JPWO2015099058A1 - ターゲット生成装置 - Google Patents

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Abstract

本開示の１つの観点では、ターゲット生成装置は、ノズルの出力口の周囲を覆い、ノズルホルダに固定され、ガス供給部から供給されたガスを導くガスロックカバーを含んでよい。ガスロックカバーは、筒状部と流路とを含んでよい。筒状部は、ノズルの下流側に配置され、ノズルから出力されたドロップレットが内部を通過し、内部を通過したドロップレットが出力される出力口を有してよい。ガス供給部から供給されたガスは流路を通過してよい。流路は、通過したガスが筒状部の内部から筒状部の出力口に流れるように通過するガスの流れを画定してよい。

Description

本開示は、極端紫外光生成装置に使用されるターゲット生成装置に関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系（ｒｅｄｕｃｅｄ ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ ｏｐｔｉｃｓ）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット材料にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）方式の装置との３種類の装置が提案されている。
米国特許出願公開第２００９／０２３０３２６号 米国特許出願公開第２０１２／０２８０１４９号 特開２００７−２８８１９０号 特開２００８−２７６２３号 特許第４７７３６９０号
概要
本開示の一例は、プラズマ生成領域においてドロップレットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置において使用されるターゲット生成装置であって、ドロップレット材料を収容するタンクと、前記タンクを加熱して前記ドロップレット材料を融解するヒータと、前記タンクの先端に配置され、ドロップレットを前記プラズマ生成領域に向けて出力するノズルと、前記ノズルを前記タンクに固定するノズルホルダと、ガスを供給するガス供給部と、前記ノズルホルダに固定され、前記ノズルの下流側に配置され、前記ノズルの出力口の周囲を覆い、前記ガス供給部から供給されたガスを導くガスロックカバーと、を含んでよい。前記ガスロックカバーは、前記ノズルの下流側に配置され、前記ノズルから出力されたドロップレットが内部を通過し、前記内部を通過したドロップレットが出力される出力口を有する筒状部と、前記ガス供給部から供給されたガスが通過する流路であって、前記通過したガスが前記筒状部の内部から前記筒状部の出力口に流れるように、前記通過するガスの流れを画定する流路と、を含んでよい。
本開示の他の一例は、プラズマ生成領域においてドロップレットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置において使用されるターゲット生成装置であって、融解したドロップレット材料を収容するタンクと、前記タンクの先端に配置され、ドロップレットを前記プラズマ生成領域に向けて出力するノズルと、前記ノズルを前記タンクに固定するノズルホルダと、ガスを供給するガス供給部と、前記ノズルホルダに固定され、前記ノズルの下流側に配置され、前記ガス供給部から供給されたガスを導く、ガスロックカバーと、を含んでよい。前記ガスロックカバーは、前記ノズルの下流側に配置され、前記ノズルから出力されたドロップレットが内部を通過し、前記内部を通過したドロップレットが出力される出力口を有する筒状部と、前記ガス供給部から供給されたガスが通過する流路であって、前記通過したガスが前記筒状部の内部から前記筒状部の出力口に流れるように前記通過するガスの流れを画定する流路と、を含んでよい。前記流路は、前記筒状部の内部に連通し、流入したガス流を異なる方向に分散させて前記筒状部の内部に導く緩衝空間を含んでよい。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。 図２は、ターゲット生成部を含むＥＵＶ光生成システムの一部構成を模式的に示す。 図３は、タンクの突出部の先端部の比較構成例を示す。 図４は、実施形態１のターゲット生成装置の一部構成を模式的に示す。 図５Ａは、実施形態２のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図５Ｂは、実施形態２のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図６Ａは、実施形態３のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図６Ｂは、実施形態３のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図７Ａは、実施形態４のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図７Ｂは、実施形態４のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図７Ｃは、実施形態４のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図８は、ドロップレット供給部から出力されるドロップレットの状態を模式的に示す。 図９は、実施形態５のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図１０は、実施形態６のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。 図１１は、実施形態６のガスロックカバーの構成例を模式的に示す。
実施形態
＜内容＞
１．概要
２．用語の説明
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
３．２ 動作
４．ターゲット生成装置を含む極短紫外光生成装置
４．１ 構成
４．２ 動作
４．３ ドロップレット供給部の先端構成の比較例
４．４ 課題
５．実施形態
５．１ 実施形態１：ターゲット生成装置におけるガスロック装置
５．２ 実施形態２：緩衝空間付きガスロック装置（１）
５．３ 実施形態３：緩衝空間付きガスロック装置（２）
５．４ 実施形態４：緩衝空間付きガスロック装置（３）
５．５ 実施形態５：緩衝空間付きガスロック装置（４）（ダンパ部材付き）
５．６ 実施形態６：緩衝空間付きガスロック装置（５）（傾斜ダンパ部材付き）
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．概要
ＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムにおいては、ターゲット生成装置のノズルから、ターゲット物質のドロップレットがチャンバ内に出力されてもよい。ドロップレットが所望のタイミングでチャンバ内のプラズマ生成領域に到達するように、ターゲット生成装置が制御されてもよい。
ＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムは、プラズマ生成領域において、レーザ装置から出力されたレーザ光をターゲットに照射することによってプラズマ化し、ＥＵＶ光を生成し得る。露光装置用のＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムは、５０〜１００ｋＨｚ以上の高い繰り返し周波数でレーザ光パルスを生成し、ターゲットに照射してもよい。
パルスレーザ光が照射されたターゲットがプラズマ化し、ＥＵＶ光が生成される際、スズ等のターゲットは、プラズマの膨張圧力による衝撃により拡散し得る。パルスレーザ光が照射されなかったターゲットは、ターゲット回収器に回収される際、拡散し得る。拡散したターゲット材料（ドロップレット材料とも呼ぶ）は、チャンバ内に微細な汚染物質のデブリとなって拡散し得る。拡散したデブリは、ターゲット供給装置のノズル孔に到達し得る。
本開示の１つの観点では、ターゲット生成装置は、ノズルの出力口の周囲を覆い、ガス流によりノズルの出力口からデブリが遠ざかるようにガス供給部から供給されたガスを導くガスロックカバーを含んでよい。ガスロックカバーは、筒状部と流路とを含んでよい。筒状部は、ノズルの下流側に配置され、ノズルから出力されたドロップレットが内部を通過し、内部を通過したドロップレットが出力される出力口を有してよい。ガス供給部から供給されたガスは流路を通過してよい。流路は、通過したガスが筒状部の内部から筒状部の出力口に流れるように通過するガスの流れを画定してよい。
本開示の１つの観点によれば、ドロップレットの軌道を変動させるデブリのノズルへの付着を、ガス流によって抑制し得る。
本開示の他の観点では、ターゲット生成装置は、ノズルの下流側に配置され、ガス供給部から供給されたガスがノズルの出力口からデブリを遠ざけるようにガスを導くガスロックカバーを含んでよい。ガスロックカバーは、筒状部と流路とを含んでよい。筒状部は、ノズルの下流側に配置され、ノズルから出力され内部を通過したドロップレットが出力される出力口を有してよい。ガス供給部から供給されたガスは、流路を通過してよい。流路は、通過したガスが筒状部の内部から筒状部の出力口に流れるように、通過するガスの流れを画定してよい。流路は、筒状部の内部に連通し、流入したガス流を異なる方向に分散させて筒状部の内部に導く緩衝空間を含んでよい。
本開示の他の観点によれば、ドロップレットの軌道を変動させるデブリのノズルへの付着を、ガス流によって抑制すると共に、ガス流によるドロップレットの軌道変動を抑制し得る。
２．用語の説明
本開示において使用される用語を以下に説明する。「ガスロック装置」は、ガス流によって所定領域へのデブリの付着を抑制する装置である。「ノズル孔」はノズルに形成されドロップレット材料が出力される孔であり、「ノズルの出力口」はノズル孔の先端の口である。
「デブリ」は、チャンバ内に供給されたターゲット物質のうちプラズマ化されなかった物質及びプラズマから放出されるイオン粒子や中性粒子を含み、ノズルに付着してドロップレットの正確な供給を阻害し得る物質である。「ノズル又はノズル孔からドロップレットが出力される」とは、ドロップレットがノズル孔を通過する状態の他、ノズル出力口から出力されたジェットからドロップレットが生成され、出力される状態を含む。
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給部２６を含んでもよい。
チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部２６から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。チャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。
ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度の少なくとも一つを検出するよう構成されてもよい。ターゲット２７は、ドロップレット２７とも呼ばれ得る。
また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収器２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
３．２ 動作
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
ターゲット供給部２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて吐出するよう構成されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射され得る。
放射光２５１に含まれるＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が供給されるタイミング、ターゲット２７の出力方向等を制御するよう構成されてもよい。
さらに、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の発光タイミングの制御、パルスレーザ光３２の進行方向の制御及びパルスレーザ光３３の集光位置の制御の内少なくとも１つを行うよう構成されてよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてよい。
４．ターゲット生成部を含むＥＵＶ光生成システム
４．１ 構成
図２は、ターゲット生成装置２７５を含むＥＵＶ光生成システム１１の一部構成を模式的に示している。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲット制御部５１とレーザ制御部５５とを含んでもよい。ターゲット制御部５１は、ターゲット生成装置２７５の他の構成要素の動作を制御してもよい。レーザ制御部５５は、レーザ装置３の動作を制御してもよい。
ターゲット生成装置２７５は、ターゲット制御部５１、温度制御部５１１、ヒータ電源５１２、圧力調節部５１３、ピエゾ電源５１４、ドロップレット供給部２６０、及び不活性ガス供給源５２１を含んでもよい。
ドロップレット供給部２６０は、チャンバ２に取り付けられてもよい。ドロップレット供給部２６０は、タンク６１、ヒータ２６１、温度センサ２６２及びピエゾ素子２６４を有してもよい。タンク６１は、その先端に細径の突出部２６５を有してもよい。
タンク６１の一部が、チャンバ２の壁面に形成された貫通孔を貫通しており、タンク６１の突出部２６５が、チャンバ２の内部に位置してもよい。突出部２６５には、融解したドロップレット材料２７０を吐出するためのノズル孔が形成されてもよい。ドロップレットの材料は、ドロップレット材料とも呼び得る。ヒータ２６１及び温度センサ２６２は、タンク６１の外側に固定されてもよい。ピエゾ素子２６４は、突出部２６５の外側に固定されてもよい。
４．２ 動作
ドロップレット供給部２６０は、ヒータ２６１を用いて、融解した状態のドロップレット材料２７０をタンク６１内に貯蔵してもよい。ターゲットの材料は、例えば、スズであってもよい。ターゲット制御部５１は、タンク６１内のスズが液体となるように、温度制御部５１１を介してヒータ電源５１２を制御することで、ヒータ２６１の温度を制御してもよい。その結果、タンク６１内に貯蔵されたスズは融解し得る。
ターゲット制御部５１は、ピエゾ電源５１４を制御して、ピエゾ素子２６４に、突出部２６５から吐出された液体スズがドロップレットを生成する周波数の電気信号を送ってもよい。
圧力調節部５１３は、不活性ガス供給源５２１からタンク６１へ供給される不活性ガスの圧力を調節してよい。ターゲット制御部５１は、圧力調節部５１３によりタンク６１内の圧力を制御してもよい。圧力調節部５１３は、ターゲット制御部５１の指示に応じて、ドロップレット２７が所定の速度及び設計軌道２７２でプラズマ生成領域２５に到達するように、タンク６１内の圧力を所定値に調節してもよい。
所定の速度は、例えば、６０ｍ／ｓ〜１１０ｍ／ｓであってもよい。タンク６１内の圧力の所定値は、１０ＭＰａ〜２０ＭＰａであってもよい。その結果、突出部２６５の孔から所定の速度で、ドロップレット材料のジェット２７７が吐出され得る。
ターゲット制御部５１は、ピエゾ電源５１４にキャリア周波数ｆｃの電気信号を送ることによって、ピエゾ素子２６４をキャリア周波数ｆｃで振動させてもよい。突出部２６５は、ピエゾ素子２６４の振動により、キャリア周波数ｆｃで振動し得る。キャリア周波数ｆｃは、例えば１５００ｋＨｚであってもよい。
突出部２６５がキャリア周波数ｆｃで振動することによって、ジェット２７７はキャリア周波数ｆｃで振動し得る。その結果、ジェット２７７からドロップレット２７が、キャリア周波数ｆｃで生成され得る。
出力されたドロップレット２７の直径は２０μｍ〜３０μｍであってもよい。レーザ制御部５５はレーザ装置３を制御して、プラズマ生成領域２５にドロップレット２７が到達するのと同期して、プラズマ生成領域２５にパルスレーザ光３３を照射してもよい。その結果、ドロップレット２７はプラズマ化し、ＥＵＶ光が生成され得る。
一方、パルスレーザ光３３が照射されなかったドロップレット２７は、プラズマ生成領域２５を通過してターゲット回収器２８に入り、液体スズとして貯蔵され得る。
４．３ ドロップレット供給部の先端構成の比較例
図３は、図２におけるタンク６１の突出部２６５の先端部６５０の比較構成例を示している。先端部６５０は、タンク６１の出力管６５１と、出力管６５１の先端に固定されたノズル６６０を有してもよい。出力管６５１は、加圧されたドロップレット材料２７０が流れる流路６５２を有してもよい。流路６５２の内径は、ドロップレット材料２７０を収容するタンク６１本体の内径よりも小さくてもよい。
ノズル６６０の上流側には、フィルタ６５４、６５５が積層配置されてもよい。フィルタホルダ６５３は、フィルタ６５４、６５５を保持し、出力管６５１に固定してもよい。シム６５６は、フィルタ６５４、６５５の上流側に配置され、フィルタ６５４、６５５への圧力を調節し得る。
フィルタ６５４、６５５は、流路６５２を流れるドロップレット材料２７０の不純物を除去し得る。フィルタ６５４、６５５は、異なる粗さを有してもよい。フィルタの数は設計に依存し得る。フィルタは省略されてもよい。
ノズルホルダ６５７は、ノズル６６０を保持し、ノズル６６０を出力管６５１に固定してもよい。ノズルホルダ６５７は、１又は複数のボルト６５８によって、出力管６５１に固定されてもよい。
ノズル６６０は、ドロップレット材料２７０を出力するノズル孔６６１を有してもよい。ノズル孔６６１は、その先端に、ノズル６６０の出力口（ノズル出力口）６６２を有してもよい。上述のように、ドロップレット材料のジェット２７７が、ノズル出力口６６２から出力され得る。
４．４ 課題
パルスレーザ光３３が照射されたドロップレット２７がプラズマ化し、ＥＵＶ光が生成される際、ドロップレット２７は、プラズマの膨張圧力による衝撃により拡散し得る。パルスレーザ光３３が照射されなかったドロップレット２７は、ターゲット回収器２８に回収される際、拡散し得る。拡散したドロップレット材料は、チャンバ２内に微細な汚染物質のデブリとなって拡散し得る。拡散したデブリは、ノズル６６０のノズル孔６６１及びその近傍に付着し得る。ノズル６６０に付着したデブリは、安定したドロップレットの生成を阻害し得る。
５．実施形態
５．１ 実施形態１：ガスロック装置を備えたターゲット生成装置
＜構成＞
図４は、本実施形態のターゲット生成装置２７５の一部構成を模式的に示している。ターゲット生成装置２７５は、ノズル６６０のノズル孔６６１及びノズル出力口６６２の近傍へのデブリの付着を抑制するガスロック装置４００を含んでもよい。ガスロック装置４００は、ガス流によって、ノズル出力口６６２からデブリを遠ざけ、デブリがノズル孔６６１及びノズル出力口６６２の近傍へ付着することを抑制し得る。
ガスロック装置４００は、ノズル６６０の下流側に配置され、ノズル出力口６６２の周囲を覆うガスロックカバー４１０と、ガスロックカバー４１０に対してロックガスを供給するガス供給部４５０と、を含んでもよい。ガス供給部４５０とガスロックカバー４１０とは、中継配管４２０により接続されてもよい。
ガス供給部４５０は、流量調節器４５１、レギュレータ４５２及びガス供給源４５３を含んでもよい。流量調節器４５１は、ガス供給源４５３から中継配管４２０を介してガスロックカバー４１０に供給されるロックガスの流量を調整し得る。レギュレータ４５２は、ガス供給源４５３からのガス圧力を調整し得る。ターゲット制御部５１は、流量調節器４５１及びレギュレータ４５２を制御して、ガスロックカバー４１０へのロックガスの流量及び圧力を制御してもよい。
ガス供給部４５０は、ロックガスとして、ドロップレット材料と反応して常温で気体となる物質を生成する反応性ガスを供給してよい。ドロップレット材料がＳｎの場合、供給されるガスは、Ｈ２を含むガスでもよい。ＳｎとＨ２が反応することで、常温で気体であるＳｎＨ４が生成される。ガス供給部４５０は、反応性ガスに代えて希ガス等の不活性ガスを供給してもよい。
ガスロックカバー４１０は、筒状部４０１と、筒状部４０１の上流側において筒状部４０１を支持する支持部４０３と、筒状部４０１の内部（筒状部内部）４０５へロックガスを導く流路４０４と、を有してもよい。流路４０４は、管４０８内において画定されていてもよい。管４０８は、中継配管４２０を介してガス供給部４５０と接続してよい。
ガスロックカバー４１０は、ノズル６６０の下流側に配置され、ノズル出力口６６２の周囲を覆い、ロックガス流によりノズル出力口６６２からデブリが遠ざかるように、ロックガスを導き得る。
支持部４０３は、ボルト６５８によって、ノズルホルダ６５７に密着するように固定されてもよい。支持部４０３は、平板状であって、ノズル出力口６６２の全周を囲んでいてもよい。支持部４０３とノズルホルダ６５７との間にＯリングを配置してシールしてもよい。
筒状部４０１は、ノズル出力口６６２の下流側に配置、固定され、プラズマ生成領域２５に向けて延びていてよい。ドロップレット設計軌道２７２は、筒状部内部４０５を通過してよい。ノズル出力口６６２は、筒状部４０１の中心軸を伸ばした線上にあってよく、筒状部４０１の中心軸は、ドロップレット設計軌道２７２上にあってもよい。筒状部４０１は、ドロップレットを出力する出力口（筒状部出力口）４０２を有してもよい。ノズル出力口６６２を含む部分は、筒状部出力口４０２においてのみ、ガスロックカバー４１０からチャンバ２の内部に露出していてよい。
筒状部４０１の材質は、ドロップレット材料と反応しにくい物質、例えばＭｏ等であってもよい。または、筒状部４０１の表面は、ドロップレット材料と反応しにくい物質によってコーティングされていてもよい。
流路４０４は、筒状部４０１の側部において、筒状部内部４０５に連通してもよい。ロックガス流入口４０６が筒状部内部４０５の側面に形成され、流路４０４は、ロックガス流入口４０６において筒状部内部４０５と連結してよい。ロックガス流入口４０６における、ドロップレット設計軌道２７２に対する流路４０４の入射角αは、０°より大きくてもよい。
入射角αは、４５°以上であってもよく、６０°以上であってもよい。入射角αは、ロックガス流入口４０６における流路４０４の中心軸とドロップレット設計軌道２７２との間で定義され得る。
ガス供給部４５０から供給されたロックガスは、流路４０４を通過し得る。流路４０４を通過したロックガスが、筒状部内部４０５から筒状部出力口４０２に流れるように、流路４０４は、ロックガスの流れを画定してもよい。
筒状部内部４０５の断面は、円又は多角形であってもよい。筒状部内部４０５の表面は、滑面であってもよい。これにより、ロックガス流の乱れによるドロップレット軌道の乱れを抑制し得る。
筒状部４０１の内径Ｄ及びロックガス流入口４０６から筒状部出力口４０２までの距離Ｌは、ノズル６６０へのデブリの付着を抑制するために必要なガスロック機能を実現すると共に、ロックガス流量を低減するように設計し得る。また、ドロップレットが軌道の変動により筒状部内部４０５に付着しないように設計され得る。例えば、内径Ｄは３ｍｍ、距離Ｌは４ｍｍ以上の値に設定され得る。
＜動作＞
ターゲット供給を開始する場合、ターゲット制御部５１は、流量調節器４５１によって筒状部内部４０５に、Ｈ２を含むロックガスを供給してもよい。このとき、ロックガスの流量は、例えば、４２ｓｃｃｍ以上であってもよい。
ガス供給部４５０から供給されたロックガスは、中継配管４２０及びガスロックカバー４１０の流路４０４を通過して、筒状部内部４０５に流入し得る。流路４０４からロックガス流入口４０６を介して筒状部内部４０５に流入したロックガスは、筒状部出力口４０２に流れ得る。このように、ガスロックカバー４１０は、筒状部出力口４０２からプラズマ生成領域２５に向かうロックガス流を生成し得る。
ノズル６６０から出力されたドロップレットは、筒状部内部４０５を通過して、筒状部出力口４０２からプラズマ生成領域２５に向かって出力されてもよい。筒状部内部４０５に流入するガス流の角度は、ロックガス流入口４０６における流路４０４の角度に依存し得る。ドロップレットの軌道に対する筒状部内部４０５に流入するロックガス流の入射角は、０°より大きくてもよく、４５°以上、さらには６０°以上であってもよい。これにより、ロックガス流によるドロップレット軌道への影響を低減し得る。
チャンバ２内においてデブリが飛散しても、筒状部内部４０５を通過して筒状部出力口４０２から出力されるロックガス流によって、ノズル６６０に向かうデブリの運動量を減じ得る。ドロップレット材料がＳｎである場合、ロックガス流にさらされるデブリの一部は、Ｈ２と反応してガス状のＳｎＨ４となり得る。
＜作用＞
ガスロック装置４００はノズル６６０への付着物を低減し得るので、ノズル６６０は、ドロップレット物質を長期間安定して出力し得る。このため、ＥＵＶ光生成システム１１は、ＥＵＶ光を安定して生成し得る。
＜筒状部の構造＞
筒状部４０１の構造について説明する。筒状部４０１におけるペクレ数は以下の式（１）で表され得る。ペクレ数を大きくすると、ガスロック機能の効果を大きくし得る。
Figure 2015099058
 Ｐｅ：ペクレ数
ｖ：筒状部内部におけるロックガスの流速（ｍ／ｓ）
Ｄｆ：ロックガス中におけるデブリの拡散係数（ｍ２／ｓ）
Ｌ：筒状部出力口からロックガス流入口までの長さ（ｍ）
例えば、筒状部が円柱状である場合、ペクレ数は以下の式（２）で表され得る。
Figure 2015099058
 Ｑ：筒状部内部において圧力当たりの通過するロックガス流量（Ｐａ・ｍ３／ｓ）
Ｐ：筒状部内部の圧力（Ｐａ）
Ｄ：筒状部の内径（ｍ）
式（２）において、Ｌを４ｍｍ、Ｄを３ｍｍ、圧力と拡散係数の積Ｐ・Ｄｆを８Ｐａ・ｍ２／ｓとすると、必要ペクレ数が５以上の場合、必要流量は４２ｓｃｃｍ以上であり得る。必要ペクレ数が１０以上の場合、必要流量は８５ｓｃｃｍ以上であり得る。さらに、必要ペクレ数が２０以上の場合、必要流量は１６８ｓｃｃｍ以上であり得る。
デブリによる汚染を抑制する割合Ｒは、（ガスロック使用時のデブリ質量／ガスロック不使用時のデブリ質量）であり、以下の式（３）で表され得る。
Ｒ＝ＥＸＰ（Ｐｅ） （３）
式（３）から、ペクレ数を大きくすることで、デブリがノズル６６０に到達するのをより効果的に抑制し得る。式（２）から、ペクレ数を大きくするための以下の事項が導出され得る。
（ａ）ロックガス流量Ｑを大きくする。
（ｂ）ロックガス流入口から筒状部出力口までの距離Ｌを大きくする。
（ｃ）筒状部の内径Ｄを小さくする。
しかし、筒状部４０１の長さには制限があり得る。例えば、筒状部４０１が長すぎると、ＥＵＶ光の光路中に筒状部４０１が入り、ＥＵＶ光を遮光し得る。また、ロックガス流量Ｑを大きくする又は筒状部４０１の内径Ｄを小さくすると、ロックガス流の影響でドロップレット軌道が大きく乱れ得る。
したがって、ロックガス流によるドロップレット軌道の乱れを低減する構造が望まれ得る。本実施形態において、ドロップレット設計軌道２７２に対する流路４０４の入射角αは、０°より大きくてもよく、４５°以上、さらには、６０°以上であってもよい。これによって、ロックガス流によるドロップレット軌道の乱れを低減し得る。
５．２ 実施形態２：緩衝空間付きガスロック装置（１）
＜構成＞
本実施形態は、ロックガス流によるドロップレット軌道の乱れを低減するガスロック装置４００の構成例を示す。図５Ａ及び図５Ｂは、本実施形態のガスロックカバー４１０の構成例を模式的に示している。図５Ｂは、図５ＡにおけるＶＢ−ＶＢ断面を示す。
ガスロックカバー４１０は、ロックガスの流路４０４において、緩衝空間４３０を有してよい。緩衝空間４３０は、管４３５から筒状部内部４０５に至る流路４０４において形成されてもよい。緩衝空間４３０は、筒状部４０１の外周を囲むように形成されてもよい。図５Ａにおいて、流路４０４は、管４３５内の空間及び緩衝空間４３０を含んでもよい。
緩衝空間４３０は、筒状部４０１を取り囲むように形成された壁部４３６、４３７と筒状部４０１との間の空間として構成されてもよい。壁部４３６は、筒状部４０１の外周面と平行であってよい。壁部４３７は、壁部４３６と筒状部出力口４０２とを繋いでもよい。壁部４３６は支持部４０３と連続してもよい。
筒状部４０１のドロップレット入力口４０７は、緩衝空間４３０に露出してもよい。緩衝空間４３０は、ドロップレット入力口４０７を介して、筒状部内部４０５と連通してもよい。
管４３５は、壁部４３６の側面に形成されたロックガス流入口４３１において、接続されてもよい。緩衝空間４３０へのロックガス流入口４３１は、筒状部４０１の外周面と対向してもよい。ロックガス流入口４３１は、ドロップレット設計軌道２７２に沿った方向において、ドロップレット入力口４０７とノズル出力口６６２の間に位置してもよい。
＜動作＞
ガス供給部４５０から供給されたロックガスは、管４３５内の流路４０４を通り、ロックガス流入口４３１から緩衝空間４３０に入ってもよい。図５Ａ及び図５Ｂに示すように、緩衝空間４３０は、流入したロックガス流を異なる方向に分散させて、筒状部内部４０５に導き得る。緩衝空間４３０に流入したロックガスは、筒状部４０１の円周方向及び軸方向において分散し得る。緩衝空間４３０において、ロックガスの流速は低下し得る。
緩衝空間４３０において分散したロックガス流は、様々な異なる方向から、筒状部内部４０５に、ドロップレット入力口４０７から流入してよい。図５Ａ及び図５Ｂに示すように、ロックガスは、ドロップレット入力口４０７の全周方向から、筒状部内部４０５に流入し得る。
＜作用＞
緩衝空間４３０によって、管４３５から流入するロックガスが、直接にドロップレットに当ることを抑制し得る。緩衝空間４３０は、流入したガス流を異なる方向に分散させて筒状部内部４０５に導き得るので、ロックガスが多くの異なる方向から筒状部内部４０５に流入し得る。これにより、各方向におけるロックガス流の流速が低下し、さらに、対向方向からのロックガスの流入により、ドロップレット軌道の変動を抑制し得る。
５．３ 実施形態３：緩衝空間付きガスロック装置（２）
＜構成＞
本実施形態は、ロックガス流によるドロップレット軌道の乱れを低減するガスロック装置４００の構成例を示す。図６Ａ及び図６Ｂは、本実施形態のガスロックカバー４１０の構成例を模式的に示している。図６Ｂは、ガスロックカバー４１０の構成要素である支持部４０３のノズル対向面を示す。
ガスロックカバー４１０は、ロックガスの流路４０４において、緩衝空間４３０を有してもよい。ガスロックカバー４１０は、入力側部６４０、支持部４０３及び筒状部４０１を含んでもよい。支持部４０３は、ノズル６６０を支持しタンク６１に固定する、ノズルホルダの機能を有してもよい。
緩衝空間４３０は、入力側部６４０と支持部４０３との間に形成されてもよい。図６Ａにおいて、流路４０４は、管４３５内の空間及び緩衝空間４３０を含んでもよい。緩衝空間４３０は、ドロップレットの出力方向において見た場合に筒状部内部４０５を囲むように形成された外側リング状空間６３１及び内側リング状空間６３８を含んでよい。外側リング状空間６３１及び内側リング状空間６３８の中心は、筒状部内部４０５の中心又はドロップレット設計軌道２７２と一致してもよい。
外側リング状空間６３１は、円状に配置された複数の島状部６３４と外側壁部６３３との間で画定された空間であってもよい。内側リング状空間６３８は、複数の島状部６３４と筒状部４０１のドロップレット入力口４０７との間における空間であってもよい。複数の島状部６３４は、それぞれ、ノズル６６０と接触し、ノズル６６０を支持すると共に、ロックガスの流れを規制してもよい。
緩衝空間４３０は、さらに、外側リング状空間６３１と内側リング状空間６３８との間の放射状空間６３２を含んでよい。放射状空間６３２は、円状に配置された複数の島状部６３４の間に形成されていてもよい。放射状空間６３２は、内側リング状空間６３８を介して、外側リング状空間６３１と筒状部内部４０５を連通してもよい。内側リング状空間６３８は省略されてもよい。
放射状空間６３２は、複数の空間ペアで構成され、当該複数の空間ペアのそれぞれは、筒状部内部４０５の中心について対向する位置にあってもよい。放射状空間６３２は、同一形状又は異なる形状を有してよい。放射状空間６３２は、筒状部内部４０５の中心又はドロップレット設計軌道２７２について対称に配置されてよい。
筒状部４０１は、入力端においてテーパ内面を有してもよい。筒状部４０１のドロップレット入力口４０７は、緩衝空間４３０に露出してもよい。緩衝空間４３０は、ドロップレット入力口４０７を介して筒状部内部４０５と連通してもよい。
管４３５は、ロックガス流入口６３７において、外側リング状空間６３１に連通してもよい。外側リング状空間６３１へのロックガス流入口６３７は、一つの島状部６３４の外周面と対向してもよい。
＜動作＞
ガス供給部４５０から供給されたロックガスは、管４３５内の流路４０４を通り、ロックガス流入口６３７から緩衝空間４３０に入ってもよい。図６Ａ及び図６Ｂに示すように、緩衝空間４３０は、流入したロックガス流を異なる方向に分散させて、筒状部内部４０５に導き得る。緩衝空間４３０において、ロックガスの流速は低下し得る。
具体的には、ロックガス流入口６３７から流入したロックガスは、両周方向において外側リング状空間６３１を流れ得る。ロックガスは、さらに、放射状空間６３２のそれぞれを通って、筒状部４０１のドロップレット入力口４０７に至り得る。ロックガスは、放射状の方向から、筒状部内部４０５に流入し得る。
＜作用＞
外側リング状空間６３１及び放射状空間６３２によって、管４３５から流入するロックガスが、直接にドロップレットに当ることを抑制し得る。外側リング状空間６３１及び放射状空間６３２は流入したガス流を異なる方向に分散させて筒状部内部４０５に導き得るので、ロックガスが多くの異なる方向から筒状部内部４０５に流入し得る。
これにより、各方向におけるロックガス流の流速が低下し、さらに、対向方向からのロックガスの流入により、ドロップレット軌道の変動を抑制し得る。放射状空間６３２により、筒状部内部４０５へのロックガス流入方向をより確実に制御し得る。
５．４ 実施形態４：緩衝空間付きガスロック装置（３）
本実施形態は、ロックガス流によるドロップレット軌道の乱れを低減するガスロック装置４００の構成例を示す。以下においては、実施形態２との相違点について主に説明する。図７Ａ〜図７Ｃは、本実施形態のガスロックカバー４１０の構成例を模式的に示している。図７Ｂは、ガスロックカバー４１０の斜視図を示し、図７Ｃは、ガスロックカバー４１０の出力側端面の構成例を示す。
筒状部４０１の入力側端は、支持部４０３に連続してもよい。筒状部４０１は、出力側端において、プラズマ生成領域２５に近づくにつれて外側に広がるテーパ面７０１を有してもよい。テーパ面７０１は、筒状部内部４０５の面であってもよい。テーパ面７０１には、複数のロックガス噴出口７０２が形成されてもよい。
複数のロックガス噴出口７０２は、筒状部４０１の中心又はドロップレット設計軌道２７２を中心に対称に配置されてもよい。各ロックガス噴出口７０２に対して、対向するロックガス噴出口７０２が存在してもよい。
ロックガス噴出口７０２の数及び形状は設計に依存し得る。例えば、図７Ｃに示すように、ロックガス噴出口７０２の形状は、円形状又は円弧スリット形状でもよい。円形状のロックガス噴出口７０２は、例えば、１０〜１００μｍの直径を有してもよい。
緩衝空間４３０内のロックガスは、ロックガス噴出口７０２から噴出してもよい。ロックガスの噴出方向は、ドロップレット設計軌道２７２に向かう成分と、ドロップレットの出力方向を向く成分とを有してもよい。各ロックガス噴出口７０２に対して対向するロックガス噴出口７０２が存在し、ロックガスによるドロップレット軌道の変動を低減し得る。
５．５ 実施形態５：緩衝空間付きガスロック装置（４）（ダンパ部材付き）
図８は、ドロップレット供給部２６０から出力されるドロップレットの状態を模式的に示す。図８（ａ）は、ドロップレット供給部２６０からドロップレット材料の出力を開始した直後のドロップレット２７１の状態を模式的に示している。図８（ｂ）は、ドロップレット供給部２６０から定常的にジェット２７７及びドロップレット２７１を出力している状態を模式的に示している。
図８（ｃ）は、ドロップレット供給部２６０からドロップレット材料の出力を停止する直前のドロップレット２７１の状態を模式的に示している。ドロップレット供給部２６０の動作状態は、図８（ａ）、図８（ｂ）、図８（ｃ）の順で変化し得る。
ドロップレット供給部２６０からのドロップレット材料の出力開始直後と出力停止直前は、タンク６１内でドロップレット材料に印加される圧力は低くなり得る。そのため、ドロップレット材料の出力開始直後と出力停止直前において、ドロップレット２７１の軌道が不安定になり得る。
ドロップレット２７１の軌道が不安定な場合、ドロップレット２７１は緩衝空間を形成する壁によって反射され、結果的にノズル６６０に付着し得る。ドロップレット設計軌道２７２から傾いて出力されるドロップレット２７１の運動量を低減させ、ノズル６６０に付着するのを抑制するために、緩衝空間内部にダンパ部材を配置してもよい。
図９は、本実施形態のガスロックカバー４１０の構成例を模式的に示している。以下においては、実施形態２との相違点について主に説明する。ガスロックカバー４１０は、緩衝空間４３０内にダンパ部材９０１を有してもよい。例えば、図９に示すように、緩衝空間４３０の底面にダンパ部材９０１を有してもよい。ダンパ部材９０１は、他の位置に配置されてもよい。ダンパ部材９０１は、衝突したドロップレットの衝撃を減衰し、衝突したドロップレットはダンパ部材９０１に付着し得る。
ダンパ部材９０１は、例えば、炭素繊維で構成された黒鉛化フェルトで形成されてもよい。黒鉛化フェルトは３次元の網目状に炭素繊維がからんでいるため、ドロップレットが衝突した場合、衝撃を吸収し得る。その結果、ドロップレットの反射を抑制し得る。
ダンパ部材９０１は、多孔質のセラミック材料（ガラス材料も含む）又は発泡金属で形成されてもよい。ダンパ部材９０１の材料は、たとえば、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、又は酸化アルミニウム・酸化ケイ素ガラスからなる多孔質材料であってもよく、ニッケルやアルミニウム等による発泡金属でもよい。ダンパ部材９０１は、石英のガラス繊維からなる織布であってもよい。
緩衝空間４３０を画定する壁部４３６、４３７は、タンク６１に備えられたヒータ２６１からの伝熱により加熱されてもよい。同様に、ダンパ部材９０１もヒータ２６１からの伝熱により加熱されてよい。緩衝空間４３０を画定する壁部４３６、４３７にヒータが配置され、ダンパ部材９０１を加熱してもよい。
ダンパ部材９０１の材料は、ドロップレット材料である融解スズとの接触角が９０°以下となる材料から選択してよい。例えば、ダンパ部材９０１の材料は、アルミニウム、銅、シリコン、ニッケル、チタン及びモリブデンから選択し得る。
例えば、ダンパ部材９０１がニッケルやアルミニウム等による発泡金属で形成されている場合、ダンパ部材９０１に接触するドロップレットを融解して発泡金属内部に貯蔵し得る。これにより、傾いた軌道で出力されたドロップレットがダンパ部材９０１の表面に堆積し、衝撃吸収効果が減ずることを抑制し得る。
５．６ 実施形態６：緩衝空間付きガスロック装置（５）（傾斜ダンパ部材付き）
図１０は、本実施形態のガスロックカバー４１０の構成例を模式的に示している。以下においては、実施形態５との相違点について主に説明する。図１０に示すように、緩衝空間４３０内において、筒状部４０１の外周面９５１上にダンパ部材９０２が配置されてもよい。筒状部４０１の外径は、出力方向において増加してもよい。同様に、筒状部４０１の外周面上９５１のダンパ部材９０２の外径は、出力方向において増加してもよい。
ドロップレット設計軌道２７２から外れたドロップレットの軌道２７８において、筒状部４０１の外周面上９５１のダンパ部材９０２に対するドロップレット入射角βは０°以上であってもよく、ダンパ部材９０２の形状により入射角βを大きくし得る。ダンパ部材９０２に対するドロップレット入射角βが大きいことで、ダンパ部材９０１によってドロップレットが反射された場合、ドロップレットがノズル６６０に向かって反射されるのを抑制し得る。
図１１は、本実施形態のガスロックカバー４１０の他の構成例を模式的に示している。図１１に示すように、筒状部内部４０５の内径は、ドロップレット出力方向において増加してもよい。つまり、筒状部４０１の内面９６１は、ドロップレット設計軌道２７２に対して傾き、ドロップレット設計軌道２７２と内面９６１との距離は、プラズマ生成領域２５の近づくにつれて増加してもよい。
ドロップレットが正常に出力されず、ドロップレット設計軌道２７２から僅かに傾いて出力される場合、筒状部４０１の内面９０６にドロップレットが付着し得る。付着したドロップレットとＨ２とが反応してＳｎＨ４が生成され、伝熱により加熱されている筒状部内部４０５で析出し、ドロップレット設計軌道２７２を塞ぎ得る。
筒状部４０１内径を下流側で増加させることで、ドロップレット設計軌道２７２から僅かに傾いて出力されるドロップレットが筒状部内面９６１に付着するのを抑制し得る。図１１の構成において、ダンパ部材９０１、９０２は、省略されてもよい。筒状部４０１は、一定の外径を有し、下流側で増加する内径を有してもよい。
以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換え得る。ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加え得る。各実施形態の構成の一部について、削除、他の構成の追加、他の構成による置換をし得る。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
本願は２０１３年１２月２６日に出願された国際出願であるＰＣＴ／ＪＰ２０１３／８４９３３に基づく優先権を主張し、この出願の全ての内容は参照により本明細書に組み込まれる。

Claims (15)

  1. プラズマ生成領域においてドロップレットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置において使用されるターゲット生成装置であって、
    ドロップレット材料を収容するタンクと、
    前記タンクを加熱して前記ドロップレット材料を融解するヒータと、
    前記タンクの先端に配置され、ドロップレットを前記プラズマ生成領域に向けて出力するノズルと、
    前記ノズルを前記タンクに固定するノズルホルダと、
    ガスを供給するガス供給部と、
    前記ノズルホルダに固定され、前記ノズルの下流側に配置され、前記ノズルの出力口の周囲を覆い、前記ガス供給部から供給されたガスを導くガスロックカバーと、を含み、
    前記ガスロックカバーは、
    前記ノズルの下流側に配置され、前記ノズルから出力されたドロップレットが内部を通過し、前記内部を通過したドロップレットが出力される出力口を有する筒状部と、
    前記ガス供給部から供給されたガスが通過する流路であって、前記通過したガスが前記筒状部の内部から前記筒状部の出力口に流れるように、前記通過するガスの流れを画定する流路と、を含む、ターゲット生成装置。
  2. 請求項１に記載のターゲット生成装置であって、前記筒状部の内面は滑面である、ターゲット生成装置。
  3. 請求項１に記載のターゲット生成装置であって、前記ドロップレット材料はスズであり、前記ガスは水素を含む、ターゲット生成装置。
  4. 請求項１に記載のターゲット生成装置であって、前記筒状部の内部に流入するガス流の、前記ドロップレットの設計軌道に対する入射角は４５度以上である、ターゲット生成装置。
  5. 請求項１に記載のターゲット生成装置であって、前記筒状部の内径は、前記ドロップレットの出力方向において増加している、ターゲット生成装置。
  6. 請求項１に記載のターゲット生成装置であって、前記流路は、前記筒状部の内部に連通し、流入したガス流を異なる方向に分散させて前記筒状部の内部に導く緩衝空間を含む、ターゲット生成装置。
  7. プラズマ生成領域においてドロップレットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置において使用されるターゲット生成装置であって、
    融解したドロップレット材料を収容するタンクと、
    前記タンクの先端に配置され、ドロップレットを前記プラズマ生成領域に向けて出力するノズルと、
    前記ノズルを前記タンクに固定するノズルホルダと、
    ガスを供給するガス供給部と、
    前記ノズルホルダに固定され、前記ノズルの下流側に配置され、前記ガス供給部から供給されたガスを導くガスロックカバーと、を含み、
    前記ガスロックカバーは、
    前記ノズルの下流側に配置され、前記ノズルから出力されたドロップレットが内部を通過し、前記内部を通過したドロップレットが出力される出力口を有する筒状部と、
    前記ガス供給部から供給されたガスが通過する流路であって、前記通過したガスが前記筒状部の内部から前記筒状部の出力口に流れるように前記通過するガスの流れを画定する流路と、を含み、
    前記流路は、前記筒状部の内部に連通し、流入したガス流を異なる方向に分散させて前記筒状部の内部に導く緩衝空間を含む、ターゲット生成装置。
  8. 請求項７に記載のターゲット生成装置であって、前記緩衝空間は、前記筒状部の外周を囲むように形成され、前記筒状部の前記ドロップレットの入力口を介して前記筒状部の内部と連通する、ターゲット生成装置。
  9. 請求項７に記載のターゲット生成装置であって、前記緩衝空間への前記ガスの流入口は、前記筒状部の外周面と対向する、ターゲット生成装置。
  10. 請求項７に記載のターゲット生成装置であって、
    前記筒状部は、出力口端において外側に広がるテーパ面を有し、
    前記テーパ面は、前記緩衝空間に連通し前記ガスを噴き出す複数の噴出口を有する、ターゲット生成装置。
  11. 請求項１０に記載のターゲット生成装置であって、
    前記緩衝空間内に、衝突したドロップレットの衝撃を減衰し、前記衝突したドロップレットが付着するダンパ部材が配置されている、ターゲット生成装置。
  12. 請求項１１に記載のターゲット生成装置であって、
    前記ダンパ部材は前記筒状部の外周面に配置され、前記ダンパ部材の外径は、前記ドロップレットの出力方向において増加している、ターゲット生成装置。
  13. 請求項７に記載のターゲット生成装置であって、前記緩衝空間は、前記ドロップレットの出力方向において見た場合に前記筒状部の内部を囲むように形成されたリング状空間と、前記リング状空間と前記筒状部のとの間に形成されている放射状空間と、を含む、ターゲット生成装置。
  14. 請求項１３に記載のターゲット生成装置であって、前記放射状空間は、複数の空間ペアで構成され、前記複数の連通空間ペアのそれぞれは、前記筒状部の内部の中心について対向する空間で構成されている、ターゲット生成装置。
  15. 請求項１３に記載のターゲット生成装置であって、前記リング状空間の外側に前記ガスの流入口が形成されており、前記流入口は前記リング状空間の内側の壁と対向する、ターゲット生成装置。
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