JPWO2015079641A1 - 有機elパネル及びその製造方法、並びにカラーフィルター基板 - Google Patents
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Abstract
Description
(実施の形態)
《発明の態様》
本発明の一態様に係る有機ELパネルは、第1基板上に有機EL素子が形成された有機EL基板と、第2基板上に着色層が形成されたカラーフィルター基板とが、前記有機EL素子と前記着色層が対向した状態で、樹脂層を介して貼り合わされている有機ELパネルであって、前記カラーフィルター基板には、さらに、前記着色層上であって前記樹脂層と対向する面側に酸化マグネシウムを含む水分吸着層が蒸着により形成されており、前記水分吸着層の蒸着時における前記第2基板の基板温度は200℃以下であることとする。
本発明者らは酸化マグネシウムが透明性と水分吸着性に優れていることから、酸化マグネシウムをCFの水分吸着層に適用できないかと鋭意、研究を重ねてきた。その結果、基板温度を200℃以下で蒸着することにより、従来の一般的な酸化マグネシウムよりも屈折率が低く、且つ、一般的に樹脂層に用いられる樹脂材料の屈折率に近い酸化マグネシウムを作製できることが分かった。そこで、この酸化マグネシウムを含む水分吸着層を用いることで、CF基板の着色層の熱による劣化を抑えつつ、発光した光の利用効率の低下を抑制した有機ELパネルを発明するに至った。
図1は、本発明の一態様に係る有機ELパネル1を示す正面図である。図2は、図1に示す有機ELパネル1のA−A線で示す部分の断面図である。図2に示すように、有機ELパネル1は、有機EL基板10とCF基板20とが対向配置されており、樹脂層40を介して貼り合わされている。図1に示すように、封止部材30が、有機EL素子が形成された表示領域を囲むように配置されている。有機ELパネル1は所謂トップエミッション型であり、発光した光は図2の+Z軸方向に取り出される。有機ELパネル1の表示領域には画素Pxがマトリクス状に配置されている。
図2を用いて有機EL基板10を説明する。有機EL基板10は、TFT(薄膜トランジスタ:不図示)素子が各画素Px毎に形成されたTFT基板11上に、層間絶縁膜12、アノード13、発光層15、カソード16、及び封止層17からなる有機EL素子50を備える。各有機EL素子50同士の間であって、層間絶縁膜12とカソード16との間にはバンク14が形成されている。また、有機EL基板10は表示領域において、発光層15が各画素Px毎に、R(赤)に発光する発光層15(R)、G(緑)に発光する発光層15(G)、B(青)に発光する発光層15(B)を有する有機EL素子50が並列配置されて構成される。
図2を用いてCF基板20を説明する。CF基板20には、ガラス基板21上に(有機EL基板10側の主面側に)、R、G、Bの着色層22と、ブラックマトリクス(以下、BMと称す。)層23とが形成されている。そして、これらを被覆するように水分吸着層24が表示領域のほぼ全面に亘って形成されている。
封止部材30は、緻密な樹脂材料(例えばシリコーン系樹脂、アクリル系樹脂等)またはガラスからなる部材であって、有機EL基板10とCF基板20との間に有機EL基板10の表示領域を囲むように設けられている。これにより、有機EL基板10の表示領域を封止し有機EL素子50が水分や空気等に触れるのを防止している。尚、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルに封止部材30は必須ではなく、例えばマスキングテープを使用すれば封止部材30を省略可能である。
有機EL基板10は、TFT基板11上に有機EL素子50を含む積層構造を一般的な方法で作製する。
本実施の形態に係る水分吸着層24である酸化マグネシウムの効果を調べるべく、CFの着色層が熱に耐えられる上限温度が200℃であることを考慮して蒸着時のガラス基板の温度を変えたサンプルを図3の通り6つ用意した。ここでは簡単のため、着色層やBMのないガラス基板に酸化マグネシウムを単膜で成膜した。実施例1と実施例2は本実施の形態の範囲に含まれる基板温度である200℃以下でEB蒸着したサンプルである。比較例1〜比較例4は本実施の形態の範囲に含まれる基板温度より高い基板温度(200℃より高い基板温度)でEB蒸着したサンプルである。従って、実施例1と実施例2の基板温度はCFの着色層が耐えられる温度条件であり、比較例1〜比較例4の基板温度はCFの着色層が耐えられない温度条件である。図3には、各サンプルにおける屈折率と(111)強度の測定値、及び、CFにおける着色層の耐熱性のOK/NGを合わせて示した。屈折率は波長550nmの光に対する値である。本明細書中でいう屈折率の値はすべてこの波長における値とする。
10 有機EL基板
11 第1基板
20 CF基板
21 第2基板
22 着色層
24 水分吸着層
40 樹脂層
50 有機EL素子
Claims (9)
- 第1基板上に有機EL素子が形成された有機EL基板と、第2基板上に着色層が形成されたカラーフィルター基板とが、前記有機EL素子と前記着色層が対向した状態で、樹脂層を介して貼り合わされている有機ELパネルであって、
前記カラーフィルター基板には、さらに、前記着色層上であって前記樹脂層と対向する面側に酸化マグネシウムを含む水分吸着層が蒸着により形成されており、
前記水分吸着層の蒸着時における前記第2基板の基板温度は200℃以下であることを特徴とする有機ELパネル。 - 前記水分吸着層は、さらに、酸化カルシウム及び/または酸化ストロンチウムを含むことを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル。
- 前記水分吸着層の酸化マグネシウムは(111)配向をしていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機ELパネル。
- 第1基板上に有機EL素子が形成された有機EL基板と、第2基板上に着色層が形成されたカラーフィルター基板とが、前記有機EL素子と前記着色層が対向した状態で、樹脂層を介して貼り合わされている有機ELパネルであって、
前記カラーフィルター基板には、さらに、前記着色層上であって前記樹脂層と対向する面側に水分吸着層が形成されており、
前記水分吸着層は波長550nmの光に対する屈折率が1.5以上1.65以下の酸化マグネシウムを含み、且つ、前記水分吸着層の波長550nmの光に対する屈折率は1.72未満であることを特徴とする有機ELパネル。 - 前記水分吸着層は、さらに、酸化カルシウム及び/または酸化ストロンチウムを含むことを特徴とする請求項4に記載の有機ELパネル。
- 前記水分吸着層の酸化マグネシウムは(111)配向をしていることを特徴とする請求項4または5に記載の有機ELパネル。
- 透光性基板と、
前記透光性基板上に形成された着色層と、
前記着色層上に蒸着により形成された酸化マグネシウムを含む水分吸着層と、を備え、
前記水分吸着層の蒸着時における前記第2基板の基板温度は200℃以下であることを特徴とするカラーフィルター基板。 - 第1基板上に有機EL素子を形成して有機EL基板を作製する工程と、
第2基板上に着色層を形成した後、前記着色層上に酸化マグネシウムを含む水分吸着層を蒸着により形成してカラーフィルター基板を作製する工程と、
前記有機EL基板と前記カラーフィルター基板とを、前記有機EL素子と前記水分吸着層とが対向した状態で、樹脂層を介して貼り合せる工程とを、含み、
前記蒸着時における前記第2基板の基板温度が200℃以下であることを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 - 前記蒸着時において、蒸着雰囲気下の酸素濃度は0.02Pa以上0.09Pa以下であることを特徴とする請求項8に記載の有機ELパネルの製造方法。
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