JPWO2015122088A1 - フィードバック制御装置 - Google Patents

フィードバック制御装置 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2015122088A1
JPWO2015122088A1 JP2015562702A JP2015562702A JPWO2015122088A1 JP WO2015122088 A1 JPWO2015122088 A1 JP WO2015122088A1 JP 2015562702 A JP2015562702 A JP 2015562702A JP 2015562702 A JP2015562702 A JP 2015562702A JP WO2015122088 A1 JPWO2015122088 A1 JP WO2015122088A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
control
value
pressure
circuit
control component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015562702A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6241483B2 (ja
Inventor
洋臣 後藤
洋臣 後藤
統宏 井上
統宏 井上
森 隆弘
隆弘 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Publication of JPWO2015122088A1 publication Critical patent/JPWO2015122088A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6241483B2 publication Critical patent/JP6241483B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/28Control of physical parameters of the fluid carrier
    • G01N30/32Control of physical parameters of the fluid carrier of pressure or speed
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B11/00Automatic controllers
    • G05B11/01Automatic controllers electric
    • G05B11/36Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential
    • G05B11/42Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential for obtaining a characteristic which is both proportional and time-dependent, e.g. P. I., P. I. D.
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/43Programme-control systems fluidic
    • G05B19/46Programme-control systems fluidic hydraulic
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D16/00Control of fluid pressure
    • G05D16/024Controlling the inlet pressure, e.g. back-pressure regulator
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D16/00Control of fluid pressure
    • G05D16/20Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
    • G05D16/2006Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
    • G05D16/2013Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D15/00Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
    • B01D15/08Selective adsorption, e.g. chromatography
    • B01D15/26Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism
    • B01D15/40Selective adsorption, e.g. chromatography characterised by the separation mechanism using supercritical fluid as mobile phase or eluent
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/28Control of physical parameters of the fluid carrier
    • G01N30/32Control of physical parameters of the fluid carrier of pressure or speed
    • G01N2030/328Control of physical parameters of the fluid carrier of pressure or speed valves, e.g. check valves of pumps
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/41Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41316Piezo valve
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/42Servomotor, servo controller kind till VSS
    • G05B2219/42034Pi regulator

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Feedback Control In General (AREA)
  • Control Of Fluid Pressure (AREA)

Abstract

制御対象に基づく出力値を検出する検出器と、前記検出器の検出値と目標値を差動増幅回路のそれぞれの入力とし、前記差動増幅回路の出力にP制御成分VPを出力するアナログ回路からなるP制御回路と、前記検出値と前記目標値との偏差をデジタル処理により積分することによりI制御成分VIを出力するI制御部と、前記P制御回路からのP制御成分VPと前記I制御部からのI制御成分VIに基づいて駆動されて前記制御対象を制御する駆動素子と、を備えたフィードバック制御装置である。

Description

本発明は制御対象をPI制御方式によりフィードバック制御する装置に関するものである。そのような制御対象は広範囲に及んでいる。例えば、分析装置の分野においては流路における圧力調整弁、圧力調整器、背圧調整器、背圧調整弁もしくはフローコントローラのような圧力や流量を調整する装置、又は製造装置の分野においては半導体製造装置、産業用ロボットもしくはNC機械における可動体の位置決め装置等があるが、本発明が適用される制御対象はこれらに限定されるものではない。
制御対象の例として、超臨界流体クロマトグラフ装置(SFC:Super-Critical Fluid Chromatography)又は超臨界流体抽出装置(SFE:Super-Critical Fluid Extractor)に用いられる圧力制御装置をあげると、そこでは分析流路の検出器の下流に設けられた圧力制御装置の背圧調整弁の開度を、ピエゾ素子を駆動素子としてフィードバック制御し、通過する流体の圧力を制御している(特許文献1、2参照。)。
制御対象のフィードバック制御方法の1つにPI(Proportional Integral)制御方法がある。PI制御方法は比例成分(P)と積分成分(I)の組合せで制御対象をフィードバック制御するものである。
PI制御方法を実装する方法として、電気回路によるアナログ方式と、ソフトウエアなどによりデジタル処理を行うデジタル方式(特許文献3、4参照。)がある。
そのうち、アナログ方式は、制御対象によっては、後述するように制御回路が複雑で大規模なものとなり、また制御が不安定になるおそれがある。一方、デジタル方式はAD変換、DA変換及びデジタル処理に時間がかかるため、制御対象によっては応答性を満たすことができないおそれがある。
特開平3−172688号公報 米国特許出願公開US2010−0199982A1 特許第2844137号公報 特許第5382393号公報
本発明は実装を容易にするとともに、応答性も満たすことのできるフィードバック制御装置を提供することを目的とするものである。
本発明では、P制御をアナログ方式により電気回路で実行し、I制御をデジタル処理で実行する。すなわち、アナログP、デジタルI混合のPI制御を行う。
そのため、本発明のフィードバック制御装置は、制御対象に基づく出力値を検出する検出器と、前記検出器の検出値と目標値を差動増幅回路のそれぞれの入力とし、前記差動増幅回路の出力にP制御成分VPを出力するアナログ回路からなるP制御回路と、前記検出値と前記目標値との偏差をデジタル処理により積分することによりI制御成分VIを出力するI制御部と、前記P制御回路からのP制御成分VPと前記I制御部からのI制御成分VIに基づいて駆動されて前記制御対象を制御する駆動素子と、を備えている。
P制御をI制御とは独立した電気回路で実行できるためフィードバック制御の安定度が高い。またI制御をデジタル処理により実行するため、複雑な処理を容易に実装可能となる。
それに対し、PI制御すべてをデジタル処理で実行する特許文献3又は4の方式は、制御対象によっては応答性に問題が生じる。例えば、圧力制御の場合、P制御には1ミリ秒程度の応答性が要求されるため、AD(アナログ−デジタル)・DA(デジタル−アナログ)変換の時間、ソフトウエア又はファームウエアの速度制限の観点からそのような高速処理は困難である。そのため、P制御はアナログ回路で実行することが望ましい。一方、I制御は積分要素のために10ミリ秒程度の応答速度で十分であり、また複雑な処理が得意であるデジタル処理で実行するのが適している。
したがって、本発明は、アナログ方式とデジタル方式の両方の優れた特性を有効に活用した方式である。
背圧調整器(BPR)で行っている圧力制御の概念を示す概略図である。 P制御のステップ応答の概念を示すグラフである。 PI制御のステップ応答の概念を示すグラフである。 P制御を実行するための電気回路の一例を示す回路図である。 PI制御に必要な制御機能の例を示すブロック図である。 一実施形態を概略的に示すブロック図である。 超臨界流体クロマトグラフィー(SFC)の装置構成を示す概略図である。 SFCシステムに用いる圧力調整弁の一例を示す断面図である。 PI制御の一実施形態を示す回路図である。 PI制御の他の実施形態を示す回路図である。 I制御部の一実施形態を示すブロック図である。 I制御部の一実施形態の処理の流れを示すブロック図である。 I制御部の一実施形態の処理の流れを示すフローチャートである。 一実施例でのP制御の結果を示すグラフである。 一実施例でのPI制御の結果を示すグラフである。
本発明において、回路構成をより簡略化するための好ましい形態は、I制御成分VIが前記検出器の検出値とともに前記差動増幅回路の一方の入力端子に入力されるようにI制御部とP制御回路が接続され、前記差動増幅回路の出力端子が前記駆動素子に接続されている構成である。
好ましい一実施形態では、I制御部は、検出値と目標値との偏差に対するしきい値VP_upperを保持するしきい値保持部と、前記偏差がしきい値保持部に保持されたしきい値VP_upperを超えていれば出力のI制御成分VIをゼロにリセットし、前記偏差が前記しきい値保持部に保持されたしきい値VP_upper以下のときに前記偏差の積分を継続する第1比較部と、をさらに備えている。
好ましい他の実施形態では、I制御部は、I制御成分VIの絶対値|VI|の上限値VI_MAXを保持する上限値保持部と、I制御成分VIを上限値保持部に保持された上限値と比較してI制御成分VI出力値の絶対値|VI|が前記上限値を超えないように規制する第2比較部と、をさらに備えている。
本発明のフィードバック制御装置が適用される対象は特に限定されるものではないが、一例として超臨界流体クロマトグラフ装置(SFC)又は超臨界流体抽出装置(SFE)を挙げることができる。そこでは、制御対象はSFC又はSFEの分析流路の検出器の下流に設けられた圧力制御装置の背圧調整弁である。検出器は分析流路において背圧調整弁の上流に設けられた圧力計であり、駆動素子は背圧調整弁を制御するアクチュエータである。そして、その場合のフィードバック制御装置は、圧力計の検出値と目標値に基づいて背圧調整弁をPI制御するものとなる。
以下、実施例としてSFCを取りあげて説明するが、それに限定されるものではない。
SFCでは、超臨界流体を移動相として使用し、その移動相の気化を防ぐために分析流路を一定の高圧力状態に維持する。その圧力制御を行う圧力制御装置として、分析流路の検出器の下流に背圧調整器(BPR; Back Pressure Regulator)が設けられる。背圧調整器では背圧調整弁をアクチュエータとしてのピエゾ素子又はソレノイドにより調節している。その背圧調整弁の上流側の直前に設けられた圧力計により検出した圧力が目標値としての設定値と等しくなるように、ピエゾ素子又はソレノイドへの印加電圧をフィードバック制御している。以下では、アクチュエータとしてピエゾ素子を用いた場合について説明する。
図1を用いてBPRで行っている圧力制御の概念について説明する。BPR2では流路4に設置した弁6の開度(弁の開き具合で、具体的には開口面積)を制御し、通過する流体の圧力を制御する。制御装置12は、BPR2の上流の流路に設置している圧力計8からの圧力信号値をモニタ圧力Pmonitorとし、モニタ圧力Pmonitorが目標値である設定圧力Psetよりも低ければアクチュエータであるピエゾ素子10により弁6を押し、流路断面積を小さくして圧力を高める。反対にモニタ圧力Pmonitorが設定圧力Psetよりも高ければ、制御装置12はピエゾ素子10を引いて流路断面積を大きくすることによって圧力を下げる。
BPRにおけるフィードバック制御による圧力制御方式にはPI制御が採用されている。PI制御は、圧力のフィードバック制御に一般に用いられる方法である。PI制御の説明の前にP制御を説明し、続いてPI制御を説明する。
(P制御)
ピエゾ素子10を実際に押し引きする動作量は設定圧力Psetとモニタリング圧力Pmonitorの差の定数倍である。圧力計8から得られる電圧値をVP_monとし、設定圧力Psetに対応する電圧値をVP_set、ゲインをKPとすると、ピエゾ素子10に出力される電圧VPZTは式(1)で表される。
PZT=KP(VP_set−VP_mon) (1)
ここで、便宜的に圧力値[MPa]と電圧値[V]は数値が等しいと仮定し、設定圧力Pset=20.00MPa(VP_set=20.00V)のときにゲインKP=100のフィードバック制御でモニタリング圧力Pmonitor=19.96MPa(VP_mon=19.96V)が得られた場合を考える。このとき式(1)よりピエゾへの出力電圧は100×(20.00−19.96)=4Vとなるが、もし4Vのピエゾ素子10への出力で位置制御された弁6の開度がちょうど流体を19.96MPaに保つ開度であった場合、式(1)によりBPR2は平衡状態となってしまい、圧力は目標の20MPaに収束しないこととなる。この残差0.04MPaを定常偏差(オフセット)と呼ぶが、定常偏差を解消するために用いられるのがPI制御である。
(PI制御)
PI制御は式(1)に積分項を加えたもので、式(2)で表される制御を行う。
Figure 2015122088
式(2)の第二項の積分要素によって、左辺VPZTと右辺第一項がつりあったとしても、右辺第二項はVP_setとVP_monが等しい値となるまで増幅されるため、ピエゾ素子10の押し量を増加又は減少させ続けることによって、圧力が目標値と一致するまで昇圧又は減圧させ続けることが可能となる。
図2Aと図2BにそれぞれP制御(図2A)とPI制御(図2B)のステップ応答の概念図を示す。時間t=0において、ある目標圧力値Psetを与えた場合、平衡状態になった圧力値PeはP制御ではPsetに対してある定常偏差(offset)を持ち、PI制御ではPsetとPeは一致する。
図3に、P制御を実行するための電気回路の一例を示す。演算増幅回路(オペアンプ)14を用いた差動増幅回路であり、VP_monとVP_setの電圧差を抵抗比RP/Rのゲイン(式(1)中のKPに相当する。)で増幅し、ピエゾ素子10に電圧を出力する(PZT Driveと表示されている。)。
P制御は定常偏差が発生するため、PI制御を行うが、PI制御回路は実際の圧力制御装置では複数の機能を必要とするため、回路が複雑になる。図4に、PI制御に必要な制御機能の例を示す。設定値VP_setとモニタ値VP_monとの大小を比較する比較回路(s1)があり、P制御用にそれを増幅する比例増幅回路(s2)、I制御用の積分回路(s3)、そしてP制御成分とI制御成分を加算する回路(s4)がまず必要となる。さらにはSFC又はSFEにおける圧力制御中では、ポンプを停止した際や流路を切り替えた際にピエゾ素子10の稼動範囲の最大限に電圧を出力しても圧力が設定値にならず、積分値が溜まりすぎる問題が発生する。そのため、積分値を適当な範囲に制限する回路(s5)が必要となる。また圧力値が設定値と大きく乖離したことを判断(s6)し、その場合は積分値を0にリセットする機能(s7)も必要となる。図4に示した制御を電気回路でそのまま実装すれば、制御回路が複雑で大規模なものとなり、また圧力を安定制御するP制御に悪影響を及ぼしかねない。
そこで、この実施形態では、P制御を図3に示したような電気回路で実行し、I制御はデジタル処理(ソフトウエア(S/W)、ファームウエア(F/W)又はFPGA(フィールド・プログラマブル・ゲートアレイ))で実行する、いわゆるアナログP、デジタルI混合のPI制御を行う。
FPGAはデジタル回路の一種であるが、ロジックLSIの集合体を使用する。FPGAは、ソフトウエアを書くだけで全く同じ動作を示す電気回路(集積回路)を簡単に制作可能であり、実装容易性が非常に高い。FPGAをアナログ信号系で使用するときは、入力側にAD変換器が設けられ、出力側にDA変換器が設けられる。仮にI制御を実行するFPGAが複雑な回路構成となったとしても、DA変換器を介してP制御用のアナログ回路と接続されるために、P制御の安定度には影響を及ぼさない。
図5に、制御の概念図を示す。圧力計8からの電圧値VP_monをアナログ回路からなるP制御回路16とデジタル処理によるI制御部18に入力する。P制御回路16は例えば図3に示した電気回路である。P制御回路16は、電圧値VP_monと、設定圧力に相当する設定電圧値VP_setとのP制御を実行してP制御成分VPを出力する。I制御部18は、デジタル処理により、電圧値VP_monと設定電圧値VP_setとのI制御を実行してI制御成分VIを出力する。P制御成分VPとI制御成分VIが加算されて、アクチュエータのピエゾ素子10を駆動する。
ここで、本発明が適用される例として、BPRを使用する超臨界流体クロマトグラフィー(SFC)の装置構成について図6を用いて説明する。SFCでは比較的低温度、低圧力で超臨界状態が得られるCO2を移動相として用い、また測定試料の溶解性を高めるためにモディファイヤー(主にはメタノール)を混入させる。そのため、CO2ボンベ101から得られる液体CO2をCO2ポンプ103にて送液し、同様にモディファイヤー102をモディファイヤーポンプ104で送液し、ミキサー105にて混合して移動相とする。オートサンプラー106によって試料を注入された移動相は、カラムオーブン107内に設置されたカラム108を通り、カラム108で試料成分が時間的に分離される。時間的に分離された試料成分はUV検出器109によって検出さる。
UV検出器109の検出値は分析される物質の密度によって大きく変化し、超臨界流体は密度の圧力依存性が大きい。そのため、ポンプ103,104以降の流路の圧力が圧力制御弁110(背圧調整器、BPR)によって10MPa程度以上の一定圧に保たれるように構成されているが、圧力調整弁の圧力安定精度がUV検出器109の測定安定性に大きく寄与する。そのため設定圧力に対して±0.01MPa程度の圧力制御精度が必要となる。特にSFCではモディファイヤーの混入割合を時間的に変化させるグラジエント分析が一般に行われ、分析中に流体の組成が大きく変化するため圧力が変動する原因となる。
次に、SFCシステムに用いるための、圧力調整弁について図7を用いてその一例を説明する。SFCに一般に用いられる内径0.1mmのステンレス管22がボディ21の入口、出口にそれぞれを接続されている。ボディ21内には内径0.3mmの管流路31が形成されており、管流路31の両端がそれらのステンレス管22に接続されている。ステンレス管22はフェルール23により中心が決められ、ネジ24によってボディ21に固定されている。
ボディ21には流路31を切断する凹部が形成されている。その凹部の中央部の穴が流路31を切断するように円錐形にくぼみ、その穴の壁面には管流路31の切断された部分につながる横穴が開口している。その穴を上から覗くと、円錐形のくぼみの壁面に入口側と出口側のそれぞれ流路につながる開口が見える構造になっている。その穴に弾性体からなる円錐形の蓋25が設けられている。蓋25は、その周辺部がシール部材26によりその穴の周辺部に押しつけており、その穴内に入った部分がその穴の壁面の開口を開閉する構造となっている。シールされた微小な流路31を切断している円錐形の穴の壁面が弁座部33となり、蓋25が弁体となっている。
蓋25の背面(その穴からみて反対側の面)を押さえ棒27を介してピエゾ素子28で押し引きすることにより、弁座部33の流路面積の大きさが制御され、入口管路の圧力を制御することが可能となる。
ピエゾ素子28は電圧を0Vから100Vまで印加すると10μm程度変位するピエゾアクチュエータである。弁体をさらに大きい範囲で変位させる粗動のために、弁体からみてピエゾ素子28の後段にステッピングモータ29が取り付けられている。
ここでピエゾアクチュエータの制御について説明する。図3に示した回路図によるP制御では、制御後の平衡圧力が設定圧力と±0.1MPa程度のずれ(定常偏差)が生じる。しかもこの定常偏差の値はピエゾ素子の平衡電位に依存し、グラジエント分析の際に刻々と変化する流体の組成に対応して変化させるピエゾ電位に応答する形で、平衡圧力が変化してしまう。これを避けるため、フィードバック制御をPI制御とすることが望ましい。
しかしBPRを適応するSFCやSFEでは、PI制御とした場合に、I制御に複雑な処理が求められる。例えば、ポンプを停止した際等に圧力値が設定値と大きく乖離した場合には積分値を0にリセットしたり、流路を切り替えた際に圧力がわずかに設定値に到達しない時間が長時間になると積分値が溜まりすぎるので、それを防止したり、又は、試料を分析流路に注入する際の瞬時の過渡的な圧力上昇は無視したりするといったことである。このような処理を電気回路で実装しようとすると、回路が複雑で大規模になり、またそのためにノイズが増加してP制御の性能にも影響を及ぼすため理想的な圧力安定性能が得られないという問題が生じる。
そこで、好ましい一実施形態では、図8に示す電気回路により、PI制御を行う。圧力計からの電圧値VP_monと設定圧力に対応する電圧値VP_setが等しくなるようオペアンプを用いた差動増幅回路14によりフィードバック制御を行う。差動増幅回路14の入力端子のうち、圧力計からの電圧値VP_monを入力する側の入力端子に、ソフトウエア又はファームウエアで計算したI制御信号VIを加算する。
I制御信号VIを求めるためのソフトウエア又はファームウエアおける計算を式(3)に示す。
Figure 2015122088
ここでKIは積分ゲインであり、制御系に合わせて適当に調整するが、I制御全体のゲインは図8に示した電気回路の増幅率も合わせてKIP/RIで表される。
I成分VIとP成分VPの加算は、図8に示した回路に限定されず、一般的な加算回路を用いて図9のような構成でも実行できる。しかし、図9の回路では、P制御のための演算増幅器14のほかに、I成分VIとP成分VPの加算のための演算増幅器14aが必要となり、増幅段が1段増すことになるために安定度の観点からは増幅段の少ない図8の回路構成の方が好ましい。図8の回路はP制御の結果とI制御の結果の正確な加算処理にはなっておらず、数学的には(2)で表わされる演算を行っているわけではない。しかし、VP_setとVP_monが等しくなるまでピエゾ電圧が増加又は減少を続けるという意味では同じ処理であり、結果的にPI制御がなされる。
図10と図11に、デジタル処理を機能として示す。デジタル処理部20はSFC又はSFEの専用コンピュータにより、又はSFC又はSFEにデータ処理などの目的のために接続された汎用のコンピュータ、例えばパーソナルコンピュータにより実現される。
デジタル処理では、まず圧力計8から得られるアナログ電圧(VP_Mon)をAD変換部22によってデジタル値に変換する。AD変換部22はデジタル処理部20の外部に設けられたAD変換器であってもよく、デジタル処理部20内での機能として実現されるものであってもよい。デジタル処理部20内での処理はデジタル値として処理される。
得られた圧力値を平均化部24により平均化処理する。平均化処理は圧力計8で発生するノイズや、AD変換の際に発生するノイズを除去するためのものである。平均化後の圧力値VP_Monを設定圧力値VP_setと比較し、第1比較部28においてその差分を計算する。圧力値VP_monも設定圧力値VP_setも圧力値に相当する電圧値である。設定圧力値VP_setは基準電圧発生回路など、一定電圧を発生する回路により発生することができ、デジタル処理部20に外部から与えられる。設定圧力値VP_setは第1比較部28においてその差分を計算する際に、その都度与えられるようにしてもよく、又は図10のように設定値保持部26を設けて、そこに保持するようにしてもよい。
差分を計算した結果、その差分値が大きく離れすぎている場合はこれまで溜めてきたI制御値VIを0にリセットする。この理由は、I制御は元来P制御の定常偏差をなくすためのものであり、P制御もできておらず圧力値が目標から大きく外れているときは積分しても意味がなく、またP制御範囲内に入った場合にI制御値VIの値が大きく溜まっていては適切なI制御値VIに収束するまでの不要な時間を要し不都合になるためである。差分値が適切な範囲内の値である場合には、積分部34において積分を実行する。ここで言う積分とは、現在保有しているVI値に差分値を加算することである。
加算後のI制御値VIが妥当な範囲の数値であればそのままDA変換部40によりアナログ値に変換して電気回路に出力するが、I制御値VIが妥当な範囲外であれば、その範囲内に制限し、出力する。この制限を行うために、上限値保持部36に上限値(VI_MAX)を保持しておき、第2比較部38において加算後のI制御値VIと上限値保持部36に保持されている上限値(VI_MAX)を比較する。
この制限の理由は次の通りである。例えば、流路を切り替えた際等に、P_monがP_setよりわずかに低い値(見かけ上P制御による定常偏差と区別が付かない値)であるが、切り替えた流路を流体が満たすことに時間を要し、なかなか圧力が上昇しない場合がある。その間に偏差を溜め続ける(I制御値VIを上昇し続ける)と、流路が満たされて圧力が上昇する際に溜まっているI制御値VI分だけ余計に圧力が上昇し、(3)式の計算によってI制御値VIを小さくすることに時間がかかり、なかなか圧力が安定しないため、制限のための上限値を設けることが望ましい。
図12に、図10、図11の処理を手順としてフローチャートで示す。制御開始前、I制御値VIの初期値は0であり(ステップs1)、制御開始と共にI制御値VIを出力する(ステップs2)。次に圧力計8から得られた電圧値VP_monを平均化する(ステップs3)。平均化後のVP_monと目標となる設定圧力値VP_setの差の絶対値がある閾値VP_upperを越えていれば(ステップs4)、I制御値VI=0とし、積分値をリセットする。平均化後のVP_monと設定圧力値VP_setの差の絶対値が±VP_upper以内に収まっていれば、保持しているI制御値VIに、(VP_set−VP_mon)にゲインKIおよび処理時間dtを掛けたものを加算する(ステップs5)。最後に積分結果(加算後)のI制御値VIの絶対値がある一定の値VI_MAXを超える場合にはI制御値VIが正の値の場合にはVI=VI_MAX、I制御値VIが負の値の場合にはVI=−VI_MAXとし、I制御値VIの絶対値がVI_MAXを超えない場合にはそのままI制御値VIの値を保持し(ステップs6)、ステップs2に戻ってI制御値VIの出力値を変更する。
図13Bに、図8、図10〜図12の実施例で圧力制御を行った実験結果を示す。比較のため図13AにP制御のみの場合を示す。P制御とPI制御のどちらの場合も10.00MPaを設定値とし、フィードバック制御を行った結果の圧力値(各図の上側のグラフ)とピエゾ電圧(各図の下側のグラフ)を示している。
ポンプによる送液開始の直後は状態が安定せず、P制御とPI制御のいずれの場合も圧力を一定に保つためにピエゾ電圧が変化し、結果的に定常偏差の値が変化するため圧力がわずかに変化している。
6分程度後の状態は、圧力が平衡になっている。図13AのP制御のみの場合はその平衡となった圧力は10.00MPaと一致せず、0.02MPa程度のオフセットが生じている。その後、流量を変化させると圧力がステップ状に変化している様子が確認できる。
一方、本実施例によるアナログP、デジタルI混合のPI制御では、図13Bに示すように、送液開始後すぐに圧力が安定し、流量を変化させても10.00MPaの値を保持している。
2 制御対象としての背圧調整器(BPR)
6 弁
8 検出器としての圧力計
10 ピエゾ素子
14 演算増幅器
16 P制御回路
18 I制御部
20 デジタル処理部
28 差分算出部
30 しきい値保持部
32 第1比較部
34 積分部
36 上限値保持部
38 第2比較部

Claims (5)

  1. 制御対象に基づく出力値を検出する検出器と、
    前記検出器の検出値と目標値を差動増幅回路のそれぞれの入力とし、前記差動増幅回路の出力にP制御成分VPを出力するアナログ回路からなるP制御回路と、
    前記検出値と前記目標値との偏差をデジタル処理により積分することによりI制御成分VIを出力するI制御部と、
    前記P制御回路からのP制御成分VPと前記I制御部からのI制御成分VIに基づいて駆動されて前記制御対象を制御する駆動素子と、
    を備えたフィードバック制御装置。
  2. 前記I制御成分VIが前記検出器の検出値とともに前記差動増幅回路の一方の入力端子に入力されるように前記I制御部と前記P制御回路が接続され、
    前記差動増幅回路の出力端子が前記駆動素子に接続されている請求項1に記載のフィードバック制御装置。
  3. 前記I制御部は、前記検出値と前記目標値との偏差に対するしきい値VP_upperを保持するしきい値保持部と、
    前記偏差が前記しきい値保持部に保持されたしきい値VP_upperを超えていれば出力のI制御成分VIをゼロにリセットし、前記偏差が前記しきい値保持部に保持されたしきい値VP_upper以下のときに前記偏差の積分を継続する第1比較部と、
    をさらに備えている請求項1又は2に記載のフィードバック制御装置。
  4. 前記I制御部は、I制御成分VIの上限値VI_MAXを保持する上限値保持部と、
    I制御成分VIを前記上限値保持部に保持された上限値と比較してI制御成分VI出力値が前記上限値を超えないように規制する第2比較部と、
    をさらに備えている請求項1から3のいずれか一項に記載のフィードバック制御装置。
  5. 前記制御対象は超臨界流体クロマトグラフ装置又は超臨界流体抽出装置の分析流路の検出器の下流に設けられた圧力制御装置の背圧調整弁であり、
    前記検出器は前記分析流路において前記背圧調整弁の上流に設けられた圧力計であり、
    前記駆動素子は前記背圧調整弁を制御するアクチュエータであり、
    前記圧力計の検出値と目標値に基づいて前記背圧調整弁をPI制御する請求項1から4のいずれか一項に記載のフィードバック制御装置。
JP2015562702A 2014-02-17 2014-12-11 フィードバック制御装置 Active JP6241483B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014027870 2014-02-17
JP2014027870 2014-02-17
PCT/JP2014/082803 WO2015122088A1 (ja) 2014-02-17 2014-12-11 フィードバック制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015122088A1 true JPWO2015122088A1 (ja) 2017-03-30
JP6241483B2 JP6241483B2 (ja) 2017-12-06

Family

ID=53799843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015562702A Active JP6241483B2 (ja) 2014-02-17 2014-12-11 フィードバック制御装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10184919B2 (ja)
EP (1) EP3109714B1 (ja)
JP (1) JP6241483B2 (ja)
CN (1) CN106233209B (ja)
WO (1) WO2015122088A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107727780A (zh) * 2017-08-30 2018-02-23 聚光科技(杭州)股份有限公司 在线色谱的电子压力控制装置及方法
JP7144176B2 (ja) * 2018-04-13 2022-09-29 株式会社島津製作所 抽出物の回収方法および分析方法
CN112532054B (zh) * 2020-11-12 2022-03-25 苏州浪潮智能科技有限公司 一种自动调整电压调整器的系统、方法及介质

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5585906A (en) * 1978-12-25 1980-06-28 Fuji Electric Co Ltd Hybrid control unit
JPS62148855A (ja) * 1985-12-24 1987-07-02 Japan Spectroscopic Co 超臨界流体クロマトグラフイ−装置
JPH03207285A (ja) * 1990-01-10 1991-09-10 Toyo Electric Mfg Co Ltd 自動制御装置
JPH06309005A (ja) * 1993-04-21 1994-11-04 Rika Kogyo Kk 制御装置
WO1997039521A1 (en) * 1996-04-16 1997-10-23 Iomega Corporation Servo loop compensation technique exhibiting improved bandwidth

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3490691A (en) * 1966-06-02 1970-01-20 Tokyo Shibaura Electric Co Proportional and integral action controller for sampled data control system
US3696304A (en) * 1970-06-29 1972-10-03 Monsanto Co Proportional only process controller
US3939328A (en) * 1973-11-06 1976-02-17 Westinghouse Electric Corporation Control system with adaptive process controllers especially adapted for electric power plant operation
JPS5950862B2 (ja) * 1975-08-05 1984-12-11 日産自動車株式会社 空燃比制御装置
US4139887A (en) * 1977-04-28 1979-02-13 United Technologies Corporation Dynamic compensation for multi-loop controls
US4228435A (en) * 1979-01-23 1980-10-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Radar sensitivity time control using range gated feedback
US4658855A (en) * 1980-10-03 1987-04-21 Silicon Valley Group Mass flow controller
GB2125242A (en) * 1982-07-16 1984-02-29 Eg & G Inc Analog-to-digital converter
JPS60193010A (ja) * 1984-03-14 1985-10-01 Yoshiki Kogyo Kk Pid制御装置
US4733152A (en) * 1986-03-10 1988-03-22 Isco, Inc. Feedback system
US4806836A (en) * 1988-01-14 1989-02-21 Applied Automation, Inc. Anti-reset windup for controllers in selective control loops
JPH0298701A (ja) * 1988-10-05 1990-04-11 Toshiba Corp 制御装置
DE3931133A1 (de) * 1989-09-18 1991-04-04 Max Planck Gesellschaft Regelverfahren und -einrichtung
US5653885A (en) * 1990-07-13 1997-08-05 Isco, Inc. Apparatus and method for supercritical fluid extraction
US5293042A (en) * 1991-05-10 1994-03-08 Olympus Optical Co., Ltd. Servo circuit of scanning probe microscope
US5493488A (en) * 1994-12-05 1996-02-20 Moore Industries International, Inc. Electro-pneumatic control system and PID control circuit
US6445980B1 (en) * 1999-07-10 2002-09-03 Mykrolis Corporation System and method for a variable gain proportional-integral (PI) controller
DE10029794C2 (de) * 2000-06-16 2002-04-18 Siemens Ag Vorrichtung zum Betrieb einer linearen Lambdasonde
EP1223483B1 (en) * 2000-12-29 2004-03-03 STMicroelectronics S.r.l. A digital control circuit of the proportional integral type
DE60102213T2 (de) * 2000-12-29 2005-03-10 Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza Proportionale integrale Digitalsteuerschaltung
US6715277B2 (en) * 2001-11-16 2004-04-06 Goodrich Pump & Engine Control Systems, Inc. Fuel control system for gas turbine engines
EP1749355A1 (en) * 2004-04-06 2007-02-07 Bookham Technology plc Voa control
US7395124B2 (en) * 2005-11-10 2008-07-01 Rockwell Automation Technologies, Inc. Adaptive motor drive method and apparatus including inertia estimator
US7752833B2 (en) * 2006-01-10 2010-07-13 General Electric Company Methods and apparatus for gas turbine fuel control
US8493405B2 (en) * 2006-05-24 2013-07-23 Panasonic Corporation Image control device and image display system for generating an image to be displayed from received imaged data, generating display information based on the received image data and outputting the image and the display information to a display
KR100866213B1 (ko) * 2007-02-09 2008-10-30 삼성전자주식회사 비례-적분-미분 제어 장치 및 방법
US8015791B2 (en) * 2008-11-18 2011-09-13 General Electric Company Fuel control system for gas turbine and feed forward control method
US7795650B2 (en) * 2008-12-09 2010-09-14 Teledyne Scientific & Imaging Llc Method and apparatus for backside illuminated image sensors using capacitively coupled readout integrated circuits
US8419936B2 (en) * 2010-03-23 2013-04-16 Agilent Technologies, Inc. Low noise back pressure regulator for supercritical fluid chromatography
JP5341855B2 (ja) * 2010-10-01 2013-11-13 日本分光株式会社 微小容量圧力計
US10254026B2 (en) * 2011-04-21 2019-04-09 Hamilton Sundstrand Corporation Control algorithm for electronic expansion valve modulation

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5585906A (en) * 1978-12-25 1980-06-28 Fuji Electric Co Ltd Hybrid control unit
JPS62148855A (ja) * 1985-12-24 1987-07-02 Japan Spectroscopic Co 超臨界流体クロマトグラフイ−装置
JPH03207285A (ja) * 1990-01-10 1991-09-10 Toyo Electric Mfg Co Ltd 自動制御装置
JPH06309005A (ja) * 1993-04-21 1994-11-04 Rika Kogyo Kk 制御装置
WO1997039521A1 (en) * 1996-04-16 1997-10-23 Iomega Corporation Servo loop compensation technique exhibiting improved bandwidth

Also Published As

Publication number Publication date
JP6241483B2 (ja) 2017-12-06
EP3109714A1 (en) 2016-12-28
US20170045482A1 (en) 2017-02-16
CN106233209A (zh) 2016-12-14
WO2015122088A1 (ja) 2015-08-20
US10184919B2 (en) 2019-01-22
EP3109714B1 (en) 2022-03-23
CN106233209B (zh) 2019-08-09
EP3109714A4 (en) 2017-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100621830B1 (ko) 가변 이득 비례 적분 (pi) 제어기용 시스템 및 방법
EP2065779B1 (en) Pressure regulator and vibration isolator
KR101943684B1 (ko) 유량 제어 장치 및 기록 매체
JP5868796B2 (ja) 圧力制御装置、流量制御装置、及び、圧力制御装置用プログラム、流量制御装置用プログラム
JP6241483B2 (ja) フィードバック制御装置
TWI405059B (zh) Automatic pressure regulator for thermal mass flow regulators
US20150059859A1 (en) Apparatus for dividing and supplying gas and method for dividing and supplying gas
US20180196449A1 (en) Valve control device
US9760096B2 (en) System and method for using a model for improving control of a mass flow controller
TWI575349B (zh) 流動比率控制器組件、氣體輸送系統及其操作方法
CN112272809A (zh) 流量控制方法以及流量控制装置
WO2016178739A1 (en) Nonlinear control of mass flow controller devices using sliding mode
KR101098910B1 (ko) 진공압력 제어 시스템 및 진공압력 제어 프로그램
JP6250570B2 (ja) 二酸化炭素ベースのクロマトグラフィーのための力平衡ニードル弁圧力調整器
JP6279675B2 (ja) 流体制御装置
JP2011134336A (ja) 真空圧力制御システム及び真空圧力制御プログラム
JP6903946B2 (ja) 質量流量制御装置及び質量流量制御方法
JP6090454B2 (ja) 圧力制御バルブ及び超臨界流体クロマトグラフ
JP5124038B2 (ja) 圧力レギュレータ及び除振装置
WO2015029252A1 (ja) 圧力制御バルブ及び超臨界流体クロマトグラフ
CN114706431A (zh) 反应腔室的压力控制方法、装置和半导体工艺设备
CN107005178A (zh) 压电定位装置以及使用这样的压电定位装置的定位方法
JP4936127B2 (ja) ポンプシステム
JP2012168824A (ja) 流体制御装置
CN114764256A (zh) 压力控制系统、压力控制方法及存储介质

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170808

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170908

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171010

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171023

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6241483

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151