JPWO2014142103A1 - Composition and single-layer coated horizontal alignment film - Google Patents

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Abstract

(A)式[1a]、[1b]及び[1c]で表される繰り返し単位を含有する重合体A、(B)式[6]で表される繰り返し単位を含有する重合体B、及び(C)有機溶媒を含有する組成物を提供する。[式中、X及びYは、それぞれ独立に式[2]又は[3]で表される基であり、M1は式[4]で表される基であり、M2は式[5]で表される基であり、Aは、直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、m、n及びpは、0<m<1、0<n<1、0≦p≦0.5、かつ、m+n+p≦1を満たす数であり、q及びrは、それぞれ独立に2〜9の整数である。](式中、R4は水素原子又はメチル基である、R5はメチル基、エチル基又はプロピル基である。)(A) Polymer A containing repeating units represented by formulas [1a], [1b] and [1c], (B) Polymer B containing repeating units represented by formula [6], and ( C) A composition containing an organic solvent is provided. [Wherein, X and Y are each independently a group represented by the formula [2] or [3], M1 is a group represented by the formula [4], and M2 is represented by the formula [5]. A is a linear or branched alkyl group, m, n and p are 0 <m <1, 0 <n <1, 0 ≦ p ≦ 0.5, and m + n + p ≦ 1, and q and r are each independently an integer of 2 to 9. (Wherein R4 is a hydrogen atom or a methyl group, R5 is a methyl group, an ethyl group or a propyl group)

Description

本発明は、組成物及び単層塗布型水平配向フィルムに関する。詳しくは、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有する材料、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板及び位相差板等の光学補償フィルム用として好適な液晶性重合体を含む組成物、及び該組成物から得られる単層塗布型水平配向フィルムに関する。   The present invention relates to a composition and a single-layer coating type horizontal alignment film. Specifically, a material having optical properties suitable for applications such as display devices and recording materials, in particular, a composition comprising a liquid crystalline polymer suitable for optical compensation films such as polarizing plates and retardation plates for liquid crystal displays, And a single-layer coated horizontal alignment film obtained from the composition.

液晶表示装置の表示品位の向上や軽量化等の要求から、偏光板や位相差板等の光学補償フィルムとして、内部の分子配向構造が制御された高分子フィルムの要求が高まっている。この要求に応えるべく、重合性液晶化合物が有する光学異方性を利用したフィルムの開発がなされている。ここで用いられる重合性液晶化合物は、一般に、重合性基と液晶構造部位(スペーサ部とメソゲン部とを有する構造部位)とを有する液晶化合物であり、この重合性基としてアクリル基が広く用いられている。   Due to demands for improving the display quality and weight reduction of liquid crystal display devices, there is an increasing demand for polymer films with controlled internal molecular orientation structures as optical compensation films such as polarizing plates and retardation plates. In order to meet this demand, development of a film utilizing the optical anisotropy of the polymerizable liquid crystal compound has been made. The polymerizable liquid crystal compound used here is generally a liquid crystal compound having a polymerizable group and a liquid crystal structure part (structure part having a spacer part and a mesogen part), and an acrylic group is widely used as the polymerizable group. ing.

このような重合性液晶化合物は、一般的に、紫外線等の放射線を照射して重合する方法で重合体(フィルム)とされる。例えば、アクリル基を有する特定の重合性液晶化合物を支持体間に担持し、この化合物を液晶状態に保持しつつ放射線を照射して重合体を得る方法(特許文献1)や、アクリル基を有する2種類の重合性液晶化合物の混合物又はこの混合物にカイラル液晶を混合した組成物に光重合開始剤を添加し、紫外線を照射して重合体を得る方法(特許文献2)が知られている。   Such a polymerizable liquid crystal compound is generally made into a polymer (film) by a method of polymerizing by irradiation with radiation such as ultraviolet rays. For example, a method in which a specific polymerizable liquid crystal compound having an acrylic group is supported between supports and a polymer is obtained by irradiating radiation while maintaining the compound in a liquid crystal state (Patent Document 1), or having an acrylic group There is known a method of obtaining a polymer by adding a photopolymerization initiator to a mixture of two kinds of polymerizable liquid crystal compounds or a composition obtained by mixing a chiral liquid crystal with this mixture and irradiating ultraviolet rays (Patent Document 2).

また、液晶配向膜を必要としない重合性液晶化合物や重合体を用いた配向フィルム(特許文献3、4)、光架橋部位を含有した重合体を用いた配向フィルム(特許文献5、6)等、様々な単層塗布型配向フィルムが報告されてきた。しかし、上記フィルム作製プロセスによって得られたフィルムの配向方向には、基板の表面の影響によるずれが見られる問題があり、このような問題を解決することが望まれていた。   In addition, an alignment film using a polymerizable liquid crystal compound or polymer that does not require a liquid crystal alignment film (Patent Documents 3 and 4), an alignment film using a polymer containing a photocrosslinking site (Patent Documents 5 and 6), etc. Various single-layer coated orientation films have been reported. However, the orientation direction of the film obtained by the film production process has a problem that a shift due to the influence of the surface of the substrate is observed, and it has been desired to solve such a problem.

特開昭62−70407号公報JP-A-62-70407 特開平9−208957号公報JP-A-9-208957 欧州特許出願公開第1090325号明細書European Patent Application No. 1093025 国際公開第2008/031243号International Publication No. 2008/031243 特開2008−164925号公報JP 2008-164925 A 特開平11−189665号公報JP 11-189665 A

本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、簡単なプロセスによる単層塗布型水平配向フィルム作製が可能であり、配向方向のずれの問題を解決することが可能な組成物、及び該組成物から得られる単層塗布型水平配向フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, a composition capable of producing a single-layer coating type horizontal alignment film by a simple process, and capable of solving the problem of misalignment of the alignment direction, and the composition It aims at providing the single layer application type | mold horizontal orientation film obtained from a thing.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、γ−ブチロラクトン骨格を主鎖に含有するとともに、ラクトン環のγ位から延びる側鎖上にケイ皮酸エステル構造を有する重合体を用いることで、偏光紫外線露光後に安定なネットワーク構造が形成されるためか、液晶配向膜を使用することなく、高い屈折率異方性(Δn)を有する単層塗布型水平配向フィルムが得られること、更に、当該重合体にアルキル鎖を導入することで有機溶媒に対する溶解性が向上し、より高いΔnを有する単層塗布型水平配向フィルムを低温条件下で作製可能となることを見出した。更に、本発明者は、上記重合体を含む組成物にポリ(メタ)アクリル酸エステルを添加剤として加えることで、より配向方向のコントロールに優れ、高い光学異方性を示す単層塗布型水平配向フィルムを容易に得ることができることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has a polymer having a cinnamate structure on a side chain containing a γ-butyrolactone skeleton in the main chain and extending from the γ position of the lactone ring. Can be used to form a single layer coating type horizontal alignment film having a high refractive index anisotropy (Δn) without using a liquid crystal alignment film. Furthermore, it has been found that by introducing an alkyl chain into the polymer, solubility in an organic solvent is improved, and a single-layer coating type horizontal alignment film having a higher Δn can be produced under low temperature conditions. Furthermore, the present inventor added a poly (meth) acrylic acid ester as an additive to the composition containing the above polymer, so that the control of the orientation direction is more excellent, and the single layer coating type horizontal that exhibits high optical anisotropy. The inventors have found that an oriented film can be easily obtained, and completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記組成物及び単層塗布型水平配向フィルムを提供する。
1.(A)下記式[1a]、[1b]及び[1c]で表される繰り返し単位を含有する重合体A、
(B)下記式[6]で表される繰り返し単位を含有する重合体B、及び
(C)有機溶媒
を含有することを特徴とする組成物。

Figure 2014142103
[式中、X及びYは、それぞれ独立に下記式[2]又は[3]で表される基であり、
Figure 2014142103
(式[3]中、R1は水素原子又はメチル基である。破線は結合手である。)
1は下記式[4]で表される基であり、M2は下記式[5]で表される基であり、
Figure 2014142103
(式[4]及び[5]中、s1、s2、s3及びs4は、それぞれ独立に1又は2であり、G1及びG2は、それぞれ独立に単結合、−COO−又は−OCO−であり、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基である。破線は結合手である。)
Aは、炭素数2〜15の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、
m、n及びpは、それぞれ0<m<1、0<n<1、0≦p≦0.5、かつ、m+n+p≦1を満たす数であり、
q及びrは、それぞれ独立に2〜9の整数である。]
Figure 2014142103
(式[6]中、R4は水素原子又はメチル基である、R5はメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基又はシクロプロピル基である。)
2.1の組成物を基板に塗布し、次いで偏光を照射し、硬化させることにより得られる単層塗布型水平配向フィルム。
3.上記偏光が、直線偏光紫外線である2の単層塗布型水平配向フィルム。
4.2又は3の単層塗布型水平配向フィルムを備える光学部材。That is, this invention provides the following composition and a single layer application type | mold horizontal orientation film.
1. (A) Polymer A containing repeating units represented by the following formulas [1a], [1b] and [1c],
(B) Polymer B containing the repeating unit represented by the following formula [6], and (C) an organic solvent.
Figure 2014142103
[Wherein, X and Y are each independently a group represented by the following formula [2] or [3],
Figure 2014142103
(In the formula [3], R 1 is a hydrogen atom or a methyl group. The broken line is a bond.)
M 1 is a group represented by the following formula [4], M 2 is a group represented by the following formula [5],
Figure 2014142103
(Wherein [4] and [5], the s1, s2, s3 and s4, are each independently 1 or 2, G 1 and G 2 each independently represent a single bond, -COO- or -OCO- in R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
A is a linear or branched alkyl group having 2 to 15 carbon atoms,
m, n, and p are numbers satisfying 0 <m <1, 0 <n <1, 0 ≦ p ≦ 0.5, and m + n + p ≦ 1, respectively.
q and r are each independently an integer of 2 to 9. ]
Figure 2014142103
(In Formula [6], R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, or a cyclopropyl group.)
A single-layer coating type horizontal alignment film obtained by coating the composition of 2.1 on a substrate, and then irradiating and curing the polarized light.
3. 2. A single-layer coating type horizontal alignment film in which the polarized light is linearly polarized ultraviolet rays.
An optical member provided with the single-layer coating type horizontal alignment film of 4.2 or 3.

本発明の重合体は、γ−ブチロラクトン骨格を主鎖に含有する。そのため、この重合体を含有する組成物を塗布し、室温にて直線偏光を照射し、ポストベークを行うプロセスにより、高いΔnを示す単層塗布型水平配向フィルムを作製することが可能である。また、更にアルキル基側鎖を有する単位を含む重合体とすることで、溶媒に対する溶解性の向上が得られる。
また、ケイ皮酸エステル構造を有する液晶性のベースポリマーの溶液に液晶性を示さないポリ(メタ)アクリル酸エステルを添加することにより、得られる配向フィルムの配向角度(水平方向)のずれが低減された単層塗布型水平配向フィルム得ることができる。
The polymer of the present invention contains a γ-butyrolactone skeleton in the main chain. Therefore, it is possible to produce a single-layer coated horizontal alignment film exhibiting high Δn by a process of applying a composition containing this polymer, irradiating linearly polarized light at room temperature, and performing post-baking. Further, by using a polymer containing a unit having an alkyl group side chain, solubility in a solvent can be improved.
In addition, by adding a poly (meth) acrylate that does not exhibit liquid crystallinity to a solution of a liquid crystalline base polymer having a cinnamic acid ester structure, deviation of the orientation angle (horizontal direction) of the resulting oriented film is reduced. A single-layer coated horizontal alignment film can be obtained.

実施例1で得られたフィルムのパターンの波長550nmにおけるリタデーション値角度依存性(α角度)を示す図である。It is a figure which shows the retardation value angle dependence ((alpha) angle) in wavelength 550nm of the pattern of the film obtained in Example 1. FIG. 比較例1で得られたフィルムのパターンの波長550nmにおけるリタデーション値角度依存性(α角度)を示す図である。It is a figure which shows the retardation value angle dependence ((alpha) angle) in wavelength 550nm of the pattern of the film obtained by the comparative example 1. FIG.

[(A)重合体A]
本発明の組成物の(A)成分である重合体(以下、重合体A)は、下記式[1a]及び[1b]で表される繰り返し単位を含有し、必要に応じて、更に下記式[1c]で表される繰り返し単位を含有するものである。

Figure 2014142103
[(A) Polymer A]
The polymer (hereinafter referred to as polymer A) which is the component (A) of the composition of the present invention contains repeating units represented by the following formulas [1a] and [1b]. It contains a repeating unit represented by [1c].
Figure 2014142103

式[1a]及び[1c]中、X及びYは、それぞれ独立に下記式[2]又は[3]で表される基である。

Figure 2014142103
(式[3]中、R1は水素原子又はメチル基である。破線は結合手である(以下同じ)。)
これらのうち、X、Yともに式[3]で表される基が好ましい。In the formulas [1a] and [1c], X and Y are each independently a group represented by the following formula [2] or [3].
Figure 2014142103
(In Formula [3], R 1 is a hydrogen atom or a methyl group. The broken line is a bond (the same applies hereinafter).)
Of these, a group represented by the formula [3] is preferable for both X and Y.

式[1a]中、M1は下記式[4]で表される基であり、式[1b]中、M2は下記式[5]で表される基である。

Figure 2014142103
(式[4]及び[5]中、s1、s2、s3及びs4は、それぞれ独立に1又は2であり、G1及びG2は、それぞれ独立に単結合、−COO−又は−OCO−であり、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基である。)In formula [1a], M 1 is a group represented by the following formula [4], and in formula [1b], M 2 is a group represented by the following formula [5].
Figure 2014142103
(Wherein [4] and [5], the s1, s2, s3 and s4, are each independently 1 or 2, G 1 and G 2 each independently represent a single bond, -COO- or -OCO- in R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.)

ここで、上記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子が挙げられるが、本発明においては、フッ素原子が好ましい。
上記アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、またその炭素数も特に限定されるものではないが、本発明においては、直鎖の炭素数1〜10のアルキル基が好ましい。上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。これらのうち、炭素数1〜3のアルキル基が更に好ましく、特にメチル基、エチル基等が好ましい。
Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. In the present invention, a fluorine atom is preferable.
The alkyl group may be linear, branched or cyclic, and the carbon number thereof is not particularly limited. In the present invention, a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is used. preferable. Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, cyclobutyl group, n- Examples include a pentyl group, a cyclopentyl group, an n-hexyl group, a cyclohexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, an n-nonyl group, and an n-decyl group. Of these, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is more preferable, and a methyl group, an ethyl group, and the like are particularly preferable.

上記アルコキシ基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、またその炭素数も特に限定されるものではないが、本発明においては、直鎖の炭素数1〜10のアルコキシ基が好ましい。上記アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、特にメトキシ基、エトキシ基等が好ましい。
なお、上記アルキル基、アルコキシ基において、その水素原子の一部又は全部がフッ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。
The alkoxy group may be linear, branched or cyclic, and the number of carbon atoms is not particularly limited. In the present invention, a straight-chain alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is used. preferable. Specific examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, and n-hexyl. An oxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, etc. are mentioned. Among these, a C1-C3 alkoxy group is still more preferable, and especially a methoxy group, an ethoxy group, etc. are preferable.
In the alkyl group and alkoxy group, part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom such as a fluorine atom.

上記R2又はR3としてより好ましくは、水素原子、フッ素原子、シアノ基、メチル基、メトキシ基等である。R 2 or R 3 is more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, a methyl group, a methoxy group or the like.

上記G1としては−COO−又は−OCO−が好ましく、G2としては単結合が好ましい。G 1 is preferably —COO— or —OCO—, and G 2 is preferably a single bond.

式[1c]中、Aは、直鎖状又は分岐状の炭素数2〜15のアルキル基である。上記アルキル基として具体的には、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、n−ヘプチル基、1−メチル−n−ヘキシル基、2−メチル−n−ヘキシル基、3−メチル−n−ヘキシル基、1,1−ジメチル−n−ペンチル基、1,2−ジメチル−n−ペンチル基、1,3−ジメチル−n−ペンチル基、2,2−ジメチル−n−ペンチル基、2,3−ジメチル−n−ペンチル基、3,3−ジメチル−n−ペンチル基、1−エチル−n−ペンチル基、2−エチル−n−ペンチル基、3−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−1−エチル−n−ブチル基、1−メチル−2−エチル−n−ブチル基、1−エチル−2−メチル−n−ブチル基、2−メチル−2−エチル−n−ブチル基、2−エチル−3−メチル−n−ブチル基、n−オクチル基、1−メチル−n−ヘプチル基、2−メチル−n−ヘプチル基、3−メチル−n−ヘプチル基、1,1−ジメチル−n−ヘキシル基、1,2−ジメチル−n−ヘキシル基、1,3−ジメチル−n−ヘキシル基、2,2−ジメチル−n−ヘキシル基、2,3−ジメチル−n−ヘキシル基、3,3−ジメチル−n−ヘキシル基、1−エチル−n−ヘキシル基、2−エチル−n−ヘキシル基、3−エチル−n−ヘキシル基、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、3−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基等が挙げられる。   In the formula [1c], A is a linear or branched alkyl group having 2 to 15 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group include ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, 1-methyl-n-butyl. Group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1,2-dimethyl-n-propyl group, 2,2-dimethyl-n- Propyl group, 1-ethyl-n-propyl group, n-hexyl group, 1-methyl-n-pentyl group, 2-methyl-n-pentyl group, 3-methyl-n-pentyl group, 4-methyl-n- Pentyl group, 1,1-dimethyl-n-butyl group, 1,2-dimethyl-n-butyl group, 1,3-dimethyl-n-butyl group, 2,2-dimethyl-n-butyl group, 2,3 -Dimethyl-n-butyl group, 3,3-dimethyl-n-butyl group Group, 1-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-n-butyl group, 1,1,2-trimethyl-n-propyl group, 1,2,2-trimethyl-n-propyl group, 1-ethyl -1-methyl-n-propyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl group, n-heptyl group, 1-methyl-n-hexyl group, 2-methyl-n-hexyl group, 3-methyl- n-hexyl group, 1,1-dimethyl-n-pentyl group, 1,2-dimethyl-n-pentyl group, 1,3-dimethyl-n-pentyl group, 2,2-dimethyl-n-pentyl group, 2 , 3-dimethyl-n-pentyl group, 3,3-dimethyl-n-pentyl group, 1-ethyl-n-pentyl group, 2-ethyl-n-pentyl group, 3-ethyl-n-pentyl group, 1- Methyl-1-ethyl-n-butyl group, 1-methyl-2-ethyl -N-butyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-butyl group, 2-methyl-2-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-3-methyl-n-butyl group, n-octyl group, 1-methyl-n-heptyl group, 2-methyl-n-heptyl group, 3-methyl-n-heptyl group, 1,1-dimethyl-n-hexyl group, 1,2-dimethyl-n-hexyl group, 1 , 3-dimethyl-n-hexyl group, 2,2-dimethyl-n-hexyl group, 2,3-dimethyl-n-hexyl group, 3,3-dimethyl-n-hexyl group, 1-ethyl-n-hexyl Group, 2-ethyl-n-hexyl group, 3-ethyl-n-hexyl group, 1-methyl-1-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl-2-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl- 3-ethyl-n-pentyl group, 2-methyl-2-ethyl-n- Pentyl group, 2-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, 3-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n -A tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group etc. are mentioned.

これらのうち、得られる重合体の有機溶媒に対する溶解性等を考慮すると、炭素数4〜15、特に4〜12のアルキル基が好ましく、n−ブチル基、2−エチル−n−ヘキシル基、n−ドデシル基等がより好ましい。   Among these, in view of solubility of the resulting polymer in an organic solvent, an alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, particularly 4 to 12 carbon atoms is preferable, and n-butyl group, 2-ethyl-n-hexyl group, n -A dodecyl group etc. are more preferable.

式[1a]〜[1c]中、m、n及びpは、それぞれ0<m<1、0<n<1、0≦p≦0.5、かつ、m+n+p≦1を満たす数である。Δnの向上や重合体の溶解性の向上等の点から、m、n及びpは、それぞれ0.2≦m≦0.9、0.1≦n≦0.8、0≦p≦0.4を満たす数であることが好ましく、0.2≦m≦0.8、0.1≦n≦0.5、0.1≦p≦0.3を満たす数であることが更に好ましい。   In the formulas [1a] to [1c], m, n, and p are numbers satisfying 0 <m <1, 0 <n <1, 0 ≦ p ≦ 0.5, and m + n + p ≦ 1, respectively. From the viewpoint of improving Δn and improving the solubility of the polymer, m, n, and p are 0.2 ≦ m ≦ 0.9, 0.1 ≦ n ≦ 0.8, and 0 ≦ p ≦ 0. Is preferably a number satisfying 0.2 ≦ m ≦ 0.8, 0.1 ≦ n ≦ 0.5, and 0.1 ≦ p ≦ 0.3.

また、式[1a]及び[1b]中、q及びrは、それぞれ独立に2〜9の整数であるが、3〜6が好ましく、特にqとしては5又は6がより好ましい。   In the formulas [1a] and [1b], q and r are each independently an integer of 2 to 9, preferably 3 to 6, and more preferably 5 or 6 as q.

重合体Aは、重量平均分子量が3,000〜200,000であることが好ましく、4,000〜150,000であることがより好ましく、5,000〜100,000であることが更に好ましい。重量平均分子量が200,000を超えると、溶媒に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が3,000未満であると、熱硬化時に硬化不足になり溶媒耐性及び耐熱性が低下する場合がある。
なお、本発明において、重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算測定値である。
The polymer A preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000, more preferably 4,000 to 150,000, and still more preferably 5,000 to 100,000. If the weight average molecular weight exceeds 200,000, the solubility in a solvent may be reduced and handling properties may be reduced. If the weight average molecular weight is less than 3,000, curing is insufficient at the time of thermosetting, resulting in solvent resistance and heat resistance. May decrease.
In the present invention, the weight average molecular weight is a measured value in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).

また、重合体Aは、本発明の効果を損なわない限り、式[1a]〜[1c]以外の他の繰り返し単位を含んでもよい。上記他の繰り返し単位を与える重合性化合物としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物等が挙げられる。   Moreover, the polymer A may contain other repeating units other than Formula [1a]-[1c], unless the effect of this invention is impaired. Examples of the polymerizable compound that gives other repeating units include acrylic ester compounds, methacrylic ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, and styrene compounds.

上記他の繰り返し単位の含有率は、全繰り返し単位100モル%中、0〜10モル%が好ましい。上記他の繰り返し単位の含有率が大きすぎると、重合体Aの特性、例えば液晶性等の特性が低下する場合がある。   As for the content rate of said other repeating unit, 0-10 mol% is preferable in 100 mol% of all the repeating units. When the content rate of said other repeating unit is too large, characteristics, such as liquid crystallinity, of the polymer A may deteriorate.

重合体Aは、1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The polymer A can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

[重合性化合物の合成]
重合体Aの原料となる重合性化合物は、下記式[7]、[8]又は[9]で表される。

Figure 2014142103
[式中、R2、R3、G1、G2、A、q、r、及びs1〜s4は、上記と同じ。
X'及びY'は、それぞれ独立に下記式[10]又は[11]で表される重合性基である。
Figure 2014142103
(式中、R1は上記と同じ。)][Synthesis of polymerizable compounds]
The polymerizable compound that is a raw material of the polymer A is represented by the following formula [7], [8], or [9].
Figure 2014142103
[Wherein R 2 , R 3 , G 1 , G 2 , A, q, r, and s1 to s4 are the same as above.
X ′ and Y ′ are each independently a polymerizable group represented by the following formula [10] or [11].
Figure 2014142103
(Wherein R 1 is the same as above)]

上記式[7]で表される重合性化合物は、例えば、以下のようにして製造される。   The polymerizable compound represented by the above formula [7] is produced, for example, as follows.

1が−COO−の場合、下記スキームで表されるように、式[12]で表される安息香酸誘導体とフェノール誘導体とを、溶媒中、縮合剤の存在下で縮合させることにより製造される。

Figure 2014142103
(式中、R2、X'、q、s1及びs2は上記と同じ。DCCはN,N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド、DMAPは4−ジメチルアミノピリジンを表す。)When G 1 is —COO—, as represented by the following scheme, it is produced by condensing a benzoic acid derivative represented by the formula [12] and a phenol derivative in a solvent in the presence of a condensing agent. The
Figure 2014142103
(Wherein R 2 , X ′, q, s1 and s2 are the same as above. DCC represents N, N′-dicyclohexylcarbodiimide, and DMAP represents 4-dimethylaminopyridine.)

1が−OCO−の場合、下記スキームで表されるように、式[13]で表されるフェノール誘導体と安息香酸誘導体とを、溶媒中、縮合剤の存在下で縮合させることにより製造される。

Figure 2014142103
(式中、R2、X'、q、s1及びs2は上記と同じ。)When G 1 is —OCO—, it is produced by condensing a phenol derivative represented by the formula [13] and a benzoic acid derivative in a solvent in the presence of a condensing agent, as represented by the following scheme. The
Figure 2014142103
(Wherein R 2 , X ′, q, s1 and s2 are the same as above)

上記式[12]及び[13]で表される化合物は、X'が式[10]で表される基の場合は、SYNTHON Chemicals社又はみどり化学(株)から市販品として入手可能である。
また、上記式[12]及び[13]で表される化合物は、X'が式[11]で表される基の場合は、例えば、Talaga等(P. Talaga,M. Schaeffer,C. Benezra and J. L. Stampf,Synthesis,530 (1990))が提案する手法を用いて合成することができる。この手法は、下記合成スキーム(A1)で表されるように、SnCl2を用いて2−(ブロモメチル)アクリル酸と、アルデヒド又はケトンとを反応させる方法である。なお、2−(ブロモメチル)アクリル酸は、Ramarajan等が提案する方法で得ることができる(K. Ramarajan,K. Kamalingam,D. J. O'Donnell and K. D. Berlin,Organic Synthesis,vol. 61,pp. 56-59 (1983))。
The compounds represented by the above formulas [12] and [13] are commercially available from SYNTHON Chemicals or Midori Chemical Co., when X ′ is a group represented by the formula [10].
In addition, the compounds represented by the above formulas [12] and [13] are, for example, Talaga et al. (P. Talaga, M. Schaeffer, C. Benezra) when X ′ is a group represented by the formula [11]. and JL Stampf, Synthesis, 530 (1990)). This method is a method of reacting 2- (bromomethyl) acrylic acid with an aldehyde or a ketone using SnCl 2 as represented by the following synthesis scheme (A1). 2- (Bromomethyl) acrylic acid can be obtained by a method proposed by Ramarajan et al. (K. Ramarajan, K. Kamalingam, DJ O'Donnell and KD Berlin, Organic Synthesis, vol. 61, pp. 56- 59 (1983)).

Figure 2014142103
(式中、R'は一価の有機基を表し、Amberlyst(登録商標)15は、ロームアンドハース社製イオン交換樹脂である。THFはテトラヒドロフランを表す。Etはエチル基を表す。)
Figure 2014142103
(In the formula, R ′ represents a monovalent organic group, Amberlyst (registered trademark) 15 is an ion exchange resin manufactured by Rohm and Haas, THF represents tetrahydrofuran, and Et represents an ethyl group.)

また、SnCl2を用いた2−(ブロモメチル)アクリル酸の反応では、アルデヒド又はケトンの代わりに対応するアセタール又はケタールとの反応により、α−メチレン−γ−ブチロラクトン構造を得ることもできる。
アセタール又はケタールとしては、ジメチルアセタール基、ジエチルアセタール基、1,3−ジオキサン基、1,3−ジオキソラン基等を有する化合物が挙げられる。下記合成スキーム(A2)に、アセタール又はケタールを用いた場合の合成法及び保護基を示す。
In the reaction of 2- (bromomethyl) acrylic acid using SnCl 2 , an α-methylene-γ-butyrolactone structure can also be obtained by reaction with a corresponding acetal or ketal instead of an aldehyde or a ketone.
Examples of the acetal or ketal include compounds having a dimethyl acetal group, a diethyl acetal group, a 1,3-dioxane group, a 1,3-dioxolane group, and the like. A synthesis method and a protecting group when acetal or ketal is used are shown in the following synthesis scheme (A2).

Figure 2014142103
(式中、R'は上記と同じ。)
Figure 2014142103
(In the formula, R ′ is the same as above.)

上記合成スキーム(A1)又は(A2)の手法を応用した下記合成スキーム(B)又は(C)の手法により、式[12]又は[13]で表される化合物を合成することができる。

Figure 2014142103
(式中、q及びs1は上記と同じ。Meはメチル基を表す。PCCはピリジニウムクロロクロマートを表す。)A compound represented by the formula [12] or [13] can be synthesized by the method of the following synthesis scheme (B) or (C) to which the method of the synthesis scheme (A1) or (A2) is applied.
Figure 2014142103
(In the formula, q and s1 are the same as above. Me represents a methyl group. PCC represents pyridinium chlorochromate.)

Figure 2014142103
(式中、q及びs1は上記と同じ。)
Figure 2014142103
(Wherein q and s1 are the same as above)

式[8]で表される化合物は、例えば、下記スキームで表されるように、式[14]で表される化合物とケイ皮酸化合物とを、溶媒中、縮合剤の存在下で縮合させることにより製造される。

Figure 2014142103

(式中、R3、G2、r、s3及びs4は、上記と同じ。)The compound represented by the formula [8] is, for example, condensed with a compound represented by the formula [14] and a cinnamic acid compound in a solvent in the presence of a condensing agent, as represented by the following scheme. It is manufactured by.
Figure 2014142103

(In the formula, R 3 , G 2 , r, s3 and s4 are the same as above.)

式[14]で表される化合物は、例えば、下記合成スキーム(D)に示される方法によって得られる。

Figure 2014142103
(式中、G2、r、s3及びs4は、上記と同じ。)The compound represented by the formula [14] can be obtained, for example, by the method shown in the following synthesis scheme (D).
Figure 2014142103
(In the formula, G 2 , r, s3 and s4 are the same as above.)

式[9]で表される化合物は、Y'が式[10]で表される基の場合は、市販品として入手可能である。   The compound represented by the formula [9] is available as a commercial product when Y ′ is a group represented by the formula [10].

また、式[9]で表される化合物は、Y'が式[11]で表される基の場合は、下記合成スキーム(E)に示す方法によって合成することもできる。

Figure 2014142103
(式中、Aは上記と同じ。)Moreover, the compound represented by Formula [9] can also be synthesize | combined by the method shown to the following synthetic scheme (E), when Y 'is group represented by Formula [11].
Figure 2014142103
(In the formula, A is the same as above.)

[(B)重合体B]
(B)成分の重合体(以下、重合体B)は、下記式[6]で表される繰り返し単位を含有するものである。

Figure 2014142103
[(B) Polymer B]
The polymer of the component (B) (hereinafter referred to as polymer B) contains a repeating unit represented by the following formula [6].
Figure 2014142103

式[6]中、Rは水素原子又はメチル基である、Rはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基又はシクロプロピル基である。Rとしてはメチル基が好ましい。また、Rとしてはメチル基が好ましい。In the formula [6], R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group or a cyclopropyl group. R 4 is preferably a methyl group. R 5 is preferably a methyl group.

重合体Bは、重量平均分子量が3,000〜1,000,000であることが好ましく、5,000〜600,000であることがより好ましく、5,000〜100,000であることが更に好ましい。重量平均分子量が1,000,000を超えると、溶媒に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合がある。   The polymer B preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 600,000, and further preferably 5,000 to 100,000. preferable. When the weight average molecular weight exceeds 1,000,000, the solubility in a solvent may be lowered, and the handling property may be lowered.

重合体Bは、繰り返し単位1種からなる単独重合体でも複数の繰り返し単位からなる共重合体でもよい。重合体Bが共重合体である場合は、全ての繰り返し単位が式[6]を満たすことが好ましい。また、重合体Bは単独重合体であることが特に好ましい。   The polymer B may be a homopolymer composed of one type of repeating unit or a copolymer composed of a plurality of repeating units. When the polymer B is a copolymer, it is preferable that all repeating units satisfy the formula [6]. The polymer B is particularly preferably a homopolymer.

重合体Bの添加量は、重合体A100質量部に対して1〜15質量部が好ましく、2〜10質量部がより好ましい。   The addition amount of the polymer B is preferably 1 to 15 parts by mass and more preferably 2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer A.

重合体Bは、1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The polymer B can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

[重合体の合成]
重合体A及びBを合成する方法としては、特に限定されず、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等を採用し得る。これらのうち、特にラジカル重合が好ましく、具体的には、溶媒中、上記繰り返し単位を与え得る重合性化合物を重合開始剤の存在下で加熱し、重合させればよい。
[Synthesis of polymer]
The method for synthesizing the polymers A and B is not particularly limited, and radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization, and the like can be employed. Of these, radical polymerization is particularly preferred. Specifically, a polymerizable compound capable of giving the above-mentioned repeating unit is heated in the presence of a polymerization initiator in a solvent and polymerized.

上記重合開始剤としては、従来公知のものから適宜選択して用いることができる。例えば、過酸化ベンゾイル、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸化物;過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩;アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、アゾビスメチルブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等のアゾ系化合物等が挙げられる。これらは、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。   The polymerization initiator can be appropriately selected from conventionally known ones. For example, peroxides such as benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide; persulfates such as sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate; azobisisobutyronitrile (AIBN), azo Examples thereof include azo compounds such as bismethylbutyronitrile and azobisisovaleronitrile. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

上記重合開始剤の使用量は、重合性化合物1molに対して、0.01〜0.05mol程度が好ましい。
反応温度は、0℃から使用する溶媒の沸点までで適宜設定すればよいが、20〜100℃程度が好ましい。反応時間は、0.1〜30時間程度が好ましい。
The amount of the polymerization initiator used is preferably about 0.01 to 0.05 mol with respect to 1 mol of the polymerizable compound.
What is necessary is just to set reaction temperature suitably from 0 degreeC to the boiling point of the solvent to be used, but about 20-100 degreeC is preferable. The reaction time is preferably about 0.1 to 30 hours.

重合反応に用いられる溶媒としては、特に限定されるものではなく、上記重合反応で一般的に使用されている各種溶媒から適宜選択して用いればよい。具体的には、水;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、イソペンタノール、t−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、2−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテルアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル類;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン,アニソール等の脂肪族又は芳香族炭化水素類;メチラール、ジエチルアセタール等のアセタール類;ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類;ニトロプロパン、ニトロベンゼン、ジメチルアミン、モノエタノールアミン、ピリジン、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド,アセトニトリル等が挙げられる。これらは、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   The solvent used in the polymerization reaction is not particularly limited, and may be appropriately selected from various solvents generally used in the polymerization reaction. Specifically, water; methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, isobutanol, t-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, iso Alcohols such as pentanol, t-pentanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, benzyl alcohol, cyclohexanol; diethyl ether, diisopropyl Ethers such as ether, dibutyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane; Halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane, and carbon tetrachloride; methyl cellosolve and ethyl cellosolve Ether alcohols such as isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol monobutyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, cellosolve acetate; n-pentane, n -Aliphatic or aromatic hydrocarbons such as hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, anisole Acetals such as methylal and diethyl acetal; fatty acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid; nitropropane, nitrobenzene, dimethylamine, monoethanol Emissions, pyridine, N- methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N- dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile and the like. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

重合体A及びBが上記他の繰り返し単位を含む場合、その合成方法としては、上記重合の際に、上記他の繰り返し単位を与える重合性化合物を共存させて重合すればよい。   In the case where the polymers A and B contain the other repeating units, the synthesis method may be polymerization in the presence of a polymerizable compound that gives the other repeating units in the polymerization.

なお、重合体A及びBは、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体のいずれでもよい。   The polymers A and B may be any of random copolymers, alternating copolymers, and block copolymers.

[(C)有機溶媒]
(C)成分の有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の極性溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル等のアルコキシエステル類;エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等のグリコールジアルキルエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のジグリコールジアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル等のジグリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート、エチルセロソルブアセテート等のグリコールモノアルキルエーテルエステル類;シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン等のケトン類等を挙げることができる。これらの有機溶媒は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
[(C) Organic solvent]
Examples of the organic solvent of component (C) include ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; polarities such as N, N-dimethylformamide and N-methyl-2-pyrrolidone Solvent; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate; methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, Alkoxy esters such as ethyl 2-ethoxypropionate; glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol dimethyl ether; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol Diglycol dialkyl ethers such as coal methyl ethyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether; glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether; diethylene glycol monomethyl ether; Diglycol monoalkyl ethers such as diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether; glycol monoalkyl ether esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate, carbitol acetate, ethyl cellosolve acetate; cyclohexanone, Me Ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and 2-heptanone. These organic solvents can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、シクロヘキサノン、トルエンとシクロヘキサノンの混合溶媒等が好ましい。
有機溶媒の使用量は、組成物中、60〜95質量%程度とすることが好適である。
Among these, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, cyclohexanone, a mixed solvent of toluene and cyclohexanone, and the like are preferable.
The amount of the organic solvent used is preferably about 60 to 95% by mass in the composition.

[その他の成分]
また、本発明の組成物には、基板との親和性を向上させる目的で、界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、特に限定されるものではなく、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられるが、基板との親和性改善効果の高いフッ素系界面活性剤が好ましい。
[Other ingredients]
In addition, a surfactant may be added to the composition of the present invention for the purpose of improving the affinity with the substrate. The surfactant is not particularly limited, and examples thereof include fluorine-based surfactants, silicone-based surfactants, nonionic surfactants, etc., but fluorine-based surfactants having a high effect of improving affinity with the substrate. Agents are preferred.

フッ素系界面活性剤の具体例としては(以下、商品名)、エフトップEF301、EF303、EF352((株)トーケムプロダクツ製)、メガファックF171、F173、R−30(DIC(株)製)、フロラードFC430、FC431(住友スリーエム(株)製)、アサヒガードAG710、サーフロンS−382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(旭硝子(株)製)等が挙げられるが、これらに限定されない。なお、界面活性剤は1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができ、その添加量は重合体A及びBの合計100質量部に対して5質量部以下が好ましい。   Specific examples of the fluorosurfactant (hereinafter referred to as “trade name”), EFTOP EF301, EF303, EF352 (manufactured by Tochem Products), MegaFuck F171, F173, R-30 (manufactured by DIC Corporation) , FLORARD FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard AG710, Surflon S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and the like. Not. In addition, surfactant can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types, The addition amount is 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of polymers A and B in total.

更に、本発明の組成物には、基板との密着性を向上させる目的で、密着促進剤を添加してもよい。密着促進剤としては、トリメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン等のクロロシラン類;トリメチルメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類;ヘキサメチルジシラザン、N,N'−ビス(トリメチルシリル)ウレア、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルイミダゾール等のシラザン類;ビニルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(N−ピペリジニル)プロピルトリメトキシシラン等のシラン類;ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、インダゾール、イミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、ウラゾール、チオウラシル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン等の複素環状化合物;1,1−ジメチルウレア、1,3−ジメチルウレア等の尿素化合物;チオ尿素化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Furthermore, an adhesion promoter may be added to the composition of the present invention for the purpose of improving the adhesion to the substrate. Adhesion promoters include chlorosilanes such as trimethylchlorosilane, dimethylvinylchlorosilane, methyldiphenylchlorosilane, chloromethyldimethylchlorosilane; trimethylmethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyldimethoxysilane, dimethylvinylethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, phenyltri Alkoxysilanes such as ethoxysilane; silazanes such as hexamethyldisilazane, N, N′-bis (trimethylsilyl) urea, dimethyltrimethylsilylamine, trimethylsilylimidazole; vinyltrichlorosilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-amino Propyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, Silanes such as-(N-piperidinyl) propyltrimethoxysilane; benzotriazole, benzimidazole, indazole, imidazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, urazole, thiouracil, mercaptoimidazole, Examples include, but are not limited to, heterocyclic compounds such as mercaptopyrimidine; urea compounds such as 1,1-dimethylurea and 1,3-dimethylurea; and thiourea compounds.

密着促進剤は1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができ、その添加量は重合体A及びBの合計100質量部に対して1質量部以下が好ましい。   An adhesion promoter can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types, The addition amount is 1 mass part or less with respect to 100 mass parts of polymers A and B in total.

[組成物]
本発明の組成物は、(A)少なくとも1種の重合体A、(B)少なくとも1種の重合体B、(C)有機溶媒、及び必要に応じてその他の成分を混合することにより得られる。本発明の組成物の調製方法は特に限定されるものではなく、有機溶媒に、重合体A、重合体B及びその他の成分を同時に又は任意の順序で添加し、混合すればよい。
[Composition]
The composition of the present invention is obtained by mixing (A) at least one polymer A, (B) at least one polymer B, (C) an organic solvent, and other components as necessary. . The method for preparing the composition of the present invention is not particularly limited, and the polymer A, the polymer B, and other components may be added to the organic solvent simultaneously or in any order and mixed.

[単層塗布型水平配向フィルム]
以上説明した本発明の組成物を基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロム等が被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)やフィルム(例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム)等の上に、バーコート、スピンコート、フローコート、ロールコート、スリットコート、スリットコートに続いたスピンコート、インクジェット法、印刷法等の方法によって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレート又はオーブン等で加熱乾燥することにより、膜を形成することができる。
[Single-layer coating type horizontal alignment film]
The composition of the present invention described above is a substrate (for example, a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, etc., a glass substrate, a quartz substrate, an ITO substrate, etc. ) And films (for example, triacetyl cellulose (TAC) film, cycloolefin polymer film, polyethylene terephthalate film, resin film such as acrylic film), etc., bar coat, spin coat, flow coat, roll coat, slit coat, A film can be formed by applying a slit coat followed by spin coating, an ink jet method, a printing method, or the like to form a coating film, followed by heat drying with a hot plate or an oven.

加熱乾燥の条件としては、例えば、温度50〜100℃、時間0.1〜60分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度及び加熱時間が採用される。上記加熱温度及び加熱時間は、好ましくは50〜80℃、0.1〜2分間である。   As conditions for heat drying, for example, a heating temperature and a heating time appropriately selected from the range of a temperature of 50 to 100 ° C. and a time of 0.1 to 60 minutes are adopted. The heating temperature and heating time are preferably 50 to 80 ° C. and 0.1 to 2 minutes.

このようにして形成された膜に、直線偏光照射を行い、ポストベークを行うことにより、単層塗布型水平配向フィルムが得られる。
直線偏光の照射方法としては、通常150〜450nmの波長の紫外線〜可視光線が用いられ、室温又は加熱した状態で、直線偏光を照射することによって行われる。
The film formed in this manner is irradiated with linearly polarized light and post-baked to obtain a single-layer coating type horizontal alignment film.
As a method of irradiating linearly polarized light, ultraviolet light to visible light having a wavelength of 150 to 450 nm is usually used, and it is performed by irradiating the linearly polarized light at room temperature or in a heated state.

また、ポストベークは、ホットプレート又はオーブン等で加熱すればよく、その温度及び時間は、好ましくは90〜150℃、2〜20分間であり、より好ましくは95〜120℃、5〜20分間である。   Moreover, what is necessary is just to heat a post-baking with a hotplate or oven etc., The temperature and time become like this. Preferably it is 90-150 degreeC and 2 to 20 minutes, More preferably, it is 95 to 120 degreeC and 5 to 20 minutes. is there.

本発明の単層塗布型水平配向フィルムの膜厚は、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができ、例えば、0.1〜3μmが好適である。   The film thickness of the single-layer coating type horizontal alignment film of the present invention can be appropriately selected in consideration of the level difference of the substrate to be used and the optical and electrical properties, and is preferably 0.1 to 3 μm, for example.

このようにして得られた本発明の単層塗布型水平配向フィルムは、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有する材料であり、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板及び位相差板等の光学補償フィルムとして好適である。   The thus obtained single-layer coating type horizontal alignment film of the present invention is a material having optical characteristics suitable for applications such as display devices and recording materials, and in particular, polarizing plates and retardation plates for liquid crystal displays. It is suitable as an optical compensation film.

以下、合成例、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例における各物性の測定方法及び測定条件は、以下のとおりである。
[1]NMR
化合物を重水素化クロロホルム(CDCl3)に溶解し、核磁気共鳴装置(300MHz、ジオール社製)を用いて1H−NMRを測定した。
[2]平均分子量測定
昭和電工(株)製Shodex GPC−101(溶媒:テトラヒドロフラン、検量線:標準ポリスチレン)を用いて、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)を測定した。
[3]フィルムのリタデーション値
リタデーション測定装置(RETS−100、大塚電子(株)製)を用いて波長550nmのリタデーション値のα角度依存性を測定した。
[4]偏光顕微鏡観察
(株)ニコン製の偏光顕微鏡E600−Polを用いて観察を行った。
EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to the following Example. In addition, the measuring method and measuring conditions of each physical property in an Example are as follows.
[1] NMR
The compound was dissolved in deuterated chloroform (CDCl 3 ), and 1 H-NMR was measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (300 MHz, manufactured by Diol).
[2] Average molecular weight measurement The number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) were measured using Shodex GPC-101 (solvent: tetrahydrofuran, calibration curve: standard polystyrene) manufactured by Showa Denko K.K.
[3] Retardation value of film The α angle dependency of the retardation value at a wavelength of 550 nm was measured using a retardation measuring device (RETS-100, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
[4] Polarization microscope observation Observation was performed using a polarizing microscope E600-Pol manufactured by Nikon Corporation.

[合成例1]重合性化合物(M1)の合成

Figure 2014142103
[Synthesis Example 1] Synthesis of polymerizable compound (M1)
Figure 2014142103

4−(6−アクリロイルオキシ−1−ヘキシルオキシ)安息香酸(SYNTHON Chemicals社製)29.2g(100mmol)、4−ヒドロキシビフェニル17.0g(100mmol)、DMAP0.6g、及び少量のジブチルヒドロキシトルエン(BHT)を室温にて攪拌下、塩化メチレン200mLに懸濁させ、それに塩化メチレン100mLにDCC24.0g(116mmol)を溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したDCCウレアをろ別し、そのろ液を、0.5mol/L塩酸150mL、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液150mL、飽和食塩水150mLにて順次2回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、エタノールによる再結晶で精製し、目的の重合性化合物(M1)39.6gを得た(収率89%)。NMRの測定結果を以下に示す。
1H-NMR(CDCl3) δ: 1.57(m,4H),1.70(m,2H),1.86(m, 2H),4.00(m,2H),4.19(m,2H),5.82(m,1H),6.12(m,1H),6.39(m,1H),6.97(d,2H),7.29(m,2H),7.36(m,1H),7.47(m,2H),7.62(m,4H),8.18(m,2H)
29.2 g (100 mmol) of 4- (6-acryloyloxy-1-hexyloxy) benzoic acid (manufactured by SYNTHON Chemicals), 17.0 g (100 mmol) of 4-hydroxybiphenyl, 0.6 g of DMAP, and a small amount of dibutylhydroxytoluene ( BHT) was suspended in 200 mL of methylene chloride under stirring at room temperature, and a solution of 24.0 g (116 mmol) of DCC dissolved in 100 mL of methylene chloride was added thereto and stirred overnight. The precipitated DCC urea was filtered off, and the filtrate was washed with 0.5 mol / L hydrochloric acid 150 mL, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution 150 mL and saturated brine 150 mL successively, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. Distilled off and purified by recrystallization with ethanol to obtain 39.6 g of the target polymerizable compound (M1) (yield 89%). The measurement results of NMR are shown below.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.57 (m, 4H), 1.70 (m, 2H), 1.86 (m, 2H), 4.00 (m, 2H), 4.19 (m, 2H), 5.82 (m, 1H ), 6.12 (m, 1H), 6.39 (m, 1H), 6.97 (d, 2H), 7.29 (m, 2H), 7.36 (m, 1H), 7.47 (m, 2H), 7.62 (m, 4H) , 8.18 (m, 2H)

[合成例2]重合性化合物(M2)の合成
(1)中間体化合物(P2)の合成

Figure 2014142103
[Synthesis Example 2] Synthesis of polymerizable compound (M2) (1) Synthesis of intermediate compound (P2)
Figure 2014142103

冷却管付き500mLナスフラスコに、ビフェノール18.6g(100mmol)、2−(4−ブロモ−1−ブチル)−1,3−ジオキソラン10.0g(48mmol)、炭酸カリウム13.8g(100mmol)、及びアセトン200mLを加えて混合物とし、温度64℃で24時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を純水500mLに注ぎ、白色の固体を得た。この固体をメタノールと混合し、ろ過を行い、溶媒を留去したところ、白色の固体を得た。次に、この固体をクロロホルムと混合し、ろ過を行い、溶媒を留去して、白色の固体7.2gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が、中間体化合物(P2)であることが確認された。(収率48%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.62 (m, 2H), 1.76 (m, 2H), 1.87 (m, 2H),3.85 (m, 2H), 4.00 (m, 4H), 4.90 (m, 1H), 6.87 (m, 4H), 7.42 (m, 4H)
In a 500 mL eggplant flask with a condenser tube, 18.6 g (100 mmol) of biphenol, 10.0 g (48 mmol) of 2- (4-bromo-1-butyl) -1,3-dioxolane, 13.8 g (100 mmol) of potassium carbonate, and 200 mL of acetone was added to form a mixture, which was reacted at a temperature of 64 ° C. with stirring for 24 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 500 mL of pure water to obtain a white solid. This solid was mixed with methanol, filtered, and the solvent was distilled off to obtain a white solid. Next, this solid was mixed with chloroform, filtered, and the solvent was distilled off to obtain 7.2 g of a white solid. The result of having measured this solid by NMR is shown below. From this result, it was confirmed that this white solid was an intermediate compound (P2). (Yield 48%)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.62 (m, 2H), 1.76 (m, 2H), 1.87 (m, 2H), 3.85 (m, 2H), 4.00 (m, 4H), 4.90 (m, 1H ), 6.87 (m, 4H), 7.42 (m, 4H)

(2)中間体化合物(Z2)の合成

Figure 2014142103
(2) Synthesis of intermediate compound (Z2)
Figure 2014142103

次に、冷却管付き300mLナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物(P2)7.2g(23mmol)、2−(ブロモメチル)アクリル酸4.1g(25mmol)、THF60mL、塩化スズ(II)4.7g(25mmol)、及び10質量%HCl水溶液19mLを加えて混合物とし、温度70℃で5時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を純水200mLに注ぎ、白色固体6.1gを得た。この固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が、中間体化合物(Z2)であることが確認された。(収率78%)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.60-1.95 (m, 6H), 2.64 (m, 1H), 3.11 (s, 1H), 4.02 (t, 2H), 4.60(m, 1H), 4.82(s, 1H), 5.64 (s, 1H), 6.24 (s, 1H), 6.88 (d, 2H), 6.94 (d, 2H), 7.44 (m, 4H)
Next, in a 300 mL eggplant flask equipped with a cooling tube, 7.2 g (23 mmol) of the intermediate compound (P2) obtained above, 4.1 g (25 mmol) of 2- (bromomethyl) acrylic acid, 60 mL of THF, tin (II) chloride 4.7 g (25 mmol) and 19 mL of a 10% by mass aqueous HCl solution were added to form a mixture, and the mixture was reacted by stirring at a temperature of 70 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 200 mL of pure water to obtain 6.1 g of a white solid. The result of having measured this solid by NMR is shown below. From this result, it was confirmed that this white solid was an intermediate compound (Z2). (Yield 78%)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.60-1.95 (m, 6H), 2.64 (m, 1H), 3.11 (s, 1H), 4.02 (t, 2H), 4.60 (m, 1H), 4.82 (s , 1H), 5.64 (s, 1H), 6.24 (s, 1H), 6.88 (d, 2H), 6.94 (d, 2H), 7.44 (m, 4H)

(3)重合性化合物(M2)の合成

Figure 2014142103
(3) Synthesis of polymerizable compound (M2)
Figure 2014142103

中間体化合物(Z2)3.4g(10mmol)、4−メトキシケイ皮酸1.8g(10mmol)、DMAP0.08g、及び少量のBHTを室温にて攪拌下、塩化メチレン30mLに懸濁させ、それに塩化メチレン15mLにDCC2.6g(13mmol)を溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したDCCウレアをろ別し、そのろ液を、0.5mol/L塩酸50mL、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mL、飽和食塩水50mLにて順次2回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、エタノールによる再結晶で精製し、目的の重合性化合物(M2)4.3gを得た(収率86%)。NMRの測定結果を以下に示す。
1H-NMR(CDCl3) δ: 1.60-1.90(m,6H),2.63(m,1H),3.09(m,1H),3.87(s,3H),4.03(m,2H),4.57(m,1H),5.64(m,1H),6.24 (d,1H),6.54 (d,1H),6.95(m,4H),7.26(m,2H),7.44(m,2H),7.57(m,4H),7.86(d,1H)
Intermediate compound (Z2) 3.4 g (10 mmol), 4-methoxycinnamic acid 1.8 g (10 mmol), DMAP 0.08 g, and a small amount of BHT were suspended in 30 mL of methylene chloride at room temperature with stirring. A solution prepared by dissolving 2.6 g (13 mmol) of DCC in 15 mL of methylene chloride was added and stirred overnight. The precipitated DCC urea was filtered off, and the filtrate was washed twice with 50 mol of 0.5 mol / L hydrochloric acid, 50 mL of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and 50 mL of saturated brine successively, dried over magnesium sulfate, and the solvent was removed. Distilled off and purified by recrystallization with ethanol to obtain 4.3 g of the target polymerizable compound (M2) (yield 86%). The measurement results of NMR are shown below.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.60-1.90 (m, 6H), 2.63 (m, 1H), 3.09 (m, 1H), 3.87 (s, 3H), 4.03 (m, 2H), 4.57 (m , 1H), 5.64 (m, 1H), 6.24 (d, 1H), 6.54 (d, 1H), 6.95 (m, 4H), 7.26 (m, 2H), 7.44 (m, 2H), 7.57 (m, 4H), 7.86 (d, 1H)

[合成例3]重合体(1)の合成

Figure 2014142103
[Synthesis Example 3] Synthesis of polymer (1)
Figure 2014142103

冷却管を備えたフラスコに、合成例1で得られた重合性化合物(M1)0.44g(1.0mmol)、合成例2で得られた重合性化合物(M2)0.30g(0.6mmol)、n−ドデシルアクリレート0.10g(0.4mmol)、NMP8.0g、AIBN17mgを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、温度60℃で20時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を200mLのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿させた。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体(1)を0.60g得た(収率71%)。
得られた重合体のMnは10,828、Mwは23,822であった(Mw/Mn=2.2)。
In a flask equipped with a condenser tube, 0.44 g (1.0 mmol) of the polymerizable compound (M1) obtained in Synthesis Example 1 and 0.30 g (0.6 mmol) of the polymerizable compound (M2) obtained in Synthesis Example 2 ), 0.10 g (0.4 mmol) of n-dodecyl acrylate, 8.0 g of NMP, and 17 mg of AIBN were charged, and the inside of the flask was purged with nitrogen, followed by stirring at 60 ° C. for 20 hours for reaction. The obtained reaction solution was put into 200 mL of methanol to precipitate a white powder. After filtering this white powder, it vacuum-dried at room temperature and obtained 0.60g of polymers (1) (yield 71%).
Mn of the obtained polymer was 10,828 and Mw was 23,822 (Mw / Mn = 2.2).

[合成例4]ポリメタクリル酸メチル(PMMA)の合成
冷却管を備えたフラスコに、メチルメタクリレート10.0g(100mmol)、トルエン100mL、AIBN160mgを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、温度60℃で20時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を600mLのヘキサンに投入し、白色粉末を沈殿させた。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、PMMAを8.1g得た(収率81%)。
得られた重合体のMnは9,045、Mwは19,899であった(Mw/Mn=2.2)。
[Synthesis Example 4] Synthesis of polymethyl methacrylate (PMMA) In a flask equipped with a cooling tube, 10.0 g (100 mmol) of methyl methacrylate, 100 mL of toluene and 160 mg of AIBN were charged, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen. The reaction was stirred for 20 hours. The obtained reaction solution was put into 600 mL of hexane to precipitate a white powder. After filtering this white powder, it vacuum-dried at room temperature and obtained 8.1g of PMMA (yield 81%).
Mn of the obtained polymer was 9,045 and Mw was 19,899 (Mw / Mn = 2.2).

[合成例5]ポリアクリル酸ドデシル(PDA)の合成
冷却管を備えたフラスコに、n−ドデシルアクリレート12.0g(50mmol)、1,4−ジオキサン100g、AIBN80mgを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、温度60℃で20時間攪拌して反応させた後、得られた反応溶液を2,000mLの水/メタノール(1/1)に投入した。得られた生成物が粘性液体であったため、生成物をデカンテーションにより分離し、乾燥させることにより、PDAを7.4g得た(収率62%)。
得られた重合体のMnは14,120、Mwは38,124であった(Mw/Mn=2.7)。
[Synthesis Example 5] Synthesis of polydecyl acrylate (PDA) A flask equipped with a cooling tube was charged with 12.0 g (50 mmol) of n-dodecyl acrylate, 100 g of 1,4-dioxane, and 80 mg of AIBN, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen. Thereafter, the reaction was performed by stirring at a temperature of 60 ° C. for 20 hours, and then the obtained reaction solution was put into 2,000 mL of water / methanol (1/1). Since the obtained product was a viscous liquid, the product was separated by decantation and dried to obtain 7.4 g of PDA (yield 62%).
Mn of the obtained polymer was 14,120 and Mw was 38,124 (Mw / Mn = 2.7).

[実施例、比較例]組成物の調製及びフィルムの作製・評価
合成例で得られた重合体を用いて組成物を調製し、フィルムを作製し、その特性を検討した。
[Examples and Comparative Examples] Preparation of Composition and Production / Evaluation of Film A composition was prepared using the polymer obtained in the synthesis example, a film was produced, and its characteristics were examined.

[実施例1]
重合体(1)300mg、PMMA(ALDRICH社製、Mw=120,000)15mg、及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Example 1]
Polymer (1) 300 mg, PMMA (manufactured by ALDRICH, Mw = 120,000) 15 mg, and surfactant R-30 (manufactured by DIC Corporation) 0.6 mg were added to toluene / cyclohexanone (75/25, w / W) Dissolved in 1.700 g to obtain a composition.

[実施例2]
重合体(1)300mg、合成例4で合成したPMMA15mg、及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Example 2]
300 mg of polymer (1), 15 mg of PMMA synthesized in Synthesis Example 4, and 0.6 mg of surfactant R-30 (manufactured by DIC), 1.700 g of toluene / cyclohexanone (75/25, w / w) To obtain a composition.

[実施例3]
重合体(1)300mg、合成例4で合成したPMMA30mg、及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Example 3]
300 mg of polymer (1), 30 mg of PMMA synthesized in Synthesis Example 4, and 0.6 mg of surfactant R-30 (manufactured by DIC), 1.700 g of toluene / cyclohexanone (75/25, w / w) To obtain a composition.

[実施例4]
重合体(1)300mg、ポリメタクリル酸エチル(PEMA)(ALDRICH社製、Mw=515,000)15mg、及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Example 4]
300 mg of polymer (1), 15 mg of polyethyl methacrylate (PEMA) (manufactured by ALDRICH, Mw = 515,000), and 0.6 mg of surfactant R-30 (manufactured by DIC), toluene / cyclohexanone (75/25, w / w) Dissolved in 1.700 g to obtain a composition.

[比較例1]
重合体(1)300mg及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Comparative Example 1]
300 mg of polymer (1) and 0.6 mg of surfactant R-30 (manufactured by DIC Corporation) were dissolved in 1.700 g of toluene / cyclohexanone (75/25, w / w) to obtain a composition. .

[比較例2]
重合体(1)300mg、ポリメタクリル酸ブチル(PBMA)(ALDRICH社製、Mw=337,000)15mg、及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Comparative Example 2]
300 mg of polymer (1), 15 mg of polybutyl methacrylate (PBMA) (manufactured by ALDRICH, Mw = 337,000), and 0.6 mg of surfactant R-30 (manufactured by DIC), toluene / cyclohexanone (75/25, w / w) Dissolved in 1.700 g to obtain a composition.

[比較例3]
重合体(1)300mg、ポリメタクリル酸t−ブチル(PtBMA)(ALDRICH社製、Mw=170,000)15mg、及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Comparative Example 3]
300 mg of polymer (1), 15 mg of poly (t-butyl methacrylate) (PtBMA) (manufactured by ALDRICH, Mw = 170,000), and 0.6 mg of surfactant R-30 (manufactured by DIC Corporation) in toluene / Cyclohexanone (75/25, w / w) was dissolved in 1.700 g to obtain a composition.

[比較例4]
重合体(1)300mg、合成例5で合成したPDA15mg、及び界面活性剤であるR−30(DIC(株)製)0.6mgをトルエン/シクロヘキサノン(75/25、w/w)1.700gに溶解し、組成物を得た。
[Comparative Example 4]
300 mg of polymer (1), 15 mg of PDA synthesized in Synthesis Example 5, and 0.6 mg of surfactant R-30 (manufactured by DIC), 1.700 g of toluene / cyclohexanone (75/25, w / w) To obtain a composition.

[配向フィルムの作製]
各組成物をTACフィルム上にバーコート(バー#5)により塗布し、ホットプレートを用いて60℃で2分間プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、フィルム上に得られた膜は透明であった。
次に、10×10cmのTACフィルムに形成された塗膜を下記プロセスによって露光した後、オーブンを用いて110℃で15分間ポストベークした。得られたフィルムの膜厚は1μm程度であり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に対して水平配向していることを確認した。
[露光方法(パターン化プロセス)]
・パターン1:マスクなしで直線偏光紫外線20mJ/cm2照射を行った。
・パターン2:パターン1による露光後、フィルムの半分をマスクし、更に垂直の方向(角度90°)から直線偏光紫外線60mJ/cm2照射を行った。この方法により、配向方向90°の差を示すパターン化フィルムを得た。なお、露光の際、TACフィルムの延伸方向を定めて照射を行い、パターン1とパターン2が延伸方向を軸に左右対称となるように照射を行った。
[Preparation of oriented film]
Each composition was applied onto a TAC film by bar coating (bar # 5), prebaked at 60 ° C. for 2 minutes using a hot plate, and then allowed to cool to room temperature. At this time, the film | membrane obtained on the film was transparent.
Next, the coating film formed on the 10 × 10 cm TAC film was exposed by the following process and then post-baked at 110 ° C. for 15 minutes using an oven. The film thickness of the obtained film was about 1 μm, and when observed with a polarizing microscope, it was confirmed that the film was horizontally oriented with respect to the substrate surface.
[Exposure method (patterning process)]
Pattern 1: Irradiation with linearly polarized ultraviolet rays 20 mJ / cm 2 was performed without a mask.
Pattern 2: After exposure with Pattern 1, half of the film was masked and further irradiated with linearly polarized ultraviolet rays 60 mJ / cm 2 from the vertical direction (angle 90 °). By this method, a patterned film showing a difference of 90 ° in the orientation direction was obtained. During the exposure, the TAC film was stretched in the stretching direction and irradiated so that the patterns 1 and 2 were symmetrical with respect to the stretching direction.

得られたフィルムのリタデーション値(Δnd)及びΔαを下記表1に示す。なお、Δαは、配向角度(90°)からの角度のずれを表す。   The retardation value (Δnd) and Δα of the obtained film are shown in Table 1 below. Note that Δα represents an angle deviation from the orientation angle (90 °).

Figure 2014142103
Figure 2014142103

表1から明らかなように、PMMAやPEMAを添加したことによって、TACフィルム上で作製したパターン化フィルムの配向方向の角度のずれを低減させることができた。   As is clear from Table 1, the addition of PMMA and PEMA could reduce the angle deviation in the orientation direction of the patterned film produced on the TAC film.

また、図1及び2に実施例1及び比較例1フィルムのリタデーション値のα角度依存性を示す。実施例1(図1)と比較例1(図2)とを比較すると、実施例1では、α角度45°の時に両方のパターンのリタデーション値が0nm程度であるのに対し、比較例1では各パターンのリタデーション値のずれが見られた。   1 and 2 show the α angle dependency of the retardation values of the films of Example 1 and Comparative Example 1. Comparing Example 1 (FIG. 1) and Comparative Example 1 (FIG. 2), in Example 1, the retardation value of both patterns is about 0 nm when the α angle is 45 °, whereas in Comparative Example 1, A shift in the retardation value of each pattern was observed.

Claims (4)

(A)下記式[1a]、[1b]及び[1c]で表される繰り返し単位を含有する重合体A、
(B)下記式[6]で表される繰り返し単位を含有する重合体B、及び
(C)有機溶媒
を含有することを特徴とする組成物。
Figure 2014142103
[式中、X及びYは、それぞれ独立に下記式[2]又は[3]で表される基であり、
Figure 2014142103
(式[3]中、R1は水素原子又はメチル基である。破線は結合手である。)
1は下記式[4]で表される基であり、M2は下記式[5]で表される基であり、
Figure 2014142103
(式[4]及び[5]中、s1、s2、s3及びs4は、それぞれ独立に1又は2であり、G1及びG2は、それぞれ独立に単結合、−COO−又は−OCO−であり、R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基である。破線は結合手である。)
Aは、炭素数2〜15の直鎖状又は分岐状のアルキル基であり、
m、n及びpは、それぞれ0<m<1、0<n<1、0≦p≦0.5、かつ、m+n+p≦1を満たす数であり、
q及びrは、それぞれ独立に2〜9の整数である。]
Figure 2014142103
(式[6]中、R4は水素原子又はメチル基である、R5はメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基又はシクロプロピル基である。)
(A) Polymer A containing repeating units represented by the following formulas [1a], [1b] and [1c],
(B) Polymer B containing the repeating unit represented by the following formula [6], and (C) an organic solvent.
Figure 2014142103
[Wherein, X and Y are each independently a group represented by the following formula [2] or [3],
Figure 2014142103
(In the formula [3], R 1 is a hydrogen atom or a methyl group. The broken line is a bond.)
M 1 is a group represented by the following formula [4], M 2 is a group represented by the following formula [5],
Figure 2014142103
(Wherein [4] and [5], the s1, s2, s3 and s4, are each independently 1 or 2, G 1 and G 2 each independently represent a single bond, -COO- or -OCO- in R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
A is a linear or branched alkyl group having 2 to 15 carbon atoms,
m, n, and p are numbers satisfying 0 <m <1, 0 <n <1, 0 ≦ p ≦ 0.5, and m + n + p ≦ 1, respectively.
q and r are each independently an integer of 2 to 9. ]
Figure 2014142103
(In Formula [6], R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, R 5 is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, or a cyclopropyl group.)
請求項1記載の組成物を基板に塗布し、次いで偏光を照射し、硬化させることにより得られる単層塗布型水平配向フィルム。   A single-layer coating type horizontal alignment film obtained by applying the composition according to claim 1 to a substrate, and then irradiating and curing the polarized light. 上記偏光が、直線偏光紫外線である請求項2記載の単層塗布型水平配向フィルム。   The single-layer coated horizontal alignment film according to claim 2, wherein the polarized light is linearly polarized ultraviolet light. 請求項2又は3記載の単層塗布型水平配向フィルムを備える光学部材。   An optical member provided with the single layer application type | mold horizontal orientation film of Claim 2 or 3.
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