼することにより調製した。
アルカリ金属元素として下記の表2に示す量のリチウムを含有するセラミック粉末を用いて第1および第2のセラミックグリーンシートを調製した以外は試料8と同様の手順で試料9〜14のESD保護デバイスを作製した。リチウムを含有するセラミック粉末は、表2に示す量のリチウムを含むLTCCの各原料を調合および混合し、800〜1000℃で仮焼することにより調製した。
(セラミック基材中のアルカリ金属含有量)
得られた試料8〜14のESD保護デバイスにおけるセラミック基材中のリチウム濃度をICP発光分光分析法により測定した。セラミック基材のバルク部分を酸で溶解したものをサンプルとして測定した。その結果、セラミック基材中のリチウム濃度は、セラミック基材の原料であるセラミック粉末中のリチウム濃度と実質的に同じ(即ち、表2に示す値)であることが確認された。
得られた試料8〜14のESD保護デバイスにおけるセラミック基材中のリチウム濃度をICP発光分光分析法により測定した。セラミック基材のバルク部分を酸で溶解したものをサンプルとして測定した。その結果、セラミック基材中のリチウム濃度は、セラミック基材の原料であるセラミック粉末中のリチウム濃度と実質的に同じ(即ち、表2に示す値)であることが確認された。
試料8〜14のESD保護デバイスについて、実施例1と同様の手順で、放電電極の剥離およびクラックの発生の有無ならびに放電特性について評価を行った。結果を表2に示す。なお、表2における「◎」、「○」、「△」および「×」の判定は、上述の表1における判定と同様のものである。
セラミック基材におけるリチウム含有量(アルカリ金属元素含有量)が0〜5重量%であった試料8〜12のESD保護デバイスにおいて、放電電極は放電補助電極に沿って存在しており、放電電極の剥離は観察されなかった。放電電極間距離は、試料8〜12の何れにおいてもほぼ同じであった。また、試料8〜12のESD保護デバイスにおいては、クラック等の形状不良および構造欠陥は観察されなかった。これは、放電補助電極中の炭化ケイ素の分解反応に起因するガス発生が抑制され、その結果、空洞部の膨張が軽微であったことによると考えられる。これに対し、リチウム含有量が7重量%以上であった試料13および14のESD保護デバイスにおいては、放電電極の剥離およびクラックの発生が観察された。これは、放電補助電極中の炭化ケイ素の分解反応に起因するガス発生により、空洞部が過度に膨張したことによると考えられる。
実施例1と実施例2とを比較すると、シール層を設けなかった場合(実施例1)、リチウム含有量が5重量%の試料5において放電電極の剥離およびクラックの発生が観察されたのに対し、シール層を設けた場合(実施例2)、リチウム含有量が5重量%の試料12において放電電極の剥離およびクラックの発生は観察されなかった。このことより、シール層を設けることにより、セラミック基材中のアルカリ金属元素が放電補助電極中に侵入することが抑制され、セラミック基材中のアルカリ金属元素の含有量が5重量%と比較的高い場合であっても、放電補助電極中の炭化ケイ素の分解反応に起因するガス発生およびそれによる空洞部の膨張が抑制されたことがわかる。
一方、放電特性に着目すると、セラミック基材におけるリチウム含有量が0〜3重量%であった試料8〜11のESD保護デバイスは、VpeakおよびVclampの両方において「良(○)」と判定され、リチウム含有量が5重量%であった試料12のESD保護デバイスは「可(△)」と判定された。この結果より、セラミック基材におけるリチウム含有量(アルカリ金属元素含有量)が5重量%以下であると、ESD保護デバイスの放電特性が向上し、3重量%以下であると放電特性がより一層向上したことがわかる。また、実施例1と実施例2とを比較すると、シール層を設けることにより、セラミック基材中のアルカリ金属元素の含有量が5重量%と比較的高い場合であっても、十分な放電特性を達成することができたことがわかる。
各特性を踏まえて総合的に判断すると、第2の実施形態に係るESD保護デバイスにおいて、セラミック基材中のリチウム含有量(アルカリ金属元素含有量)は、好ましくは5重量%以下、より好ましくは3重量%以下であることがわかった。
本発明に係るESD保護デバイスは良好な放電特性を安定して示すことができ、ESDに起因する電子機器の損傷および誤作動等を効果的に防止することができる。
1 ESD保護デバイス
10 セラミック基材
20 外部電極
21 第1の外部電極
22 第2の外部電極
30 空洞部
40 放電電極
41 第1の放電電極
42 第2の放電電極
43 放電電極間距離
50 放電補助電極
51 炭化ケイ素粒子
60 シール層
10 セラミック基材
20 外部電極
21 第1の外部電極
22 第2の外部電極
30 空洞部
40 放電電極
41 第1の放電電極
42 第2の放電電極
43 放電電極間距離
50 放電補助電極
51 炭化ケイ素粒子
60 シール層
Claims (7)
- セラミック基材と、
前記セラミック基材の外表面に設けられた第1および第2の外部電極と、
前記セラミック基材の内部に設けられた空洞部と、
第1の端部が前記第1の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が前記空洞部内に配置された第1の放電電極と、
第1の端部が前記第2の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が前記空洞部内において、前記第1の放電電極と離隔して配置された第2の放電電極と、
前記第1の放電電極の前記第2の端部と前記第2の放電電極の前記第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極と
を含む静電気放電保護デバイスであって、
前記セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量が3重量%以下である、静電気放電保護デバイス。 - 前記セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量が0.1〜1重量%である、請求項1に記載の静電気放電保護デバイス。
- セラミック基材と、
前記セラミック基材の外表面に設けられた第1および第2の外部電極と、
前記セラミック基材の内部に設けられた空洞部と、
第1の端部が前記第1の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が前記空洞部内に配置された第1の放電電極と、
第1の端部が前記第2の外部電極と電気的に接続され、第2の端部が前記空洞部内において、前記第1の放電電極と離隔して配置された第2の放電電極と、
前記第1の放電電極の前記第2の端部と前記第2の放電電極の前記第2の端部との間に配置された、炭化ケイ素を含有する放電補助電極と
を含む静電気放電保護デバイスであって、
シール層が、前記放電補助電極と前記セラミック基材との間の領域の少なくとも一部に設けられ、
前記セラミック基材中のアルカリ金属元素の含有量が5重量%以下である、静電気放電保護デバイス。 - 前記セラミック基材中のアルカリ金属元素含有量が0.1〜3重量%である、請求項3に記載の静電気放電保護デバイス。
- 前記シール層が、前記空洞部の内表面全体を実質的に覆っている、請求項3または4に記載の静電気放電保護デバイス。
- 前記空洞部において、前記第1の放電電極の前記第2の端部と、前記第2の放電電極の前記第2の端部とが対向して配置される、請求項1〜5のいずれか1項に記載の静電気放電保護デバイス。
- 前記第1の放電電極の前記第1の端部と前記第2の端部との間の側部と、前記第2の放電電極の前記第1の端部と前記第2の端部との間の側部とが、部分的に対向して配置される、請求項1〜5のいずれか1項に記載の静電気放電保護デバイス。
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